彩膜基板、觸控顯示裝置及彩膜基板的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種觸摸屏的彩膜基板、觸控顯示裝置及觸摸屏的彩膜基板的制作方法。觸摸屏的彩膜基板，包括：襯底基板；位于襯底基板上方的黑矩陣，黑矩陣包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域；位于黑矩陣的透光區(qū)域內(nèi)的彩色光阻；位于黑矩陣和彩色光阻上方且交叉設(shè)置的一組第一電極線(xiàn)和一組第二電極線(xiàn)，第一電極線(xiàn)包括通過(guò)橋接線(xiàn)串接的多個(gè)第一電極，第二電極線(xiàn)包括通過(guò)連接線(xiàn)串接的多個(gè)第二電極，橋接線(xiàn)和連接線(xiàn)交叉設(shè)置且交叉區(qū)域與黑矩陣的遮光區(qū)域位置相對(duì)；位于橋接線(xiàn)和連接線(xiàn)之間將橋接線(xiàn)和連接線(xiàn)絕緣隔離的隔墊物。該結(jié)構(gòu)方案大大簡(jiǎn)化了觸摸屏中彩膜基板的制作工藝，減少了掩模板的使用數(shù)量，降低了制作成本。
【專(zhuān)利說(shuō)明】彩膜基板、觸控顯示裝置及彩膜基板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸控顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種觸摸屏的彩膜基板、觸控顯示裝置及觸摸屏的彩膜基板的制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，大多數(shù)互電容式觸摸屏為外掛式，即觸摸屏與顯示屏分開(kāi)制作然后貼合在一起。這種技術(shù)存在制作成本較高、光透過(guò)率較低、模組較厚的缺點(diǎn)。隨著科技的發(fā)展，內(nèi)嵌觸摸屏技術(shù)逐漸成為研發(fā)新寵，其是指:用于實(shí)現(xiàn)觸控功能的驅(qū)動(dòng)電極線(xiàn)和探測(cè)電極線(xiàn)設(shè)置在顯示屏的基板上。采用內(nèi)嵌觸摸屏技術(shù)的觸控顯示裝置相比外掛式觸控顯示裝置，具有厚度更薄、性能更高、成本更低的優(yōu)勢(shì)。
[0003]如圖1所示，現(xiàn)有的一種內(nèi)嵌式觸摸屏的彩膜基板包括:透明基板10，以及在透明基板10之上依次形成的驅(qū)動(dòng)電極11和探測(cè)電極線(xiàn)12、第一鈍化層13、金屬橋14、第二鈍化層15、黑矩陣16、彩色光阻17、平坦層18和隔墊物19，其中，驅(qū)動(dòng)電極11通過(guò)金屬橋14搭接組成驅(qū)動(dòng)電極線(xiàn)，驅(qū)動(dòng)電極線(xiàn)與探測(cè)電極線(xiàn)12交叉設(shè)置并在交叉處通過(guò)第一鈍化層13絕緣隔離。該現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷在于，彩膜基板需要至少采用六次掩模構(gòu)圖工藝制作完成，每一次構(gòu)圖工藝通常包括光刻膠涂敷、曝光、顯影、刻蝕、光刻膠剝離等工序，這就對(duì)應(yīng)需要至少六張掩模板，彩膜基板的整體制作工藝不但較為復(fù)雜，并且制作成本較高。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明提供了一種觸摸屏的彩膜基板、觸控顯示裝置及觸摸屏的彩膜基板的制作方法，以簡(jiǎn)化觸摸屏中彩膜基板的制作工藝，降低制作成本。
[0005]本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏的彩膜基板，包括:
[0006]襯底基板；
[0007]位于所述襯底基板上方的黑矩陣，所述黑矩陣包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域；
[0008]位于所述黑矩陣的透光區(qū)域內(nèi)的彩色光阻；
