掩模和包括該掩模的濾光器制造設備的制作方法
【專利摘要】提供一種掩模以及包括該掩模的濾光器制造設備。一種用于在基膜中形成圖案的卷對卷工藝的掩模，所述基膜被配置成沿彎曲表面移動，所述掩模包括掩模體，所述掩模體具有被設置成與所述基膜所纏繞的輥相對的彎曲表面以及與所述彎曲表面的相反側相對應的平表面。所述掩模體的所述彎曲表面被設置成與所述輥的彎曲表面相距預定距離。所述掩模和濾光器制造設備能夠實現(xiàn)在所述基膜上形成均勻圖案，以提高產品的質量，并精確地獲得所述基膜的性質。
【專利說明】掩模和包括該掩模的濾光器制造設備
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種濾光器制造設備，更具體地講，涉及一種具有含預定開口的彎曲形狀的掩模和包括該掩膜的濾光器制造設備，該濾光器制造設備具有高的圖案化精確度，不會受到掩模與基膜之間的距離的影響，可以應用卷對卷(roll-to-roll)工藝。
【背景技術】
[0002]近些年來，通過使用具有預定波長的偏振光來照射液晶顯示器(IXD)的對準層或視角補償基膜層來對光進行對準的技術得到了廣泛使用。常規(guī)上，作為線型光源的桿形燈具與線柵偏振器(WGP)的組合(如在韓國專利公開案N0.2006-0053117和韓國專利公開案N0.2009-0112546中所描述)被用作光對準層的偏振光輻射裝置。
[0003]隨著液晶(LC)面板體型增大，光對準技術也隨之增大。因此,具有較大面積的光輻射區(qū)域被光輻射裝置以較高亮度輻射，該光輻射裝置被配置成向該光對準層輻射偏振光。
[0004]為了以高亮度的光來輻射大面積，光輻射裝置的光源也應相應增大。由于決定對準的偏振光的方向取決于入射光的入射角，所以當光源按比例放大時，在光福射區(qū)域中會出現(xiàn)入射角的不均勻，由此在偏振軸中出現(xiàn)不均勻。結果，對準方向在輻射區(qū)域上不是均勻的，使得光可能會在不想要的方向中對準。
[0005]另外，在卷對卷工藝中，存在許多光輻射區(qū)域具有彎曲表面的情況。在這些情況中，隨著光輻射區(qū)域的面積增大，由彎曲表面所導致的偏振軸的不均勻在光輻射區(qū)域中就更加成為問題。
[0006]為了獲得在大面積上的均勻偏振分布，應將高度準直的光入射到偏振裝置上。為了生成與大面積相對應的高度準直的光，需要大的設備。因為隨著設備的光路長度增加，光強在減小，所以處理時間增加，進而降低生產率。因此，為了生成準直光，難以在不放大設備的情況下實施光性質。因此，無法執(zhí)行卷對卷工藝，使得生產率顯著降低。
【發(fā)明內容】
[0007]技術問題
[0008]本發(fā)明涉及提供一種掩模和包括該掩模的濾光器制造設備，其可以將大面積區(qū)域均勻地暴露到光下，輻射高度準直的光，提供均勻的對準性能，對大面積區(qū)域進行有效的光對準操作。
[0009]本發(fā)明的技術目的不限于上述公開內容，對于本領域的普通技術人員來說，其他目的可以在以下描述中變得一目了然。
[0010]技術方案
[0011]本發(fā)明的一個方面提供一種掩模，用于在基膜中形成圖案的卷對卷工藝，該基膜被配置成沿彎曲表面移動。該掩模包括掩模體，所述掩模體具有被設置成與基膜所纏繞的輥相對的彎曲表面以及與該彎曲表面的相反側相對應的平表面。
[0012]該掩模體的彎曲表面可以設置成與該輥的彎曲表面相距預定距離。[0013]可以在該掩模體的彎曲表面上形成金屬薄層。
[0014]該金屬薄層可以是鉻(Cr)或鋁(Al)薄層。
[0015]可以在該金屬薄層中形成用于在該基膜中形成該等圖案的至少一個開口。
[0016]可以使用激光直寫技術來加工該等開口。
[0017]該等開口的內壁可以形成為越往內壁的下部寬度越小。
[0018]可以在該等開口的內壁上形成全反射層以增加光的線性度。
[0019]可以在該掩模體中形成用于在該基膜中形成該等圖案的開口。
[0020]該掩模體的彎曲表面可以具有與該輥相同的曲率。
[0021]該基膜可以保持為與該掩模體相距約100 μ m或100 μ m以下的距離。
[0022]該掩?？梢园ㄔ谠撗谀ｓw的兩側上所包括的夾具固定單元，該等夾具固定單元固定到夾具上。
[0023]可以通過將具有彎曲表面的掩模體的兩側加工成臺階狀來形成該等夾具固定單元，并且可以在該等夾具固定單元中形成多個安裝孔。
[0024]本發(fā)明的另一方面提供一種使用卷對卷工藝的濾光器制造設備，該卷對卷工藝在基膜中形成圖案。所述基膜被配置成沿彎曲表面移動。所述設備包括:光源，所述光源被配置成生成用于曝光過程的光；安裝在所述光源的發(fā)光側的偏振器，所述偏振器被配置成對由所述光源生成的光進行偏振；以及上述掩模。
[0025]所述光源可以是紫外(UV)燈。
[0026]所述偏振器可以是線柵偏振器(WGP )。
[0027]有益效果
