專利名稱：液晶面板的亮點修補方法以及經亮點修補后的液晶面板的制作方法
技術領域：
本發明涉及液晶顯示領域，更具體的說，涉及一種液晶面板的亮點修補方法以及經亮點修補后的液晶面板。
背景技術：
在液晶顯示裝置的像素(pixel)設計中，為了保證Main&CC (主和副)區的像素充電足夠，而設計雙TFT結構。如圖I所示，像素結構包括第一 TFT10、第二 TFT20以及分別與第一 TFT10、第二TFT20連接的第一像素電極50、第二像素電極60。但是在TFT IXD(液晶面板)制作過程中，包含有制程工藝以及轉運，這個過程中會產生許多particle (顆粒物),這些顆粒物一部分會被清洗機臺所清洗掉，而部分顆粒物會殘留于液晶面板上(Array side or CF side,陣列 基板或彩I旲基板)，這些殘留于液晶面板上的顆粒物，會造成液晶面板點売時廣生売點、売(暗)線、碎亮點以及弱亮(暗)線等，這些影響都不允許出現在液晶面板上的。因此我們會以YAG laser (釔鋁石榴石激光器)對LCD作修補，將顆粒物移除，或者將亮點修補成暗點。為保證液晶面板的品質以及人眼的感官，亮點是絕不可有的，因此需要將亮點修補成暗點，然而暗點顆數也有一定規范，暗點顆數太多也會降低液晶面板的等級甚至報廢。因此除了在液晶面板的生產過程中盡量降低機臺以及環境的顆粒物外，液晶面板的修補技術也比較關鍵。如圖2及圖3所示，當像素結構中的第一 TFT或第二 TFT被顆粒物污染而造成短接時，便會產生亮點，因此需要將亮點修補成暗點。圖中所示，在第一 TFT及第二 TFT上分別設置了第一修補線11以及第二修補線21，以打斷被污染的第一 TFT或第二 TFT分別與第一像素電極50以及第二像素電極60的連接，從而當掃描線40被啟動時，第一像素電極50以及第二像素電極60不能被充電，從而不能進行顯示，形成暗點。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種提高液晶面板品質的液晶面板的亮點修補方法以及經亮點修補后的液晶面板。本發明的目的是通過以下技術方案來實現的一種液晶面板的亮點修補方法，包括步驟A :在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修補線打斷數據線與第一像素電極或第二像素電極之間的連接，B:將與第一 TFT連接的第一像素電極以及與第二 TFT連接的第二像素電極進行橋接。優選的，所述步驟B中，將第一像素電極以及第二像素電極橋接是通過在第一 TFT與第二 TFT的漏極之間設置一 ITO進行橋接的。ITO是透明的導電物質，從而使用ITO進行橋接不會影響液晶面板的透光率。
優選的，所述步驟B中，在設置所述ITO之前，還包括在所述第一 TFT以及第二 TFT的漏極上打過孔的步驟，所述ITO的兩端分別設置在過孔位置處。通過過孔的加工，并使得ITO的兩端分別處于過孔的位置處，進而提高ITO與像素電極之間的連接可靠性。優選的，在所述第一 TFT以及第二 TFT的漏極上打過孔是通過激光進行的。通過激光加工過孔，工藝簡單精度高。優選的，所述步驟A中，打斷數據線與第一像素電極或第二像素電極之間的連接是通過在所述短接的第一 TFT的漏極與所述第一像素電極之間或在短接的第二 TFT的漏極與所述第二像素電極之間做修補線實現的。將短接的TFT與像素電極之間的連接設置修補線打斷，從而可以打斷數據線與像素電極之間的連接，也不會影響到其它線路。一種經亮點修補后的液晶面板，包括像素陣列，所述像素陣列由多個像素結構構成，所述每個像素結構包括第一 TFT、第二 TFT、與所述第一 TFT以及第二 TFT分別連接的第一像素電極以及第二像素電極，所述第一TFT以及第二TFT共用一條數據線；在形成亮點的像素結構內，在短接的第一 TFT或第二 TFT上設置有修補線，所述修補線將數據線與第一 像素電極或第二像素電極之間的連接打斷，所述第一像素電極與所述第二像素電極之間設置有橋接線路。優選的，所述橋接線路是設置在所述第一 TFT與第二 TFT的漏極之間的ΙΤ0。ITO是透明的導電物質，從而使用ITO進行橋接不會影響液晶面板的透光率。優選的，所述第一 TFT與第二 TFT的漏極上設置有過孔，所述ITO的兩端分別設置在所述過孔位置處。通過過孔的設置，并使得ITO的兩端分別處于過孔的位置處，進而提高ITO與TFT之間的連接可靠性。優選的，所述第一 TFT以及第二 TFT的漏極上的過孔是通過激光進行加工的。通過激光加工過孔，工藝簡單精度高。