[0009]位于所述黑矩陣和所述彩色光阻上方且交叉設(shè)置的一組第一電極線(xiàn)和一組第二電極線(xiàn)，所述第一電極線(xiàn)包括通過(guò)橋接線(xiàn)串接的多個(gè)第一電極，所述第二電極線(xiàn)包括通過(guò)連接線(xiàn)串接的多個(gè)第二電極，所述橋接線(xiàn)和所述連接線(xiàn)交叉設(shè)置且交叉區(qū)域與黑矩陣的遮光區(qū)域位置相對(duì)；
[0010]位于所述橋接線(xiàn)和所述連接線(xiàn)之間將所述橋接線(xiàn)和所述連接線(xiàn)絕緣隔離的隔墊物。
[0011]在該技術(shù)方案中，利用彩膜基板的隔墊物將第一電極線(xiàn)的橋接線(xiàn)和第二電極線(xiàn)的連接線(xiàn)絕緣隔離，相比于現(xiàn)有技術(shù)，橋接線(xiàn)和連接線(xiàn)之間無(wú)需另外通過(guò)構(gòu)圖工藝形成第一鈍化層，這大大簡(jiǎn)化了觸摸屏中彩膜基板的制作工藝，減少了掩模板的使用數(shù)量，降低了制作成本。
[0012]優(yōu)選的，所述第一電極、第二電極和所述連接線(xiàn)位于同層；所述橋接線(xiàn)位于所述連接線(xiàn)的上方，或者，所述連接線(xiàn)位于所述橋接線(xiàn)的上方。作為可選方案，第一電極、第二電極和連接線(xiàn)所在層結(jié)構(gòu)與橋接線(xiàn)所在層結(jié)構(gòu)的位置可互換，無(wú)論采用哪一種結(jié)構(gòu)形式，彩膜基板的制作工藝均較為簡(jiǎn)化，制作成本較低。
[0013]優(yōu)選的，彩膜基板還包括:位于所述黑矩陣和所述彩色光阻上方且位于所述一組第一電極線(xiàn)、一組第二電極線(xiàn)和隔墊物所組成的結(jié)構(gòu)下方的覆蓋基板的第一平坦層。第一平坦層可以將黑矩陣和彩色光阻的表面平坦化，有利于在其上進(jìn)行下一步構(gòu)圖工藝。
[0014]優(yōu)選的，彩膜基板還包括:位于所述一組第一電極線(xiàn)、一組第二電極線(xiàn)和隔墊物所組成的結(jié)構(gòu)上方的覆蓋基板的第二平坦層。第二平坦層可以使彩膜基板表面平坦化，并能夠起到保護(hù)基板的作用。
[0015]本發(fā)明實(shí)施例還提供了 一種觸控顯示裝置，包括前述任一技術(shù)方案所述的觸摸屏的彩膜基板，具有較低的制作成本。
[0016]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種制作前述觸摸屏的彩膜基板的方法，包括:
[0017]通過(guò)構(gòu)圖工藝在襯底基板之上形成包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域的黑矩陣的圖案；
[0018]通過(guò)構(gòu)圖工藝形成至少覆蓋黑矩陣的透光區(qū)域的彩色光阻的圖案；
[0019]通過(guò)構(gòu)圖工藝在黑矩陣和彩色光阻的上方形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案；
[0020]通過(guò)構(gòu)圖工藝在第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的層結(jié)構(gòu)上方形成隔墊物的圖案；
[0021]通過(guò)構(gòu)圖工藝在隔墊物的層結(jié)構(gòu)上方形成橋接線(xiàn)的圖案。
[0022]該技術(shù)方案最少可采用五次構(gòu)圖工藝形成觸摸屏的彩膜基板，相比于現(xiàn)有技術(shù)，簡(jiǎn)化了制作工藝，減少了掩模板的使用數(shù)量，降低了制作成本。
[0023]優(yōu)選的，在形成彩色光阻的圖案之后，形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案之前，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第一平坦層；在形成橋接線(xiàn)的圖案之后，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第二平坦層。第一平坦層和第二平坦層可以起到基板平坦化和保護(hù)電極的作用。
[0024]優(yōu)選的，所述通過(guò)構(gòu)圖工藝形成彩色光阻的圖案，具體包括:采用同一張掩模板依次制作各個(gè)顏色的彩色光阻圖案，且每制作一種顏色的彩色光阻圖案后，所述掩模板偏移設(shè)定距離。制作彩色光阻僅需采用一張掩模板，具有較低的制作成本。
