專利名稱：液晶顯示裝置及其制造方法
技術領域：
本發明涉及一種液晶顯示(IXD)裝置，更特別地，涉及一種具有用于感測用戶觸摸的感測電極的LCD裝置。
背景技術：
由于諸如驅動電壓低、功耗低和便攜性的各種優點，液晶顯示(LCD)裝置廣泛應用在例如筆記本電腦、監視器、航天器和航空器等各種領域中。LCD裝置包括下基板、上基板以及設置在下基板和上基板之間的液晶層。根據是否施加有電場來控制液晶層的取向，從而在IXD裝置中控制光的透射率，由此在IXD裝置上顯示圖像。通常使用鼠標或鍵盤作為IXD裝置的輸入設備。然而，當IXD裝置應用于導航儀、 移動終端和電器時，近來使用觸摸屏代替鼠標或鍵盤作為新的輸入設備，其中觸摸屏使用戶能夠用手指或筆直接輸入信息。下文將詳細描述現有技術的具有觸摸屏的LCD裝置。圖1是示出現有技術的LCD 裝置的截面圖。如圖1所示，現有技術的IXD裝置包括液晶面板10和觸摸屏20。液晶面板10顯示圖像。此處，液晶面板10包括下基板12、上基板14以及形成在下基板12和上基板14之間的液晶層16。觸摸屏20形成在液晶面板10的上表面上，觸摸屏20設置為感測用戶觸摸。觸摸屏20包括觸摸基板22、形成在觸摸基板22的下表面上的第一感測電極M以及形成在觸摸基板22的上表面上的第二感測電極26。第一感測電極M在觸摸基板22的下表面上沿水平方向布置；而第二感測電極沈在觸摸基板22的上表面上沿垂直方向布置。由此，如果用戶觸摸預定部分，則第一感測電極M和第二感測電極沈之間的電容會在所觸摸的部分發生改變。這樣，通過電容的改變來感測用戶的觸摸點。然而，因為現有技術的IXD裝置形成為觸摸屏20附加地形成在液晶面板10的上表面上，由于觸摸屏20增加了整體厚度，從而使制造工藝復雜并增加了制造成本。
發明內容
因此，本發明旨在提供一種基本上消除了由于現有技術的限制和缺陷而導致的一個或多個問題的LCD裝置及其制造方法。本發明的一個目的是提供一種IXD裝置，在所述IXD裝置中用于感測用戶觸摸的感測電極被設置在液晶面板的內部。由此，不需要在液晶面板的上表面上的附加觸摸屏，從而減小了整體厚度，簡化了制造工藝并降低了制造成本。本發明的附加特點和優點的一部分將在描述中闡明，并且其中的一部分在描述中是顯而易見的，或可以通過對本發明的實施獲悉。本發明的目的和其它優點可以通過書面說明書、權利要求書以及附圖中具體指出的結構實現和獲得。為實現這些和其他優點，根據本發明的目的，如在此具體化和廣義描述的，提供一種液晶顯示裝置，所述液晶顯示裝置包括基板，包括有源區和虛擬區；柵極線和數據線， 彼此交叉地設置在所述基板上用以在所述有源區中限定多個像素區；像素電極，設置在所述多個像素區中的每一像素區中；公共電極，在所述有源區中被圖案化以限定多個公共電極圖案部分，各公共電極圖案部分和每一像素電極形成電場；第一感測線，設置在所述公共電極上并與所述公共電極電連接，以感測用戶觸摸；以及至少一個虛擬電極，設置在與所述公共電極圖案部分之一相鄰的虛擬區中。根據本發明的另一方面，提供了一種制造液晶顯示裝置的方法，所述方法包括以下步驟在基板上順序地沉積電極層、感測線層以及光致抗蝕劑層，所述基板包括有源區以及虛擬區；通過半色調掩模向所述光致抗蝕劑層照射光；通過將被光照射的光致抗蝕劑層顯影來形成第一光致抗蝕劑圖案；利用所述第一光致抗蝕劑圖案作為掩模蝕刻所述感測線層和所述電極層，以在具有多個公共電極圖案部分的有源區中形成公共電極圖案，以及在與所述公共電極圖案部分之一相鄰的虛擬區中形成至少一個虛擬電極；部分地去除所述第一光致抗蝕劑圖案，以形成第二光致抗蝕劑圖案；利用所述第二光致抗蝕劑圖案作為掩模蝕刻所述感測線層，以形成至少具有第一感測線的感測線圖案；以及去除所述第二光致抗蝕劑圖案。應該理解的是，前面的概括描述和下面的詳細描述都是示例性和解釋性的，意在對要求保護的本發明提供進一步說明。
