專利名稱：一種液晶顯示面板及其制造方法
技術領域：
本發明涉及一種液晶顯示面板及其制造方法，特別是一種用于TFT-IXD的曝光制程中的液晶顯示面板。
背景技術：
圖I和圖2是現有技術中液晶顯不面板的不意圖和首I]面圖，液晶顯不面板100包括透明石英玻璃10和金屬圖形21，金屬圖形21是由透明石英玻璃10表面上成膜、描寫、蝕刻等工藝形成的，其厚度為幾百到一千埃左右。在液晶顯示面板的制作和使用過程中，由于摩擦等原因，會使液晶顯示面板上的金屬圖形帶靜電，當電荷積累到一定程度時，靜電荷通常會由液晶顯示面板上相鄰的兩圖案的尖角之間，以點對點尖端放電的方式來達到釋放靜電的效果，這就會造成兩塊金屬圖形之間放電形成金屬圖形短路，破壞金屬圖形的完整性，如圖3中的212處即為靜電放電后的兩金屬圖形21短路的示意圖。特別是當金屬圖形間距小于20um時，更容易發生靜電放電問題。當金屬圖形破壞后，液晶顯示面板將不能使用。這將使液晶顯示面板的加工制作的合格率下降。現有技術避免靜電放電是通過增加金屬圖形之間間隔的方法來避免，或使用橋接，但在液晶顯示面板制作過程中的光罩上間隙等的限制(需要間距30um以上)，增加間距或橋接不能完全實現，所以采取其他方法進行改善靜電。
發明內容
發明目的針對上述現有技術存在的問題和不足，本發明的目的是提供一種液晶顯示面板及其制造方法，來避免因靜電積累而導致尖端放電破壞金屬圖形因此而損壞液晶顯示面板的使用。技術方案為了實現上述發明目的，本發明采用的第一技術方案為一種液晶顯示面板，包括一基座、一金屬圖形，所述金屬圖形位于基座表面，在所述基座的表面，涂布一層透明導電薄膜層。本發明的第二技術方案為一種液晶顯不包括一基座、一金屬圖形，所述金屬圖形位于基座表面，在所述金屬圖形的表面，涂布一層透明導電薄膜層。其中第一技術方案或第二技術方案中所述透明導電薄膜層的厚度為0. OlunTlum ；所述透明導電薄膜層的材料為ITO或IGZO ;金屬圖形層為鉻金屬形成；以及所述基座為透明的石英玻璃。本發明采用的第三技術方案為一種制造液晶顯示面板的方法，包括如下步驟(I)、提供一基座，在該基座上形成一層透明導電薄膜層；(2)、在上述透明導電薄膜層上形成金屬圖形。本發明采用的第四技術方案為一種制造液晶顯示面板的方法包括如下步驟(I)、提供一基座，在基座上形成金屬圖形；
(2)、在上述成金屬圖形的表面形成一層透明導電薄膜層。其中，在第三和第四方案中所述的透明導電薄膜層的形成方式為Sputter方式或Coater方式鍍上，以及所述基座為透明的石英玻璃。有益效果采用該技術方案后,液晶顯示面板在制作或使用中就不會有靜電效應的破壞的狀況，消除了液晶顯示面板報廢的風險，并能減小圖形之間的距離，有利于將像素精細化。圖I為現有技術液晶顯不面 板的不意圖；圖2為圖I中A-A’的剖面示意圖；圖3為現有技術中液晶顯不面板金屬圖形短路的不意圖；圖4為本發明第一實施方案的液晶顯示面板剖面圖示意圖；圖5為本發明第二實施方案的液晶顯示面板剖面圖示意圖；圖6為本發明在基座上形成透明導電薄膜層的示意圖；圖7為本發明形成金屬圖形的示意圖；圖8為本發明在基座上形成形成金屬圖形的不意圖；圖9為本發明形成透明導電薄膜層的示意圖；圖中100、液晶顯不面板，10、基座,20、金屬圖形層,21、金屬圖形,30、透明導電薄膜。
具體實施例方式下面結合附圖
和具體實施例，進一步闡明本發明，應理解這些實施例僅用于說明本發明而不用于限制本發明的范圍，在閱讀了本發明之后，本領域技術人員對本發明的各種等價形式的修改均落于本申請所附權利要求所限定的范圍。圖4是本發明第一實施方案式液晶顯示面板的剖面圖，由下至上依序包含一個基座10，基座10為透明石英玻璃，一透明導電薄膜層30、一金屬圖形層20。在基座10表面上鍍上一層厚度為0. Oflum的透明導電薄膜層30，該透明導電薄膜層的材料可以是ITO或IGZO0對比技術領域人員常用的透明高分子聚合物的材料，ITO或IGZO的導電性能更好，因透明高分子聚合物具有微導電性。在曝光中，ITO或IGZO的材料的比透明高分子聚合物更加耐高溫和容易清洗，故本發明采用ITO或IGZO的材料。