專利名稱：彩膜基板及其制作方法、液晶面板及顯示設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及顯示技術領域，尤其是指一種彩膜基板及其制作方法、液晶面板及顯示設備。
背景技術：
隨著TFT-1XD面板生產線的高世代化及面板的大尺寸化，各種不良發生的比例也有所加重，在面板修復和面板的不良分析中，像素的精確定位已成為一個顯著的問題，特別是在使用掃描電鏡，3D顯微鏡，原子力顯微鏡，紅外光譜儀等進行分析時，在制樣過程中均需要將面板進行切割。如何保證在切割前后不良區的精確定位已經成為了一個嚴重的問題，此外對于彩膜基板而言在某些儀器中無法進行顏色的辨別，所以更加不易確定所要研究的像素，如何解決此問題已經非常重要。傳統面板定位方式主要是基于相對坐標的方法，也即:將面板置于基臺上，通過坐標的變化記錄不良的坐標，再進行修復和分析，但是該方法存在明顯的不足，首先采用相對坐標時，離開儀器的基臺之后，容易產生定位的紊亂，其次大尺寸基板在某些小基臺的分析儀器上(SEM/3D 0M)，無法實現相對的坐標定位，再次通過相對坐標在基板不良區附近標記激光Mark (標記)時，可能會對不良區的不良現象產生影響。
發明內容
本發明技術方案的目的是提供一種彩膜基板及其制作方法、液晶面板及顯示設備，用于解決現有技術面板修復和分析過程中難以對像素精確定位的問題。為了達到上述目的，本發明采用的技術方案為:一種彩膜基板，包括襯底基板，以及設置在所述襯底基板上的多個色阻單元，所述彩膜基板還包括用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構。進一步的,所述標記結構包括行號標記,其中所述行號標記表示一個色阻單元所處的沿第一方向的行的行號，或者表示相鄰的多個色阻單元所處的沿所述第一方向的相鄰多行的共用行號。進一步的，所述標記結構還包括列號標記，其中所述列號標記用于表示一個色阻單元所處的沿第二方向的列的列號，或者表示相鄰的多個色阻單元所處的沿所述第二方向的相鄰多列的共用列號；所述第一方向和所述第二方向垂直。進一步的，所述標記結構設置在所述色阻單元的周邊任意位置。進一步的，還包括隔墊物層，所述標記結構與所述隔墊物層同層形成。進一步的，所述像素為亞像素。進一步的，所述隔墊物層包括柱狀隔墊物，所述柱狀隔墊物與所述標記結構通過構圖工藝共同形成在所述隔墊物層。進一步的，所述標記結構包括數字、字母中任一種或幾種的組合。
進一步的，所述彩膜基板還包括黑矩陣，所述標記結構形成在所述黑矩陣對應的區域內。本發明還提供一種彩膜基板的制作方法，包括以下步驟:在襯底基板上形成包括色阻單元的圖形；形成具有用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構。進一步的，所述在襯底基板上形成包括色阻單元的圖形，包括以下步驟:通過構圖工藝，形成黑矩陣的圖形；通過構圖工藝，形成所述色阻單元的圖形。進一步的，所述方法還包括:在形成有所述色阻單元和所述黑矩陣的襯底基板上，形成隔墊物層；所述形成具有用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構,包括:通過構圖工藝，在形成所述隔墊物層的同時形成所述標記結構。本發明還提供一種液晶面板，包括上述的彩膜基板。本發明還提供一種顯示設備，包括上述的液晶面板。本發明的有益效果是:本發明通過在彩膜基板的對色阻單元對應的像素進行標記，實現了像素的絕對坐標標記，無論是在那種儀器的基臺，也無論基板的切割與否都能夠快速準確的找到不良區，從而進行定址定位，能有效提高修復和分析的效率及準確性。
圖1表示本發明彩膜基板的俯視圖；圖2表示本發明彩膜基板的A-A向剖視圖；圖3表示本發明彩膜基板的B-B向剖視圖；圖4表示本發明彩膜基板上制作標記結構的第一步驟制備的俯視圖；圖5表示本發明彩膜基板上制作標記結構的第一步驟制備的A-A向剖視圖；圖6表示本發明彩膜基板上制作標記結構的第一步驟制備的B-B向剖視圖；圖7表示本發明彩膜基板上制作標記結構的第二步驟制備的A-A向剖視圖；圖8表示本發明彩膜基板上制作標記結構的第二步驟制備的B-B向剖視圖；圖9表示本發明彩膜基板上制作標記結構的第三步驟制備的A-A向剖視圖；圖10表示本發明彩膜基板上制作標記結構的第三步驟制備的B-B向剖視圖；圖11表示本發明彩膜基板上制作標記結構的第四步驟制備的A-A向剖視圖；圖12表示本發明彩膜基板上制作標記結構的第四步驟制備的B-B向剖視圖。