[0025]本發(fā)明實(shí)施例還提供了另一種制作前述觸摸屏的彩膜基板的方法，包括:
[0026]通過(guò)構(gòu)圖工藝在襯底基板之上形成包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域的黑矩陣的圖案；
[0027]通過(guò)構(gòu)圖工藝形成至少覆蓋黑矩陣的透光區(qū)域的彩色光阻的圖案；
[0028]通過(guò)構(gòu)圖工藝在黑矩陣和彩色光阻的上方形成橋接線(xiàn)的圖案；
[0029]通過(guò)構(gòu)圖工藝在橋接線(xiàn)的層結(jié)構(gòu)上方形成隔墊物的圖案；
[0030]通過(guò)構(gòu)圖工藝在隔墊物的層結(jié)構(gòu)上方形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案。
[0031]同理，該技術(shù)方案最少可采用五次構(gòu)圖工藝形成觸摸屏的彩膜基板，相比于現(xiàn)有技術(shù)，簡(jiǎn)化了制作工藝，減少了掩模板的使用數(shù)量，降低了制作成本。
[0032]優(yōu)選的，在形成彩色光阻的圖案之后，形成橋接線(xiàn)的圖案之前，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第一平坦層；在形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案之后，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第二平坦層。其有益效果與前述同理。
[0033]優(yōu)選的，所述通過(guò)構(gòu)圖工藝形成彩色光阻的圖案，具體包括:采用同一張掩模板依次制作各個(gè)顏色的彩色光阻圖案，且每制作一種顏色的彩色光阻圖案后，所述掩模板偏移設(shè)定距離。其有益效果與前述同理。
【專(zhuān)利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0034]圖1為現(xiàn)有觸摸屏的彩膜基板截面結(jié)構(gòu)示意圖(電極線(xiàn)交叉區(qū)域)；
[0035]圖2為本發(fā)明觸摸屏的彩膜基板一實(shí)施例的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖3為圖2在A-A處的截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖4本發(fā)明觸摸屏的彩膜基板另一實(shí)施例的截面結(jié)構(gòu)示意圖(電極線(xiàn)交叉區(qū)域)；
[0038]圖5為制作圖4所示實(shí)施例的彩膜基板的方法流程示意圖；
[0039]圖6a為形成黑矩陣之前的襯底基板截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖6b為形成黑矩陣之后的基板截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041]圖6c為形成紅色光阻后的基板截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0042]圖6d為形成紅綠藍(lán)三色光阻后的基板截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖6e為形成第一平坦層后的基板截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0044]圖6f為形成橋接線(xiàn)后的基板截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0045]圖6g為形成隔墊物后的基板截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0046]圖6h為形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)后的基板截面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0047]附圖標(biāo)記:
