本發明涉及一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料及制備方法，屬于光學鍍膜材料技術領域。
背景技術：
在光學鍍膜領域，氟化鎂是一種常用的低折射率光學鍍膜材料，由于其折射率低，被廣泛用于鍍制增透膜，在成膜過程中，氟化鎂在光學原件表面沉積的過程，也是在光學表面再結晶的過程。由于晶體的生長有一定的方向性，如水在結冰的過程，通常會朝著特定方向先生長，這樣，通常會導致所形成的膜微觀上不均勻，這種微觀上的不均勻，在鍍多層膜時會形成應力，導致膜裂。
技術實現要素：
為了克服現有技術的不足,針對氟化鎂材料在特殊鍍膜技術中出現膜層微觀不均勻的問題，本發明提供一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料及制備方法。
一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料的制備方法，低折射率光學鍍膜材料，光學鍍膜材料是由氟化鎂和添加物氟化鈣、氟化鋇或氟化鍶組成，含有以下步驟；
低折射率光學鍍膜材料的配方按重量比進行配比、混合，經造粒，
低折射率光學鍍膜材料配方如下(重量配比)：
氟化鎂80～99.5％，
添加的氟化物總量0.5～20％。
在800℃以上進行3～6小時燒結，或在1300℃以上進行真空熔化3～6小時，
進行鍍膜：鍍膜條件，鍍膜機直徑1100mm，材料在鍍膜時的蒸發速度為10a0/s，基板玻璃溫度200℃。
一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料，配方如下(重量配比)：
氟化鎂80～99.5％，
添加的氟化物總量0.5～20％；
氟化物由氟化鎂和氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶等兩種或兩種以上混合物組成。
本發明的優點是在氟化鎂材料中，引入一定量的其它氟化物，如氟化鈣、氟化鋇氟化鍶等，這樣，鍍膜材料在光學元件上沉積的過程中，由于氟化鎂和氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶等同時蒸發并沉積在光學表面，因氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶分子的作用，阻止了原來單一氟化鎂沉積過程中定向生長的情況，這樣，會形成更均勻的應力小的光學膜層，由于應力的減小，在鍍多層膜時，可以保證多層膜的穩定，解決多層膜的膜裂問題。
具體實施方式
顯然，本領域技術人員基于本發明的宗旨所做的許多修改和變化屬于本發明的保護范圍。
本技術領域技術人員可以理解，除非特意聲明，這里使用的單數形式“一”、“一個”、“所述”和“該”也可包括復數形式。應該進一步理解的是，本說明書中使用的措辭“包括”是指存在所述特征、整數、步驟、操作、元件和/或組件，但是并不排除存在或添加一個或多個其他特征、整數、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組。應該理解，當稱元件、組件被“連接”到另一元件、組件時，它可以直接連接到其他元件或者組件，或者也可以存在中間元件或者組件。這里使用的措辭“和/或”包括一個或更多個相關聯的列出項的任一單元和全部組合。
本技術領域技術人員可以理解，除非另外定義，這里使用的所有術語(包括技術術語和科學術語)具有與本發明所屬領域中的普通技術人員的一般理解相同的意義。
為便于對本發明實施例的理解，下面將做進一步的解釋說明，且各個實施例并不構成對本發明實施例的限定。
一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料，低折射率光學鍍膜材料是由氟化鎂和氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶等兩種或兩種以上混合物組成。
低折射率光學鍍膜材料重量配比為：氟化鎂80～99.5％，其他氟化物氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶占0.5～20％。
低折射率光學鍍膜材料是氟化鎂和氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶等兩種或兩種以上燒結混合物，該混合物的燒結溫度是700℃～1250℃之間。
低折射率光學鍍膜材料也可以是以氟化鎂和氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶的熔融混合物，該熔融混合物的熔融溫度在1300℃以上。
使用該低折射率光學鍍膜材料所生產的產品。
低折射率光學鍍膜材料的燒結溫度900～1200℃。
低折射率光學鍍膜材料可以是幾種氟化物的熔融混合物，熔化溫度在1300℃以上。
低折射率光學鍍膜材料用于鍍多層反光膜。
由于氟化鈣和氟化鋇、氟化鍶的折射率高于氟化鎂的折射率，因而，氟化鈣和氟化鋇、氟化鍶的引入量不能太高，否則會影響混合物折射率，通常引入量小于20％。
實施例1～實施例12的原料組份配比見表1；
將表1中各配方按重量比進行配比、混合，經造粒，并在800℃以上進行3～6小時燒結，或在1300℃以上進行真空熔化3～6小時，對所發明的產品進行鍍膜實驗(鍍膜條件，鍍膜機直徑1100mm，所發明的材料在鍍膜時的蒸發速度為10a0/s，基板玻璃溫度200℃)
表1對比實驗(鍍膜實驗10a0/s200℃)
通過上述幾組實施例，通過在氟化鎂原料中引入一定量的氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶等兩種或兩種以上的混合物生產的光學鍍膜材料，很好的解決了因氟化鎂在鍍膜過程中因結晶、成膜所形成的應力出現的脫膜和膜裂問題。
最后應說明的是：顯然，上述實施例僅僅是為清楚地說明
本技術：
所作的舉例，而并非對實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而由此所引申出的顯而易見的變化或變動仍處于本申請的保護范圍之中。