所包括的附圖用來提供對本發明的進一步理解，其并入到本申請并構成本申請的一部分。附圖示出了本發明的多個實施方式，并與說明書一起用于解釋本發明的原理。在附圖中圖1是示出現有技術的IXD裝置的截面圖；圖2A是示出根據本發明一個示例性實施方式的LCD裝置的下基板的平面圖，圖2B 是沿圖2A的線A-A的截面圖，圖2C是沿圖2A的線B-B的截面圖；圖3A至圖3H是示出用于制造根據圖2A至圖2C的示例性實施方式的IXD裝置的下基板的方法的截面圖；圖4A至圖4C是示出由于在利用半色調掩模的曝光工藝中發生的過度曝光而以被圖案化為不期望的形狀的公共電極的截面圖；圖5A是示出根據本發明另一示例性實施方式的LCD裝置的下基板的平面圖，圖5B 是沿圖5A的線A-A的截面圖，圖5C是沿圖5A的線B-B的截面圖；圖6A至圖6H是示出用于制造圖5A至圖5C的IXD裝置的下基板的方法的截面圖； 以及圖7示出了本發明的液晶顯示裝置。
具體實施例方式
5
現在將詳細參考本發明的優選實施方式進行描述，其中的一些例子在附圖中示出。盡可能地在整個附圖中用相同的附圖標記指代相同或相似的部件。下文將參照附圖來描述根據本發明的LCD裝置。圖2A是示出根據本發明一個示例性實施方式的LCD裝置的下基板的平面圖，圖2B 是沿圖2A的線A-A的截面圖，圖2C是沿圖2A的線B-B的截面圖。如圖2A所示，根據本發明一個示例性實施方式的IXD裝置包括基板100、柵極線210、數據線230、公共電極300、感測線400以及像素電極500。基板100可由玻璃或透明塑料形成。柵極線210在基板100 上沿水平方向形成，而數據線230在基板100上沿垂直方向形成。多個像素區由彼此交叉的柵極線210和數據線230限定。形成有多個像素區的區域是顯示圖像的有源區，而在有源區周圍的是不顯示圖像的虛擬(dU_y)區。由此，基板100包括有源區以及在有源區外圍的虛擬區。柵極線210設置為直線形，而數據線230形成為彎曲形，但不限于此。例如， 數據線230可以設置為直線形。盡管未示出，形成薄膜晶體管作為用于每一像素區的開關裝置。所述薄膜晶體管包括柵極、半導體層以及源極/漏極。所述薄膜晶體管可按照柵極位于半導體層下方的底柵結構形成，或者可按照柵極位于半導體層上方的頂柵結構形成。公共電極300與像素電極500 —起形成電場以驅動液晶。另外，公共電極300用作感測用戶觸摸的感測電極。為了將公共電極300用作感測電極，多個公共電極300在有源區內以預定圖案設置，換言之，通過圖案化形成多個公共電極圖案部分，并且各公共電極圖案部分與每一像素電極形成電場。多個公共電極300的每一個可按照與一個或多個像素區對應的尺寸來形成。例如，如圖所示，每一公共電極300可按照與三個像素區對應的尺寸來形成。感測線400與多個公共電極300互相電連接。也就是說，分別形成的多個公共電極300與感測線400連接，感測電路元件與感測線400的一端連接，從而感測用戶觸摸。感測線400布置為與數據線230平行，也與柵極線210平行，從而感測在X軸和Y軸坐標中的觸摸部分。感測線400用于減小公共電極300的電阻，以及防止發生旋轉位移 (declination)，下文將詳細描述。通常，公共電極300由諸如氧化銦錫(ITO)的透明導電材料形成。