專利名稱：一種投影光刻機(jī)的硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)的機(jī)械領(lǐng)域，特別涉及一種投影光刻機(jī)的硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
投影光刻機(jī)的硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)所用螺紋副為一般螺紋副，精度相對較低，當(dāng)增加導(dǎo)軌和楔塊機(jī)構(gòu)以后，可以縮小傳動桿和調(diào)節(jié)螺栓之間的傳動比，從而可以提高硅片臺旋轉(zhuǎn)定位精度。以前投影光刻機(jī)的硅片臺擁有的對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)，校正硅片臺的角度誤差精度不夠高， 直接影響投影光刻機(jī)的套刻精度。所以這使高精度硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)顯得十分必要，且該機(jī)構(gòu)可以保證光刻機(jī)長期穩(wěn)定工作。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服因角度誤差對光刻機(jī)所能實現(xiàn)的套刻精度的不良影響，本發(fā)明的目的是提供使得現(xiàn)場高精度硅片臺微旋轉(zhuǎn)調(diào)整成為可能，提高光刻機(jī)的套刻精度，保證了投影光刻機(jī)長期穩(wěn)定可靠的工作。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為一種投影光刻機(jī)的硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)，投影光刻機(jī)中的硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)包括拉簧、硅片臺、止推軸承、基座、調(diào)節(jié)螺栓、螺紋副、 光孔、傳動桿、楔塊、導(dǎo)軌副、導(dǎo)軌；調(diào)節(jié)螺栓被固定在位于基座的螺紋副上，調(diào)節(jié)螺栓的前端為球型，楔塊位于導(dǎo)軌上并與調(diào)節(jié)螺栓前端接觸，楔塊與傳動桿接觸，傳動桿位于基座的光孔上，拉簧的左端套在硅片臺上，拉簧的右端掛在基座上，硅片臺始終與傳動桿保持接觸。優(yōu)選的，所述的調(diào)節(jié)螺栓傳動桿的前端均為球形，調(diào)節(jié)螺栓前端的球形始終保持與楔塊相接觸，楔塊的斜面與傳動桿斜面接觸，傳動桿前端的球形始終保持硅片臺相接觸。優(yōu)選的，所述的螺紋副為一般螺紋副，楔塊與傳動桿之間為斜面，楔塊與導(dǎo)軌之間為導(dǎo)軌副。本發(fā)明的優(yōu)點是，本發(fā)明能夠?qū)ν队肮饪虣C(jī)中的硅片臺進(jìn)行精確的角度調(diào)整，當(dāng)投影光刻機(jī)的硅片臺存在角度誤差時，本發(fā)明通過調(diào)整基座上的調(diào)節(jié)螺栓，使調(diào)節(jié)螺栓推動楔塊移動，楔塊推動傳動桿移動，傳動桿推動硅片臺做微旋轉(zhuǎn)運動，同時拉簧又使傳動桿頂在硅片臺上，從而硅片臺保持與傳動桿的接觸，消除硅片臺與傳動桿之間的間隙，增加預(yù)緊力，校正硅片臺的角度誤差，保證了投影光刻機(jī)長期穩(wěn)定可靠的工作，提高了光刻機(jī)的套刻精度；并且本發(fā)明具有機(jī)構(gòu)簡單、安裝調(diào)整方便、經(jīng)濟(jì)、安全、可靠等優(yōu)點。
圖1為本發(fā)明的系統(tǒng)原理圖；附圖標(biāo)記1拉簧、2硅片臺、3止推軸承、4基座、5調(diào)節(jié)螺栓、6螺紋副、7光孔、8傳動桿、9楔塊、10導(dǎo)軌副、11導(dǎo)軌。
具體實施例方式為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合具體實施例，并參照附圖，對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。如圖1所示，本發(fā)明由拉簧1、硅片臺2、止推軸承3、基座4、調(diào)節(jié)螺栓5、螺紋副6、 光孔7、傳動桿8、楔塊9、導(dǎo)軌副10、導(dǎo)軌11組成。此硅片臺2的對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)被安裝在止推軸承3上。調(diào)節(jié)螺栓5被固定在基座4的螺紋副6內(nèi)，調(diào)節(jié)螺栓5的前端為球形；拉簧1的左端套在硅片臺2上，拉簧1的右端掛在基座4上，調(diào)節(jié)螺栓5的前端頂在楔塊9上，楔塊9 與傳動桿8保持接觸，傳動桿8通過基座4上的光孔7頂在硅片臺2的手輪頂桿上。