[0048]10-透明基板 11-驅(qū)動(dòng)電極12-探測(cè)電極線(xiàn)
[0049]13-第一鈍化層14-金屬橋 15-第二鈍化層
[0050]16-黑矩陣 17-彩色光阻18-平坦層
[0051]19-隔墊物 20-襯底基板21-第一電極線(xiàn)
[0052]22-第二電極線(xiàn)23-橋接線(xiàn) 24-第一電極
[0053]25-連接線(xiàn) 26-第二電極27-第一平坦層
[0054]28-第二平坦層
【具體實(shí)施方式】
[0055]為了簡(jiǎn)化觸摸屏中彩膜基板的制作工藝，降低制作成本，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種觸摸屏的彩膜基板、觸控顯示裝置及觸摸屏的彩膜基板的制作方法。在本發(fā)明技術(shù)方案中，利用彩膜基板的隔墊物將第一電極線(xiàn)的橋接線(xiàn)和第二電極線(xiàn)的連接線(xiàn)絕緣隔離，相比于現(xiàn)有技術(shù)，橋接線(xiàn)和連接線(xiàn)之間無(wú)需另外通過(guò)構(gòu)圖工藝形成第一鈍化層，這大大簡(jiǎn)化了觸摸屏中彩膜基板的制作工藝，減少了掩模板的使用數(shù)量，降低了制作成本。為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，以下舉實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0056]如圖2和圖3所示的一實(shí)施例，其中，圖2為彩膜基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖2在A-A處的截面結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明觸摸屏的彩膜基板，包括:
[0057]襯底基板20 ；
[0058]位于襯底基板20上方的黑矩陣16，黑矩陣16包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域；
[0059]位于黑矩陣16的透光區(qū)域內(nèi)的彩色光阻17 ；
[0060]位于黑矩陣16和彩色光阻17上方且交叉設(shè)置的一組第一電極線(xiàn)21和一組第二電極線(xiàn)22，第一電極線(xiàn)21包括通過(guò)橋接線(xiàn)23串接的多個(gè)第一電極24，第二電極線(xiàn)22包括通過(guò)連接線(xiàn)25串接的多個(gè)第二電極26，橋接線(xiàn)23和連接線(xiàn)25交叉設(shè)置且交叉區(qū)域與黑矩陣16的遮光區(qū)域位置相對(duì)；
[0061]位于橋接線(xiàn)23和連接線(xiàn)25之間將橋接線(xiàn)23和連接線(xiàn)25絕緣隔離的隔墊物19。
[0062]襯底基板20的材質(zhì)不限，例如可以選用透明的玻璃、樹(shù)脂等等。黑矩陣16的主要作用是利用遮光區(qū)域遮擋雜散光，防止透光區(qū)域所對(duì)應(yīng)的像素之間產(chǎn)生漏光；彩色光阻17包括R (Red，紅色)光阻、G (Green，綠色)光阻和B (Blue，藍(lán)色)光阻，主要作用是利用濾光的方式產(chǎn)生紅綠藍(lán)三原色，再將紅綠藍(lán)三原色以不同的強(qiáng)弱比例混合，從而呈現(xiàn)出各種色彩，使薄膜晶體管液晶顯示屏可以顯示出全彩。這里需要說(shuō)明的是，在液晶顯示領(lǐng)域中，彩色光阻并不限于RGB (Red Green Blue，紅綠藍(lán))三色，還可以為RGBW (Red Green BlueWhite,紅綠藍(lán)白)、RGBY(Red Green Blue Yellow,紅綠藍(lán)黃)和 CMYKXCyan Magenta YellowBlack,青品紅黃黑)等多種顏色組合。
