一種摩擦設備及其進行摩擦取向的方法
【專利摘要】本發明涉及一種摩擦設備，包括：基板承載裝置，包括相對設置的用于固定基板的第一基臺和第二基臺；設置于第一基臺和第二基臺之間的摩擦輥輪；第一控制裝置，用于執行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉動的狀態下和所述基板承載裝置之間產生一相對平移，以對承載于所述第一基臺和第二基臺的基板進行摩擦取向操作。本發明還涉及一種使用所述摩擦設備進行摩擦取向的方法本發明的有益效果是：同時對兩個基板進行摩擦取向操作，提高工作效率。
【專利說明】一種摩擦設備及其進行摩擦取向的方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及液晶顯示制作【技術領域】，尤其涉及一種摩擦設備及其進行摩擦取向的方法。
【背景技術】
[0002]在顯示行業面板生產摩擦工藝過程中，目前主流的摩擦設備，采用單機臺水平運動，摩擦輥輪下壓進行對玻璃基板的摩擦，達到對取向膜配向的效果。
[0003]由于摩擦輥輪的轉速，基板的運動速度，摩擦布的各個參數等一系列因素的互相作用，摩擦取向操作會出現不均勻，這種不均勻會造成基板加電壓后的整體亮度出現不均勻，由于這種亮度不均勻是由Rubbing工藝造成的,稱之為摩擦缺陷(Rubbing Mura)。伴隨傳統摩擦工藝來說，Rubbing mura的持續發生，也是摩擦工藝的一道枷鎖，目前，通過對工藝參數的優化，最直接降低Rubbing mura發生的方法只有通過不斷的降低機臺的水平方向運動速度，這其中，大大降低了該工藝的生產效率。
【發明內容】
[0004]為了解決上述技術問題，本發明提供一種摩擦設備及其進行摩擦取向的方法，提高生產效率。
[0005]為了達到上述目的，本發明采用的技術方案是:一種摩擦設備，包括:
[0006]基板承載裝置，包括相對設置的用于固定基板的第一基臺和第二基臺；
[0007]設置于第一基臺和第二基臺之間的摩擦輥輪；
[0008]第一控制裝置，用于執行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉動的狀態下和所述基板承載裝置之間產生一相對平移，以對承載于所述第一基臺和第二基臺的基板進行摩擦取向操作。
[0009]進一步的，所述第一控制裝置包括:
[0010]第一驅動結構，設置于所述摩擦輥輪或基板承載裝置；
[0011]第一控制模塊，用于控制所述第一驅動結構，以在所述摩擦輥輪和基板承載裝置之間產生相對平移運動。
[0012]進一步的，還包括第二控制裝置，所述第二控制裝置用于根據預設壓入量控制所述第一基臺和第二基臺中的一個向所述第一基臺和第二基臺中的另一個移動調整所述第一基臺與所述第二基臺之間的距離。
[0013]進一步的，所述第二控制裝置包括:
[0014]第二驅動結構，設置于基板承載裝置；
[0015]第二控制模塊，用于控制所述第二驅動結構，以調整所述第一基臺與所述第二基臺之間的距離。
[0016]進一步的，還包括用于支撐所述摩擦輥輪的支撐架。
[0017]進一步的，所述摩擦輥輪的外表面套設有摩擦布。
[0018]進一步的，所述第一基臺和所述第二基臺均通過真空吸附方式固定基板。
[0019]本發明還提供一種采用上述摩擦設備進行摩擦取向的方法，包括以下步驟:
[0020]在基板承載裝置的第一基臺和第二基臺上分別固定基板；
[0021]執行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉動的狀態下同時與所述第一基臺和所述第二基臺之間產生一相對平移，以對承載于所述第一基臺和第二基臺的基板進行摩擦取向操作。
[0022]本發明的有益效果是:同時對兩個基板進行摩擦取向操作，提高工作效率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0023]圖1表示本發明實施例摩擦設備結構示意圖；
