一種納米濾光方法
【專利摘要】本發明提供一種納米濾光方法，方法包括：S1：將入射光以預設角度從納米柱陣列上方入射；S2：入射光與納米柱陣列發生表面等離子共振后進行反射，得到入射光以預設角度入射的單色光；S3：調整預設角度，并將入射光以調整后的預設角度從納米柱陣列上方入射。本發明實施例通過提供一種納米濾光方法，通過調整預設角度，將入射光以預設角度從納米柱陣列上方入射，由于預設角度不同，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振后進行反射，得到不同顏色的單色光，從而達到分光的效果，由于當預設角度不同時，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振時的共振波長不同，分出的單色光即為共振波長的光，因此，分出的單色光的分辨率很高。
【專利說明】一種納米濾光方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及濾光技術，特別涉及一種納米濾光方法。
【背景技術】
[0002]隨著濾光技術的快速發展，濾光技術所采用的濾光器件的成本卻依然很高。
[0003]目前，基于表面等離子原理的濾光器件的制備技術基本上是基于電子束直寫(electron-beam lithography, EBL)和聚焦離子束刻蝕(focused ion beam)。其中，電子束直寫是是利用電子束在涂有電子抗蝕劑的晶片上直接描畫或投影復印圖形的技術。聚焦離子束刻蝕技術是利用鎵離子在很高的空間分辨率下進行切割并進一步去除材料。
[0004]然而，現有技術的缺點為:在對白光進行濾光得到的單色光分辨率普遍較低。
【發明內容】
[0005](一)解決的技術問題
[0006]本發明解決的技術問題是:如何提供一種納米濾光方法，解決濾光得到的單色光分辨率低的問題。
[0007](二)技術方案
[0008]所述方法包括:
[0009]S1:將入射光以預設角度從納米柱陣列上方入射；
[0010]S2:所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振后進行反射，得到所述入射光以預設角度入射的單色光；
[0011]S3:調整預設角度，并將入射光以調整后的預設角度從所述納米柱陣列上方入射，并跳轉步驟S2，直到得到所述入射光的所有單色光。
[0012]優選地，所述預設角度為所述入射光與所述納米柱陣列頂部平面的夾角。
[0013]優選地，當預設角度不同時，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振時的共振波長不同，得到的單色光顏色不同。
[0014]優選地，所述納米柱陣列的底部垂直于襯底并與所述襯底固定。
[0015]優選地，所述納米柱陣列的材質為金、銀或鋁。
[0016](三)有益效果
[0017]本發明實施例通過提供一種納米濾光方法，通過調整預設角度，將入射光以預設角度從納米柱陣列上方入射，由于預設角度不同，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振后進行反射，得到不同顏色的單色光，從而達到分光的效果，由于當預設角度不同時，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振時的共振波長不同，分出的單色光即為共振波長的光，因此，分出的單色光的分辨率很高。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0018]圖1是本發明實施例提供的納米濾光方法流程圖；[0019]圖2是本發明實施例提供的納米濾光側視圖；
[0020]圖3是本發明實施例提供的納米濾光立體圖；
[0021]圖4是本發明實施例提供的不同預設角度下得到的反射光譜；
[0022]圖5為本發明實施例提供的納米柱陣列結構電子掃描顯微鏡圖。
【具體實施方式】
[0023]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0024]實施例1:
[0025]本發明實施例提供了一種納米濾光方法，如圖1所示，包括:
[0026]S1:將入射光以預設角度從納米柱陣列上方入射；
[0027]S2:所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振后進行反射，得到所述入射光以預設角度入射的單色光；
[0028]S3:調整預設角度，并將入射光以調整后的預設角度從所述納米柱陣列上方入射，并跳轉步驟S2，直到得到所述入射光的所有單色光。
[0029]本發明實施例通過提供一種納米濾光方法，通過調整預設角度，將入射光以預設角度從納米柱陣列上方入射，由于預設角度不同，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振后進行反射，得到不同顏色的單色光，從而達到分光的效果，由于當預設角度不同時，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振時的共振波長不同，分出的單色光即為共振波長的光，因此，分出的單色光的分辨率很高。