優選的，所述修補線設在所述短接的第一 TFT與所述第一像素之間或在短接的第二 TFT與所述第二像素電極之間。將短接的TFT與像素電極之間的連接設置修補線打斷，從而可以打斷數據線與像素電極之間的連接，也不會影響到其它線路。本發明由于在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修補線打斷數據線與像素電極之間的連接，并將與第一 TFT連接的第一像素電極以及與第二 TFT連接的第二像素電極進行橋 接，若第一 TFT沒有短接而第二 TFT受到顆粒物污染而短接，則當第一 TFT導通時，被打斷的第二 TFT不能對第二像素電極進行充電，而第一像素電極以及第二像素電極都是由第一TFT進行充電，從而使得像素顯示相應的灰階，避免了亮點的產生，也不需要再將像素修補成暗點，提高了液晶面板的顯示質量以及液晶面板的品質；相應的，若第一 TFT短接而第二TFT沒有短接，則情況也一樣。
圖I是液晶面板的像素結構的結構簡圖，圖2是液晶面板的亮點修復成暗點的示意圖，圖3也是液晶面板的亮點修復成暗點的示意圖，圖4是本發明實施例中液晶面板的一個像素結構的結構簡圖，圖5是本發明所述的亮點修復方法的流程圖。
其中6、顆粒物，10、第一 TFT，11、第一修補線，20、第二 TFT，21、第二修補線，30、數據線，40、掃描線，50、漏極(第一1 1')，60、漏極(第二1 1')，70、11'0，71、過孔。
具體實施例方式下面結合附圖和較佳的實施例對本發明作進一步說明。如圖5所示，本發明提供一種液晶面板的亮點修補方法，包括A :在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修補線打斷數據線與第一像素電極或第二像素電極之間的連接，B :將與第一 TFT連接的第一像素電極以及與第二 TFT連接的第二像素電極進行橋接。液晶面板包括陣列基板以及彩膜基板，其中，陣列基板上設置有多個像素結構，如圖4所示，根據本發明提供的亮點修補方法，對一具有亮點的液晶面板修補，產生亮點的像 素結構經修補后結構如圖中所示，包括第一 TFT10、第二 TFT20、與所述第一 TFlOT以及第二 TFT20分別連接的第一像素電極以及第二像素電極(圖中未示出)；所述第一 TFTlO以及第二 TFT20共用一條數據線30以及一條掃描線40。第二 TFT20由于在液晶面板的生產過程中，有顆粒物6殘留，因而造成第二 TFT20短接。為了避免產生亮點，需在短接的第二TFT20上做第二修補線21以打斷數據線30與第二像素電極之間的連接，從而避免亮點的產生。第一 TFTlO以及第二 TFT20之間，還設置有一 IT070將第一 TFTlO以及第二 TFT20橋接起來，具體的，IT070設置在第一 TFTlO的漏極50以及第二 TFT20的漏極60之間。由于第一 TFTlO的漏極50與第一像素電極連接，第二 TFT20的漏極60與第二像素電極連接，則第一 TFTlO的漏極50與第二 TFT20的漏極60之間的橋接，也就相當于第一像素電極與第二像素電極之間的橋接；當第一 TFTlO導通時，第一像素電極得到充電電壓Vl，而由于第一TFTlO與第二 TFT20有IT070進行橋接，因而第二像素電極也得到充電電壓VI，這樣，此時液晶面板在該像素位置顯示電壓Vl所對應的灰階。第一 TFTlO上的漏極50以及第二 TFT20上的漏極60上分別通過激光加工有過孔71，IT070的兩端分別設置在過孔71上，進而可提高IT070與兩個TFT之間的連接可靠性。IT070作為第一 TFTlO以及第二 TFT20之間的橋接線路，由于其具有透光性，從而不會影響液晶面板的透光率，當然，也可以選用其他導電材料作為第一 TFTlO及第二 TFT20之間的橋接線路。以下是本實施例中修補后的像素結構的具體修補方法，包括以下步驟A :在短接的第二 TFT20上做第二修補線21打斷數據線30與第二像素電極之間的連接，具體的第二修補線21位置可以設置在第二 TFT20的漏極60與第二像素電極之間；當然，也可以在數據線30與第二 TFT20之間做修補線。B :將與第一TFTlO連接的第一像素電極以及與第二TFT20連接的第二像素電極進行橋接。步驟B中，具體的還包括步驟BI :在所述第一 TFTlO的漏極50以及第二 TFT20的漏極60上使用激光打過孔71 ；在步驟B中，將與第一 TFTlO連接的第一像素電極以及與第二 TFT20連接的第二像素電極進行橋接是通過在第一 TFTlO上的漏極50與第二 TFT20的漏極60之間設置一IT070進行橋接的。