專利名稱：改善吹風潔凈度的光刻機系統的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及半導體制造設備技術領域，具體來說，本實用新型涉及ー種改善吹風潔凈度的光亥lJ機系統。
背景技術：
在半導體代エ廠的潔凈室中，光刻機內部需要保持一定的潔凈度，它是通過空調系統的吹風來實現的。 圖I是現有技術中ー個光刻機系統的進風管路示意圖。如圖I所示，該光刻機系統100包括光刻機本體101、空調系統102以及風管103。其中，光刻機本體101位于潔凈室中，風管103分別與光刻機本體101和空調系統102相連接，引導空氣并將其吹送到光刻機本體101的內部組件(包括光刻鏡頭)表面。但是上述系統存在的ー個問題是隨著時間的推移，會在如光刻鏡頭表面產生結晶物的現象，這是由于吹風不純凈造成的。上述吹風中往往包含一些腐蝕性氣體和微小顆粒，該結晶物會腐蝕光刻鏡頭表面，使得穿透率惡化，進而影響光刻機的光照均勻性。
發明內容本實用新型所要解決的技術問題是提供ー種改善吹風潔凈度的光刻機系統，能夠浄化光刻機內部環境，保護鏡頭組件不受腐蝕性氣體的腐蝕和微小顆粒的污染。為解決上述技術問題，本實用新型提供ー種改善吹風潔凈度的光刻機系統，包括光刻機本體，位于潔凈室中；空調系統；風管，分別與所述光刻機本體和所述空調系統相連接，引導空氣并將其吹送到所述光刻機本體的內部組件表面；其特征在于，還包括過濾器，位于所述風管的路徑上，將所述空調系統送出的空氣過濾凈化。可選地，所述光刻機本體為步進式或步進掃描式光刻機。與現有技術相比，本實用新型具有以下優點本實用新型通過在光刻機系統的進風ロ處加裝過濾器，使其過濾掉腐蝕性的酸堿氣體和微小顆粒，浄化光刻機內部環境，保護光刻機鏡頭組件不受污染，改善了光照均勻性。
本實用新型的上述的以及其他的特征、性質和優勢將通過
以下結合附圖和實施例的描述而變得更加明顯，其中圖I是現有技術中ー個光刻機系統的進風管路示意圖；[0016]圖2是本實用新型一個實施例的改善吹風潔凈度的光刻機系統的進風管路示意圖。
具體實施方式
下面結合具體實施例和附圖對本實用新型作進ー步說明，在以下的描述中闡述了更多的細節以便于充分理解本實用新型，但是本實用新型顯然能夠以多種不同于此描述地其它方式來實施，本領域技術人員可以在不違背本實用新型內涵的情況下根據實際應用情況作類似推廣、演繹，因此不應以此具體實施例的內容限制本實用新型的保護范圍。圖2是本實用新型一個實施例的改善吹風潔凈度的光刻機系統的進風管路示意 圖。如圖2所不,本實施例中的改善吹風潔凈度的光刻機系統200包括但不限于光刻機本體201、空調系統202、風管203以及過濾器204。其中，光刻機本體201可以為步進式或步進掃描式光刻機，位于潔凈室中。風管203分別與光刻機本體201和空調系統202相連接，引導空氣并將其吹送到光刻機本體201的內部組件(包括重要的光刻鏡頭)表面。過濾器204位于風管203的路徑上，將空調系統202送出的空氣過濾凈化。本實用新型通過在光刻機系統的進風ロ處加裝過濾器，使其過濾掉腐蝕性的酸堿氣體和微小顆粒，浄化光刻機內部環境，保護光刻機鏡頭組件不受污染，改善了光照均勻性。本實用新型雖然以較佳實施例公開如上，但其并不是用來限定本實用新型，任何本領域技術人員在不脫離本實用新型的精神和范圍內，都可以做出可能的變動和修改。因此，凡是未脫離本實用新型技術方案的內容，依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何修改、等同變化及修飾，均落入本實用新型權利要求所界定的保護范圍之內。
權利要求1.ー種改善吹風潔凈度的光刻機系統，包括 光刻機本體，位于潔凈室中； 空調系統； 風管，分別與所述光刻機本體和所述空調系統相連接，引導空氣并將其吹送到所述光刻機本體的內部組件表面； 其特征在于，還包括過濾器，位于所述風管的路徑上，將所述空調系統送出的空氣過濾浄化。
2.根據權利要求I所述的光刻機系統，其特征在于，所述光刻機本體為步進式或步進掃描式光刻機。
專利摘要本實用新型提供一種改善吹風潔凈度的光刻機系統，包括光刻機本體，位于潔凈室中；空調系統；風管，分別與光刻機本體和空調系統相連接，引導空氣并將其吹送到光刻機本體的內部組件表面；還包括過濾器，位于風管的路徑上，將空調系統送出的空氣過濾凈化。本實用新型通過在光刻機系統的進風口處加裝過濾器，使其過濾掉腐蝕性的酸堿氣體和微小顆粒，凈化光刻機內部環境，保護光刻機鏡頭組件不受污染，改善了光照均勻性。
文檔編號G03F7/20GK202404352SQ20112047131
公開日2012年8月29日 申請日期2011年11月23日 優先權日2011年11月23日
發明者劉慶鋒, 王誠 申請人:上海先進半導體制造股份有限公司