掩模板、曝光設(shè)備及紫外掩?；宓闹苽浞椒?br>
【專利摘要】本發(fā)明提供一種掩模板、曝光設(shè)備及紫外掩模基板的制備方法，所述掩模板包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域；所述透光區(qū)域包括：至少一個(gè)沿第一方向延伸設(shè)置的第一透光部；以及至少一個(gè)沿與所述第一方向之間呈第一角度的第二方向延伸設(shè)置的第二透光部。本發(fā)明中，掩模板的透光區(qū)域上設(shè)置有第一透光部和第二透光部，將掩模板移動(dòng)至待曝光基板上方的不同預(yù)設(shè)位置，在每一預(yù)設(shè)位置處利用掩膜板對(duì)待曝光基板進(jìn)行曝光，通過(guò)這種多次曝光的方式，利用掩膜板上的第一透光部和第二透光部作為曝光區(qū)進(jìn)行曝光，可以實(shí)現(xiàn)在待曝光基板上形成任意大小的矩形或菱形圖案，從而可以利用一塊掩模板來(lái)制備不同型號(hào)的紫外掩模基板，節(jié)約了開發(fā)費(fèi)用和制作成本。
【專利說(shuō)明】掩模板、曝光設(shè)備及紫外掩模基板的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種掩模板、曝光設(shè)備及紫外掩?；宓闹苽浞椒ā?br>
【背景技術(shù)】
[0002]TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯不器)在當(dāng)前的顯示領(lǐng)域中占據(jù)了主導(dǎo)地位，其產(chǎn)品具有體積小、功耗低、無(wú)輻射、分辨率高等優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代數(shù)字信息化設(shè)備中。TFT-LCD是由陣列基板和彩膜基板對(duì)盒而成，在陣列基板和彩膜基板對(duì)盒工藝過(guò)程中，需要通過(guò)紫外光(UV)照射的方法實(shí)現(xiàn)封框膠的固化。為保證顯示面板有效顯示區(qū)域(Active Area)的液晶分子不被UV光照射而對(duì)液晶產(chǎn)生污染，需要通過(guò)紫外掩模基板(UV Glass)上的金屬圖形來(lái)遮擋面板有效顯示區(qū)域(Active Area),以防止液晶分子被UV照射。
[0003]而現(xiàn)有技術(shù)中，通過(guò)曝光機(jī)上的掩模板對(duì)沉積有某種金屬的玻璃基板進(jìn)行曝光、經(jīng)刻蝕等工藝得到具有一定圖案的紫外掩?；濉Ｓ捎谝壕э@示器件新產(chǎn)品的不斷開發(fā)，不同產(chǎn)品的面板需要不同型號(hào)的紫外掩?；鍋?lái)滿足面板在對(duì)盒工藝過(guò)程中有效顯示區(qū)域不受紫外照射的影響，即需要不同的掩模板來(lái)獲得不同型號(hào)的紫外掩?；濉，F(xiàn)有技術(shù)中只能通過(guò)購(gòu)買各種型號(hào)的掩模板，得到待曝光基板上不同大小的圖案。而購(gòu)買掩模板的費(fèi)用較高，不利于節(jié)約曝光工藝的實(shí)現(xiàn)成本。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明的目的是提供一種掩模板、曝光設(shè)備及紫外掩模基板的制備方法，。
[0005]本發(fā)明實(shí)施方式所提供的技術(shù)方案如下:
[0006]一種掩模板，包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域；所述透光區(qū)域包括:
[0007]至少一個(gè)沿第一方向延伸設(shè)置的第一透光部；
[0008]以及至少一個(gè)沿與所述第一方向之間呈第一角度的第二方向延伸設(shè)置的第二透光部。
[0009]進(jìn)一步的，所述第一角度為90度。
[0010]進(jìn)一步的，所述透光區(qū)域包括平行設(shè)置的至少兩個(gè)所述第一透光部。
[0011]進(jìn)一步的，所述透光區(qū)域包括平行設(shè)置的至少兩個(gè)所述第二透光部。
[0012]進(jìn)一步的，至少兩個(gè)所述第二透光部中的至少一個(gè)所述第二透光部靠近所述掩模板的第一邊緣設(shè)置，至少另一個(gè)所述第二透光部靠近所述掩模板的與所述第一邊緣相對(duì)的第二邊緣設(shè)置。
[0013]一種曝光設(shè)備,包括:
[0014]如上所述的掩模板；
[0015]以及，能夠相對(duì)所述掩模板移動(dòng)，以與所述掩模板配合形成不同的曝光區(qū)域的擋板。
[0016]進(jìn)一步的，所述曝光設(shè)備還包括:用于移動(dòng)所述掩模板的第一移動(dòng)部件。
[0017]進(jìn)一步的，所述曝光設(shè)備還包括:
[0018]用于移動(dòng)所述擋板的第二移動(dòng)部件。
