一種均勻布光的曝光的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種均勻布光的曝光機。現有曝光機會導致光照強度不均勻，導致產品缺陷。本實用新型包括：曝光平臺，用以放置待曝光金屬片材；復數個發光部件，通過支撐結構均布于所述曝光平臺上方；復數個光強傳感器，均布于所述曝光平臺上；控制器，分別連接復數個光強傳感器及復數個發光部件，用以根據所述光強傳感器的感應結果分別獨立的控制復數個發光部件的發光強度。本實用新型根據待曝光金屬片材的光環境調整發光部件的發光強度；光強傳感器的感光部通過待曝光金屬片材上的預制通孔進行感應，獲得的感應結果更精確；獨立的控制均布于曝光平臺上方的多個發光部件的發光強度，使多個發光部件發出的光均勻的照射曝光平臺。
【專利說明】一種均勾布光的曝光機
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于加工設備【技術領域】，具體涉及一種金屬蝕刻片加工過程中的均勻布光的曝光機。
【背景技術】
[0002]金屬蝕刻片是將金屬片材經化學浸濕后得到的帶有預定圖文的金屬結構，其被廣泛的應用于集成電路領域以及用做外觀裝飾件。
[0003]現有的金屬蝕刻片加工方法，一般是通過在金屬片材上滾涂光膠，隨后通過帶有預設圖案的光罩進行曝光使金屬片材上留下圖案化的光膠膜，隨后通過化學浸蝕，將金屬片材上沒有覆蓋光膠膜的部分腐蝕，留下的部分則形成金屬蝕刻片。
[0004]曝光過程的控制直接關系到最終獲得金屬蝕刻片的圖紋精度，現有技術進行曝光時尤其是在采用多個發光部件同時工作時，可能由于部分發光部件老化，或者曝光區域與發光部件之間的距離發生不可控制的變化時，如因機件磨損出現的位移，則會導致光照強度不均勻，可能造成最終產品的缺陷。
【發明內容】
[0005]針對現有的金屬蝕刻片曝光技術存在的上述問題，本實用新型提供的技術方案的主要目的是:提供一種可根據待曝光片材的實時環境調整發光部件的發光強度的均勻布光的曝光機。
[0006]為了實現上述目的，本實用新型采用了如下的技術方案:
[0007]一種均勻布光的曝光機，其中，包括:
[0008]曝光平臺，用以放置待曝光金屬片材；
[0009]復數個發光部件，通過支撐結構均布于所述曝光平臺上方；
[0010]復數個光強傳感器，均布于所述曝光平臺上；
[0011]控制器，分別連接復數個光強傳感器及復數個發光部件，用以根據所述光強傳感器的感應結果分別獨立的控制復數個發光部件的發光強度。
[0012]本實用新型的另一方面，所述光強傳感器的布設于待曝光金屬片材放置范圍內，所述金屬片材上預制通孔使所述光強傳感器的傳感部露出。
[0013]本實用新型的另一方面，還包括傳送裝置，所述傳送裝置連接于所述曝光平臺上，所述待曝光金屬片材設置于所述傳送裝置上。
[0014]本實用新型的另一方面，所述傳送裝置包括復數個被連續傳送的框架，每片待曝光金屬片材設置于所述框架內。
[0015]本實用新型的另一方面，包括一箱體，所述曝光平臺及所述發光部件設置于所述箱體內，所述傳送裝置通過所述箱體上的一第一開口由所述箱體外將所述框架傳送入所述箱體內，并通過所述箱體上的一第二開口由所述箱體內傳送出所述箱體外。
[0016]本實用新型的另一方面，所述第一開口及所述第二開口處分別設置有可升降的阻隔板。
[0017]通過對本實用新型技術方案的實施，可以獲得以下技術效果:
[0018]1，可根據待曝光金屬片材的光環境調整發光部件的發光強度；
[0019]2，光強傳感器的感光部通過待曝光金屬片材上的預制通孔進行感應，獲得的感應結果更精確；
[0020]3，獨立的控制均布于曝光平臺上方的多個發光部件的發光強度，使多個發光部件發出的光均勻的照射曝光平臺。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0021]圖1為本實用新型的結構示意圖；
[0022]圖2為本實用新型的光強傳感器組的分布結構示意圖；
[0023]圖3為本實用新型的裝置連接結構示意圖。
【具體實施方式】
[0024]以下通過具體的實施例對本實用新型的技術方案進行說明，在與本實用新型的實用新型目的無沖突的前提下，下文中提到的實施例以及實施例中的技術特征可以相互組口 ο
[0025]如圖1-3所示，本實用新型提供一種均勻布光的曝光機，其中，包括:
