液晶顯示器的連接墊結構及其制作方法
【專利摘要】本發明公開一種液晶顯示器的連接墊結構，其至少包括：多個連接墊(31)，形成在基板邊緣區域的部分上表面；平坦層(26)，其一側面為斜面(261)，并位于連接墊(31)的另一部分上表面，其中，斜面(261)是在利用透光率漸變的掩膜圖案化覆蓋連接墊(31)的平坦層(26)，將形成在連接墊(31)的部分上表面的平坦層(26)去除的同時形成。本發明還公開一種液晶顯示器的連接墊結構的制作方法。本發明將平坦層的一側面形成為斜面，并使平坦層的斜面的傾斜角大幅度減小，致使平坦層的斜面變得平緩，這樣在形成導電層時，不易使導電層斷裂，同時避免了不同信號線(例如掃描線、數據線)之間的短路。
【專利說明】液晶顯示器的連接墊結構及其制作方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及液晶顯示【技術領域】，更具體地講，涉及一種液晶顯示器的連接墊結構 及其制作方法。
【背景技術】
[0002] 隨著液晶顯示器（LCD)的尺寸的增大，液晶顯示器中的各種信號線的阻容延遲 (RC Delay)變的愈加嚴重，導致像素充電變差，從而影響液晶顯示器的顯示品質。
[0003] 為了降低信號線之間的寄生電容，減小阻容延遲，現有的解決方案是在陣列 (Array)基板的第二層金屬（即制作源極、漏極的金屬）制作完成之后，增加一層厚度很大 的平坦層（Overcoat Layer)。該平坦層可以增加第二層金屬和像素電極、公共電極之間的 距離，從而起到減小寄生電容的作用。
[0004] 此外，為了節省制作成本，平坦層的制作通常與防護層（Passivation Layer)同時 完成，并且在陣列基板的邊緣區域制作一較大的開口區來使連接墊結構露出。然而，由于制 作完成的平坦層厚度（通常為1. 5um?3. Oum)較大，所以在連接墊結構與平坦層上制作導 電層時，極易使導電層斷裂。
[0005] 此外，連接墊結構通過異向性導電膜（Anisotropic conductive film, ACF)與例如 軟性電路板（ChiponFilm，C0F)電連結，導電粒子分散在ACF中。當ACF受到擠壓后，導電 粒子會向連接墊結構周圍移動，其中一部分導電粒子會到達平坦層的底端，由于平坦層厚 度較大，因此這部分導電粒子很難越過平坦層，從而在平坦層的底端處聚集起來，進而引起 不同信號線（例如掃描線、數據線）之間短路。
【發明內容】
[0006] 為了解決上述現有技術存在的問題，本發明的目的在于提供一種液晶顯示器的 連接墊結構的制作方法，其至少包括步驟:A)在基板邊緣區域的部分上表面形成多個連接 墊；C)在該基板邊緣區域的部分上表面形成平坦層，并覆蓋所述連接墊；D)利用透光率漸 變的掩膜圖案化所述平坦層，將形成在所述連接墊的部分上表面的平坦層去除的同時，將 形成在所述連接墊的另一部分上表面的平坦層的一側面形成斜面。
[0007] 進一步地，在執行步驟C)之前，所述制作方法還包括步驟：B)在該基板邊緣區域 的部分上表面形成絕緣層，并覆蓋所述連接墊。
[0008] 進一步地，所述步驟D)替換為：E)利用透光率漸變的掩膜圖案化所述平坦層和絕 緣層，將形成在所述連接墊的部分上表面的平坦層和絕緣層去除的同時，將形成在所述連 接墊的另一部分上表面的平坦層的一側面形成斜面。
[0009] 進一步地，所述步驟D)替換為：E)利用透光率漸變的掩膜圖案化所述平坦層和絕 緣層，將形成在所述連接墊的部分上表面的平坦層和絕緣層的部分去除的同時，將形成在 所述連接墊的另一部分上表面的平坦層的一側面形成斜面。
[0010] 進一步地，所述制作方法還包括：在該基板邊緣區域的部分上表面形成導電層，其 中，所述導電層覆蓋所述連接墊的部分上表面、所述平坦層的斜面及其頂面。
[0011] 進一步地，所述制作方法還包括：在該基板邊緣區域的部分上表面形成導電層，其 中，所述導電層覆蓋所述連接墊的未被所述絕緣層的其余部分覆蓋的部分上表面、所述絕 緣層的其余部分上表面、所述平坦層的斜面及其頂面。
[0012] 本發明的另一目的還在于提供一種液晶顯示器的連接墊結構，其至少包括：多個 連接墊，形成在基板邊緣區域的部分上表面；平坦層，其一側面為斜面，并位于所述連接墊 的另一部分上表面，其中，所述斜面是在利用透光率漸變的掩膜圖案化覆蓋所述連接墊的 平坦層，將形成在所述連接墊的部分上表面的平坦層去除的同時形成。