[0019]一種紫外掩模基板的制備方法，所述方法包括:
[0020]采用如上所述的曝光設(shè)備對(duì)待曝光基板進(jìn)行多次曝光，其中在每次曝光過(guò)程中，根據(jù)紫外掩膜基板的圖形，利用所述掩模板和所述擋板配合形成不同的曝光區(qū)域。
[0021]進(jìn)一步的，移動(dòng)所述掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的任一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行一次曝光，其中，所述擋板遮擋住除至少一個(gè)所述第一透光部和至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第一曝光區(qū)域；
[0022]移動(dòng)掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的下一預(yù)定位置上，其中所述擋板與所述掩模板配合形成所述第一曝光區(qū)域，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行下一次曝光；
[0023]按照上述步驟，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行多次曝光，直至完成對(duì)整個(gè)所述待曝光基板的曝光處理，以在所述待曝光基板上形成包括沿所述第一方向延伸和沿所述第二方向延伸的全部曝光圖形。
[0024]進(jìn)一步的，所述待曝光基板劃分為靠近第一側(cè)的第一部分和靠近與所述第一側(cè)相對(duì)的第二側(cè)的第二部分；
[0025]其中，當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第一部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，所述擋板遮擋住除靠近所述掩模板的第一邊緣設(shè)置的第一透光部和至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第一曝光區(qū)域；
[0026]當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第二部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，所述擋板遮擋住除靠近所述掩模板的第二邊緣設(shè)置的第一透光部和至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第一曝光區(qū)域。
[0027]進(jìn)一步的，移動(dòng)所述掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的任一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行一次曝光，其中，所述擋板遮擋住除至少一個(gè)所述第一透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第二曝光區(qū)域；
[0028]移動(dòng)掩模板及擋板，其中所述擋板與所述掩模板配合形成所述第二曝光區(qū)域，使所述掩模板位于待曝光基板上方的下一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行下一次曝光；
[0029]按照上述步驟，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行多次曝光，直至完成對(duì)整個(gè)所述待曝光基板的曝光處理，以在所述待曝光基板上形成沿所述第一方向延伸的全部曝光圖形。
[0030]進(jìn)一步的，所述方法還包括:
[0031]移動(dòng)所述掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的任一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行一次曝光，其中，所述擋板遮擋住除至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第三曝光區(qū)域；
[0032]移動(dòng)掩模板及擋板，其中所述擋板與所述掩模板配合形成所述第三曝光區(qū)域，使所述掩模板位于待曝光基板上方的下一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行下一次曝光；
[0033]按照上述步驟，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行多次曝光，直至完成對(duì)整個(gè)所述待曝光基板的曝光處理，以在所述待曝光基板上形成沿所述第二方向延伸的全部曝光圖形。
[0034]本發(fā)明的有益效果如下:
