本發明涉及一種分析系統、曝光方法、曝光裝置和元件。
背景技術:
1、以往,液晶顯示元件或半導體元件等各種元件利用將設置于掩模等的圖案轉印至感光基板的光刻工序來制造。在所述光刻工序中使用的曝光裝置中,例如一邊對載置有掩模的掩模載臺與載置有感光基板的基板載臺同步地進行掃描,一邊將形成于掩模的圖案轉印至感光基板。
2、一般而言,在針對液晶顯示元件的光刻工序中,在一張感光基板上設定多個曝光區域(與液晶顯示元件的顯示畫面對應的區域),依次對各曝光區域進行曝光而轉印圖案(例如,參照專利文獻1)。在專利文獻1所記載的曝光方法中,反復進行如下處理:檢測設置于各曝光區域附近的對準標記,基于所述檢測結果對每個曝光區域進行對準(對位)而進行曝光。
3、近年來,在如所述那樣的光刻工序中,要求提高吞吐量(throughput)。
4、現有技術文獻
5、專利文獻
6、專利文獻1:日本專利特開2001-77012號公報
技術實現思路
1、根據公開的第一實施例,分析系統包括:第一測量部,測量第一信息,所述第一信息為第一基板上的第一圖案的圖案信息;存儲部,存儲所述第一測量部所測量的所述第一信息;第二測量部,測量第二信息,所述第二信息為在第二基板上曝光出的第二圖案的圖案信息;以及決定部,基于存儲于所述存儲部的所述第一信息及所述第二信息,選定所述第一信息中滿足規定條件的第一信息即第三信息,并基于所述第三信息來決定在所述第二基板的所述第二圖案上曝光第三圖案的第一曝光條件。
2、根據公開的第二實施例,分析系統包括:第一測量部,測量第一信息,所述第一信息為在第一基板上曝光出的第一圖案的圖案信息;存儲部,存儲所述第一信息;第二測量部,測量第二信息,所述第二信息為在所述第一基板上的所述第一圖案上曝光出的第二圖案的圖案信息;以及決定部,基于所述第一信息及所述第二信息,決定在所述第一基板上的所述第二圖案上曝光第三圖案的第一曝光條件。
3、根據公開的第三實施例,分析系統包括:第一測量部,測量第一信息,所述第一信息為在第一基板上曝光出的第一圖案的圖案信息;第二測量部,測量第二信息,所述第二信息為在所述第一基板上的所述第一圖案上曝光出的第二圖案的圖案信息;算出部,算出表示所述第一信息與所述第二信息的差分的第一差分信息;存儲部,存儲所述第一差分信息;第三測量部,測量第三信息,所述第三信息為在第二基板上曝光出的所述第一圖案的圖案信息;第四測量部,測量第四信息,所述第四信息為在所述第二基板上的所述第一圖案上曝光出的所述第二圖案的圖案信息;以及決定部,基于所述第三信息、所述第四信息及所述第一差分信息,決定在所述第二基板的所述第二圖案上曝光第三圖案的第一曝光條件。
4、根據公開的第四實施例,曝光方法具有:第一曝光工序,將第一圖案曝光至第一基板;第一測量工序,通過第一測量部測量第一信息,所述第一信息為所述第一基板上的所述第一圖案的圖案信息;存儲工序,將所述第一信息存儲于存儲部;第二曝光工序,將第二圖案曝光至與所述第一基板不同的第二基板;第二測量工序,通過第二測量部測量第二信息,所述第二信息為在所述第二基板上曝光出的所述第二圖案的圖案信息;決定工序,基于所述存儲工序中存儲的所述第一信息及所述第二信息,選定所述第一信息中滿足規定條件的第一信息即第三信息,并基于所述第三信息來決定在所述第二基板的所述第二圖案上曝光第三圖案的第一曝光條件;以及第三曝光工序,基于所述第一曝光條件在所述第二基板的所述第二圖案上曝光所述第三圖案。
5、根據公開的第五實施例,曝光方法具有:第一測量工序,測量第一信息,所述第一信息為在第一基板上曝光出的第一圖案的圖案信息;存儲工序,將所述第一信息存儲于存儲部;第一曝光工序,在所述第一基板上的所述第一圖案上曝光第二圖案;第二測量工序,測量第二信息,所述第二信息為在所述第一基板上曝光出的所述第二圖案的圖案信息;決定工序,基于所述第一信息及所述第二信息,決定在所述第一基板上的所述第二圖案上曝光第三圖案的第一曝光條件;以及第二曝光工序,基于所述第一曝光條件在所述第一基板上曝光所述第三圖案。