IT070是透明的導電物質，從而使用IT070進行橋接不會影響液晶面板的透光率；同時，IT070的兩端分別設置在過孔71的位置處，過孔71使得IT070與TFT (第一 TFTlO的漏極50以及第二 TFT20的漏極60)之間的連接更為可靠。在本發明實施例中，由于顆粒物6殘留于第二 TFT20上，從而需要將第二 TFT20與第二像素電極之間的連接進行打斷，而避免亮點產生；當然，所顆粒物6殘留于第一 TFTlO上時，則需要在第一 TFTlO上做修補線打斷第一 TFT與第一像素電極之間的連接進行打斷，相應的，需要將第一 TFTlO以及第二 TFT20進行橋接，以使得第一像素電極以及第二像素電極均得到充電，從而可以避免暗點的產生。 以上內容是結合具體的優選實施方式對本發明所作的進一步詳細說明，不能認定本發明的具體實施只局限于這些說明。對于本發明所屬技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明構思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本發明的保護范圍。
權利要求
1.一種液晶面板的亮點修補方法，包括步驟 A :在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修補線打斷數據線與第一像素電極或第二像素電極之間的連接， B :將與第一 TFT連接的第一像素電極以及與第二 TFT連接的第二像素電極進行橋接。
2.如權利要求I所述的一種液晶面板的亮點修補方法，其特征在于，所述步驟B中，將第一像素電極以及第二像素電極橋接是通過在第一 TFT與第二 TFT的漏極之間設置一 ITO進行橋接的。
3.如權利要求2所述的一種液晶面板的亮點修補方法，其特征在于，所述步驟B中，在設置所述ITO之前，還包括在所述第一 TFT以及第二 TFT的漏極上打過孔的步驟，所述ITO的兩端分別設置在過孔位置處。
4.如權利要求3所述的一種液晶面板的亮點修補方法，其特征在于，在所述第一TFT以及第二 TFT的漏極上打過孔是通過激光進行的。
5.如權利要求I所述的一種液晶面板的亮點修補方法，其特征在于，所述步驟A中，打斷數據線與第一像素電極或第二像素電極之間的連接是通過在所述短接的第一 TFT與所述第一像素電極之間或在短接的第二 TFT與所述第二像素電極之間做修補線實現的。
6.一種經亮點修補后的液晶面板，包括陣列基板，所述陣列基板包括多個像素結構，所述每個像素結構包括第一 TFT、第二 TFT、與所述第一 TFT以及第二 TFT分別連接的第一像素電極以及第二像素電極；其特征在于，在形成亮點的像素結構內，在短接的第一 TFT或第二 TFT上設置有修補線，所述修補線將數據線與第一像素電極或第二像素電極之間的連接打斷，所述第一像素電極與所述第二像素電極之間設置有橋接線路。
7.如權利要求6所述的一種經亮點修補后的液晶面板，其特征在于，所述橋接線路是設置在所述第一 TFT與第二 TFT的漏極之間的IT0。
8.如權利要求7所述的一種經亮點修補后的液晶面板，其特征在于，所述第一TFT與第二 TFT的漏極上設置有過孔，所述ITO的兩端分別設置在所述過孔位置處。
9.如權利要求8所述的一種經亮點修補后的液晶面板，其特征在于，所述第一TFT以及第二 TFT的漏極上的過孔是通過激光進行加工的。
10.如權利要求8所述的一種經亮點修補后的液晶面板，其特征在于，所述修補線設在所述短接的第一 TFT與所述第一像素之間或在短接的第二 TFT與所述第二像素電極之間。
全文摘要
本發明公開一種提高液晶面板品質的液晶面板的亮點修補方法以及經亮點修補后的液晶面板；所述方法包括步驟A在短接的第一TFT或第二TFT上做修補線打斷數據線與第一像素電極或第二像素電極之間的連接，B將與第一TFT連接的第一像素電極以及與第二TFT連接的第二像素電極進行橋接。本發明由于在短接的第一TFT或第二TFT上做修補線打斷數據線與像素電極之間的連接，并將與第一TFT連接的第一像素電極以及與第二TFT連接的第二像素電極進行橋接，避免了亮點的產生，也不需要再將像素修補成暗點，提高了液晶面板的顯示質量以及液晶面板的品質。
文檔編號G02F1/1362GK102707467SQ20121020155
公開日2012年10月3日 申請日期2012年6月18日 優先權日2012年6月18日
發明者張驄瀧 申請人:深圳市華星光電技術有限公司