[0013] 進一步地，所述連接墊結構還包括：絕緣層，位于所述連接墊的另一部分上表面與 所述平坦層之間。
[0014] 進一步地，所述連接墊結構還包括：絕緣層，其中，所述絕緣層的部分位于所述連 接墊的另一部分上表面與所述平坦層之間，所述絕緣層的其余部分位于所述連接墊的部分 上表面。
[0015] 進一步地，所述連接墊結構還包括：導電層，覆蓋所述連接墊的部分上表面、所述 平坦層的斜面及其頂面。
[0016] 進一步地，所述連接墊結構還包括：導電層，其覆蓋所述連接墊的未被所述絕緣層 的其余部分覆蓋的部分上表面、所述絕緣層的其余部分上表面、所述平坦層的斜面及其頂 面。
[0017] 本發明通過將平坦層的一側面形成為斜面，并使平坦層的斜面的傾斜角（即平坦 層的斜面與底面之間的夾角）大幅度減小，致使平坦層的斜面變得平緩。這樣，在形成導電 層時，不易使導電層斷裂。此外，當本發明的連接墊結構通過異向性導電膜（Anisotropic conductive film，ACF)與例如軟性電路板（Chip on Film,C0F)電連結之后，ACF受到擠壓后 會導致ACF中的部分導電粒子向連接墊結構周圍移動，由于平坦層的斜面較為平緩，因此 這部分導電粒子易于越過平坦層的斜面，不易在平坦層的斜面的底端聚集起來，從而避免 了不同信號線（例如掃描線、數據線）之間的短路。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0018] 通過結合附圖進行的以下描述，本發明的實施例的上述和其它方面、特點和優點 將變得更加清楚，附圖中：
[0019] 圖1是根據本發明的實施例的液晶顯示器的連接墊結構的部分俯視示意圖；
[0020] 圖2是根據本發明的實施例的液晶顯示器的部分側向剖視示意圖；
[0021] 圖3是根據本發明的另一實施例的液晶顯示器的連接墊結構的部分俯視示意圖；
[0022] 圖4是根據本發明的另一實施例的液晶顯示器的部分側向剖視示意圖；
[0023] 圖5是根據本發明的實施例的液晶顯示器的連接墊結構的制作方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0024] 以下，將參照附圖來詳細描述本發明的實施例。然而，可以以許多不同的形式來實 施本發明，并且本發明不應該被解釋為限制于這里闡述的具體實施例。相反，提供這些實施 例是為了解釋本發明的原理及其實際應用，從而使本領域的其他技術人員能夠理解本發明 的各種實施例和適合于特定預期應用的各種修改。
[0025] 圖1是根據本發明的實施例的液晶顯示器的連接墊結構的部分俯視示意圖。圖2 是根據本發明的實施例的液晶顯示器的部分側向剖視示意圖。
[0026] 參照圖1和圖2,薄膜晶體管（Thin Film Transistor，TFT) 20配置在一基板（例 如玻璃基板）10的像素區域A的部分上表面；其中，薄膜晶體管20包括在基板10的像素區 域A的部分上表面依次形成的柵電極21、絕緣層22、由非晶硅層23和歐姆接觸層24組成 的有源層、有源層上的源電極（金屬層）25a和漏電極（金屬層）25b、平坦層26、位于漏電 極25b上方并在平坦層26中形成的過孔27以及位于過孔27中并與漏電極25b電連結的 透明電極層（即ITO (Indium Tin Oxide,氧化銦錫）電極層）28。
[0027] 連接墊結構30配置在基板10的邊緣區域B的部分上表面；其中，連接墊結構30 包括在基板10的邊緣區域B的部分上表面依次形成的多個連接墊31、絕緣層22、平坦層26 及透明電極層28。此外，由于平坦層26具有絕緣功能，所以作為本發明的另一實施方式，在 連接墊31的上表面可不形成絕緣層22。
[0028] 所述連接墊31是與薄膜晶體管20的柵電極21同時形成的，但本發明并不限制于 此。平坦層26的一側面為斜面261，并位于所述連接墊31的另一部分上表面。此外，斜面 261是在利用透光率漸變的掩膜對處于邊緣區域B并覆蓋所述連接墊31的平坦層26進行 圖案化處理，將形成在所述連接墊31的部分上表面的平坦層26去除的同時形成。處于邊 緣區域B的絕緣層22的部分位于所述連接墊31的另一部分上表面與平坦層26之間，絕緣 層22的其余部分位于所述連接墊31的部分上表面。透明電極層28覆蓋所述連接墊31的 未被絕緣層22的其余部分覆蓋的部分上表面、絕緣層22的其余部分上表面以及處于邊緣 區域B的平坦層26的頂面263。
