一種減壓干燥裝置及陣列光刻工藝設備的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種減壓干燥裝置，用于光刻工藝中玻璃基板的減壓干燥，包括：干燥室；用于承載玻璃基板的承載臺，設于所述干燥室內；所述減壓干燥裝置還包括：用于對玻璃基板進行加熱的加熱結構，設于所述干燥室內。本實用新型還提供一種陣列光刻工藝設備。本實用新型的有益效果是：減壓干燥的同時進行加熱，將減壓干燥工藝和前烘工藝同時進行，降低成本、提高生產效率。
【專利說明】—種減壓干燥裝置及陣列光刻工藝設備
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及液晶產品工藝【技術領域】，尤其涉及一種減壓干燥裝置及陣列光刻工藝設備。
【背景技術】
[0002]TFT-LCD (薄膜晶體管液晶顯不器，Thin Film Transistor-LiquidCrystalDisplay)不斷向高世代發展，玻璃基板不斷增大，產能不斷提高。各廠商為了提高競爭力，在不斷提高產品性能和開發新產品的同時，還在成本的降低上做著各種努力。
[0003]如圖1所示，現有技術中的減壓干燥裝置，包括干燥室I和設置與干燥室I內的用于承載玻璃基板的承載臺2，所述承載臺2由多個獨立且位于同一水平面的承載板間隔組成。如圖2所示，現有的烘烤裝置，包括本體1，所述本體I包括多層設置的烤箱2。
[0004]在傳統的光刻設備中減壓干燥設備和前烘設備是完全獨立的設備，不僅增加了設備，還增占了廠房面積(光刻產線是Array廠房中最長的產線)，而且加大了對設備維護的難度。
實用新型內容
[0005]為了解決上述技術問題，本實用新型提供一種減壓干燥裝置及陣列光刻工藝設備，提聞生廣效率。
[0006]為了達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是:一種減壓干燥裝置，用于光刻工藝中玻璃基板的減壓干燥，包括:
[0007]干燥室；
[0008]用于承載玻璃基板的承載臺，設于所述干燥室內；
[0009]所述減壓干燥裝置還包括:
[0010]用于對玻璃基板進行加熱的加熱結構，設于所述干燥室內。
[0011]進一步的，所述承載臺包括一第一承載板，所述第一承載板的外表面形成用于承載玻璃基板的承載面。
[0012]進一步的，所述承載臺還包括與所述第一承載板疊置的第二承載板，所述第一承載板和所述第二承載板之間具有間隙形成用于容納所述加熱結構的容納空間。
[0013]進一步的，所述加熱結構包括一電加熱板。
[0014]進一步的，還包括:
[0015]固定支架，固定于所述干燥室的外底部；
[0016]多個升降桿，一端固定于所述固定支架，另一端穿設于所述承載臺；
[0017]所述多個升降桿具有第一狀態和第二狀態，所述第一狀態為多個所述升降桿的另一端的高度低于所述承載面的高度；所述第二狀態為多個所述升降桿的另一端的高度高于所述承載面的高度；
[0018]驅動結構，用于控制多個所述升降桿從所述第一狀態運動到所述第二狀態。[0019]進一步的，所述干燥室的底部設有與真空泵連接的抽氣孔。
[0020]進一步的，所述干燥室底部設有用于支撐所述承載臺的支撐桿。
[0021]本實用新型還提供一種陣列光刻工藝設備，包括上述的減壓干燥裝置。
[0022]本實用新型的有益效果是:減壓干燥的同時進行加熱，將減壓干燥工藝和前烘工藝同時進行，降低成本、提高生產效率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0023]圖1表示現有技術中減壓干燥裝置結構示意圖；
