顯示面板的制作方法

本發明涉及顯示技術領域，特別涉及一種顯示面板。

背景技術：

傳統的顯示面板一般包括彩色濾光片基板、液晶層、薄膜晶體管陣列基板、背光模組。所述彩色濾光片基板、所述薄膜晶體管陣列基板、所述背光模組疊加組合為一體，所述液晶層設置于所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板之間。

其中，上述傳統的所述薄膜晶體管陣列基板的像素電極一般都是扁平狀的。

扁平狀的所述像素電極和所述彩色濾光片基板中的共通電極層所形成的電場力無法使得液晶分子產生更大幅度的偏轉。

上述傳統的顯示面板的顯示效果不夠理想。

故，有必要提出一種新的技術方案，以解決上述技術問題。

技術實現要素：

本發明的目的在于提供一種顯示面板，其能提高顯示效果。

為解決上述問題，本發明的技術方案如下：

一種顯示面板，所述顯示面板包括第一偏光板、彩色濾光片基板、液晶層、薄膜晶體管陣列基板、第二偏光板、背光模組和控制電路，所述控制電路與所述背光模組、所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板電性連接；所述第一偏光板、所述彩色濾光片基板、所述薄膜晶體管陣列基板、所述第二偏光板和所述背光模組疊加組合為一體，所述液晶層設置于所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板之間；所述彩色濾光片基板包括第一基板、彩膜層、黑色矩陣層、共通電極層、間隔子組合層、第一配向膜層，所述彩膜層包括紅色色阻塊、綠色色阻塊、藍色色阻塊、白色色阻塊；所述背光模組包括光源、導光板、反射板、散射板，所述光源設置于所述導光板的一側邊上，所述背光模組用于向由所述第一偏光板、所述彩色濾光片基板、所述液晶層、所述薄膜晶體管陣列基板和所述第二偏光板所組成的整體提供光源；其中，所述薄膜晶體管陣列基板包括：器件組合板，所述器件組合板包括：第二基板；第一信號線層，所述第一信號線層包括掃描線、柵極；第一絕緣層，所述第一絕緣層設置于所述第二基板和所述第一信號線層上；半導體層；第二絕緣層，所述第二絕緣層設置于所述第一絕緣層和所述半導體層上；以及第二信號線層，所述第二信號線層包括數據線、源極、漏極；鈍化層，所述鈍化層設置在所述器件組合板上，所述鈍化層上設置有孔洞和凹槽陣列，所述凹槽陣列包括至少一凹槽；像素電極層，所述像素電極層設置在所述鈍化層上以及所述凹槽陣列內，所述像素電極層通過所述孔洞與所述第二信號線層連接；第二配向膜層。

在上述顯示面板中，所述孔洞的第一橫截面的形狀與所述凹槽的第二橫截面的形狀相同；所述第一橫截面的面積與所述第二橫截面的面積相同。

在上述顯示面板中，在所述顯示面板所對應的平面上，所述孔洞與所述凹槽的最短距離與相鄰兩所述凹槽之間的距離相等。

在上述顯示面板中，所述孔洞具有第一深度，所述凹槽具有第二深度；所述凹槽陣列和所述孔洞均是通過相同的光罩制程和蝕刻制程來形成的。

在上述顯示面板中，所述光罩制程所對應的掩模包括：一第一區域，所述第一區域具有第一透光率，所述第一區域與所述孔洞對應，所述第一透光率與所述第一深度對應；至少一第二區域，所述第二區域具有第二透光率，所述第二區域與所述凹槽對應，所述第二透光率與所述第二深度對應。

在上述顯示面板中，所述掩模為半色調掩模。

在上述顯示面板中，所述凹槽陣列和所述孔洞是通過對所述鈍化層上的光阻材料層進行所述光罩制程，以在所述光阻材料層上的第三區域和第四區域上分別形成第一凹陷和第二凹陷，并在所述第一凹陷和所述第二凹陷處對所述鈍化層和所述光阻材料層進行蝕刻來形成的；其中，所述第三區域與所述第一區域對應，所述第四區域與所述第二區域對應，所述第一凹陷具有第三深度，所述第二凹陷具有第四深度。