[0024]圖2表示本發明實施例摩擦設備側視圖。
【具體實施方式】
[0025]以下結合附圖對本發明的特征和原理進行詳細說明，所舉實施例僅用于解釋本發明，并非以此限定本發明的保護范圍。
[0026]如圖1和圖2所示，本實施例提供一種摩擦設備，包括:
[0027]基板承載裝置，包括相對設置的用于固定基板4的第一基臺I和第二基臺2 ；
[0028]設置于第一基臺I和第二基臺2之間的摩擦輥輪3 ；
[0029]第一控制裝置，用于執行一控制操作，使得摩擦輥輪3在轉動的狀態下和所述基板承載裝置之間產生一相對平移，以對承載于所述第一基臺I和第二基臺2的基板4進行摩擦取向操作。
[0030]摩擦輥輪3設置于第一基臺I和第二基臺2之間，實現同時對兩個基板進行摩擦取向操作，提高工作效率。
[0031]第一控制裝置的結構形式可以有多種，可選的，所述第一控制裝置包括:
[0032]第一驅動結構，設置于所述摩擦輥輪或基板承載裝置；
[0033]第一控制模塊，用于控制所述第一驅動結構，以在所述摩擦輥輪和基板承載裝置之間產生相對平移運動。
[0034]第一驅動結構設置于所述摩擦輥輪上，在第一控制模塊的控制下、驅動摩擦輥輪移動，使得摩擦輥輪和基板承載裝置之間產生一相對平移，具體的是，摩擦輥輪3與第一基臺I之間產生一相對平移，同時摩擦輥輪3與第二基臺2之間產生一相對平移，實現摩擦輥輪3對第一基臺I和第二基臺2上的基板4同時進行摩擦取向操作的目的。
[0035]第一驅動結構也可以設置在所述基板承載裝置上，具體的設置于所述第一基臺I和所述第二基臺2上，在第一控制模塊的控制下、第一驅動結構驅動第一基臺移動，使得第一基臺I與所述摩擦輥輪3之間產生一相對平移，同時在第一控制模塊的控制下、第一驅動結構驅動第二基臺2移動，使得第二基臺2與摩擦輥輪3之間產生一相對平移，實現摩擦輥輪3對第一基臺I和第二基臺2上的基板4同時進行摩擦取向操作的目的。
[0036]可選的，摩擦設備還包括第二控制裝置，所述第二控制裝置用于根據預設壓入量控制所述第一基臺I和第二基臺2中的一個向所述第一基臺I和第二基臺2中的另一個移動調整所述第一基臺I與所述第二基臺2之間的距離。
[0037]通過控制第一基臺和或第二基臺的移動，以調整摩擦輥輪壓入量，可以對不同壓入量需求到的基板同時進行摩擦取向操作，提高生產效率。
[0038]進一步的，所述第二控制裝置包括:
[0039]第二驅動結構，設置于基板承載裝置；
[0040]第二控制模塊，用于控制所述第二驅動結構，以調整所述第一基臺I與所述第二基臺2之間的距離。
[0041]摩擦輥輪3位于第一基臺I和第二基臺2之間，調整所述第一基臺I和所述第二基臺2之間的距離，即可實現調整摩擦輥輪3對基板4的壓入量，所述第二驅動結構設置于基板承載裝置，具體的，第二驅動結構可以同時設置于第一基臺和第二基臺，在第二控制模塊的控制下，第二驅動結構驅動第一基臺I向靠近第二基臺2的方向移動，以調整所述第一基臺I和所述第二基臺2之間的距離；在第二控制模塊的控制下，第二驅動模塊驅動第二基臺2向靠近第一基臺I的方向移動，以調整所述第二基臺2和所述第一基臺I之間的距離，分別控制第一基臺I和第二基臺2的移動量，即使第一基臺I和第二基臺2上基板4具有不同的壓入量，也可以同時對第一基臺I和第二基臺2上的基板4進行摩擦取向操作。
[0042]第二驅動結構為升降氣缸5，第一基臺I和第二基臺2上分別設有升降氣缸5
[0043]在另一實施例中，第二驅動結構設置于第一基臺I和第二基臺2中的一個、以及摩擦輥輪3上，例如第二驅動結構設置于第一基臺I以及摩擦輥輪3上，在進行第一基臺與第二基臺之間的距離調整時，首先，在第二控制模塊的控制下，第二驅動結構控制摩擦輥輪向靠近第二基臺的方向移動，直到滿足第二基臺上的基板的壓入量為止，然后在第二控制模塊的控制下，第二驅動結構控制第一基臺向靠近所述第二基臺的方向移動，直到滿足第一基臺上的基板的壓入量為止。