[0028]根據(jù)本發(fā)明，由于設置成與輥相對的掩模的表面被形成為彎曲類型，以使得被配置成沿著所述輥移動的基膜與掩模之間的距離均勻化，所以能夠以均勻的亮度將光輻射到該基膜的整個表面上。因此，能夠在該基膜上均勻地形成圖案，使得可以提高產品的質量并且該基膜的性質也可以精確地實施。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0029]圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例的掩模的透視圖；
[0030]圖2是根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例的濾光器制造設備的透視圖；
[0031]圖3是根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例的濾光器制造設備的側向圖；
[0032]圖4是根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實施例的掩模的透視圖；以及
[0033]圖5是根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實施例的開口的形狀的剖視圖。
【具體實施方式】
[0034]以下將參考附圖來更全面地描述根據(jù)本發(fā)明的掩模和濾光器制造設備，附圖所示為本發(fā)明的示例性實施例。
[0035]圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例的掩模的透視圖，圖2是根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例的濾光器制造設備的透視圖，圖3是根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例的濾光器制造設備的側向圖。
[0036]參見圖1和圖2，根據(jù)本發(fā)明的掩?？梢园?掩模體12，具有設置成與基膜I所纏繞的棍R相對的彎曲表面以及與該彎曲表面的相反側相對應的平表面。
[0037]掩模體12通?？梢杂墒⒒牧闲纬?。在本實施例中，掩模體12可以具有面向輥R的彎曲表面，以將在掩模體12與基膜I之間的距離G最小化。掩模體12可以具有與輥R相同的曲率。并且，掩模體12可以具有與彎曲表面的相反側相對應的平表面，用以安裝夾具(未圖示)。
[0038]進一步，可以在掩模體12的設置成與輥R相對的彎曲表面上沉積金屬薄層13。例如，可以將鉻(Cr)或鋁(Al)薄層沉積為金屬薄層13。當金屬薄層13被沉積時，可以降低透光率，使得光可以集中在開口 14上，下文將對此進行描述。
[0039]接下來，可以在金屬薄層13上形成用于在基膜I中形成圖案的至少一個開口 14?？梢酝ㄟ^使用激光直寫技術對在掩模體12上沉積的金屬薄層13進行加工來形成開口 14。參見圖1，可以看出，在掩模體12上形成金屬薄層13之后，通過對金屬薄層13進行激光加工來形成開口 14。
[0040]這里，開口 14可以僅形成在金屬薄層13中，而不是形成在掩模體12中。由石英基材料形成的掩模體12可以透射紫外(UV)光，同時金屬薄層13具有低的透光率。因而，當開口 14僅形成在金屬薄層13中時，光可以集中在開口 14上以形成圖案。并且，開口 14可以增加光的線性度，并改善圖案的均勻性。
[0041]更具體地，卷對卷工藝可以包括在形成圖案的曝光過程期間沿掩模體12的彎曲表面轉印基膜I。當使用卷對卷工藝來形成圖案時，在基膜I沿著彎曲表面的轉印期間光實質上輻射出；否則，基膜I的一些部分沒有變緊而是變皺，無法實現(xiàn)均勻的曝光過程。
[0042]為了形成圖案，掩模10應當安裝在基膜I與曝光所需的紫外(UV)燈20之間。由于曝光裝置的一個表面是彎曲表面，所以不可能將掩模體12緊密地緊貼到基膜I上來均勻地形成該等圖案。為了克服這個缺陷，在本實施例中，預定開口 14可以形成在掩模體12中。通過形成開口 14并沿著導縫14輻射光，光的線性度可以改善，以提高在基膜I中形成的圖案的均勻性。換句話說，即使掩模體12與基膜I間隔預定距離，光的線性度也可以得到改
盡
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[0043]同時，基膜I可以保持為與掩模體12相距約100 μ m或100 μ m以下的距離。當在基膜I與掩模體12之間的距離超過約100 μ m時，改善光的線性度變得困難。
[0044]參見圖3，掩模體12的彎曲表面可以設置成與輥R的彎曲表面相距預定距離G。因而，被緊密地緊貼至輥R的彎曲表面的基膜I上所輻射到的光可以均勻地入射，以增加圖案的均勻性。換句話說，因為基膜I移動時所沿路徑所輻射到的光被以規(guī)則的間隔輻射，所以光可以均勻地入射。