[0063]內(nèi)嵌式觸摸屏是指用于實(shí)現(xiàn)觸控功能的驅(qū)動(dòng)電極線(xiàn)和探測(cè)電極線(xiàn)設(shè)置在顯示屏的基板上。在本方案中，第一電極線(xiàn)21和第二電極線(xiàn)22均設(shè)置在彩膜基板上，第一電極線(xiàn)21可以為驅(qū)動(dòng)電極線(xiàn)，則第二電極線(xiàn)22為探測(cè)電極線(xiàn)；或者，第一電極線(xiàn)21為探測(cè)電極線(xiàn)，則第二電極線(xiàn)22為驅(qū)動(dòng)電極線(xiàn)，在此不作具體限定。橋接線(xiàn)23的具體材質(zhì)不限，當(dāng)?shù)谝浑姌O線(xiàn)21為驅(qū)動(dòng)電極線(xiàn)時(shí)，橋接線(xiàn)23優(yōu)選采用銅等金屬(也稱(chēng)為金屬橋)，這樣有利于降低驅(qū)動(dòng)電極線(xiàn)的電阻。而連接線(xiàn)25則可以采用與第一電極24、第二電極26相同的材質(zhì)，例如氧化銦錫等透明導(dǎo)電材料。
[0064]隔墊物是顯示裝置在裝配過(guò)程中用到的輔助物，主要用于控制彩膜基板和陣列基板之間的間隙，如果想要獲得大面積、均勻厚度的液晶層，需要在彩膜基板和陣列基板之間均勻的設(shè)置隔墊物。在本發(fā)明實(shí)施例的方案中，隔墊物19在彩膜基板的制作過(guò)程中形成，隔墊物19設(shè)置在第一電極線(xiàn)21和第二電極線(xiàn)22的交叉區(qū)域，位于橋接線(xiàn)23和連接線(xiàn)25之間并將橋接線(xiàn)23和連接線(xiàn)25絕緣隔離，從而使橋接線(xiàn)23和連接線(xiàn)25之間形成互感電容。
[0065]在本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案中，利用彩膜基板的隔墊物19將第一電極線(xiàn)21的橋接線(xiàn)23和第二電極線(xiàn)22的連接線(xiàn)25絕緣隔離，相比于現(xiàn)有技術(shù)，橋接線(xiàn)23和連接線(xiàn)25之間無(wú)需另外通過(guò)構(gòu)圖工藝形成第一鈍化層，這大大簡(jiǎn)化了觸摸屏中彩膜基板的制作工藝，減少了掩模板的使用數(shù)量，降低了制作成本。
[0066]第一電極24、第二電極26和連接線(xiàn)25可以位于同層；橋接線(xiàn)23可以位于連接線(xiàn)25的上方(如圖3所示)，或者，連接線(xiàn)25位于橋接線(xiàn)23的上方(如圖4所示)。具有該結(jié)構(gòu)的彩膜基板，第一電極24、第二電極26和連接線(xiàn)25可以在同一次構(gòu)圖工藝中形成。當(dāng)橋接線(xiàn)23位于連接線(xiàn)25的上方時(shí)，橋接線(xiàn)23的層結(jié)構(gòu)位于第一電極24、第二電極26和連接線(xiàn)25所在層結(jié)構(gòu)的上方；當(dāng)連接線(xiàn)25位于橋接線(xiàn)23的上方時(shí)，第一電極24、第二電極26和連接線(xiàn)25所在層結(jié)構(gòu)位于橋接線(xiàn)23的層結(jié)構(gòu)上方。作為可選方案，第一電極24、第二電極26和連接線(xiàn)25所在層結(jié)構(gòu)與橋接線(xiàn)23所在層結(jié)構(gòu)的位置可互換，無(wú)論采用哪一種結(jié)構(gòu)形式，彩膜基板的制作工藝均較為簡(jiǎn)化，制作成本較低。
[0067]如圖3和圖4所示，優(yōu)選的，彩膜基板還包括:位于黑矩陣16和彩色光阻17上方且位于一組第一電極線(xiàn)21、一組第二電極線(xiàn)22和隔墊物19所組成的結(jié)構(gòu)下方的覆蓋基板的第一平坦層27。第一平坦層27可以將黑矩陣16和彩色光阻17的表面平坦化，有利于在其上進(jìn)行下一步構(gòu)圖工藝。如圖3所示實(shí)施例，當(dāng)設(shè)置第一平坦層27后，第一電極24、第二電極和連接線(xiàn)25可以形成在同一平面，制作工藝的難度大大降低。
[0068]進(jìn)一步，彩膜基板還包括:位于一組第一電極線(xiàn)21、一組第二電極線(xiàn)22和隔墊物19所組成的結(jié)構(gòu)上方的覆蓋基板的第二平坦層28。第二平坦層28可以使彩膜基板表面平坦化，并能夠起到保護(hù)電極的作用。第一平坦層27和第二平坦層28的材質(zhì)不限，例如可以為樹(shù)脂、氣化娃等。