透明導電材料的缺點是電阻大。鑒于此，由具有良好導電性的金屬材料形成的感測線400與公共電極300 連接，從而減小了公共電極300的電阻。如圖2A所示，如果數據線230形成為彎曲形，則在數據線230的彎曲部分會發生漏光，由此導致旋轉位移。因此，布置為與柵極線210平行的感測線400(可位于數據線上方)形成在可能發生旋轉位移的部分中，以防止旋轉位移。上述的感測線400防止了旋轉位移的發生。然而，也應當防止由感測線400造成的孔徑比降低。因此，與數據線230平行布置的感測線400優選地與數據線230重疊。如果需要，可額外設置與柵極線210重疊的感測線400，以在防止透射率降低的同時減小公共電極300的電阻。像素電極500形成在每一像素區中。特別地，像素電極500的形狀可與像素區的形狀對應。可在像素電極500中設置至少一個狹縫，用以實現邊緣場切換模式LCD裝置，這將參照圖5A來描述。下面將參照圖2B和圖2C的截面圖來詳細描述根據本發明的一個示例性實施方式的IXD裝置。如圖2B所示，柵極絕緣層220形成在基板100上，在柵極絕緣層220上圖案化數據線230，鈍化層240形成在數據線230上。在鈍化層240上圖案化公共電極300，在公共電極300上圖案化感測線400。層間絕緣層450形成在感測線400上，在層間絕緣層450上圖案化像素電極500。如圖2C所示，在基板100上圖案化柵極線210，柵極絕緣層220和鈍化層240順序地形成在柵極線210上。在鈍化層240上圖案化公共電極300，在公共電極300上圖案化感測線400。層間絕緣層450形成在感測線400上，在層間絕緣層450上圖案化像素電極 500。圖2B和圖2C示出的截面表示底柵結構的薄膜晶體管。如果形成頂柵結構的薄膜晶體管，可在柵極線210的下方附加地形成絕緣層，以將半導體層與柵極線210彼此絕緣。當制造IXD裝置的下基板時，可利用一個單獨的掩模分別對公共電極300和感測線400進行圖案化，或者可通過利用一個半色調掩模的一道掩模工藝同時制造公共電極 300和感測線400。為降低制造成本并實現簡化的制造工藝，使用半色調掩模。下文將參照附圖來描述用于制造LCD裝置的下基板的方法，其中公共電極300和感測線400通過利用一個半色調掩模的一道掩模工藝被圖案化。圖3A至圖3H是示出用于制造根據圖2A至圖2C的示例性實施方式的LCD裝置的下基板的方法的截面圖。如圖3A所示，首先在基板100上順序地形成柵極絕緣層220、數據線230以及鈍化層M0。盡管未示出，在形成柵極絕緣層220之前，在基板100上形成柵極線210。如圖;3B 所示，在鈍化層240上順序地形成電極層300a、感測線層400a以及光致抗蝕劑層600a。如圖3C所示，通過利用半色調掩模700向光致抗蝕劑層600a照射光。半色調掩模700包括不透射光的非透射區710 ；部分透射光的半透射區720 ；以及完全透射光的透射區730a和730b。如圖3D所示，通過將被光照射的光致抗蝕劑層600a顯影來形成光致抗蝕劑圖案 600。通過將光致抗蝕劑層600a顯影，與半色調掩模700的非透射區710對應的光致抗蝕劑層保持原樣，與半色調掩模700的半透射區720對應的光致抗蝕劑層被部分去除，與半色調掩模700的透射區730a和730b對應的光致抗蝕劑層被完全去除。如圖3E所示，在光致抗蝕劑圖案600用作掩模的情況下蝕刻電極層300a和感測線層400a。此處，通過蝕刻電極層300a來圖案化公共電極300。 