專利名稱：曝光機光罩的制作方法
技術領域：
本實用新型有關于一種用于蝕刻電路制程的曝光機光罩，特別指一種可避免光罩交界處圖形曝光不佳的曝光機光罩。
背景技術：
一般在進行芯片加工時，為了能夠在芯片基底上設置出細小而復雜的電路結構，會以各種物理或化學的方式重復對芯片表面進行堆積或蝕刻。而用來控制堆積或蝕刻區域的最主要手段便是利用曝光顯影的方式，先在芯片表面設置具有微小電路圖案的光阻層，利用光阻層將無需進行加工的部分遮蔽住，接著便能夠精確的對所欲加工產生電路的區域進行堆積或是蝕刻。由此可知，曝光顯影時的精確度將會大幅的影響到芯片成品的良率。而為了解決因為芯片上的圖形線寬逐漸縮小所帶來的曝光誤差以及支撐問題，在 進行曝光顯影時會使用許多較小的影像片段分別進行曝光，并以各個小影像區段共同拼接組合成為完整的曝光影像，藉由上述方法讓各個影像片段都能夠完美的對焦。然而由于整體影像是由多個不同的影像片段所組合而成，因此在影像片段與影像片段交界處的圖形會產生圖形與圖形間的間隙不一，或是交界處圖形扭曲的接合問題。為了解決圖形接合的問題，在習用的技術中是由曝光機進行調整，借著逐漸調整曝光能量而使圖形與圖形交界處的線條能夠正確的結合。然而，由于各曝光機皆有其調整的極限值，因此在進行小圖形的曝光顯影時仍然不容易達成正確的圖形接合，使得圖形與圖形間的隔線異常明顯，且接合處的圖形也會變形。有鑒于上述曝光顯影的缺點，實有必要對曝光機進行改進。
發明內容本實用新型的主要目的在于提供一種使用于連續拼接曝光，并且可避免光罩交界處圖形曝光不佳的曝光機光罩。為達上述目的，本實用新型包含一基板，在上述基板表面設有透光區及遮光區，并由所述透光區形成一用以連續排列曝光的曝光影像片段；且其中，上述遮光區進一步環繞上述曝光影像片段的外周側而形成遮光框，而上述遮光框的邊緣造型設為無接縫連接的外型。于一較佳實施例中，上述遮光框設有上邊緣、下邊緣、左邊緣及右邊緣,其中，上邊緣與下邊緣設為相對應連接的造型，而左邊緣與右邊緣設為相對應連接的造型。于一較佳實施例中，上述遮光框設為矩形、平行四邊形、規則鋸齒形或魚鱗形的其中一種造型。本實用新型的特點在于包含一基板，在上述基板表面設有透光區及遮光區，并由所述透光區形成曝光顯影的圖樣；其中，上述遮光區進一步環繞透光區的外周側而形成遮光框，且遮光框的邊緣造型設計為無接縫連接的外型，進而使本實用新型的光罩可簡單的以連續排列的方式重復對晶圓進行曝光，而讓各個曝光影像片段在晶圓表面連接形成完整的線路影像。且利用環繞在曝光影像片段外圍的遮光框作用，避免習用光罩在曝光區域邊緣容易發生影像變形或無法對齊的現象。
圖I是本實用新型的俯視圖；圖2A是本實用新型一較佳實施例的俯視圖；圖2B是本實用新型又一較佳實施例的俯視圖；圖3是本實用新型另一較佳實施例的俯視圖；以及圖4是以本實用新型的光罩進行連續排列曝光的示意圖。主要組件符號說明·10基板20遮光區23下邊緣11透光區21遮光框24左邊緣12 曝光影像片段 22 上邊緣25 右邊緣
具體實施方式
為便于更進一步對本實用新型的構造、使用及其特征有更深一層明確、詳實的認識與了解，現舉出較佳實施例，配合圖式詳細說明如下現請參閱圖1，于本圖中所示為一種使用于連續拼接曝光的曝光機光罩，其包含一基板10，在所述基板10上設有透光區11以及遮光區20，并由所述透光區11形成一完整的曝光影像片段12，所述曝光影像片段12包含至少一個完整的線路圖形單元，且其中，上述遮光區20進一步環繞上述曝光影像片段12的外周緣而形成遮光框21。藉此避免傳統曝光顯影時所發生，線路圖形在曝光區域邊緣相接而造成變形或歪斜。且上述遮光框21的造型配合光罩上的曝光影像片段12的形狀設置，以減少所述遮光框21的框緣寬度。且遮光框21的外周緣設為無接縫連接的造型，使所述光罩可連續實行曝光顯影，以無接縫的方式連續對晶圓表面的光阻層進行曝光而形成布滿晶圓表面的完整線路圖案。而為了方便曝光機進行連續曝光顯影，所述遮光框21大致設為四邊形的造型，并具有上邊緣22，下邊緣23，左邊緣24及右邊緣25，其中，上邊緣22與下邊緣23設為相對應連接的造型，而左邊緣24與右邊緣25設為相對應連接的造型。則當使用曝光機要進行連續曝光顯影時，曝光機僅需沿著曝光機的步進方向移動便能夠對整個晶圓表面進行曝光。