金屬圖形層20是基于該透明導電薄膜30的表面覆上一層厚度為幾百埃到一千埃左右的鉻金屬而成，且形成金屬圖形。透明導電薄膜的透光性可使光源能夠順利通過該液晶顯示面板100從而完成曝光，透明導電薄膜的導電性可使液晶顯示面板100上的金屬圖形所帶的電荷就會在積累之前，通過透明導電薄膜30均勻分散在整個液晶顯示面板上，不會在各獨立圖形上積累，避免有靜電放電問題。圖6至圖7為第一實施方案液晶顯示面板的制造過程的具體描述I、如圖6所示,在基座透明石英玻璃10上,通過Sputter方式或Coater方式鍍上一層厚度為0. OlunTlum的透明導電薄膜30，導電薄膜也可以為透明的ITO或IGZO薄膜。2、如圖7所示，在上述透明導電薄膜上鍍上一層幾百到一千埃的金屬圖形，并涂布光阻，然后用描寫機進行圖案的描寫，最后進行刻蝕和洗凈，形成金屬圖形21。圖5是本發明的第二實施方案，將透明導電薄膜層鍍在金屬圖形層上。如圖5所不的液晶顯不面板剖面圖，金屬圖形層20位于液晶顯不面板100的表面,在金屬圖形層20的表面上鍍上一層厚度為0. Oflum的透明導電薄膜層30以達到分散靜電荷的效果。同樣也避免有靜電放電問題。又因導電薄膜是透明的，可使光源能夠順利通過該液晶顯示面板100而完成曝光。圖8至圖9為第二實施方案液晶顯示面板的制造過程的具體描述A、如圖8所示，在基座透明石英玻璃10上，鍍上一層幾百到一千埃的金屬圖形，并涂布光阻，然后用描寫機進行圖案的描寫，最后進行刻蝕和洗凈形成金屬圖形21。B、如圖9所示,在上述金屬圖形21上,通過Sputter方式或Coater方式鍍上一層厚度為0. OlunTlum的透明導電薄膜30，導電薄膜也可以為透明的TIO或IGZO薄膜。綜上所述，本發明通過上述方案來解決液晶顯示面板的靜電效應的問題，使之達 到解決問題的最佳效果。
權利要求
1.ー種液晶顯示面板，包括一基座、一金屬圖形，所述金屬圖形位于基座表面，其特征在于在所述基座的表面，涂布ー層透明導電薄膜層。
2.ー種液晶顯示面板，包括一基座、一金屬圖形，所述金屬圖形位于基座表面，其特征在于在所述金屬圖形的表面，涂布ー層透明導電薄膜層。
3.根據權利要求I或2所述的ー種液晶顯示面板，其特征在于所述透明導電薄膜層的厚度為0. 01um lum。
4.根據權利要求I或2所述的ー種液晶顯示面板，其特征在于所述透明導電薄膜層的材料為ITO或IGZ0。
5.根據權利要求I或2所述的ー種液晶顯示面板，其特征在于所述基座為透明的石英玻璃。
6.根據權利要求I或2所述的ー種液晶顯示面板，其特征在于所述金屬圖形由鉻金屬形成。
7.—種制造液晶顯示面板的方法，包括如下步驟 (1)、提供一基座，在該基座上形成ー層透明導電薄膜層； (2)、在上述透明導電薄膜層上形成金屬圖形。
8.—種制造液晶顯示面板的方法，包括如下步驟 (1)、提供一基座，在基座上形成金屬圖形； (2)、在上述成金屬圖形的表面形成ー層透明導電薄膜層。
9.根據權利要求7或8所述的ー種制造液晶顯示面板的方法，其特征在于所述透明導電薄膜層的形成方式為Sputter方式或Coater方式鍍上。
10.根據權利要求7或8所述的ー種制造液晶顯示面板的方法，其特征在于所述基座為透明的石英玻璃。
全文摘要
本發明公開了一種液晶顯示面板及其制造方法，包括一基座、一金屬圖形，該金屬圖形是由鉻金屬形成的，金屬圖形位于基座表面，在基座的表面涂布一層厚度0.01um~1um的透明導電薄膜層。透明導電薄膜層的材料為ITO或IZGO。也可將透明導電薄膜層涂布在金屬圖形的表面，避免液晶顯示面板在TFT-LCD曝光制程的使用中，產生靜電地效應破壞金屬圖形的狀況發生，進而保證液晶顯示面板金屬圖形的完整性。本發明還公開了一種液晶顯示面板的制造方法，避免液晶顯示面板在制作中因產生靜電地效應破壞致使液晶顯示面板的合格率太低。
文檔編號G02F1/13GK102789078SQ20121031260
公開日2012年11月21日 申請日期2012年8月30日 優先權日2012年8月30日
發明者蔣卡恩 申請人:南京中電熊貓液晶顯示科技有限公司