具體實施例方式以下結合附圖對本發明的結構和原理進行詳細說明，所舉實施例僅用于解釋本發明，并非以此限定本發明的保護范圍。如圖1所示，本發明具體實施例提供一種彩膜基板，包括襯底基板，以及設置在襯底基板上的多個色阻單元，所述彩膜基板還包括用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構。通過在彩膜基板的色阻單元對應的像素(需要進行標記的像素)周邊進行坐標標記的標記結構，實現了像素的絕對坐標標記，無論是在那種儀器的基臺，也無論基板的切割與否都能夠快速準確的找到不良區，從而進行定址定位，能有效提高修復和分析的效率及準確性。 本實施例中，所述像素可以為由單個色阻單元組成的亞像素，也可以是由多個色阻單元組合形成的組合像素，本實施例中優選為亞像素。所述標記結構包括行號標記，其中所述行號標記表示一個色阻單元所處的沿第一方向的行的行號，或者表示相鄰的多個色阻單元所處的沿所述第一方向的相鄰多行的共用行號。所述標記結構還包括列號標記，其中所述列號標記用于表示一個色阻單元所處的沿第二方向的列的列號，或者表示相鄰的多個色阻單元所處的沿所述第二方向的相鄰多列的共用列號；優選地，所述第一方向和所述第二方向垂直。優選的，所述標記結構包括行號標記和列號標記，其中所述行號標記表示所述色阻單元所對應柵線的行號，所述列號標記用于表示所述色阻單元所對應數據線的列號。本實施例中，所述標記結構優選設置在所述色阻單元的周邊任意位置。優選的，所述標記結構的位置與所述色阻單元所對應柵線的位置相對應。彩膜基板還包括隔墊物層，所述標記結構與所述隔墊物層同層形成。優選的，所述隔墊物層包括柱狀隔墊物，所述柱狀隔墊物與所述標記結構通過構圖工藝共同形成在所述隔墊物層。優選的，所述彩膜基板還包括黑矩陣，所述標記結構形成在所述黑矩陣對應的區域內。本實施例中，所述標記結構包括數字、字母中任一種或幾種的組合。當然所述標記結構的形式并不限于此。本發明還提供一種彩膜基板的制作方法，包括以下步驟:在襯底基板上形成包括色阻單元的圖形；形成具有用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構。優選的，所述在襯底基板上形成包括色阻單元的圖形，包括以下步驟:通過構圖工藝，形成黑矩陣的圖形；通過構圖工藝，形成所述色阻單元的圖形。優選的，所述方法還包括:在形成有所述色阻單元和所述黑矩陣的襯底基板上，形成隔墊物層；所述形成具有用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構,包括:通過構圖工藝，在形成所述隔墊物層的同時形成所述標記結構。以下具體介紹標記結構的制作過程。本實施方式中以TN顯示模式的像素結構為藍本，在此結構中彩膜基板不使用OC(平坦層)，在此CF基板側利用光刻工藝在Gate (柵線)方向上的BM (黑矩陣)上利用PS層(隔墊物層)對亞像素進行行列標示，具體結構如圖1-圖3中所示，在圖中“100-210”是舉例，代表Gate行號為100，Data (數據線)列號為210，其他亞像素的標記結構照此可得。步驟一:在基板4依次形成BM2、色阻單元3，如圖4_圖6所示。
步驟二:在與柵線對應的位置的色阻單元3采用半曝光技術，將標記區域的色阻厚度只保留色阻單元厚度的一部分，如圖7、圖8所示。步驟三:在色阻單元上沉積公共電極層(優選采用ITO透明導電膜層)5，如圖9、圖10所示。步驟四:在公共電極層5上沉積PS層1，如圖11、圖12所示。步驟四:制作PS，完成CF基板的制備，并在與色阻單元3的標記區域相對應的位置形成具有標記結構的標記區，如圖1-圖3所示。根據以上，本領域技術人員應該能夠理解所述標記結構的制作工藝，在此不再詳細描述。本發明以一種TN型顯示模式為例，該TN型液晶顯示器的CF基板(彩膜基板)能夠實現亞像素的絕對坐標標記。針對大尺寸顯示器的CF基板在定位和切割為小片進行分析時無法精確定位，同時在某些分析儀器中也不易區分RGB(紅色、綠色、藍色像素對應的色阻單元)的問題(0M (光學顯微鏡)、SEM (掃描電子顯微鏡)、3D顯微鏡下無法準確查找)，通過在CF基板對像素進行絕對坐標標記的方法，解決上述問題。該顯示器在CF基板不良修復和不良解析方面可輕松確定不良點，能有效提高修復和分析的效率及準確性。此外，本領域技術人員可以理解，本發明具體實施例所述彩膜基板，用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構，并不僅限于設置于上述位置，且不限于采用數字構成行號和列號的方式進行絕對坐標標記，本領域人員可以采用其他方式進行位置標記；本申請中所提供的方法中的步驟順序不限于所陳述的順序，所能夠變換的各種等同方式，在此不一一列舉。本發明具體實施例另一方面還提供一種具有上述彩膜基板結構的液晶面板和顯示設備，具體可以參閱上述，在此不再贅述。以上所述僅是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發明的保護范圍。