在本圖所示的較佳實施例中，在基板10上設有多數個以白色區塊表示的透光區11，各個透光區11以一定角度傾斜排列而形成一個用以連續排列曝光的曝光影像片段12。在所述曝光影像片段12中的各個透光區11之間以一定距離區隔，在透光區11與透光區11之間則設為以網點區塊表示的遮光區20。上述遮光區20向外延伸并由上述曝光影像片段12的外側包圍上述各個透光區11，進而在所述曝光影像片段12的邊緣處形成一遮光框21。且為了增加在晶圓表面所能投影的線路數量，上述遮光框21的邊緣造型配合上述透光區11的造型以及排列方式設置，以減少所述遮光框21的寬度。由于上述透光區11以一固定角度傾斜排列，因而形成近似于平行四邊形的造型。故上述遮光框21的邊緣造型亦配合而設為平行四邊形，除了方便上述曝光影像區段進行連續拼接之外，亦使遮光框21的寬度縮小到最適宜的寬度。然而上述遮光框21的外型設置僅為方便舉例說明之用，并非對遮光框21的外型加以限制。現請參閱圖2A及圖2B，于圖2A中所示的一較佳實施例中，上述透光區11以矩形方式排列，因此上述遮光區20的邊緣造型配合透光區11的排列方式而設為矩形。而在圖2B所示的又一較佳實施例中，上述透光區11以弧線狀重復排列，因此上述遮光區20的邊緣造型以配合透光區11排列的方式而設置為上、下邊緣22、23互相平行，而左、右邊緣24、25呈現弧曲的魚鱗形。藉以使各個曝光影像片段12能夠連續相接排列，進而形成布滿晶圓表面的完整線路圖案。并且藉由環繞在曝光影像片段12外圍的遮光框21作用，避免習用光罩在曝光區域邊緣容易發生影像變形或無法對齊的現象。再請參閱圖3，于本圖所示的另一較佳實施例中，上述各個透光區11設為彼此左右交錯的形式，因此上述遮光區20的左右兩側邊緣造形便配合透光區11的排列方式而設置為上、下邊緣22、23互相平行，而左、右邊緣24、25呈現折線狀的規則鋸齒形。 再請參閱圖4，如圖中所示，在使用本實用新型進行蝕刻作業的曝光顯影時，由于光罩上的遮光框21被設計成能夠互相無縫連接的連續造型，用戶可以簡單的將光罩以連續排列的方式重復對晶圓進行曝光，使各個曝光影像片段12在晶圓表面連接形成完整的線路影像。綜上所述，本實用新型包含一基板，在上述基板表面設有透光區及遮光區，并由所述透光區形成曝光顯影的圖樣；其中，上述遮光區進一步環繞透光區的外周側而形成遮光框，且遮光框的邊緣造型設計為無接縫連接的外型，進而使本實用新型的光罩可簡單的以連續排列的方式重復對晶圓進行曝光，而讓各個曝光影像片段在晶圓表面連接形成完整的線路影像。且利用環繞在曝光影像片段外圍的遮光框作用，避免習用光罩在曝光區域邊緣容易發生影像變形或無法對齊的現象。以上所舉實施例，僅用為方便說明本實用新型并非加以限制，在不離本實用新型精神范疇，熟悉此一行業技術人員依本實用新型申請專利范圍及創作說明所作的各種簡易變形與修飾，均仍應含括于本申請專利范圍中。
權利要求1.一種曝光機光罩，其特征在于包含一基板，在上述基板表面設有透光區及遮光區，并由所述透光區形成一用以連續排列曝光的曝光影像片段；且其中，上述遮光區進一步環繞上述曝光影像片段的外周側而形成遮光框，而上述遮光框的邊緣造型設為無接縫連接的外型。
2.根據權利要求I所述的曝光機光罩，其特征在于上述遮光框設有上邊緣、下邊緣、左邊緣及右邊緣，上邊緣與下邊緣設為相對應連接的造型，而左邊緣與右邊緣設為相對應連接的造型。
3.根據權利要求I所述的曝光機光罩，其特征在于上述遮光框設為矩形、平行四邊形、規則鋸齒形或魚鱗形的其中一種造型。
專利摘要一種曝光機光罩，包含基板，在基板表面設有透光區及遮光區，并由該透光區形成曝光顯影的圖樣；其中，上述遮光區進一步環繞透光區的外周側而形成遮光框，且遮光框的邊緣造型設計為無接縫連接的外型，進而使本實用新型的光罩可簡單的以連續排列的方式重復對晶圓進行曝光，而讓各個曝光影像片段在晶圓表面連接形成完整的線路影像。且利用環繞在曝光影像片段外圍的遮光框作用，避免習用光罩在曝光區域邊緣容易發生影像變形或無法對齊的現象。
文檔編號G03F1/64GK202563242SQ20112047549
公開日2012年11月28日 申請日期2011年11月25日 優先權日2011年11月25日
發明者何松濂 申請人:宏濂科技有限公司