[0035]上述方案中，掩模板的透光區(qū)域上設(shè)置有呈第一角度設(shè)置的第一透光部和第二透光部，可以將掩模板移動(dòng)至待曝光基板上方的不同預(yù)設(shè)位置，在每一預(yù)設(shè)位置處利用所述掩膜板對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行曝光，通過(guò)這種多次曝光的方式，利用掩膜板上的第一透光部和第二透光部作為曝光區(qū)進(jìn)行曝光，可以實(shí)現(xiàn)在待曝光基板上形成任意大小的矩形或菱形圖案，從而可以利用一塊掩模板來(lái)制備不同型號(hào)的紫外掩模基板，節(jié)約了開發(fā)費(fèi)用和制作成本。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0036]圖1為本發(fā)明所提供的掩模板的第一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖2為本發(fā)明所提供的掩模板的第二種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖3為本發(fā)明所提供的紫外掩?；宓闹圃旆椒ㄖ胁襟ESI的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖4為本發(fā)明所提供的紫外掩?；宓闹圃旆椒ㄖ胁襟ES2的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖5為采用本發(fā)明提供的方法在掩模板處于第一位置進(jìn)行曝光完成后基板上的曝光圖形不意圖；
[0041]圖6為采用本發(fā)明提供的方法曝光完成后基板上的曝光圖形示意圖；
[0042]圖7為本發(fā)明所提供的紫外掩模基板的制造方法中步驟S5的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0043]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的原理和特征進(jìn)行描述，所舉實(shí)例只用于解釋本發(fā)明，并非用于限定本發(fā)明的范圍。
[0044]現(xiàn)有技術(shù)中需要不同的掩模板來(lái)獲得不同型號(hào)的紫外掩模基板，存在成本較高，本發(fā)明提供了一種掩模板、曝光設(shè)備及紫外掩模基板，可以利用一塊掩模板來(lái)制備不同型號(hào)的紫外掩模基板，節(jié)省了成本。
[0045]如圖1和圖2所示，本發(fā)明所提供的掩模板包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域；所述透光區(qū)域包括:
[0046]至少一個(gè)沿第一方向延伸設(shè)置的第一透光部100 ;以及至少一個(gè)沿與所述第一方向之間呈第一角度的第二方向延伸設(shè)置的第二透光部200。
[0047]本發(fā)明所提供的掩模板的透光區(qū)域上設(shè)置有呈第一角度設(shè)置的第一透光部100和第二透光部200，從而，可以將掩模板移動(dòng)至待曝光基板上方的不同預(yù)設(shè)位置，在每一預(yù)設(shè)位置處利用所述掩膜板對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行曝光，通過(guò)這種多次曝光的方式，利用掩膜板上的第一透光部100和第二透光部200進(jìn)行曝光，可以實(shí)現(xiàn)在待曝光基板上形成任意大小的矩形或者菱形圖案，從而可以利用一塊掩模板來(lái)制備不同型號(hào)的紫外掩模基板，節(jié)約了開發(fā)費(fèi)用和制作成本。
[0048]通常在紫外掩?；迤毓夤に囍惺遣捎谜怨饪棠z，因此，本發(fā)明中，優(yōu)選的，所述第一透光部100和所述第二透光部200均為條形透光結(jié)構(gòu)。
[0049]由于傳統(tǒng)的顯示面板上有效顯示區(qū)域呈矩形，紫外掩?；迳辖饘賵D形為對(duì)應(yīng)的矩形圖形，因此，優(yōu)選的，本發(fā)明所提供的實(shí)施例中，所述第一角度為90度，也就是說(shuō)，所述第一透光部與所述第二透光部相互垂直設(shè)置。當(dāng)然可以理解的是，在實(shí)際應(yīng)用中，所述第一角度也可以為其他角度，以利用該掩模板制造出具有菱形圖形的基板。
[0050]并且，如圖2所示，優(yōu)選的，所述透光區(qū)域的圖形包括平行設(shè)置的兩個(gè)所述第二透光部200。進(jìn)一步優(yōu)選的，至少兩個(gè)所述第二透光部中的至少一個(gè)所述第二透光部靠近所述掩模板的第一邊緣設(shè)置，至少另一個(gè)所述第二透光部靠近所述掩模板的與所述第一邊緣相對(duì)的第二邊緣設(shè)置。