權利要求
1.一種彩膜基板，包括襯底基板，以及設置在所述襯底基板上的多個色阻單元，其特征在于，所述彩膜基板還包括用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構。
2.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述標記結構包括行號標記，其中所述行號標記表示一個色阻單元所處的沿第一方向的行的行號，或者表示相鄰的多個色阻單元所處的沿所述第一方向的相鄰多行的共用行號。
3.根據權利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述標記結構還包括列號標記，其中所述列號標記用于表示一個色阻單元所處的沿第二方向的列的列號，或者表示相鄰的多個色阻單元所處的沿所述第二方向的相鄰多列的共用列號； 所述第一方向和所述第二方向垂直。
4.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述標記結構設置在所述色阻單元的周邊任意位置。
5.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，還包括隔墊物層，所述標記結構與所述隔墊物層同層形成。
6.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述像素為亞像素。
7.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔墊物層包括柱狀隔墊物，所述柱狀隔墊物與所述標記結構通過構圖工藝共同形成在所述隔墊物層。
8.根據權利要求1-7任一項所述的彩膜基板，其特征在于，所述標記結構包括數字、字母中任一種或幾種的組合。
9.根據權利要求1-7任一項所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板還包括黑矩陣，所述標記結構形成在所述黑矩陣對應的區域內。
10.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟: 在襯底基板上形成包括色阻單元的圖形； 形成具有用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構。
11.根據權利要求10所述彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成包括色阻單元的圖形，色阻單元包括以下步驟: 通過構圖工藝，形成黑矩陣的圖形； 通過構圖工藝，形成所述色阻單元的圖形。
12.根據權利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于， 所述方法還包括:在形成有所述色阻單元和所述黑矩陣的襯底基板上，形成隔墊物層； 所述形成具有用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構，包括:通過構圖工藝，在形成所述隔墊物層的同時形成所述標記結構。
13.一種液晶面板，其特征在于，包括權利要求1-9任一項所述的彩膜基板。
14.一種顯示設備，其特征在于，包括權利要求13所述的液晶面板。
全文摘要
本發明涉及一種彩膜基板及其制作方法、液晶面板、顯示設備，其中彩膜基板包括襯底基板，以及設置在所述襯底基板上的多個色阻單元，所述彩膜基板還包括用于對色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構。本發明的有益效果是本發明通過在彩膜基板設置色阻單元對應的像素進行坐標標記的標記結構，實現了像素絕對坐標標記，無論是在那種儀器的基臺，也無論基板的切割與否都能夠快速準確的找到不良區，從而進行定址定位，能有效提高修復和分析的效率及準確性。
文檔編號G02F1/1335GK103176306SQ201310094769
公開日2013年6月26日 申請日期2013年3月22日 優先權日2013年3月22日
發明者王明超, 林鴻濤, 王俊偉 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司