在上述顯示面板中，所述半導體層包括非晶硅。

在上述顯示面板中，所述半導體層包括多晶硅。

在上述顯示面板中，所述半導體層包括銦鎵鋅氧化物。

相對現有技術，本發明能提高顯示效果。

為讓本發明的上述內容能更明顯易懂，下文特舉優選實施例，并配合所附圖式，作詳細說明如下。

附圖說明

圖1為本發明的顯示面板中的薄膜晶體管陣列基板的示意圖。

圖2為圖1所示的薄膜晶體管陣列基板的制作過程中所使用的掩模的示意圖。

圖3為本發明的顯示面板中的透明蓋板的示意圖。

具體實施方式

參考圖1，圖1為本發明的顯示面板中的薄膜晶體管陣列基板的示意圖。

本發明的顯示面板可以是TFT-LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶體管液晶顯示面板）。

本發明的顯示面板包括第一偏光板、彩色濾光片基板、液晶層、薄膜晶體管陣列基板、第二偏光板、背光模組和控制電路，所述控制電路與所述背光模組、所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板電性連接。

所述第一偏光板、所述彩色濾光片基板、所述薄膜晶體管陣列基板、所述第二偏光板和所述背光模組疊加組合為一體，所述液晶層設置于所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板之間。

所述彩色濾光片基板包括第一基板、彩膜層、黑色矩陣層、共通電極層、間隔子組合層、第一配向膜層，所述彩膜層包括紅色色阻塊、綠色色阻塊、藍色色阻塊、白色色阻塊。

所述背光模組包括光源、導光板、反射板、散射板，所述光源設置于所述導光板的一側邊上，所述背光模組用于向由所述第一偏光板、所述彩色濾光片基板、所述液晶層、所述薄膜晶體管陣列基板和所述第二偏光板所組成的整體提供光源。

其中，所述薄膜晶體管陣列基板包括：器件組合板101、鈍化層102、像素電極層103、第二配向膜層。

所述器件組合板101包括：第二基板1011、第一信號線層、第一絕緣層1013、半導體層1014、第二絕緣層1015、第二信號線層。所述第一信號線層包括掃描線、柵極1012。所述第一絕緣層設置于所述第二基板和所述第一信號線層上。所述第二絕緣層設置于所述第一絕緣層和所述半導體層上。所述第二信號線層包括數據線、源極1016、漏極1017。

所述第一信號線層可以是掃描線層，所述第二信號線層可以是數據線層。所述掃描線層設置在所述半導體層（所述半導體層為所述非晶硅層）的下方，所述掃描線層與所述非晶硅層之間設置有所述第一絕緣層，所述第二絕緣層設置在所述非晶硅層的上方，所述數據線層設置在所述第二絕緣層的上方，并且所述數據線層穿過所述第二絕緣層與所述非晶硅層相連；或者，所述掃描線層設置在所述半導體層（所述半導體層為所述多晶硅層）的上方，所述多晶硅層與所述掃描線層之間設置有所述第一絕緣層，所述第二絕緣層設置在所述掃描線層的上方，所述數據線層設置在所述第二絕緣層的上方，并且所述數據線層穿過所述第一絕緣層和所述第二絕緣層與所述多晶硅層相連。

所述鈍化層設置在所述器件組合板上，所述鈍化層上設置有孔洞104和凹槽陣列，所述凹槽陣列包括至少一凹槽105。所述像素電極層設置在所述鈍化層上以及所述凹槽陣列內，所述像素電極層通過所述孔洞與所述第二信號線層連接。

所述像素電極層設置在所述鈍化層上以及所述凹槽陣列內，所述像素電極層通過所述孔洞與所述第二信號線層連接。

所述孔洞的第一橫截面的形狀與所述凹槽的第二橫截面的形狀相同。

所述第一橫截面的面積與所述第二橫截面的面積相同。

在所述顯示面板所對應的平面上，所述孔洞與所述凹槽的最短距離與相鄰兩所述凹槽之間的距離相等。

所述孔洞具有第一深度，所述凹槽具有第二深度。所述凹槽陣列和所述孔洞均是通過相同的光罩制程和蝕刻制程來形成的。也就是說，所述凹槽陣列與所述孔洞均是在同一道光罩制程中形成的。