6、根據公開的第六實施例,曝光方法具有:第一測量工序,測量第一信息,所述第一信息為在第一基板上曝光出的第一圖案的圖案信息;第一曝光工序,在所述第一基板上的所述第一圖案上曝光第二圖案;第二測量工序,測量第二信息,所述第二信息為在所述第一基板上曝光出的所述第二圖案的圖案信息;算出工序,算出表示所述第一信息與所述第二信息的差分的第一差分信息;存儲工序,將所述第一差分信息存儲于存儲部;第二曝光工序,在第二基板上曝光所述第一圖案;第三測量工序,測量第三信息,所述第三信息為在所述第二基板上曝光出的所述第一圖案的圖案信息;第三曝光工序,在所述第二基板上的所述第一圖案上曝光所述第二圖案;第四測量工序,測量第四信息,所述第四信息為在所述第二基板上曝光出的所述第二圖案的圖案信息;決定工序,基于所述第三信息、所述第四信息及所述第一差分信息,決定在所述第二基板的所述第二圖案上曝光第三圖案的第一曝光條件;以及第四曝光工序,基于所述第一曝光條件在所述第二基板上曝光所述第三圖案。
7、根據公開的第七實施例,分析系統包括:獲取部,獲取第一信息及第二信息,所述第一信息為在第一基板上曝光并測定的第一圖案的圖案信息,所述第二信息為在所述第一圖案上曝光并測定的第二圖案的圖案信息;第一算出部,算出表示所述獲取部所獲取的所述第一信息與所述第二信息的差分的第一差分信息;存儲部,存儲所述第一差分信息;以及第二算出部,基于所述存儲部所存儲的所述第一差分信息,算出規定的參數。
8、根據公開的第八實施例,分析系統包括:獲取部,獲取第一信息,所述第一信息為在第一基板上曝光并測定的第一圖案的圖案信息;存儲部,存儲所述第一信息;以及第一算出部,基于所述存儲部所存儲的所述第一信息,算出規定的參數。
9、根據公開的第九實施例,曝光裝置包括所述分析系統。
10、根據公開的第十實施例,元件為使用所述曝光裝置而制造的元件。
11、此外,也可適宜改良后述的實施方式的結構,另外,也可將至少一部分代替為其他結構物。進而,對其配置并無特別限定的構成要件并不限于實施方式中公開的配置,可配置于可實現其功能的位置。
1.一種分析系統,包括:
2.根據權利要求1所述的分析系統,其中
3.根據權利要求1或2所述的分析系統,其中
4.根據權利要求1至3中任一項所述的分析系統,其中
5.根據權利要求1至4中任一項所述的分析系統,其中
6.根據權利要求1至5中任一項所述的分析系統,還包括:
7.根據權利要求1至5中任一項所述的分析系統,還包括第三測量部,
8.根據權利要求6或7所述的分析系統,其中
9.根據權利要求1至8中任一項所述的分析系統,其中
10.根據權利要求9所述的分析系統,其中
11.根據權利要求7所述的分析系統,其中
12.一種分析系統,包括:
13.一種分析系統,包括:
14.根據權利要求13所述的分析系統,其中
15.根據權利要求13所述的分析系統,其中
16.根據權利要求15所述的分析系統,其中
17.根據權利要求12所述的分析系統,還包括第三測量部,
18.根據權利要求14所述的分析系統,還包括:
19.根據權利要求18所述的分析系統,其中
20.根據權利要求18或19所述的分析系統,其中
21.根據權利要求18至20中任一項所述的分析系統,其中
22.根據權利要求21所述的分析系統,其中
23.一種曝光方法,具有:
24.一種曝光方法,具有:
25.一種曝光方法,具有:
26.一種分析系統,包括:
27.根據權利要求26所述的分析系統,其中
28.根據權利要求27所述的分析系統,其中
29.根據權利要求28所述的分析系統,其中
30.根據權利要求28或29所述的分析系統,其中
31.根據權利要求28至30中任一項所述的分析系統,具有分類部,
32.根據權利要求26至31中任一項所述的分析系統,具有分類部,
33.根據權利要求26至32中任一項所述的分析系統,其中
34.一種分析系統,包括:
35.根據權利要求34所述的分析系統,其中
36.根據權利要求35所述的分析系統,其中
37.一種曝光裝置,包括如權利要求26至36中任一項所述的分析系統。
38.一種元件,使用如權利要求37所述的曝光裝置來制造。