[0051]采用上述方案，第二透光部200設(shè)置為兩個(gè)，可以減少曝光設(shè)備占用空間，具體地，待曝光基板上具有相對(duì)的第一側(cè)和第二側(cè)，整個(gè)待曝光基板可以劃分為靠近第一側(cè)的第一部分和靠近第二側(cè)的第二部分，其中，當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第一部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，利用掩模板曝光待曝光基板的第一部分的圖案時(shí)，可以采用兩個(gè)第二透光部200中靠近掩模板的第一邊緣設(shè)置的一個(gè)第二透光部形成曝光區(qū)域來(lái)進(jìn)行曝光；
[0052]而當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第二部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，利用掩模板曝光待曝光基板的第二部分的圖案時(shí)，受曝光設(shè)備的空間局限，兩個(gè)第二透光部200中靠近待曝光基板的第一側(cè)的一個(gè)第二透光部可能沒(méi)有足夠空間可以移動(dòng)至基板的第二部分所對(duì)應(yīng)的位置，此時(shí)可以采用兩個(gè)第二透光部200中靠近掩模板的第二邊緣設(shè)置的另一個(gè)第二透光部形成曝光區(qū)域來(lái)進(jìn)行曝光。
[0053]當(dāng)然可以理解的是，根據(jù)實(shí)際需求，本發(fā)明的實(shí)施例中也可以是在掩模板上平行設(shè)置至少兩個(gè)第一透光部。
[0054]此外，本發(fā)明實(shí)施例中，優(yōu)選的，兩個(gè)平行設(shè)置的第二透光部200之間的間距為紫外掩模基板的矩形圖形在第一方向上的長(zhǎng)度的整數(shù)倍，可以在制備紫外掩?；暹^(guò)程中減少曝光次數(shù)。
[0055]當(dāng)然可以理解的是，本發(fā)明所提供的掩模板中，所述第一透光部100和所述第二透光部200的尺寸以及布置方式可以根據(jù)基板(紫外掩?；?的型號(hào)大小以及曝光設(shè)備的空間等因素來(lái)設(shè)置，例如:所述透光區(qū)域還可以是包括兩個(gè)以上的所述第二透光部200，或者所述透光區(qū)域還可以包括兩個(gè)以上所述第一透光部100。
[0056]本發(fā)明還一個(gè)目的是提供一種曝光設(shè)備，該曝光設(shè)備包括:
[0057]本發(fā)明實(shí)施例所提供的掩模板；
[0058]以及，能夠相對(duì)所述掩模板移動(dòng)，以與所述掩模板配合形成不同的曝光區(qū)域的擋板。
[0059]本發(fā)明所提供的曝光設(shè)備，其掩模板的透光區(qū)域上設(shè)置有呈第一角度設(shè)置的第一透光部100和第二透光部200，從而，可以將掩模板移動(dòng)至待曝光基板上方的不同預(yù)設(shè)位置，在每一預(yù)設(shè)位置處利用所述掩膜板與擋板配合形成不同曝光區(qū)域，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行曝光，通過(guò)這種多次曝光的方式，利用掩膜板上的第一透光部100和第二透光部200進(jìn)行曝光，可以實(shí)現(xiàn)在待曝光基板上形成任意大小的矩形或者菱形圖案，從而可以利用一塊掩模板來(lái)制備不同型號(hào)的紫外掩模基板，節(jié)約了開發(fā)費(fèi)用和制作成本。
[0060]本發(fā)明的實(shí)施例中，優(yōu)選的，所述曝光設(shè)備還包括:用于移動(dòng)所述掩模板的第一移動(dòng)部件。采用上述方案，可以利用曝光設(shè)備上的第一移動(dòng)部件實(shí)現(xiàn)對(duì)掩模板的移動(dòng)，將掩模板移動(dòng)至待曝光基板上方的任一位置上，實(shí)現(xiàn)對(duì)待曝光基板的多次曝光。
[0061]此外，本發(fā)明的實(shí)施例中，進(jìn)一步優(yōu)選的，所述曝光設(shè)備還可以包括:用于移動(dòng)所述擋板的第二移動(dòng)部件。采用上述方案，可以利用曝光設(shè)備上的第二移動(dòng)部件實(shí)現(xiàn)對(duì)擋板的移動(dòng)，以在掩模板移動(dòng)至待曝光基板上方的任一位置時(shí)，與掩模板配合形成不同曝光區(qū)域。
[0062]需要說(shuō)明的是，本發(fā)明所提供的掩模板以及曝光設(shè)備可以用于制備具有任意大小的矩形或者菱形圖形的基板，該基板可以是具有矩形或者菱形圖形的任意基板，包括但并不僅限于制造紫外掩?；?。
[0063]此外，本發(fā)明還提供了一種紫外掩?；宓闹苽浞椒?，該方法中采用本發(fā)明實(shí)施例所提供的掩模板對(duì)待曝光基板進(jìn)行曝光，所述方法包括:
[0064]在襯底基板上形成金屬膜層；
[0065]在襯底基板上涂覆光刻膠，形成待曝光基板；