[0024]圖2表示現有技術中烘烤裝置結構示意圖；
[0025]圖3表示本實用新型減壓干燥裝置結構示意圖；
[0026]圖4表示本實用新型減壓干燥裝置分解結構示意圖。
【具體實施方式】
[0027]以下結合附圖對本實用新型的結構和原理進行詳細說明，所舉實施例僅用于解釋本實用新型，并非以此限定本實用新型的保護范圍。
[0028]如圖3和圖4所示，本實施例提供一種減壓干燥裝置，用于光刻工藝中玻璃基板的減壓干燥，包括:
[0029]干燥室I ;
[0030]用于承載玻璃基板的承載臺2，設于所述干燥室I內；
[0031 ] 所述減壓干燥裝置還包括:
[0032]用于對玻璃基板進行加熱的加熱結構，設于所述干燥室I內。
[0033]本實施例減壓干燥裝置將減壓干燥工藝和前烘工藝合為一體，不僅減少了設備上的資金投入、節省了廠房面積，減少了設備內一些無謂的傳送，降低了設備的生產節拍，提高了產能，而且有效的減小了 VOC (揮發性有機化合物)的揮發，降低了 VOC揮發對人體造成的傷害。
[0034]本實施例中，所述干燥室I為一具有蓋體11的密封式腔體結構，所述干燥室I的底部設有與真空泵連接的抽氣孔。
[0035]所述承載臺2包括一第一承載板21，所述第一承載板21的外表面形成用于承載玻璃基板的承載面。
[0036]現有技術中，承載臺由多個獨立且位于同一水平面的承載板間隔設置形成，其用于承載玻璃基板的承載面則由所述多個間隔設置的承載板的表面形成，本實施例中，所述承載面為一獨立的、完整的平面，減壓干燥時氣體可均勻的通過載臺四周流向抽氣孔，避免了傳統式下部排氣時，中心與邊緣溶質析出后的氣流紊亂、溶質析出不均的問題。
[0037]本實施例中，所述加熱結構與所述承載臺的連接關系可以有多種，可以直接作為一體結構，也可以可拆卸的連接，例如:卡接、插接等，以下介紹幾種本實施例中所述加熱結構與所述承載臺的連接關系:
[0038]一實施例中，所述承載臺2還包括與所述第一承載板21疊置的第二承載板22，所述第一承載板21和所述第二承載板22之間具有間隙形成用于容納所述加熱結構的容納空間。[0039]一實施例中，所述第一承載板21的一側設有條形開口，沿著所述開口向所述承載面平行的方向向內延伸形成一用于容納玻璃基板的凹槽。
[0040]一實施例中，所述第一承載板21的底部設有用于連接所述加熱結構的卡接結構。
[0041]進一步的，所述加熱結構包括一電加熱板。當然，所述加熱結構也可以是其他結構形式，例如，包括多個加熱燈的承載板。
[0042]為了玻璃基板受熱均勻，所述電加熱板的面積不小于所述承載面的面積，即不小于所述相應的玻璃基板的面積。
[0043]進一步的，所述減壓干燥裝置還包括:
[0044]固定支架3，固定于所述干燥室I的外底部；
[0045]多個升降桿4，一端固定于所述固定支架3，另一端穿設于所述承載臺2 ；
[0046]所述多個升降桿4具有第一狀態和第二狀態，所述第一狀態為多個所述升降桿4的另一端的高度低于所述承載面的高度；所述第二狀態為多個所述升降桿4的另一端的高度高于所述承載面的高度；
[0047]驅動結構，用于控制多個所述升降桿4從所述第一狀態運動到所述第二狀態。
[0048]所述第一承載板21、所述第二承載板22和所述電加熱板上對應的位置均設有可供所述升降桿4穿過的孔。
[0049]在所述驅動結構的控制下，所述升降桿4從所述第一狀態運動到所述第二狀態，即所述升降桿4外露于所述承載面，將待處理的玻璃基板放置于所述多個升降桿4的另一端，所述升降桿4下降，所述升降桿4位于所述第一狀態，即多個所述升降桿4的另一端的高度低于所述承載面的高度，所述升降桿4整體位于所述承載面以內，此時待處理的玻璃基板與所述承載面相接觸。