[0069]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸控顯示裝置，包括前述任一實(shí)施例的觸摸屏的彩膜基板，由于彩膜基板的制作工藝較現(xiàn)有技術(shù)簡(jiǎn)化，具有較低的制作成本，因此，包含該彩膜基板的觸控顯示裝置也具有較低的制作成本。
[0070]如圖5所示，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種制作彩膜基板的方法，包括以下步驟:
[0071]步驟101、通過(guò)構(gòu)圖工藝在襯底基板之上形成包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域的黑矩陣的圖案；
[0072]步驟102、通過(guò)構(gòu)圖工藝形成至少覆蓋黑矩陣的透光區(qū)域的彩色光阻的圖案；
[0073]步驟103、通過(guò)構(gòu)圖工藝在黑矩陣和彩色光阻的上方形成橋接線(xiàn)的圖案；
[0074]步驟104、通過(guò)構(gòu)圖工藝在橋接線(xiàn)的層結(jié)構(gòu)上方形成隔墊物的圖案；
[0075]步驟105、通過(guò)構(gòu)圖工藝在隔墊物的層結(jié)構(gòu)上方形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案。
[0076]其中，在步驟102之后，步驟103之前，該方法還可進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第一平坦層；在步驟105之后，該方法還可進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第二平坦層。第一平坦層和第二平坦層能夠起到平坦基板表面及保護(hù)基板的作用，有利于彩膜基板的構(gòu)圖制作。
[0077]為了進(jìn)一步降低彩膜基板的制作成本，步驟102可具體包括:采用同一張掩模板依次制作各個(gè)顏色的彩色光阻圖案，且每制作一種顏色的彩色光阻圖案后，掩模板偏移設(shè)定距離。這樣制作彩色光阻僅采用一張掩模板，具有較低的制作成本。
[0078]如圖6a至圖6h所示，制作圖4所示實(shí)施例的彩膜基板可具體通過(guò)如下過(guò)程實(shí)現(xiàn):
[0079]在玻璃基板(即圖6a所示的襯底基板20)上沉積黑色光阻膜層，通過(guò)第一次構(gòu)圖工藝形成黑矩陣16的圖案(這里需要使用第一張掩模板)，如圖6b所示。
[0080]在完成上述步驟的基板上沉積紅色光阻膜層，使用第二張掩模板對(duì)基板進(jìn)行曝光，經(jīng)顯影后得到紅色光阻的圖案，如圖6c所示。這里需要說(shuō)明的是，彩色光阻可以為正性感光材質(zhì)(曝光區(qū)域顯影后去除，未曝光區(qū)域顯影后保留)，也可以為負(fù)性感光材質(zhì)(未曝光區(qū)域顯影后去除，曝光區(qū)域顯影后保留)，第二張掩模板的具體結(jié)構(gòu)需要根據(jù)彩色光阻的材質(zhì)進(jìn)行具體設(shè)計(jì)，這些均為現(xiàn)有技術(shù)，這里不再詳細(xì)贅述。
[0081]在完成上述步驟的基板上沉積綠色光阻膜層，將第二張掩模板偏移設(shè)定距離，然后對(duì)基板進(jìn)行曝光，經(jīng)顯影后得到綠色光阻的圖案。該設(shè)定距離與黑矩陣透光區(qū)域的寬度相關(guān)，例如將第二張掩模板沿彩膜基板的長(zhǎng)度方向偏移一個(gè)透光區(qū)域的寬度。
[0082]在完成上述步驟的基板上沉積藍(lán)色光阻膜層，將第二張掩模板再次偏移設(shè)定距離，然后對(duì)基板進(jìn)行曝光，經(jīng)顯影后得到藍(lán)色光阻的圖案，如圖6d所示。以上形成彩色光阻17的過(guò)程只需使用一張掩模板，因此，該過(guò)程可稱(chēng)為第二次構(gòu)圖工藝。[0083]在完成上述步驟的基板上旋涂第一平坦層27，如圖6e所示；
[0084]在完成上述步驟的基板上，通過(guò)第三次構(gòu)圖工藝(這里需要使用第三張掩模板)形成橋接線(xiàn)23的圖案，如圖6f所示；
[0085]在完成上述步驟的基板上，通過(guò)第四次構(gòu)圖工藝(這里需要使用第四張掩模板)形成隔墊物19的圖案，如圖6g所示；