[0066]采用本發(fā)明實(shí)施例所述的曝光設(shè)備對(duì)待曝光基板進(jìn)行多次曝光，其中在每次曝光過(guò)程中，根據(jù)紫外掩膜基板的圖形，利用所述掩模板和所述擋板配合形成不同的曝光區(qū)域；
[0067]將曝光后的基板經(jīng)顯影工藝處理。
[0068]以下說(shuō)明本發(fā)明所提供的紫外掩?；逯圃旆椒ǖ膸追N優(yōu)選實(shí)施例。
[0069]實(shí)施例1
[0070]本實(shí)施例中提供的紫外掩?；宓闹苽浞椒ㄖ?，在襯底基板上形成金屬膜層，在襯底基板上涂覆光刻膠，形成待曝光基板之后，采用本發(fā)明實(shí)施例所提供的掩模板對(duì)待曝光基板進(jìn)行曝光，具體的曝光過(guò)程包括以下步驟；
[0071]步驟S1、移動(dòng)所述掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的任一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行一次曝光，其中，所述擋板遮擋住除至少一個(gè)所述第一透光部和至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第一曝光區(qū)域(如圖4所示)；
[0072]如圖5所示為經(jīng)步驟SI中一次曝光后在待曝光基板上所形成的曝光圖形的示意圖，所述第一曝光區(qū)域中，所述第一透光部100用于使得待曝光基板300經(jīng)曝光后形成沿第一方向延伸的第一曝光圖形500，所述第二透光部100用于使得待曝光基板300經(jīng)曝光后形成沿第二方向延伸的第二曝光圖形600 ；
[0073]步驟S2、移動(dòng)掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的下一預(yù)定位置上，其中所述擋板與所述掩模板配合形成所述第一曝光區(qū)域，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行下一次曝光；
[0074]本步驟中，將掩模板移動(dòng)至下一位置上，保持掩模板與擋板的相對(duì)位置不變，以使得所述擋板與所述掩模板配合的曝光區(qū)域保持不變，對(duì)待曝光基板進(jìn)行第二次曝光；
[0075]步驟S3、按照上述步驟SI和S2，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行多次曝光，直至完成對(duì)整個(gè)所述待曝光基板的曝光處理，以在所述待曝光基板上形成包括沿所述第一方向延伸和沿所述第二方向延伸的全部曝光圖形，其中，如圖6所示為經(jīng)步驟S3之后的待曝光基板上的曝光圖形的不意圖。
[0076]本實(shí)施例所提供的方法中，是將掩模板與擋板配合，從而利用掩模板上的一個(gè)第一透光部和一個(gè)第二透光部形成曝光區(qū)域，在待曝光基板上進(jìn)行多次曝光，在每次曝光過(guò)程中，保持該曝光區(qū)域不變，可以形成多個(gè)矩形圖形。
[0077]需要說(shuō)明的是，通常在待曝光基板上還分為周邊對(duì)位區(qū)域以及中部圖形區(qū)域，多個(gè)矩形圖形形成于所述中部圖形區(qū)域，周邊對(duì)位區(qū)域上設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記。上述步驟S1-S3可以形成所述中部圖形區(qū)域的用于構(gòu)成各矩形圖形的沿第一方向和第二方向延伸的全部曝光圖形，在本實(shí)施例中，所述的方法還可以包括:
[0078]S4、將待曝光基板的周邊對(duì)位標(biāo)記所在區(qū)域進(jìn)行曝光。
[0079]具體地，步驟S4中，將掩模板10移動(dòng)至靠近待曝光基板300的周邊對(duì)位區(qū)域的上方的任一位置處，利用擋板和掩模板10配合，使得與待曝光基板300的周邊對(duì)位區(qū)域所對(duì)應(yīng)的區(qū)域形成曝光區(qū)(例如:如圖3所示，利用擋板400遮擋住所述掩模板10上的第一透光部100的一部分和第二透光部200的一部分，所述掩模板10的邊緣與襯底基板的邊框之間保留部分空白區(qū)域形成曝光區(qū)域)，對(duì)待曝光基板300進(jìn)行曝光，在曝光完成后，移動(dòng)所述掩模板10至待曝光基板300的周邊對(duì)位區(qū)域上方的下一位置處進(jìn)行曝光，直至將待曝光基板300的對(duì)位標(biāo)記所在區(qū)域全部曝光完成。
[0080]此外，還需要說(shuō)明的是，在制造不同型號(hào)的紫外掩?；鍟r(shí)，在移動(dòng)掩模板進(jìn)行曝光的過(guò)程中，需要盡可能保證多個(gè)矩形圖形中位于中部的矩形圖形的尺寸精確，因此有可能會(huì)在待曝光基板的中部圖形區(qū)域中處于外圍的矩形圖形的尺寸略有偏差(外圍形成的矩形圖形的尺寸大于實(shí)際矩形圖形的尺寸)，因此，本實(shí)施例中，所述的方法還可以包括:
[0081]步驟S5、將待曝光基板的中部圖形區(qū)域的外圍余出部分進(jìn)行曝光。
[0082]具體地，步驟S5中，將掩模板10移動(dòng)至靠近待曝光基板300的第一側(cè)的任一位置處，利用擋板和掩模板10配合，使得與待曝光基板300的中部圖形區(qū)域的外圍余出部分形成曝光區(qū)域(例如:如圖7所示，利用擋板400遮擋住所述掩模板10上的第一透光部100和第二透光部200，所述掩模板10的邊緣與待曝光基板的邊框之間保留部分空白區(qū)域形成曝光區(qū)域)，對(duì)待曝光基板300進(jìn)行曝光，在曝光完成后，移動(dòng)所述掩模板10至靠近待曝光基板300的第一側(cè)的下一位置處進(jìn)行曝光，直至將待曝光基板的第一側(cè)的中部圖形區(qū)域的外圍余出部分；
[0083]同樣地，可以利用掩模板與擋板配合形成不同曝光區(qū)域，在待曝光基板的其他側(cè)的中部圖形區(qū)域的外圍余出部分進(jìn)行曝光。
[0084]此外，還需說(shuō)明的是，所述待曝光基板的中部圖形區(qū)域還可以劃分為靠近第一側(cè)的第一部分和靠近與所述第一側(cè)相對(duì)的第二側(cè)的第二部分。
[0085]本實(shí)施例所提供的方法中，優(yōu)選的，當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第一部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，所述擋板遮擋住除靠近所述掩模板的第一邊緣設(shè)置的第一透光部和至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第一曝光區(qū)域；
[0086]當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第二部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，所述擋板遮擋住除靠近所述掩模板的第二邊緣設(shè)置的第一透光部和至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第一曝光區(qū)域。
[0087]采用上述方案，當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第一部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，利用掩模板曝光待曝光基板的第一部分的圖案時(shí)，可以采用兩個(gè)第二透光部200中靠近掩模板的第一邊緣設(shè)置的一個(gè)第二透光部形成曝光區(qū)域來(lái)進(jìn)行曝光；而當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第二部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，利用掩模板曝光待曝光基板的第二部分的圖案時(shí)，受曝光設(shè)備的空間局限，兩個(gè)第二透光部200中靠近待曝光基板的第一側(cè)的一個(gè)第二透光部200a可能沒(méi)有足夠空間可以移動(dòng)至基板的第二部分所對(duì)應(yīng)的位置，此時(shí)可以采用兩個(gè)第二透光部200中靠近掩模板的第二邊緣設(shè)置的一個(gè)第二透光部形成曝光區(qū)域來(lái)進(jìn)行曝光。
[0088]實(shí)施例2
[0089]本實(shí)施例中提供的紫外掩?；宓闹苽浞椒ㄖ?，在襯底基板上形成金屬膜層，在襯底基板上涂覆光刻膠，形成待曝光基板之后，采用本發(fā)明實(shí)施例所提供的掩模板對(duì)待曝光基板進(jìn)行曝光，具體的曝光過(guò)程包括以下步驟；
[0090]步驟S01、移動(dòng)所述掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的任一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行一次曝光，其中，所述擋板遮擋住除至少一個(gè)所述第一透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第二曝光區(qū)域；
[0091]步驟S02、移動(dòng)掩模板及擋板，其中所述擋板與所述掩模板配合形成所述第二曝光區(qū)域，使所述掩模板位于待曝光基板上方的下一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行下一次曝光；
[0092]步驟S03、按照上述步驟步驟S01-S02、，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行多次曝光，直至完成對(duì)整個(gè)所述待曝光基板的曝光處理，以在所述待曝光基板上形成沿所述第一方向延伸的全部曝光圖形。
