專利名稱：光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，由其形成的光化射線敏感或輻射敏感膜以及使用 ...的制作方法
技術領域：
本發明涉及光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，由該組合物形成的膜，以及使用該組合物形成圖案的方法。更具體地，本發明涉及在例如IC等半導體制造工藝、液晶電路板制造工藝、熱敏頭等或其他光加工光刻工藝中使用的組合物，并涉及由該組合物形成的膜以及使用該組合物形成圖案的方法。特別地，本發明涉及適合使用以波長為300nm或更短的遠紫外線作為光源的投影曝光裝置進行曝光的光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，并涉及由該組合物形成的膜以及使用該組合物形成圖案的方法。
背景技術：
迄今為止，在半導體制造工藝等中，傳統實踐是使用抗蝕劑組合物。這樣的組合物的一個實例是化學放大型抗蝕劑組合物。所述化學放大型抗蝕劑組合物通常包含當與酸作用時分解從而增加其在堿性顯影劑中的溶解度的樹脂，以及當曝光于光化射線或輻射時分解從而產生酸的化合物。為了應付例如半導體的微型化，對于這種樹脂和化合物已經進行了多種開發(參見例如專利參考文獻I和2)。然而，對于這種組合物，仍然有進一步改善的余地。特別地，在最近幾年，需要其能同時實現在更高尺寸具有優異的粗糙度特性和優異的圖案形狀。[現有技術文獻][專利參考文獻][專利參考文獻I]日本專利申請公開公告號(在下文中稱為JP-A-)2007_230913，和[專利參考文獻2] JP-A-2OO9-I22623。
發明內容
本發明的一個目的是提供一種具有優異粗糙度特性并且可以形成沒有膜細化(thinning)和拖尾(trailing)的良好圖案形狀的光化射線敏感或福射敏感樹脂組合物。本發明進一步的目的是提供一種由該組合物形成的光化射線敏感或輻射敏感膜，以及一種使用該組合物形成圖案的方法。例如，本發明被定義如下。[I] 一種光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，其包含(A)當與酸作用時分解從而增加其在堿性顯影劑中的溶解度的樹脂，
(B)鐵鹽,所述鐵鹽在其陽離子部分中含有氮原子,所述鐵鹽當曝光于光化射線或輻射時分解從而產生酸，和(C)當曝光于光化射線或輻射時產生酸的化合物，所述化合物為下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一種，
權利要求
1.一種光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，其包含 (A)當與酸作用時分解從而增加其在堿性顯影劑中的溶解度的樹脂， (B)鋝I鹽，所述鑛鹽在其陽離子部分中含有氮原子，所述锫1鹽當曝光于光化射線或輻射時分解從而產生酸，和 (C)當曝光于光化射線或輻射時產生酸的化合物，所述化合物為下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一種，
2.根據權利要求I所述的組合物，其中所述鐵鹽是锍鹽。
3.根據權利要求I所述的組合物，其中所述陽離子部分包含含有氮原子的堿性部分。
4.根據權利要求I所述的組合物，其中所述陽離子部分包含由下面通式(N-I)表示的部分結構，
5.根據權利要求I所述的組合物，其中所述鋒I鹽由下面通式(N-II)表示，
6.根據權利要求5所述的組合物，其中通式(N-II)中出現的4是4(1^)(Rb)，其中Ra和Rb中的每一個獨立地表示氫原子或有機基團，條件是&4、1 、義和Rb中的至少兩個可以彼此連接從而形成環。
7.根據權利要求5所述的組合物，其中在通式(N-II)中，R或多個R中的至少一個是芳環基，并且X或多個X中的至少一個是具有連接至由R表示的芳環基的碳原子的連接基團，并且其中由R1表示的有機基團是烷基、烯基、脂環基、芳族烴基或雜環烴基。
8.根據權利要求5所述的組合物，其中通式(N-II)中出現的X或多個X中的至少一個由下面通式(N-III)表示，
9.根據權利要求5所述的組合物，其中通式(N-II)中出現的X或多個X中的至少一個由下面通式(N-IV)表示，
10.根據權利要求I所述的組合物，所述組合物還包含至少含有氟原子或硅原子的樹脂作為與所述樹脂(A)不同的第二樹脂。
11.一種由根據權利要求I所述的組合物形成的光化射線敏感或輻射敏感膜。
12.—種形成圖案的方法，所述方法包括 將根據權利要求I所述的組合物形成膜， 將所述膜曝光，和 將所曝光的膜顯影。
13.根據權利要求12的方法，其中所述曝光通過浸潰液體進行。
14.一種用于制造半導體器件的方法，所述方法包括權利要求12所述的圖案形成方法。
15.一種通過權利要求14所述的方法制造的半導體器件。
全文摘要
本發明提供一種光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，其包含(A)當與酸作用時分解從而增加其在堿性顯影劑中的溶解度的樹脂，(B)鹽，所述鹽在其陽離子部分中含有氮原子，所述鹽當曝光于光化射線或輻射時分解從而產生酸，和(C)當曝光于光化射線或輻射時產生酸的化合物，所述化合物為下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一種。
文檔編號G03F7/039GK102870046SQ20118002181
公開日2013年1月9日 申請日期2011年12月22日 優先權日2010年12月24日
發明者山本慶, 藤田光宏, 松田知樹 申請人:富士膠片株式會社