[0086]在完成上述步驟的基板上，通過(guò)第五次構(gòu)圖工藝(這里需要使用第五張掩模板)形成第一電極24、第二電極和連接線(xiàn)25的圖案，此時(shí)，橋接線(xiàn)23將兩側(cè)的第一電極24搭接，如圖6h所示。
[0087]在完成上述步驟的基板上涂覆第二平坦層28，至此完成彩膜基板的制作，如圖4所示。
[0088]可見(jiàn)，該過(guò)程僅采用五次構(gòu)圖工藝形成觸摸屏的彩膜基板，相比于現(xiàn)有技術(shù)，簡(jiǎn)化了制作工藝，減少了掩模板的使用數(shù)量，降低了制作成本。
[0089]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種制作圖3所示彩膜基板的方法，包括以下步驟:
[0090]通過(guò)構(gòu)圖工藝在襯底基板之上形成包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域的黑矩陣的圖案；
[0091]通過(guò)構(gòu)圖工藝形成至少覆蓋黑矩陣的透光區(qū)域的彩色光阻的圖案；
[0092]通過(guò)構(gòu)圖工藝在黑矩陣和彩色光阻的上方形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案；
[0093]通過(guò)構(gòu)圖工藝在第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的層結(jié)構(gòu)上方形成隔墊物的圖案；
[0094]通過(guò)構(gòu)圖工藝在隔墊物的層結(jié)構(gòu)上方形成橋接線(xiàn)的圖案。
[0095]與圖5所示的方法實(shí)施例同理，該技術(shù)方案最少可采用五次構(gòu)圖工藝形成觸摸屏的彩膜基板，相比于現(xiàn)有技術(shù)，簡(jiǎn)化了制作工藝，減少了掩模板的使用數(shù)量，降低了制作成本。
[0096]優(yōu)選的，在形成彩色光阻的圖案之后，形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案之前，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第一平坦層；在形成橋接線(xiàn)的圖案之后，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第二平坦層。第一平坦層和第二平坦層可以起到基板平坦化和保護(hù)電極的作用。
[0097]優(yōu)選的，通過(guò)構(gòu)圖工藝形成彩色光阻的圖案，具體包括:采用同一張掩模板依次制作各個(gè)顏色的彩色光阻圖案，且每制作一種顏色的彩色光阻圖案后，掩模板偏移設(shè)定距離。制作彩色光阻僅采用一張掩模板，具有較低的制作成本。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種觸摸屏的彩膜基板，其特征在于，包括: 襯底基板； 位于所述襯底基板上方的黑矩陣，所述黑矩陣包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域； 位于所述黑矩陣的透光區(qū)域內(nèi)的彩色光阻； 位于所述黑矩陣和所述彩色光阻上方且交叉設(shè)置的一組第一電極線(xiàn)和一組第二電極線(xiàn)，所述第一電極線(xiàn)包括通過(guò)橋接線(xiàn)串接的多個(gè)第一電極，所述第二電極線(xiàn)包括通過(guò)連接線(xiàn)串接的多個(gè)第二電極，所述橋接線(xiàn)和所述連接線(xiàn)交叉設(shè)置且交叉區(qū)域與黑矩陣的遮光區(qū)域位置相對(duì)； 位于所述橋接線(xiàn)和所述連接線(xiàn)之間將所述橋接線(xiàn)和所述連接線(xiàn)絕緣隔離的隔墊物。
2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一電極、第二電極和所述連接線(xiàn)位于同層； 所述橋接線(xiàn)位于所述連接線(xiàn)的上方，或者，所述連接線(xiàn)位于所述橋接線(xiàn)的上方。
3.如權(quán)利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，還包括:位于所述黑矩陣和所述彩色光阻上方，且位于所述一組第一電極線(xiàn)、一組第二電極線(xiàn)和隔墊物所組成的結(jié)構(gòu)下方的覆蓋基板的第一平坦層。