[0029] 在本實施例中，由于采用透光率漸變的掩膜形成斜面261，并可使斜面261的傾斜 角（即平坦層26的斜面261與底面262之間的夾角）大幅度減小，致使平坦層26的斜面 261變得平緩。這樣，在形成透明電極層28時，不易使透明電極層28斷裂。此外，當本實施 例的連接墊結構30通過異向性導電膜（Anisotropic conductive film, ACF)與例如軟性電 路板（Chip on Film，C0F)電連結之后，ACF受到擠壓后會導致ACF中的部分導電粒子向連 接墊結構30周圍移動，由于平坦層26的斜面261較為平緩，因此這部分導電粒子易于越過 平坦層26的斜面261，不易在平坦層26的斜面261的底端聚集起來，從而避免了不同信號 線（例如掃描線、數據線）之間的短路。
[0030] 作為本發明的另一實施方式，參照圖3和圖4,位于所述連接墊31的部分上表面的 絕緣層22的其余部分也可被去除掉。這樣，透明電極層28覆蓋所述連接墊31的部分上表 面以及處于邊緣區域B的平坦層26的頂面263。如此，可使的制作較為簡單，并且可減小未 被平坦層26覆蓋的連接墊31的寬度，有利于液晶顯示器的窄邊框的設計。
[0031] 由于本實施例中的薄膜晶體管20的制作方法已成為公知技術，因此為了避免重 復贅述，對薄膜晶體管20的制作方法不作說明。以下，只針對本實施例的液晶顯示器的連 接墊結構的制作方法進行說明。
[0032] 圖5是根據本發明的實施例的液晶顯示器的連接墊結構的制作方法的流程圖。
[0033] 參照圖1、圖2和圖5,在操作301中，在基板10的邊緣區域B的部分上表面形成 多個連接墊31。這里，所述連接墊31是與薄膜晶體管20的柵電極21同時形成的，也就是 說，所述連接墊31所采用的材料可與制作薄膜晶體管20的柵電極21的材料相同，但本發 明并不限制于此。
[0034] 在操作302中，在基板10的邊緣區域B的部分上表面形成絕緣層22,并覆蓋多個 連接墊31。
[0035] 在操作303中，在基板10的邊緣區域B的部分上表面形成平坦層26,并覆蓋絕緣 層22。
[0036] 在操作304中，利用透光率漸變的掩膜圖案化平坦層26和絕緣層22,將形成在所 述連接墊31的部分上表面的平坦層26和絕緣層22的部分去除的同時，將形成在所述連接 墊31的另一部分上表面的平坦層26的一側面形成斜面261。
[0037] 這里，需要說明的是，絕緣層22的其余部分位于所述連接墊31的部分上表面。所 述透光率漸變的掩膜可指的是其相對于所述連接墊31的部分上表面的部分為透明（即透 光率約為100% )，其相對于斜面261的部分透光率漸變（即從相對于斜面261的底端至 相對于斜面261的頂端透光率逐漸減小），其相對于平坦層26的頂面263的部分的透光率 約為〇的掩膜。此外，所述透光率漸變的掩膜還可是狹縫密度漸變（即透光率漸變）的掩 膜，其指的是其相對于所述連接墊31的部分上表面的部分的狹縫的密度較大，其相對于斜 面261的部分狹縫的密度漸變（即從相對于斜面261的底端至相對于斜面261的頂端狹縫 的密度逐漸減小），其相對于平坦層26的頂面263的部分的狹縫的密度最小（或者沒有狹 縫）的掩膜。
[0038] 在操作305中，在基板10的邊緣區域B的部分上表面形成透明電極層28。這里， 透明電極層28覆蓋所述連接墊31的未被絕緣層22的其余部分覆蓋的部分上表面、絕緣層 22的其余部分上表面以及處于邊緣區域B的平坦層26的頂面263。
[0039] 此外,在上述操作中，操作302可以被移除，即在進行完操作301之后，直接進行操 作303。相應的，在操作303、操作304以及操作305中，對絕緣層22進行的操作可相應的 被移除。
[0040] 作為本發明的另一實施方式，在操作304中，利用透光率漸變的掩膜圖案化平坦 層26和絕緣層22,將形成在所述連接墊31的部分上表面的平坦層26和絕緣層22去除的 同時，將形成在所述連接墊31的另一部分上表面的平坦層26的一側面形成斜面261。在 操作305中，在基板10的邊緣區域B的部分上表面形成透明電極層28。這里，透明電極層 28覆蓋所述連接墊31部分上表面以及處于邊緣區域B的平坦層26的頂面263。這樣，可 使的制作較為簡單，并且可減小未被平坦層26覆蓋的連接墊31的寬度，有利于液晶顯示器 的窄邊框的設計。