[0044]可選的，摩擦設備還包括用于支撐所述摩擦輥輪3的支撐架。
[0045]可選的，所述摩擦輥輪3的外表面套設有摩擦布。
[0046]可選的，所述第一基臺I和所述第二基臺2均通過真空吸附方式固定基板，基板固定于第一基臺I和第二基臺2上的方式并不限于真空吸附的方式。
[0047]本發明還提供一種采用上述摩擦設備進行摩擦取向的方法，包括以下步驟:
[0048]在基板承載裝置的第一基臺I和第二基臺上分別固定基板；
[0049]執行一控制操作，使得摩擦輥輪3在轉動的狀態下同時與所述第一基臺I和所述第二基臺之間產生一相對平移，以對承載于所述第一基臺I和第二基臺的基板進行摩擦取向操作。
[0050]以下具體介紹本實施例中，摩擦設備的工作流程；
[0051]在第一基臺I相對于第二基臺的一面固定基板，并在第二基臺相對于第一基臺I的一面上固定基板；
[0052]將摩擦輥輪3的位置移動到摩擦取向操作的起始位置；
[0053]根據第一基臺I上的基板的壓入量控制第一基臺I向第二基臺的方向移動；
[0054]根據第二基臺上的基板的壓入量控制第二基臺向第一基臺I的方向移動；
[0055]摩擦輥輪3旋轉，且第一基臺I相對于摩擦輥輪3平移，同時第二基臺相對于摩擦輥輪3平移，直至摩擦取向的操作結束。
[0056]以上為本發明較佳實施例，需要指出的是，對于本領域普通技術人員來說，在不脫離本發明所述原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發明保護范圍。
【權利要求】
1.一種摩擦設備，其特征在于，包括: 基板承載裝置，包括相對設置的用于固定基板的第一基臺和第二基臺； 設置于第一基臺和第二基臺之間的摩擦輥輪； 第一控制裝置，用于執行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉動的狀態下和所述基板承載裝置之間產生一相對平移，以對承載于所述第一基臺和第二基臺的基板進行摩擦取向操作。
2.根據權利要求1所述的摩擦設備，其特征在于，所述第一控制裝置包括: 第一驅動結構，設置于所述摩擦輥輪或基板承載裝置； 第一控制模塊，用于控制所述第一驅動結構，以在所述摩擦輥輪和基板承載裝置之間產生相對平移運動。
3.根據權利要求2所述的摩擦設備，其特征在于，還包括第二控制裝置，所述第二控制裝置用于根據預設壓入量控制所述第一基臺和第二基臺中的一個向所述第一基臺和第二基臺中的另一個移動調整所述第一基臺與所述第二基臺之間的距離。
4.根據權利要求3所述的摩擦設備，其特征在于，所述第二控制裝置包括: 第二驅動結構，設置于基板承載裝置； 第二控制模塊，用于控制所述第二驅動結構，以調整所述第一基臺與所述第二基臺之間的距離。
5.根據權利要求2所述的摩擦設備，其特征在于，還包括用于支撐所述摩擦輥輪的支撐架。
6.根據權利要求2所述的摩擦設備，其特征在于，所述摩擦輥輪的外表面套設有摩擦布。
7.根據權利要求2所述的摩擦設備，其特征在于，所述第一基臺和所述第二基臺均通過真空吸附方式固定基板。
8.一種采用權利要求1-7任一項所述的摩擦設備進行摩擦取向的方法，其特征在于，包括以下步驟: 在基板承載裝置的第一基臺和第二基臺上分別固定基板； 執行一控制操作，使得摩擦輥輪在轉動的狀態下同時與所述第一基臺和所述第二基臺之間產生一相對平移，以對承載于所述第一基臺和第二基臺的基板進行摩擦取向操作。
【文檔編號】G02F1/1337GK104460117SQ201410820096
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年12月24日 優先權日:2014年12月24日
【發明者】王曉峰, 敬輝, 黃助兵 申請人:合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司