在光刻機(jī)曝光過程中，當(dāng)硅片臺2存在角度誤差時，可旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)螺栓5向前或向后位移，使硅片臺2做微旋轉(zhuǎn)移動，同時拉簧1使硅片臺2保持與傳動桿8的接觸。最終使得硅片臺2做不同角度的旋轉(zhuǎn)，克服了因硅片臺2的角度誤差產(chǎn)生對投影光刻機(jī)套刻的影響，提高了投影光刻機(jī)套刻的質(zhì)量。本發(fā)明中的硅片臺2與基座4之間為拉簧1，調(diào)節(jié)螺栓5的前端為球形，拉簧1可以保證硅片臺2的手輪頂桿始終與傳動桿8前端的球形的接觸，這樣調(diào)節(jié)螺栓5向前或向后位移都能推動傳動桿8移動，從而微調(diào)硅片臺2的轉(zhuǎn)角。螺紋副6將調(diào)節(jié)螺栓5的旋轉(zhuǎn)運動變?yōu)橄蚯盎蛳蚝蟮奈⑽灰?。所述的螺紋副6為
一般螺紋副。傳動桿8的前端為球形并始終與硅片臺2保持點接觸，保證硅片臺2與傳動桿8 之間沒有間隙，增加預(yù)緊力，提高了硅片臺2的轉(zhuǎn)角精度。本發(fā)明能夠?qū)ν队肮饪虣C(jī)中的硅片臺進(jìn)行高精度微旋轉(zhuǎn)調(diào)整，以達(dá)到校正硅片臺的轉(zhuǎn)角誤差要求，克服了因硅片臺旋轉(zhuǎn)誤差對投影光刻機(jī)套刻的影響，提高了套刻質(zhì)量。上述實施例僅為說明本發(fā)明的原理及其功效，而非用于限制本發(fā)明，熟知本領(lǐng)域的技術(shù)人員均可在不違背本發(fā)明的精神及范疇下，對上述實施例進(jìn)行修改或者等同替換， 其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求
1.一種投影光刻機(jī)的硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)，其特征在于包括拉簧(1)、硅片臺O)、止推軸承(3)、基座(4)、調(diào)節(jié)螺栓(5)、螺紋副(6)、光孔(7)、傳動桿(8)、楔塊(9)、導(dǎo)軌副(10)和導(dǎo)軌(11)；硅片臺(2)位于止推軸承(3)上，調(diào)節(jié)螺栓(5)被固定在基座(4)的螺紋副(6) 內(nèi)，拉簧⑴的左端套在硅片臺⑵的彈簧拉桿上，拉簧⑴的右端掛在基座⑷上，調(diào)節(jié)螺栓(5)的前端頂在楔塊(9)上，楔塊(9)通過導(dǎo)軌副(10)與導(dǎo)軌(11)連接，楔塊(9)的斜面保持與傳動桿(8)接觸，傳動桿(8)被固定在基座(4)的光孔(7)內(nèi)，傳動桿(7)的前端與硅片臺(2)保持接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影光刻機(jī)的硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的調(diào)節(jié)螺栓(5)傳動桿(8)的前端均為球形，調(diào)節(jié)螺栓( 前端的球形始終保持與楔塊(9)相接觸， 楔塊(9)的斜面與傳動桿(8)斜面接觸，傳動桿(8)前端的球形始終保持硅片臺( 相接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投影光刻機(jī)的硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的螺紋副(6)為一般螺紋副，楔塊(9)與傳動桿⑶之間為斜面，楔塊(9)與導(dǎo)軌(11)之間為導(dǎo)軌副(10)。
全文摘要
本發(fā)明是一種投影光刻機(jī)的硅片臺對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)，它包括拉簧、硅片臺、止推軸承、基座、調(diào)節(jié)螺栓、螺紋副、光孔、傳動桿、楔塊、導(dǎo)軌副、導(dǎo)軌；調(diào)節(jié)螺栓被固定在位于基座的螺紋副上，調(diào)節(jié)螺栓的前端為球型，楔塊位于導(dǎo)軌上并與調(diào)節(jié)螺栓前端接觸，楔塊與傳動桿接觸，傳動桿位于基座的光孔上，拉簧的左端套在硅片臺上，拉簧的右端掛在基座上，硅片臺始終與傳動桿保持接觸。本發(fā)明能夠?qū)ν队肮饪虣C(jī)中的硅片臺進(jìn)行精確的角度調(diào)整，以滿足光刻機(jī)的套刻精度要求。
文檔編號G03F7/20GK102566316SQ201210026710
公開日2012年7月11日 申請日期2012年2月7日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月7日
發(fā)明者徐文祥, 胡松, 胡淘, 邢薇 申請人:中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所