[0026]一種均勻布光的曝光機，其中，包括:
[0027]曝光平臺1，用以放置待曝光金屬片材O ;
[0028]復數個發光部件2，通過支撐結構3均布于曝光平臺I的上方；
[0029]復數個光強傳感器4，均布于曝光平臺I上；
[0030]控制器5，分別連接復數個光強傳感器4及復數個發光部件2，用以根據光強傳感器4的感應結果分別獨立的控制復數個發光部件2的發光強度。
[0031]上述技術方案中，光強傳感器4布設于曝光臺I上，使光強傳感器4的感應結果更接近待曝光金屬片材O所處的光環境，從而令控制器5對發光部件2的發光強度的控制更精確。同時，控制器5獨立的控制均布于曝光平臺I上方的多個發光部件2的發光強度,使曝光平臺I上的光照強度更均勻。
[0032]本實用新型的一種實施例中，光強傳感器4的布設于待曝光金屬片材O放置范圍內，待曝光金屬片材O上預制通孔01使光強傳感器4中的傳感部露出。
[0033]該技術方案中，由于光強傳感器4的傳感部通過待曝光金屬片材O上的預制通孔露出，使光強傳感器4的傳感部感應到待曝光金屬片材O的光照強度，從而進一步提高控制器5對發光部件2的發光強度的控制的精確性。
[0034]本實用新型的一種實施例中，還包括傳送裝置6，傳送裝置6連接于曝光平臺I上，待曝光金屬片材O設置于傳送裝置6上。傳送裝置6用于將待曝光金屬片材O傳送至曝光平臺I上。
[0035]本實用新型的一種實施例中，傳送裝置6包括復數個被連續傳送的框架61，每片待曝光金屬片材O設置于框架61內。
[0036]本實用新型的一種實施例中，包括一箱體7，曝光平臺I及發光部件2設置于箱體7內，傳送裝置6通過箱體7上的一第一開口 71由箱體7外將框架61傳送入箱體7內，并通過箱體7上的一第二開口 72由箱體7內傳送出箱體7外。
[0037]在一中較優的實施例中，箱體7內壁上可設置防反射層，進一步的，防反射層可采用深色植絨層或者防反射涂料。通過防反射層可防止箱體7內光線反射后光照能量疊加，導致曝光過程不可控制。
[0038]本實用新型的一種實施例中，第一開口 71及第二開口 72處分別設置有可升降的阻隔板73及阻隔板74。此技術方案中，當箱體7中的金屬片材執行曝光過程時阻隔板73及阻隔板74落下，封堵住第一開口 71及第二開口 72，使箱體7外的待曝光金屬片材O和已曝光金屬片材不會受到箱體7內的發光部件2的光線影響。
[0039]上述的實施例僅是本實用新型的部分體現，并不能涵蓋本實用新型的全部，在上述實施例以及附圖的基礎上，本領域技術人員在不付出創造性勞動的前提下可獲得更多的實施方式，因此這些不付出創造性勞動的前提下獲得的實施方式均應包含在本實用新型的保護范圍內。
【權利要求】
1.一種均勻布光的曝光機,用于金屬片材曝光,其特征在于,包括: 曝光平臺，用以放置待曝光金屬片材； 復數個發光部件，通過支撐結構均布于所述曝光平臺上方； 復數個光強傳感器，均布于所述曝光平臺上； 控制器，分別連接復數個光強傳感器及復數個發光部件，用以根據所述光強傳感器的感應結果分別獨立的控制復數個發光部件的發光強度。
2.如權利要求1所述均勻布光的曝光機，其特征在于:所述光強傳感器的布設于待曝光金屬片材放置范圍內，所述金屬片材上預制通孔使所述光強傳感器的傳感部露出。
3.如權利要求1所述均勻布光的曝光機，其特征在于:還包括傳送裝置，所述傳送裝置連接于所述曝光平臺上，所述待曝光金屬片材設置于所述傳送裝置上。
4.如權利要求3所述均勻布光的曝光機，其特征在于:所述傳送裝置包括復數個被連續傳送的框架，每片待曝光金屬片材設置于所述框架內。
5.如權利要求4所述均勻布光的曝光機，其特征在于:還包括一箱體，所述曝光平臺及所述發光部件設置于所述箱體內，所述傳送裝置通過所述箱體上的一第一開口由所述箱體外將所述框架傳送入所述箱體內，并通過所述箱體上的一第二開口由所述箱體內傳送出所述箱體外。
6.如權利要求5所述均勻布光的曝光機，其特征在于:所述第一開口及所述第二開口處分別設置有可升降的阻隔板。
【文檔編號】G03F7/20GK203941382SQ201420370583
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年7月7日 優先權日:2014年7月7日
【發明者】王滿根 申請人:寧波東盛集成電路元件有限公司