[0050]減壓干燥、烘干處理后，在所述驅動結構的控制下，所述升降桿4從所述第一狀態運動到所述第二狀態，即所述升降桿4外露于所述承載面，多個所述升降桿4托起經過的玻璃基板，玻璃基板與所述承載臺2脫離，以方便從所述承載臺2上取下玻璃基板。
[0051]所述干燥室I底部設有用于支撐所述承載臺2的支撐桿12所述承載臺2與所述干燥室I的底部具有一定的距離，便于氣體從所述干燥室I的底部抽出。
[0052]本實用新型還提供一種陣列光刻工藝設備，包括上述的減壓干燥裝置。
[0053]本實施例中，所述承載臺2內加入電加熱板(Heater)，在減壓干燥的同時對玻璃基板進行加熱，此時光刻膠內的溶劑將更容易揮發出來，光刻膠與玻璃基板的粘附性也將會更好。揮發出來的有機物可有效的通過下面的抽氣的抽氣孔全部抽走，避免所述蓋體11及周圍粘附溶劑和光刻膠，從而大大減少溶劑低落到基板導致的產品不良發生，同時可延長維護周期和降低維護難度，不需要使用大量化學清洗劑就可以維護，延長設備壽命，同時降低周圍環境的V0C，保證人身健康。
[0054]Photolithography (光刻)工藝一直以來都時Array (陣列)的瓶頸工藝,將減壓干燥(VO))工藝和前烘(Bake)工藝同時進行,大大的縮短了 Photolithography工藝的TactTime (節拍時間)，大幅度的提高了設備產能，可有效緩解瓶頸工藝的壓力。
[0055]以上所述為本實用新型較佳實施例，應當指出的是，對于本領域普通技術人員來說，在不脫離本實用新型的所述原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本實用新型保護范圍。
【權利要求】
1.一種減壓干燥裝置，用于光刻工藝中玻璃基板的減壓干燥，包括: 干燥室； 用于承載玻璃基板的承載臺，設于所述干燥室內； 其特征在于，所述減壓干燥裝置還包括: 用于對玻璃基板進行加熱的加熱結構，設于所述干燥室內。
2.根據權利要求1所述減壓干燥裝置，其特征在于，所述承載臺包括一第一承載板，所述第一承載板的外表面形成用于承載玻璃基板的承載面。
3.根據權利要求1或2所述減壓干燥裝置，其特征在于，所述承載臺還包括與所述第一承載板疊置的第二承載板，所述第一承載板和所述第二承載板之間具有間隙形成用于容納所述加熱結構的容納空間。
4.根據權利要求3所述減壓干燥裝置，其特征在于，所述加熱結構包括一電加熱板。
5.根據權利要求2所述減壓干燥裝置，其特征在于，還包括: 固定支架，固定于所述干燥室的外底部； 多個升降桿，一端固定于所述固定支架，另一端穿設于所述承載臺； 所述多個升降桿具有第一狀態和第二狀態，所述第一狀態為多個所述升降桿的另一端的高度低于所述承載面的高度；所述第二狀態為多個所述升降桿的另一端的高度高于所述承載面的高度； 驅動結構，用于控制多個所述升降桿從所述第一狀態運動到所述第二狀態。
6.根據權利要求1所述減壓干燥裝置，其特征在于，所述干燥室的底部設有與真空泵連接的抽氣孔。
7.根據權利要求6所述減壓干燥裝置，其特征在于，所述干燥室底部設有用于支撐所述承載臺的支撐桿。
8.—種陣列光刻工藝設備，其特征在于，包括權利要求1-7任一項所述的減壓干燥裝置。
【文檔編號】G03F7/20GK203799174SQ201420156215
【公開日】2014年8月27日 申請日期:2014年4月1日 優先權日:2014年4月1日
【發明者】張民, 周子卿, 王濤, 吳磊, 陳朋 申請人:北京京東方顯示技術有限公司, 京東方科技集團股份有限公司