如圖3F所示，灰化光致抗蝕劑圖案600，使得光致抗蝕劑圖案600在寬度和高度上被減小。如圖3G所示，在灰化后的光致抗蝕劑圖案600用作掩模的情況下，附加地蝕刻感測線層400a，然后去除光致抗蝕劑圖案600。這時，通過附加地蝕刻感測線層400a來圖案化感測線400。如圖3H所示，在感測線400上形成層間絕緣層450，在層間絕緣層450上形成像素電極500。通過使用一個半色調掩模，實現了利用一個掩模的工藝同時圖案化公共電極300 和感測線400，從而簡化了制造工藝并降低了制造成本。然而，當執行利用上述半色調掩模的曝光工藝時，由于在確定區域中的過度曝光，可能難以獲得期望的光致抗蝕劑圖案。相應地，下文將詳細解釋可能以不期望的形狀來圖案化確定區域的公共電極300。圖4A至圖4C是示出由于在利用半色調掩模的曝光工藝中發生的過度曝光而以不期望的形狀圖案化的公共電極的截面圖，圖4A至圖4C與以上圖3C至圖3E對應。因此，在整個附圖中用相同的附圖標記指代相同或相似的部件。如圖4A所示，通過利用半色調掩模700向光致抗蝕劑層600a照射光。半色調掩模700包括不透射光的非透射區710 ；部分透射光的半透射區720 ；以及完全透射光的透射區730a和730b。透射區730a和730b包括第一透射區730a和第二透射區730b。第一透射區730a 與有源區對應，而第二透射區730b與虛擬區對應。在透射區730a和730b中，光致抗蝕劑層、電極層300a以及感測線層400a被完全去除。結果，第一透射區730a與有源區內的公共電極300的多個圖案之間的區域對應，而第二透射區730b與公共電極300被完全去除了的虛擬區域對應。因此，第一透射區730a的寬度非常窄，而第二透射區730b的寬度非常寬。由于第二透射區730b的寬度寬，在曝光工藝中可能在與第二透射區730b接觸的半透射區720中發生過度曝光。由于光衍射出現過度曝光。如圖4B所示，假設過度曝光發生在半透射區720，當光致抗蝕劑層通過顯影工藝被圖案化時，與過度曝光的半透射區720對應的光致抗蝕劑層被部分去除(由虛線標出的區域)。因此，在與虛擬區接觸的最外部區域中的光致抗蝕劑圖案600的寬度(W2)小于其它光致抗蝕劑圖案600的寬度(Wl)。如果在上述形狀的光致抗蝕劑圖案600用作掩模的情況下蝕刻電極層300a和感測線層400a，則如圖4C所示，在與虛擬區接觸的最外部區域中的公共電極300的寬度(W2)小于其它公共電極300的寬度(Wl)。結果，在與虛擬區接觸的最外部區域中的公共電極300的圖案部分地丟失，這樣可導致其中的液晶被不均勻驅動。為克服與虛擬區接觸的最外部區域的公共電極300的圖案部分丟失的上述相關問題，下文將描述根據本發明另一實施方式的LCD裝置的下基板。圖5A是示出根據本發明另一示例性實施方式的LCD裝置的下基板的平面圖，圖5B 是沿圖5A的線A-A的截面圖，圖5C是沿圖5A的線B-B的截面圖。除虛擬電極附加地形成在虛擬區中之外，根據圖5A至圖5C的示例性實施方式的下基板基本上與根據圖2A至圖2C 的示例性實施方式的下基板相同。因此，在整個附圖中用相同的附圖標記指代相同或相似的部件，并將省略對于相同部件的具體說明。如圖5A所示，根據另一示例性實施方式的IXD裝置包括基板100、柵極線210、數據線230、公共電極300、虛擬電極350、感測線400以及像素電極500。多個像素區由彼此交叉的柵極線210和數據線230限定。在柵極線210和數據線230的交叉部分，薄膜晶體管形成為開關裝置，其中薄膜晶體管可按照底柵結構或頂柵結構形成。公共電極300可按照與一個或多個像素區對應的尺寸被圖案化。此外，各公共電極300以固定間隔設置。虛擬電極350形成在與有源區的外圍對應的虛擬區中。特別地，虛擬電極350與有源區的最外部公共電極300相鄰，使得虛擬電極350防止在最外部區域中的公共電極300的圖案部分地丟失。虛擬電極350通過一道半色調掩模工藝與公共電極300同時形成，以防止在最外部區域中的公共電極300的圖案部分地丟失。因此，虛擬電極350可與公共電極300設