[0030]本發明實施例中，所示預設角度為所述入射光與所述納米柱陣列頂部平面的夾角。
[0031]當預設角度不同時，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振時的共振波長不同，得到的單色光顏色不同，得到的該單色光的波長即為共振波長，通過當預設角度不同時共振波長不同，從而快速簡單的濾出單色光。
[0032]如圖2所示為本發明實施例提供的納米濾光側視圖，以及如圖3所示為本發明實施例提供的納米濾光立體圖，入射光以預設角度Θ從納米柱陣列上方入射，如圖2中的Θ為反射光與納米柱陣列頂部平面的夾角，由于入射角和反射角相等，預設角度Θ為入射光與納米柱陣列頂部平面的夾角。本發明實施例的入射光可以為白光。
[0033]入射光與納米柱陣列發生表面等離子共振，并且隨著預設角度的變化，入射光與納米柱陣列發生表面等離子共振的共振波長也不同。發生共振后，入射光通過反射輸出反射光，得到以預設角度入射的單色光，該單色光的波長即為共振波長，如圖4所示為本發明實施例提供的不同預設角度下得到的反射光譜，分別以預設角度為30度、40度、50度和60度進行入射，當以預設角度為30度時入射時，共振波長為480nm左右，因此得到的單色光為藍色光；當以預設角度為40度時入射時，共振波長為520nm左右，因此得到的單色光為綠色光；當以預設角度為50度時入射時，共振波長為560nm左右，因此得到的單色光為黃色光；當以預設角度為60度時入射時，共振波長為620nm左右，因此得到的單色光為紅色光。[0034]支持本發明實施例的納米濾光方法的納米柱結構包括襯底和納米柱陣列，其中，納米柱陣列為多排并排排列的圓柱體，納米柱陣列的底部垂直于襯底并與所述襯底固定，所述納米柱陣列的材質為金、銀或鋁。如圖5所示為本發明實施例提供的納米柱陣列結構電子掃描顯微鏡圖，通過使用激光全息光刻技術(interference lithography)進行制備，得到的大面積的二維納米柱結構的掃描電子顯微鏡圖。從圖5中可以看出所制備的納米柱陣列結構具有非常均一的形態且幾乎垂直的側壁，這樣的均一且垂直的納米柱結構可以有效地增強反射效率，使得濾光器的性能大幅提高，并能夠準確再現所保存的數據，得到色彩鮮明、分辨率極高的單色光。
[0035]本發明實施例通過提供一種納米濾光方法，通過調整預設角度，將入射光以預設角度從納米柱陣列上方入射，由于預設角度不同，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振后進行反射，得到不同顏色的單色光，從而達到分光的效果，由于當預設角度不同時，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振時的共振波長不同，分出的單色光即為共振波長的光，因此，分出的單色光的分辨率很高。
[0036]以上實施方式僅用于說明本發明，而并非對本發明的限制，有關【技術領域】的普通技術人員，在不脫離本發明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術方案也屬于本發明的范疇，本發明的專利保護范圍應由權利要求限定。
【權利要求】
1.一種納米濾光方法，其特征在于，所述方法包括: S1:將入射光以預設角度從納米柱陣列上方入射； 52:所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振后進行反射，得到所述入射光以預設角度入射的單色光； 53:調整預設角度，并將入射光以調整后的預設角度從所述納米柱陣列上方入射，并跳轉步驟S2，直到得到所述入射光的所有單色光。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述預設角度為所述入射光與所述納米柱陣列頂部平面的夾角。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，當預設角度不同時，所述入射光與所述納米柱陣列發生表面等離子共振時的共振波長不同，得到的單色光顏色不同。
4.根據權利要求1?3中任一項所述的方法，其特征在于，所述納米柱陣列的底部垂直于襯底并與所述襯底固定。
5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述納米柱陣列的材質為金、銀或鋁。
【文檔編號】G02B5/26GK103454710SQ201310393846
【公開日】2013年12月18日 申請日期:2013年9月2日 優先權日:2013年9月2日
【發明者】司光遠, 趙玉倩, 宋愛娟, 姜瀟瀟, 劉少楠, 魏永濤, 王軍偉, 金偉, 閆冬梅, 馬振鶴, 王鳳文 申請人:東北大學