肟酯光敏引發劑的制作方法
【專利摘要】式I的肟酯化合物：其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、(A)、COR14、NO2或OR15；條件為R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的至少一個為(A)且條件為其余R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的至少一個為COR14或NO2；R11例如為C1-C20烷基、M或(B)；X及X1例如為直接鍵；R12及R'12例如為氫或C1-C20烷基；R13及R'13例如為C6-C20芳基或C3-C20雜芳基；M為(X)、(Y)或(Z)；X3為O、S或NR19；R14及R15例如為苯基；R20、R21、R22、R23、R24或R25例如為氫、COR14、NO2或(B)；條件為在該分子中存在至少兩個肟酯基團；所述化合物可用作光敏引發劑。
【專利說明】肟酯光敏引發劑
[0001]本發明涉及基于特殊咔唑衍生物的新肟酯化合物及其在可光聚合組合物中作為光敏引發劑的用途、具體而言在光致抗蝕劑配制劑中(例如在濾色器應用中在用于黑色基質的樹脂中)作為光敏引發劑的用途。
[0002]具有咔唑結構部分的肟酯化合物在本領域中已知為光敏引發劑。例如EP2015443、W02008/138724和 EP2141206 公開了相應化合物。JP2006-36750-A (對應于 W02005/080337)的極寬一般范圍也涵蓋具有咔唑結構部分和尤其是稠合環的化合物。然而，各實施例僅顯示至包括肟基團的咔唑結構部分的環形成。在W02008/138732中也描述了含有咔唑基團的不同光敏引發劑化合物。同樣，其中寬一般范圍涵蓋在咔唑基團處的取代基形成環，但未公開相應實例。其他含有咔唑基團的光敏引發劑公開于W02012/045736中。
[0003]在光聚合技術中仍需要具有高反應性、易于制備且易于處理的光敏引發劑。例如在濾色器抗蝕劑應用 中，對于高色彩質量性能需要經高度著色的抗蝕劑。隨著顏料含量的增加，色彩抗蝕劑的固化變得更加困難。因此，需要具有高敏感性的光敏引發劑。另外，這些新光敏引發劑也必須滿足對于性能如易處理性、高溶解性、熱穩定性和儲存穩定性的高工業要求。
[0004]此外，引發劑在顯示器應用中應有助于圖案的表面光滑度、對基材的粘合性等。
[0005]現已發現，所選化合物尤其適合作為光敏引發劑。
[0006]因此，本發明的目的為式I化合物:
[0007]式I化合物
【權利要求】
1.式I化合物::錄其中
2.根據權利要求1的式I化合物,其中
Rn R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9 及 Rltl 彼此獨立地為氫、C1-C2tl 烷基、
3.根據權利要求1的式I化合物,其中
1^、1?2、1?3、1?4、““1?9及1?1(| 彼此獨立地為氫、
4.一種可光聚合組合物，包含 (a)至少一種乙烯屬不飽和可光聚合化合物，和 (b)至少一種如權利要求1所定義的式I化合物作為光敏引發劑。
5.根據權利要求4的可光聚合組合物，其中該組分(a)為通過飽和或不飽和多元酸酐與環氧樹脂和不飽和單羧酸的反應產物反應獲得的樹脂。
6.根據權利要求4的可光聚合組合物，其除該光敏引發劑(b)外，額外包含至少一種其他光敏引發劑(C)和/或其他添加劑(d)。
7.根據權利要求6的可光聚合組合物，其包含顏料或顏料混合物或一種或多種顏料與一種或多種染料的混合物作為其他添加劑(d)。
8.根據權利要求7的可光聚合組合物，其包含分散劑或分散劑混合物作為其他添加劑⑷。
9.根據權利要求4-8中任一項的可光聚合組合物，其基于該組合物包含0.05-25重量％光敏引發劑(b)或光敏引發劑(b)和(C)。
10.根據權利要求4-9中任一項的可光聚合組合物，其包含光敏劑，尤其為選自二苯甲酮、二苯甲酮衍生物、噻噸酮、噻噸酮衍生物、蒽醌、蒽醌衍生物、香豆素和香豆素衍生物的化合物作為其他添加劑(d)。
11.根據權利要求4-10中任一項的可光聚合組合物，其額外包含粘合劑聚合物(e)，尤其為甲基丙烯酸酯與甲基丙烯酸的共聚物。
12.—種通過在堿或堿混合物的存在下使相應的肟化合物與式II的酰鹵或式III的酸酐反應而制備根據權利要求1的式I化合物的方法，
13.一種使含有乙烯屬不飽和雙鍵的化合物光聚合的方法，包括以150-600nm范圍內的電磁輻射或以電子束或以X射線輻照根據權利要求4-11中任一項的組合物。
14.根據權利要求13的方法，其用于產生著色和未著色油漆和清漆，粉末涂料，印刷油墨，印刷板，粘著劑，壓敏粘著劑，牙科組合物，凝膠涂層，用于電子器件的光致抗蝕劑，抗蝕亥IJ劑，液體膜和干膜二者，阻焊劑，用以制造用于多種顯示器應用的濾色器的抗蝕劑，用以在等離子顯示器面板、電致發光顯示器和LCD制造過程中產生結構的抗蝕劑，用于包封電氣和電子組件，用于制造磁性記錄材料，微機械部件，波導，光學開關，鍍覆掩模，彩色打樣體系，玻璃纖維光纜涂料，絲網印刷模版，借助立體石印的三維物體，用于全息記錄的圖象記錄材料，微電子電路，脫色材料，含有微膠囊的配制劑，用于UV及可見激光直接顯像體系和用于形成印刷電路板的順序堆積層中的介電層的光致抗蝕劑材料。
15.經涂覆基材，其在至少一個表面上經根據權利要求4的組合物涂覆。
16.照相產生浮凸圖象的方法，其中使根據權利要求15的經涂覆基材遭受成圖象曝光且隨后用顯影劑除去未曝光部分。
17.一種濾色器，通過如下制備:在透明基材上提供紅色、綠色和藍色像元和黑色矩陣，其均包含光敏樹脂和顏料；和在所述基材的表面上或濾色器層的表面上提供透明電極，其中所述光敏樹脂包含多官能丙烯酸酯單體、有機聚合物粘合劑和如權利要求1中所定義的式I的光聚合引發劑。
18.根據權利要求1中所定義的式(I)化合物在包含至少一種乙烯屬不飽和可光聚合化合物的組合物的光聚合中的用途。
19.式(IA)化合物
【文檔編號】G03F7/004GK103998427SQ201280060566
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2012年12月3日 優先權日:2011年12月7日
【發明者】西前祐一, 倉久稔, 國本和彥, 山上隆平, 田中慶太 申請人:巴斯夫歐洲公司