[0041] 雖然已經參照特定實施例示出并描述了本發明，但是本領域的技術人員將理解： 在不脫離由權利要求及其等同物限定的本發明的精神和范圍的情況下，可在此進行形式和 細節上的各種變化。
【權利要求】
1. 一種液晶顯示器的連接墊結構的制作方法，其特征在于，至少包括步驟： A) 在基板邊緣區域的部分上表面形成多個連接墊（31); C) 在該基板邊緣區域的部分上表面形成平坦層（26)，并覆蓋所述連接墊（31); D) 利用透光率漸變的掩膜圖案化所述平坦層（26)，將形成在所述連接墊（31)的部分 上表面的平坦層（26)去除的同時，將形成在所述連接墊（31)的另一部分上表面的平坦層 (26)的一側面形成斜面（261)。
2. 根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，在執行步驟C)之前，所述制作方法還 包括步驟： B) 在該基板邊緣區域的部分上表面形成絕緣層（22)，并覆蓋所述連接墊（31)。
3. 根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述步驟D)替換為： E) 利用透光率漸變的掩膜圖案化所述平坦層（26)和絕緣層（22)，將形成在所述連接 墊（31)的部分上表面的平坦層（26)和絕緣層（22)去除的同時，將形成在所述連接墊（31) 的另一部分上表面的平坦層（26)的一側面形成斜面（261)。
4. 根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述步驟D)替換為： E)利用透光率漸變的掩膜圖案化所述平坦層（26)和絕緣層（22)，將形成在所述連接 墊（31)的部分上表面的平坦層（26)和絕緣層（22)的部分去除的同時，將形成在所述連接 墊（31)的另一部分上表面的平坦層（26)的一側面形成斜面（261)。
5. 根據權利要求3所述的制作方法，其特征在于，還包括：在該基板邊緣區域的部分上 表面形成導電層（28)，其中，所述導電層（28)覆蓋所述連接墊（31)的部分上表面、所述平 坦層（26)的斜面（261)及其頂面（263)。
6. 根據權利要求4所述的制作方法，其特征在于，還包括：在該基板邊緣區域的部分 上表面形成導電層（28)，其中，所述導電層（28)覆蓋所述連接墊（31)的未被所述絕緣層 (22)的其余部分覆蓋的部分上表面、所述絕緣層（22)的其余部分上表面、所述平坦層（26) 的斜面（261)及其頂面（263)。
7. -種液晶顯示器的連接墊結構，其特征在于，至少包括： 多個連接墊（31)，形成在基板邊緣區域的部分上表面； 平坦層（26)，其一側面為斜面（261)，并位于所述連接墊（31)的另一部分上表面， 其中，所述斜面（261)是在利用透光率漸變的掩膜圖案化覆蓋所述連接墊（31)的平坦層 (26)，將形成在所述連接墊（31)的部分上表面的平坦層（26)去除的同時形成。
8. 根據權利要求7所述的連接墊結構，其特征在于，還包括：絕緣層（22)，位于所述連 接墊（31)的另一部分上表面與所述平坦層（26)之間。
9. 根據權利要求7所述的連接墊結構，其特征在于，還包括：絕緣層（22)，其中，所述絕 緣層（22)的部分位于所述連接墊（31)的另一部分上表面與所述平坦層（26)之間，所述絕 緣層（22)的其余部分位于所述連接墊（31)的部分上表面。
10. 根據權利要求8所述的連接墊結構，其特征在于，還包括：導電層（28)，覆蓋所述連 接墊（31)的部分上表面、所述平坦層（26)的斜面（261)及其頂面（263)。
11. 根據權利要求8所述的連接墊結構，其特征在于，還包括：導電層（28)，其覆蓋所述 連接墊（31)的未被所述絕緣層（22)的其余部分覆蓋的部分上表面、所述絕緣層（22)的其 余部分上表面、所述平坦層（26)的斜面（261)及其頂面（263)。
【文檔編號】G02F1/1333GK104062786SQ201410310276
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年7月1日 優先權日:2014年7月1日
【發明者】杜鵬 申請人:深圳市華星光電技術有限公司