8置在相同的層中，并可由與公共電極300的材料相同的材料形成。然而，虛擬電極350不起公共電極300的作用，即，不起驅動液晶的作用以及不起感測電極的作用。虛擬電極350可形成在虛擬區中，其中在半色調掩模中的透射區的寬度被減少了在虛擬電極350與最外部區域的公共電極300之間的間距。因此，在曝光工藝中，在與透射區接觸的半透射區中不會發生過度曝光，從而防止了最外部公共電極300的圖案部分地丟失。這通過參考用于制造IXD裝置的下基板的工藝將更容易理解。在虛擬電極350與最外部區域的公共電極300之間的間距(Li)被確定在一個范圍內，以防止最外部公共電極300的圖案部分地丟失。優選地，在虛擬電極350與相鄰的公共電極圖案部分之間沿第一方向的距離基本上與在相鄰的公共電極圖案部分之間沿第一方向的距離相同。更優選地，在虛擬電極350與最外部區域的公共電極300之間的間距 (Li)與在公共電極300的圖案之間的間距(L2)相同。此外，虛擬電極350的形狀不必與公共電極300的形狀相同。然而，虛擬電極350 的與公共電極300相鄰的一側350a可設置為與相鄰公共電極300的鄰近側平行。例如，當虛擬電極350設置在最外部區域中的公共電極300的左側時，與公共電極300相鄰的右側 350a被彎曲為與公共電極300平行。然而，不與公共電極300相鄰的左側350b可以形成為諸如直線形而不是彎曲形的各種形狀。例如，虛擬電極350可設置在四個虛擬區的至少一個中。這四個虛擬區即為相對于有源區的左虛擬區、右虛擬區、上虛擬區和下虛擬區。在附圖中，虛擬電極350設置在左虛擬區和上虛擬區中，但不限于此。為了將多個公共電極300彼此電連接，在公共電極300上形成感測線400。此外， 不但在公共電極300上也在虛擬電極350上形成感測線400。感測線400可分別布置為與數據線230平行，以及布置為與柵極線210平行，從而感測在X軸和Y軸坐標中的觸摸部分。與柵極線210平行布置的感測線400可形成在旋轉位移易發生區，與數據線230 平行布置的感測線400可與數據線230重疊。 像素電極500形成在有源區的每個像素中。像素電極500不形成在虛擬區，使得在虛擬電極350和像素電極500之間不驅動液晶。像素電極500按照與像素區對應的形狀形成。可在像素電極500中設置至少一個狹縫510。如果像素電極500包括其中的狹縫510， 則在像素電極500和公共電極300之間且在狹縫510上方形成邊緣場。由此，液晶通過邊緣場被驅動，也即利用了邊緣場效應，從而實現了邊緣場切換模式LCD裝置。下文將參照圖5B和圖5C的截面圖來進一步描述圖5A的IXD裝置。如圖5B所示，柵極絕緣層220形成在基板100上，在柵極絕緣層220上圖案化數據線230，并且鈍化層240形成在數據線230上。在鈍化層240上圖案化公共電極300和虛擬電極350。公共電極300形成在有源區中，而虛擬電極350形成在虛擬區中。在公共電極 300上圖案化感測線400 ；層間絕緣層450形成在感測線400上；在層間絕緣層450上圖案化像素電極500。因為像素電極500只形成在有源區中，所以像素電極500不形成在虛擬電極350的上方，而是形成在公共電極300的上方。如圖5C所示，在基板100上圖案化柵極線210，并且柵極絕緣層220和鈍化層MO 順序地形成在柵極線210上。在鈍化層240上圖案化公共電極300和虛擬電極350，在公共電極300上圖案化感測線400。層間絕緣層450形成在感測線400上，在層間絕緣層450 上圖案化像素電極500。
