專利名稱：包含多酰胺組分的光致抗蝕劑的制作方法
技術領域：
根據35U. S. C. § 119(e)，本申請要求提交于2011年9月9日的美國臨時申請No. 61/533，128的優先權益，其內容在此全部以引用的方式全文插入于此。本發明涉及包括含兩個或多個酰胺基團組分的光致抗蝕劑組合物。本發明優選的光致抗蝕劑可包括具有光酸不穩定基團的樹脂；光致產酸劑化合物；和多酰胺組分，其能減少光生酸不需要地擴散出光致抗蝕劑涂層的未曝光區域。
背景技術：
光致抗蝕劑是將圖像轉移到基底的光敏薄膜。它們形成負性或正性圖案。在基底上涂覆光致抗蝕劑之后，通過圖案光掩膜將涂層曝光于激活能量源，如紫外光，在光致抗蝕 劑涂層中形成潛像。光掩膜具有對于激活輻射不透明和透明區域從而限定轉移到下層基底的圖案。已知的光致抗蝕劑可提供對許多現有的商業應用足夠的分辨率和尺寸的功能部件(feature)。然而對于許多其它應用，需要能夠提供小于四分之一微米(< O. 25 μ m)尺寸的高分辨率圖案的新光致抗蝕劑。已經進行了各種嘗試改變光致抗蝕劑組合物的組成以改善功能特性效果。其中，許多堿性化合物已經被報道用于光致抗蝕劑組合物中。參見如美國專利No. 6，607，870和7，379，548，以及日本公開專利申請JP61219951。
發明內容
本發明提供了光致抗蝕劑組合物，其包括樹脂、光致產酸劑化合物(光致產酸劑或“PAG”)和包括以下式所示多酰胺(mult1-amide)組分的酸擴散控制劑
權利要求
1. 一種光致抗蝕劑組合物，所述組合物包括:(a)一種或多種樹脂；(b)一種或多種光致產酸劑化合物；和(C) 一種或多種下式所示的多酰胺化合物
2.根據權利要求1所述光致抗蝕劑組合物，其中所述一種或多種多酰胺化合物是非聚合的。
3.根據權利要求1所述光致抗蝕劑組合物，其中所述一種或多種多酰胺化合物是聚合的。
4.根據權利要求1所述光致抗蝕劑組合物，其中R1、R2>R3和R4獨立選自氫、(C1-Cltl) 烷基和酰胺取代(C1-Cltl)烷基。
5.根據權利要求1所述光致抗蝕劑組合物，其中L選自(C3-C12)亞烷基、((C1-C6)亞烷基-O) JC1-C6)亞烷基和6到8元雜環；其中η = 1-5。
6.根據權利要求5所述光致抗蝕劑組合物，其中L選自(C3-C12)亞烷基。
7.根據權利要求1所述光致抗蝕劑組合物，其中所述R1-R4的(C1-C3tl)烷基和酰胺取代 C1-C30烷基，和L的(C3-C12)亞烷基、((C「C6)亞烷基亞烷基和6到8元雜環被一個或多個選自羧基、羧基(C1-C3tl)烷基、(C1-C3tl)烷氧基、磺酰基、磺酸、磺酸酯、氰基、鹵素和酮中的取代基所取代。
8.根據權利要求1所述光致抗蝕劑組合物，其中所述一個或多個多酰胺化合物選自N， N，N'，N'-四丁基己二酰二胺；N，N' - 二丁基-N，N' -二甲基癸二酰胺；順-N，N，N'， N'-四丁基環己烷-1，4-二甲酰胺；和反-N，N，N'，N'-四丁基環己烷-1，4-二甲酰胺。
9.一種形成光致抗蝕劑浮雕圖案的方法，包括(a)將權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物涂層涂覆到基底上；(b)將光致抗蝕劑涂層曝光于圖案化激活輻射并將曝光后的光致抗蝕劑層顯影得到浮雕圖案。
10.根據權利要求9所述的方法，其中所述光致抗蝕劑涂層是浸沒曝光的。
全文摘要
包含多酰胺組分的光致抗蝕劑。提供了一種光致抗蝕劑組合物，所述組合物包括(a)一種或多種樹脂；(b)一種或多種光致產酸劑化合物；和(c)一種或多種下式所示的多酰胺化合物其中R1、R2、R3和R4獨立選自H、(C1-C30)烷基、和酰胺取代(C1-C30)烷基；R1和R2，或R1和R3或R3和R4可與連接其上的原子一起形成5到12元雜環；和L是在羰基之間提供3到8個原子間隔的連接基團；其中多酰胺化合物沒有羥基。
文檔編號G03F7/00GK102998904SQ20121047856
公開日2013年3月27日 申請日期2012年9月10日 優先權日2011年9月9日
發明者G·P·普羅科普維茨, G·珀勒斯, 劉聰, C·吳, C-B·徐, 吳俊錫 申請人:羅門哈斯電子材料有限公司