4.如權(quán)利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，還包括:位于所述一組第一電極線(xiàn)、一組第二電極線(xiàn)和隔墊物所組成的結(jié)構(gòu)上方的覆蓋基板的第二平坦層。
5.一種觸控顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1~4任一項(xiàng)所述的觸摸屏的彩膜基板。
6.一種制作如權(quán)利要求1所述`觸摸屏的彩膜基板的方法，其特征在于，包括: 通過(guò)構(gòu)圖工藝在襯底基板之上形成包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域的黑矩陣的圖案； 通過(guò)構(gòu)圖工藝形成至少覆蓋黑矩陣的透光區(qū)域的彩色光阻的圖案； 通過(guò)構(gòu)圖工藝在黑矩陣和彩色光阻的上方形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案； 通過(guò)構(gòu)圖工藝在第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的層結(jié)構(gòu)上方形成隔墊物的圖案； 通過(guò)構(gòu)圖工藝在隔墊物的層結(jié)構(gòu)上方形成橋接線(xiàn)的圖案。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于， 在形成彩色光阻的圖案之后，形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案之前，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第一平坦層； 在形成橋接線(xiàn)的圖案之后，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第二平坦層。
8.如權(quán)利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述通過(guò)構(gòu)圖工藝形成彩色光阻的圖案，具體包括: 采用同一張掩模板依次制作各個(gè)顏色的彩色光阻圖案，且每制作一種顏色的彩色光阻圖案后，所述掩模板偏移設(shè)定距離。
9.一種制作如權(quán)利要求1所述觸摸屏的彩膜基板的方法，其特征在于，包括: 通過(guò)構(gòu)圖工藝在襯底基板之上形成包括透光區(qū)域和遮光區(qū)域的黑矩陣的圖案； 通過(guò)構(gòu)圖工藝形成至少覆蓋黑矩陣的透光區(qū)域的彩色光阻的圖案； 通過(guò)構(gòu)圖工藝在黑矩陣和彩色光阻的上方形成橋接線(xiàn)的圖案； 通過(guò)構(gòu)圖工藝在橋接線(xiàn)的層結(jié)構(gòu)上方形成隔墊物的圖案； 通過(guò)構(gòu)圖工藝在隔墊物的層結(jié)構(gòu)上方形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于， 在形成彩色光阻的圖案之后，形成橋接線(xiàn)的圖案之前，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第一平坦層； 在形成第一電極、第二電極和連接線(xiàn)的圖案之后，該方法還進(jìn)一步包括:形成覆蓋基板的第二平坦層。
11.如權(quán)利要求9或10所述的方法，其特征在于，所述通過(guò)構(gòu)圖工藝形成彩色光阻的圖案，具體包括: 采用同一張掩模板依次制作各個(gè)顏色的彩色光阻圖案，且每制作一種顏色的彩色光阻圖案后，所述掩模板偏移設(shè)定`距離。
【文檔編號(hào)】G02F1/1333GK103487971SQ201310461367
【公開(kāi)日】2014年1月1日 申請(qǐng)日期:2013年9月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月30日
【發(fā)明者】鄒祥祥 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司