圖5B和圖5C示出的截面表示底柵結構的薄膜晶體管。如果形成頂柵結構的薄膜晶體管，可在柵極線210的下方附加地形成絕緣層，用以將半導體層與柵極線210彼此絕緣。下文將參照附圖來描述用于制造根據圖5A至圖5C的IXD裝置的下基板的方法。 圖6A至圖6H是示出用于制造與沿圖5A的線A-A的截面對應的LCD裝置的下基板的方法的截面圖。如圖6A所示，首先，在基板100上順序地形成柵極絕緣層220、數據線230以及鈍化層M0。盡管未示出，在形成柵極絕緣層220之前，在基板100上形成柵極線210。如圖 6B所示，在鈍化層240上順序地形成電極層300a、感測線層400a以及光致抗蝕劑層600a。如圖6C所示，通過利用半色調掩模700向光致抗蝕劑層600a照射光。半色調掩模700包括不透射光的非透射區710 ；部分透射光的半透射區720 ；以及完全透射光的透射區730a、730b和720c。此處，透射區730a、730b和720c包括與有源區對應的第一透射區730a、與有源區和虛擬區之間的界面對應的第二透射區730b、以及與虛擬區對應的第三透射區730c。第二透射區730b的寬度與第一透射區730a的寬度相同。因為第二透射區 730b的寬度不是很寬，因此在將要說明的曝光工藝中，在與第二透射區730b接觸的半透射區720中不會發生過度曝光。因此可防止最外部公共電極的圖案的丟失。可以形成具有相對較寬的寬度的第三透射區730c。也就是說，即使由于第三透射區730c的寬度寬而在隨后的曝光工藝中在與第三透射區730c接觸的半透射區720中發生過度曝光，與第三透射區730c接觸的半透射區720最后也會與虛擬區對應。因此，虛擬電極的部分圖案丟失與液晶驅動無關。如圖6D所示，通過將被光照射的光致抗蝕劑層600a顯影來形成光致抗蝕劑圖案 600。通過將光致抗蝕劑層600a顯影，與半色調掩模700的非透射區710對應的光致抗蝕劑層保持原樣，與半色調掩模700的半透射區720對應的光致抗蝕劑層被部分去除，與半色調掩模700的透射區730a、730b和720c對應的光致抗蝕劑層被完全去除。由于在上述工藝中，在與第二透射區730b接觸的半透射區720中不會發生過度曝光，所以有源區的光致抗蝕劑圖案600通過顯影工藝按照期望的形狀形成。如圖6E所示，在光致抗蝕劑圖案600用作掩模的情況下蝕刻電極層300a和感測線層400a。此處，通過蝕刻電極層300a，在有源區中圖案化公共電極300，并且在虛擬區中圖案化虛擬電極350。此處，按照期望的形狀形成有源區的光致抗蝕劑圖案600，使得公共電極300通過蝕刻工藝按照期望的圖案形成。如圖6F所示，灰化光致抗蝕劑圖案600，使得光致抗蝕劑圖案600在寬度和高度上被減小。如圖6G所示，在灰化后的光致抗蝕劑圖案600用作掩模的情況下，附加地蝕刻感測線層400a，然后去除光致抗蝕劑圖案600。此處，通過附加地蝕刻感測線層400a，在公共電極300上圖案化感測線400。盡管此處未示出，可在虛擬電極350上圖案化感測線400(參見圖5A)。如圖6H所示，在感測線400上形成層間絕緣層450，在層間絕緣層450上形成像素電極500。在以上對根據本發明的LCD裝置的描述中說明了下基板。圖7示出根據本發明的