所述凹槽陣列和所述孔洞均是通過相同的光罩制程和蝕刻制程來形成的。

所述光罩制程所對應的掩模201包括：第一區域2011和第二區域2012。所述第一區域具有第一透光率，所述第一區域與所述孔洞對應，所述第一透光率與所述第一深度對應。所述第二區域具有第二透光率，所述第二區域與所述凹槽對應，所述第二透光率與所述第二深度對應。

所述掩模為半色調掩模。

所述孔洞和所述凹槽陣列是通過對所述鈍化層上的光阻材料層進行所述光罩制程，以在所述光阻材料層上的第三區域和第四區域上分別形成第一凹陷和第二凹陷，并在所述第一凹陷和所述第二凹陷處對所述鈍化層和所述光阻材料層進行蝕刻來形成的。

其中，所述第三區域與所述第一區域對應，所述第四區域與所述第二區域對應，所述第一凹陷具有第三深度，所述第二凹陷具有第四深度。

所述半導體層包括非晶硅、多晶硅、銦鎵鋅氧化物中的至少一種。

相比傳統的技術方案，上述技術方案可以節約一道光罩制程，有利于節省所述薄膜晶體管陣列基板的制作成本，以及提高所述薄膜晶體管陣列基板的制作效率。

參考圖2，圖2為圖1所示的薄膜晶體管陣列基板的制作過程中所使用的掩模的示意圖。

在本實施例中，所述光罩制程所對應的掩模包括第一區域及第二區域。所述第一區域具有第一透光率，所述第一區域與所述孔洞對應，所述第一透光率與所述第一深度對應。所述第二區域具有第二透光率，所述第二區域與所述凹槽對應，所述第二透光率與所述第二深度對應。

優選地，在本實施例中，所述掩模為半色調掩模（HTM，Half Tone Mask）。

所述孔洞的深度（所述第一深度）和所述凹槽的深度（所述第二深度）可根據HTM的透光率（0-100%的開區間）來設置。

也就是說，所述鈍化層中的所述第一深度和所述第二深度是通過這樣的方式來形成的：

利用具有所述第一區域和所述第二區域的所述掩模，對所述鈍化層實施所述光罩制程，以同時形成所述第一深度和所述第二深度，其中，所述第一區域具有所述第一透光率，所述第二區域具有所述第二透光率。例如，所述第一透光率為100%，所述第二透光率（a%）處于0%至100%的范圍（開區間）內，例如，所述a%為0.35%、0.55%、0.85%、1.6%、2.3%、3%、3.3%、4.5%、4.7%、5%、5.9%、7%、8.1%、9%、9.3%、10.5%、11%、12.7%、13%、13.9%、14.1%、15%、15.3%、16.2%、17%、17.7%、19%、21%、23%、23.5%、23.9%、25%、26.7%、27%、29%、29.3%、29.7%、31%、33%、33.6%、34.1%、35%、35.3%、37%、38.3%、39%、41%、42.3%、43%、45%、45.7%、47%、47.9%、49%、49.5%、51%、52.1%、53%、55%、55.7%、55.8%、57%、59%、59.8%、61%、62.1%、63%、63.6%、65%、65.4%、67%、67.7%、69%、69.4%、71%、71.8%、73%、73.1%、75%、75.9%、77%、77.3%、79%、79.6%、81%、81.2%、83%、83.7%、85%、85.6%、87%、88.7%、89%、89.3%、91%、91.5%、93%、93.3%、95%、96.5%、97%、99%、99.5%。

在本實施例中，所述凹槽陣列和所述孔洞是通過對所述鈍化層上的光阻材料層進行所述光罩制程，以在所述光阻材料層上的第三區域和第四區域上分別形成第一凹陷和第二凹陷，并在所述第一凹陷和所述第二凹陷處對所述鈍化層和所述光阻材料層進行蝕刻來形成的。