[0045]同時，參見圖4，可以穿過掩模體12和金屬薄層13兩者來形成開口 14，而不是如上文所述僅在金屬薄層12中形成開口 14。
[0046]進一步，參見圖5，根據(jù)本發(fā)明的掩模10的開口 14的形狀可以經(jīng)修改以改善光的線性度。也就是說，盡管開口 14的相對的內壁通常被形成為彼此平行，開口 14的內壁可以形成為越往內壁的下部寬度越小。
[0047]此外，根據(jù)本發(fā)明的掩模10可以被配置成使得開口 14的內壁被涂覆以全反射層15以改善光的線性度。例如，可以使用沉積工藝在開口 14的內壁上涂覆反射材料，諸如鋁(Al)、銅(Cu)、鎳(Ni)、金(Au)或鉬(Pt)。[0048]同時，如圖1所示，可以通過將掩模體12的具有彎曲表面的兩側加工成臺階狀來形成夾具固定單元16。并且，可以在夾具固定單元16中形成多個安裝孔17，使得可以通過諸如栓釘?shù)倪B接工具來將夾具固定單元16安裝在夾具(未圖示)處。
[0049]接下來，參見圖2，根據(jù)本發(fā)明的濾光器制造設備可以包括:光源，被配置成生成用于曝光工藝的光；偏振器30,安裝在光源的發(fā)光側，并且被配置成使由光源生成的光偏振；以及上述掩模10。
[0050]盡管可以采用各種光源，但是在本實施例中，可以使用UV燈20。并且，偏振器30可以是線柵偏振器(WGP)。這里，偏振器30可以緊貼至掩模體12的平表面。由UV燈20所輻射的光可以由偏振器30偏振，并通過開口 14朝基膜I輻射。
[0051]在本實施例中，基膜I可以是不閃式(film patterned retarder, FPR)。
[0052]同時，上述濾光器制造設備可以應用于三維(3D)成像設備。因此，可以使用根據(jù)本發(fā)明的濾光器制造設備來實現(xiàn)三維濾光器的制造。
[0053]盡管已經(jīng)參考本發(fā)明的某些示例性實施例展示并描述了本發(fā)明，但是本領域的技術人員會理解，在不脫離由所附權利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍的前提下，可以對本發(fā)明做出形式和細節(jié)上的各種改變。
【權利要求】
1.一種用于卷對卷工藝的掩模，所述卷對卷工藝在被配置成沿彎曲表面移動的基膜中形成圖案，所述掩模包括: 掩模體，所述掩模體具有被設置成與所述基膜所纏繞的輥相對的彎曲表面以及與所述彎曲表面的相反側相對應的平表面。
2.根據(jù)權利要求1所述的掩模，其中，所述掩模體的所述彎曲表面被設置成與所述輥的彎曲表面相距預定距離。
3.根據(jù)權利要求1所述的掩模，其中，在所述掩模體的所述彎曲表面上沉積有金屬薄層。
4.根據(jù)權利要求3所述的掩模，其中，所述金屬薄層是鉻(Cr)或鋁(Al)薄層。
5.根據(jù)權利要求3所述的掩模，其中，用于在所述基膜中形成所述圖案的至少一個開口形成在所述金屬薄層中。
6.根據(jù)權利要求5所述的掩模,其中，開口使用激光直寫技術來加工。
7.根據(jù)權利要求5所述的掩模，其中，開口的內壁被形成為越往所述內壁的下部寬度越小。
8.根據(jù)權利要求5所述的掩模，其中，在開口的內壁上形成有全反射層以增加光的線性度。
9.根據(jù)權利要求3所述的掩模，其中，用于在所述基膜中形成所述圖案的開口被形成在所述掩模體和所述金屬薄層中。
10.根據(jù)權利要求1所述的掩模，其中，所述掩模體的所述彎曲表面具有與所述輥相同的曲率。
11.根據(jù)權利要求1所述的掩模，其中，所述基膜被保持在與所述掩模體相距約100μ m或100 μ m以下的距離。
12.根據(jù)權利要求1所述的掩模，進一步包括夾具固定單元，所述夾具固定單元被包括在所述掩模體的兩側上并被固定到夾具上。
13.根據(jù)權利要求12所述的掩模，其中，通過將具有所述彎曲表面的所述掩模體的兩側加工成臺階狀來形成所述夾具固定單元，并且多個安裝孔形成在所述夾具固定單元中。
14.一種使用卷對卷工藝的濾光器制造設備，所述卷對卷工藝在被配置成沿彎曲表面移動的基膜中形成圖案，所述設備包括: 光源，所述光源被配置成生成用于曝光工藝的光； 偏振器，安裝在所述光源的發(fā)光側，并且所述偏振器被配置成對由所述光源生成的光進行偏振；以及 根據(jù)權利要求1至13中任一項所述的掩模。
15.根據(jù)權利要求14所述的設備，其中，所述光源是紫外(UV)燈。
16.根據(jù)權利要求14所述的設備，其中，所述偏振器是線柵偏振器(WGP)。
【文檔編號】G03F7/24GK103703418SQ201280036229
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2012年7月23日 優(yōu)先權日:2011年7月21日
【發(fā)明者】辛富建, 金信英, 金在鎮(zhèn), 李多美 申請人:Lg化學株式會社