10完整的液晶顯示裝置。在完整的液晶顯示裝置中，下基板100與上基板800接合，在兩基板之間有液晶層900。上基板800可包括諸如黑矩陣層的遮光層810，用以防止在除像素區之外的其它區域中漏光；分別形成在每個遮光層之間的紅(R)、綠(G)和藍(B)濾色器層 820 ；以及形成在濾色器層上的涂敷層。以上描述示出了用于制造根據本發明的IXD裝置的下基板的示例性工藝。可通過利用上述工藝形成下基板，通過順序地形成遮光層、濾色器層以及涂敷層來形成上基板，以及在下基板和上基板之間形成液晶層，由此制造本發明的LCD裝置。可通過所屬領域技術人員熟知的液晶注入法或液晶分配法來執行用于在下基板和上基板之間形成液晶層的工藝。因此，公共電極用于形成電場以驅動液晶，并且公共電極進一步用作用于感測用戶觸摸的感測電極。與現有技術不同，根據本發明的LCD裝置不需要在液晶面板上的附加的觸摸屏，使得LCD裝置更薄并且可低成本地利用簡化工藝來制造。此外，在與有源區的外圍對應的虛擬區中附加形成虛擬電極，使得當通過利用半色調掩模來圖案化公共電極和感測線時，可以防止在有源區中的最外部公共電極的圖案的丟失。在不脫離本發明精神或范圍的情況下，對本發明作出各種修改和變型對所屬領域的技術人員來說是顯而易見的。因此，本發明旨在涵蓋落入所附權利要求書及其等同物的范圍內的對本發明的各種修改和變型。
權利要求
1.一種液晶顯示裝置，包括 基板，包括有源區和虛擬區；柵極線和數據線，彼此交叉地設置在所述基板上用以在所述有源區中限定多個像素區；像素電極，設置在所述多個像素區中的每一像素區中；公共電極，在所述有源區中被圖案化以限定多個公共電極圖案部分，各公共電極圖案部分和每一像素電極形成電場；第一感測線，設置在所述公共電極上并與所述公共電極電連接，以感測用戶觸摸；以及至少一個虛擬電極，設置在與所述公共電極圖案部分之一相鄰的虛擬區中。
2.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其中所述虛擬電極與所述公共電極由相同的材料形成。
3.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其中所述虛擬電極與所述公共電極形成在相同的層中。
4.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其中在所述虛擬電極和相鄰的公共電極圖案部分之間的沿第一方向的距離基本上與在相鄰的公共電極圖案部分之間的沿第一方向的距離相同。
5.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其中利用了邊緣場效應。
6.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其中所述公共電極圖案部分均具有彎曲形狀。
7.根據權利要求6所述的液晶顯示裝置，其中所述第一感測線設置在所述公共電極圖案部分的彎曲部分以防止旋轉位移。
8.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其中所述虛擬電極的朝向相鄰的公共電極圖案部分的一側與所述相鄰的公共電極圖案部分的鄰近側平行。