其中，所述第三區域與所述第一區域對應，所述第四區域與所述第二區域對應，所述第一凹陷具有第三深度，所述第二凹陷具有第四深度。

通過上述技術方案，本發明能提高顯示效果。

參考圖3，圖3為本發明的顯示面板中的透明蓋板的示意圖。

所述顯示面板還包括透明蓋板301，所述透明蓋板設置于所述彩色濾光片基板的出光面上，具體地，所述透明蓋板疊加于所述第一偏光板上，所述透明蓋板面向所述彩色濾光片基板的一面上設置有凹陷部陣列，所述凹陷部陣列包括至少兩凹陷部3011，所述凹陷部所在的位置與所述顯示面板中的像素單元所在的位置對應，所述凹陷部的開口部的形狀與所述像素單元的形狀相同，所述凹陷部的所述開口部的面積與所述像素單元的面積相同。所述凹陷部的橫截面為V字形。所述凹陷部的兩內側面之間的夾角處于20度至65度的范圍內，具體地，所述夾角的角度為20度、21度、23度、25度、27度、29度、31度、33度、35度、37度、39度、41度、43度、45度、47度、49度、51度、53度、55度、57度、59度、61度、63度、65度。所述凹陷部的兩所述內側面中的一者為第一內側面，所述凹陷部的兩所述內側面中的另一者為第二內側面，所述第一內側面上設置有第一結構鞏固筋條，所述第二內側面上設置有第二結構鞏固筋條。所述開口部朝向所述彩色濾光片基板。

所述凹陷部是通過對所述透明蓋板面向所述彩色濾光片基板的一面實施雕刻（切除）制程來形成的。

所述第一結構鞏固筋條包括第一末端和第二末端，所述第二結構鞏固筋條包括第三末端和第四末端，所述第一末端與所述第三末端連接于所述第一內側面和第二內側面的交匯部處。或者，所述第一結構鞏固筋條與所述第二結構鞏固筋條交錯設置，并且，所述第一結構鞏固筋條的第一末端設置于所述交匯部處，所述第二結構鞏固筋條的第三末端設置于所述交匯部處。所述第一末端在所述交匯部的位置與所述第三末端在所述交匯部的位置相隔預定距離。

所述凹陷部內或所述凹陷部的所述開口部處還設置有第三結構鞏固筋條，所述第三鞏固筋條包括第五末端和第六末端，所述第五末端與所述第二末端連接，所述第六末端與所述第四末端連接。

通過上述技術方案，有利于提高所述透明蓋板的結構強度，從而能夠有效地保護所述顯示面板不受損壞。

作為一種改進，為了進一步提高所述透明蓋板的結構強度，所述第一結構鞏固筋條包括第一子筋條和第二子筋條，所述第一子筋條和所述第二子筋條扭合為一體，所述第二結構鞏固筋條包括第三子筋條和第四子筋條，所述第三子筋條和所述第四子筋條扭合為一體，所述第三結構鞏固筋條包括第五子筋條和第六子筋條，所述第五子筋條和所述第六子筋條扭合為一體。

作為另一種改進，所述開口部的四周還設置有柔性緩沖環3012，所述柔性緩沖環包圍所述開口部，所述柔性緩沖環與所述第一偏光板相接觸，所述柔性緩沖環用于在所述透明蓋板受到作用力時減緩所述作用力對所述第一偏光板以及所述彩色濾光片基板的沖擊作用，以保護所述第一偏光板和所述彩色濾光片基板不受損壞。

其中，所述柔性緩沖環面向所述彩色濾光片基板的一面上設置有柔性觸角陣列，所述柔性觸角陣列包括至少兩柔性觸角，所述柔性觸角的長度方向垂直于所述彩色濾光片基板所在的平面。所述柔性觸角為柔性軟管。

所述柔性觸角用于進一步減緩所述作用力對所述第一偏光板以及所述彩色濾光片基板的沖擊作用。

綜上所述，雖然本發明已以優選實施例揭露如上，但上述優選實施例并非用以限制本發明，本領域的普通技術人員，在不脫離本發明的精神和范圍內，均可作各種更動與潤飾，因此本發明的保護范圍以權利要求界定的范圍為準。