[0093]步驟S04、移動(dòng)所述掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的任一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行一次曝光，其中，所述擋板遮擋住除至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第三曝光區(qū)域；
[0094]步驟S05、移動(dòng)掩模板及擋板，其中所述擋板與所述掩模板配合形成所述第三曝光區(qū)域，使所述掩模板位于待曝光基板上方的下一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行下一次曝光；
[0095]步驟S06、按照上述步驟步驟S04-S05、，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行多次曝光，直至完成對(duì)整個(gè)所述待曝光基板的曝光處理，以在所述待曝光基板上形成沿所述第二方向延伸的全部曝光圖形。
[0096]本實(shí)施例所提供中，是將掩模板與擋板配合，從而利用掩模板上的至少一個(gè)第一透光部形成曝光區(qū)域，在待曝光基板上進(jìn)行多次曝光，在每次曝光過(guò)程中，保持該曝光區(qū)域不變，可以形成沿第一方向延伸的曝光圖形；再利用掩模板的至少一個(gè)第二透光部形成曝光區(qū)域，在待曝光基板上進(jìn)行多次曝光，在每次曝光過(guò)程中，保持該曝光區(qū)域不變，可以形成沿第二方向延伸的曝光圖形，從而在待曝光基板上形成沿第一方向和第二方向延伸的全部曝光圖形。
[0097]本實(shí)施例與實(shí)施例1相比區(qū)別在于，在曝光過(guò)程中，擋板與掩模板配合形成的曝光區(qū)域不同。應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，在曝光過(guò)程中，擋板與掩模板配合形成的曝光區(qū)域還可以根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行調(diào)整，在此不再一一列舉。
[0098]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以作出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種掩模板，包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域；其特征在于，所述透光區(qū)域包括: 至少一個(gè)沿第一方向延伸設(shè)置的第一透光部； 以及至少一個(gè)沿與所述第一方向之間呈第一角度的第二方向延伸設(shè)置的第二透光部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于， 所述第一角度為90度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于， 所述透光區(qū)域包括平行設(shè)置的至少兩個(gè)所述第一透光部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于， 所述透光區(qū)域包括平行設(shè)置的至少兩個(gè)所述第二透光部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩模板，其特征在于， 至少兩個(gè)所述第二透光部中的至少一個(gè)所述第二透光部靠近所述掩模板的第一邊緣設(shè)置，至少另一個(gè)所述第二透光部靠近所述掩模板的與所述第一邊緣相對(duì)的第二邊緣設(shè)置。
6.—種曝光設(shè)備，其特征在于，包括: 如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的掩模板； 以及，能夠相對(duì)所述掩模板移動(dòng)，以與所述掩模板配合形成不同的曝光區(qū)域的擋板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光設(shè)備，其特征在于， 所述曝光設(shè)備還包括:用于移動(dòng)所述掩模板的第一移動(dòng)部件。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光設(shè)備，其特征在于， 所述曝光設(shè)備還包括:用于移動(dòng)所述擋板的第二移動(dòng)部件。