9.根據權利要求8所述的液晶顯示裝置，其中所述虛擬電極的遠離所述相鄰的公共電極圖案部分的一側的形狀與所述虛擬電極的朝向所述相鄰的公共電極圖案部分的一側的形狀不同。
10.根據權利要求8所述的液晶顯示裝置，其中所述第一感測線進一步設置在所述虛擬電極上。
11.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，還包括第二感測線，所述第二感測線設置在所述數據線的上方并與所述第一感測線交叉，所述第一感測線和所述第二感測線用于感測觸摸位置。
12.一種制造液晶顯示裝置的方法，包括如下步驟在基板上順序地沉積電極層、感測線層以及光致抗蝕劑層，所述基板包括有源區以及虛擬區；通過半色調掩模向所述光致抗蝕劑層照射光； 通過將被光照射的光致抗蝕劑層顯影來形成第一光致抗蝕劑圖案； 利用所述第一光致抗蝕劑圖案作為掩模蝕刻所述感測線層和所述電極層，以在具有多個公共電極圖案部分的有源區中形成公共電極圖案，以及在與所述公共電極圖案部分之一相鄰的虛擬區中形成至少一個虛擬電極；部分地去除所述第一光致抗蝕劑圖案，以形成第二光致抗蝕劑圖案； 利用所述第二光致抗蝕劑圖案作為掩模蝕刻所述感測線層，以形成至少具有第一感測線的感測線圖案；以及去除所述第二光致抗蝕劑圖案。
13.根據權利要求12所述的方法，其中所述半色調掩模包括不透射光的非透射區、部分透射光的半透射區、以及完全透射光的透射區，其中所述透射區包括與所述有源區對應的第一透射區以及與所述有源區和所述虛擬區之間的界面對應的第二透射區，以及其中所述第一透射區的寬度基本上與所述第二透射區的寬度相同。
14.根據權利要求12所述的方法，其中在所述虛擬電極和相鄰的公共電極圖案部分之間的沿第一方向的距離基本上與在相鄰的公共電極圖案部分之間的沿第一方向的距離相同。
15.根據權利要求12所述的方法，其中所述公共電極圖案部分均具有彎曲形狀。
16.根據權利要求15所述的方法，其中所述第一感測線設置在所述公共電極圖案部分的彎曲部分以防止旋轉位移。
17.根據權利要求12所述的方法，其中所述虛擬電極的朝向相鄰的公共電極圖案部分的一側與所述相鄰的公共電極圖案部分的鄰近側平行。
18.根據權利要求17所述的方法，其中所述虛擬電極的遠離所述相鄰的公共電極圖案部分的一側的形狀與所述虛擬電極的朝向所述相鄰的公共電極圖案部分的一側的形狀不同。
19.根據權利要求17所述的方法，其中所述第一感測線進一步設置在所述虛擬電極上。
20.根據權利要求12所述的方法，還包括形成柵極線和數據線，所述柵極線和數據線彼此交叉地設置在所述基板上用以在所述有源區中限定多個像素區，以及其中所述感測線圖案還包括第二感測線，所述第二感測線設置在所述數據線的上方并與所述第一感測線交叉，所述第一感測線和所述第二感測線用于感測觸摸位置。
全文摘要
公開了一種液晶顯示裝置及其制造方法。所述液晶顯示裝置包括基板，包括有源區和虛擬區；柵極線和數據線，彼此交叉地設置在所述基板上用以在所述有源區中限定多個像素區；像素電極，設置在所述多個像素區中的每一像素區中；公共電極，在所述有源區中被圖案化以限定多個公共電極圖案部分，各公共電極圖案部分和每一像素電極形成電場；第一感測線，設置在所述公共電極上并與所述公共電極電連接，以感測用戶觸摸；以及至少一個虛擬電極，設置在與所述公共電極圖案部分之一相鄰的虛擬區中。
文檔編號G02F1/1343GK102478737SQ20111028715
公開日2012年5月30日 申請日期2011年9月15日 優先權日2010年11月22日
發明者吳錦美, 李漢錫, 申熙善 申請人:樂金顯示有限公司