9.一種紫外掩模基板的制備方法，其特征在于，所述方法包括: 采用如權(quán)利要求6至8任一項(xiàng)所述的曝光設(shè)備對(duì)待曝光基板進(jìn)行多次曝光，其中在每次曝光過(guò)程中，根據(jù)紫外掩膜基板的圖形，利用所述掩模板和所述擋板配合形成不同的曝光區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于， 移動(dòng)所述掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的任一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行一次曝光，其中，所述擋板遮擋住除至少一個(gè)所述第一透光部和至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第一曝光區(qū)域； 移動(dòng)掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的下一預(yù)定位置上，其中所述擋板與所述掩模板配合形成所述第一曝光區(qū)域，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行下一次曝光； 按照上述步驟，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行多次曝光，直至完成對(duì)整個(gè)所述待曝光基板的曝光處理，以在所述待曝光基板上形成包括沿所述第一方向延伸和沿所述第二方向延伸的全部曝光圖形。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于， 所述待曝光基板劃分為靠近第一側(cè)的第一部分和靠近與所述第一側(cè)相對(duì)的第二側(cè)的第二部分； 其中，當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第一部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，所述擋板遮擋住除靠近所述掩模板的第一邊緣設(shè)置的第一透光部和至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第一曝光區(qū)域； 當(dāng)所述掩模板位于所述待曝光基板的第二部分上方的任一預(yù)定位置上時(shí)，所述擋板遮擋住除靠近所述掩模板的第二邊緣設(shè)置的第一透光部和至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第一曝光區(qū)域。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述方法包括: 移動(dòng)所述掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的任一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行一次曝光，其中，所述擋板遮擋住除至少一個(gè)所述第一透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第二曝光區(qū)域； 移動(dòng)掩模板及擋板，其中所述擋板與所述掩模板配合形成所述第二曝光區(qū)域，使所述掩模板位于待曝光基板上方的下一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行下一次曝光； 按照上述步驟，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行多次曝光，直至完成對(duì)整個(gè)所述待曝光基板的曝光處理，以在所述待曝光基板上形成沿所述第一方向延伸的全部曝光圖形。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述方法還包括: 移動(dòng)所述掩模板及擋板，使所述掩模板位于待曝光基板上方的任一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行一次曝光，其中，所述擋板遮擋住除至少一個(gè)所述第二透光部之外的區(qū)域，以與所述掩模板配合形成第三曝光區(qū)域； 移動(dòng)掩模板及擋板，其中所述擋板與所述掩模板配合形成所述第三曝光區(qū)域，使所述掩模板位于待曝光基板上方的下一預(yù)定位置上，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行下一次曝光； 按照上述步驟，對(duì)所述待曝光基板進(jìn)行多次曝光，直至完成對(duì)整個(gè)所述待曝光基板的曝光處理，以在所述待曝光基板上形成沿所述第二方向延伸的全部曝光圖形。
【文檔編號(hào)】G03F1/54GK104281014SQ201410577776
【公開日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2014年10月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月24日
【發(fā)明者】劉正, 郭總杰, 張小祥, 張治超 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司