專利名稱：彩色濾光片及其制造方法
技術領域：
本發明涉及液晶顯示領域，特別是指一種彩色濾光片及其制造方法。
背景技術：
液晶顯示器件(Liquid Crvstal Display,LCD)為非主動發光的器件,而彩色濾光片就是使液晶顯示器件實現彩色的關鍵部件。現有彩膜基板包括襯底基板，在襯底基板上設有黑矩陣，在黑矩陣的間隔中設有彩膜圖形，通常情況下彩膜圖形可以包括分別對應于紅綠藍三基色中一種的第一彩膜圖形、第二彩膜圖形、第三彩膜圖形，或者還可以包括白色、黃色等其他顏色的彩膜圖形。在黑
矩陣和彩膜圖形之上還可以形成平坦化層，在平坦化層之上還可以布設公共電極和形成隔墊物。現有彩膜基板的制造工藝中，黑矩陣和各彩膜圖形的制造過程大體相同，均是利用掩模來進行構圖工藝實現的，具體是將相應顏色的樹脂涂覆或沉積在襯底基板上，利用掩模板對其進行曝光，而后顯影得到設定圖案的黑矩陣或彩膜圖形。現有的彩膜基板的制造工藝過程是分別制造黑矩陣和各種顏色的彩膜圖形，存在工序較多，生產效率較低等缺陷。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種彩色濾光片及其制造方法，能夠簡化彩膜基板的制造工序，提聞生廣效率。為解決上述技術問題，本發明的實施例提供技術方案如下一方面，提供一種彩色濾光片的制造方法，包括涂覆或沉積第一彩色膜層；在所述第一彩色膜層之上涂覆或沉積一黑矩陣材料層；對所述第一彩色膜層和所述黑矩陣材料層進行一次曝光顯影，形成第一區域和第二區域，所述第一區域的黑矩陣材料層被去除而第一彩色膜層被保留形成第一彩膜圖形，所述第二區域的黑矩陣材料層與第一彩色膜層均被保留形成黑矩陣。進一步地，所述對所述第一彩色膜層和所述黑矩陣材料層進行一次曝光顯影后還形成有一第三區域，所述第三區域的黑矩陣材料層與第一彩色膜層均被去除。進一步地，所述涂覆或沉積第一彩色膜層之前還包括在襯底基板上涂覆或沉積第二彩色膜層；對所述第二彩色膜層進行曝光顯影，被保留的第二彩色膜層形成第二彩膜圖形，其中所述第二彩膜圖形位于所述第三區域上。進一步地，所述對所述第一彩色膜層和所述黑矩陣材料層進行一次曝光顯影之后還包括在所述第一區域、第二區域和第三區域上涂覆或沉積第三彩色膜層；
對所述第三彩色膜層進行曝光顯影，被保留的第三彩色膜層形成第三彩膜圖形，其中所述第三彩膜圖形位于所述第三區域上。其中，所述涂覆或沉積第一彩色膜層具體為在形成有所述第二彩膜圖形的襯底基板上涂覆或沉積第一彩色膜層。本發明實施例還提供了一種以上述方法制造的彩色濾光片，包括一襯底基板；位于所述襯底基板上的第一彩色膜層和位于所述第一彩色膜層之上的黑矩陣，所述第一彩色膜層未被所述黑矩陣覆蓋的區域形成第一彩膜圖形。其中，所述彩色濾光片還包括 位于所述襯底基板上的第二彩膜圖形，所述第二彩膜圖形為形成在所述第一彩膜圖形和所述黑矩陣之前的彩膜圖形。其中，所述彩色濾光片還包括位于所述襯底基板上的第三彩膜圖形，所述第三彩膜圖形為形成在所述第一彩膜圖形和所述黑矩陣之后的彩膜圖形。本發明的實施例具有以下有益效果上述方案中，通過一次曝光顯影同時形成第一彩膜圖形和黑矩陣，采用黑矩陣與彩膜圖形一起形成的技術方法，減少了彩膜基板的制造工序，提高了生產效率，進而降低了產品的成本。
圖I為現有技術中彩膜基板的制造方法的流程示意圖；圖2為本發明實施例的彩色濾光片的制造方法的流程示意圖；圖3為本發明第一實施例中黑矩陣與第一彩膜圖形同時形成的制造方法示意圖；圖4為本發明第一實施例中全部三種彩膜圖形都形成后的示意圖。
具體實施例方式為使本發明的實施例要解決的技術問題、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖及具體實施例進行詳細描述。本發明的實施例針對現有技術中彩膜基板的制造工藝工序較多，生產效率較低的問題，提供一種彩色濾光片及其制造方法，能夠簡化彩膜基板的制造工序，提高生產效率。圖I為現有技術中彩膜基板的制造方法的流程示意圖，如圖I所示，現有技術中中彩膜基板的制造方法包括以下步驟步驟101 :在襯底基板上涂覆或沉積黑矩陣層，采用構圖工藝形成黑矩陣的圖案；步驟102 :在經過步驟101后的襯底基板上采用構圖工藝依次形成其他n種彩膜圖形，n為自然數；步驟103 :在經過步驟102后的襯底基板上涂覆平坦化層，并沉積透明導電膜層作 為公共電極。可以看出，現有技術彩膜基板的制造方法是分別制造黑矩陣和各種顏色的彩膜圖形，存在工序較多，生產效率較低等缺陷。
圖2為本發明實施例的彩色濾光片的制造方法的流程示意圖，如圖2所示，本實施例包括步驟201 :涂覆或沉積第一彩色膜層；步驟202 :在第一彩色膜層之上涂覆或沉積一黑矩陣材料層；步驟203 :對第一彩色膜層和黑矩陣材料層進行一次曝光顯影，形成第一區域和第二區域，第一區域的黑矩陣材料層被去除而第一彩色膜層被保留形成第一彩膜圖形，第二區域的黑矩陣材料層與第一彩色膜層均被保留形成黑矩陣。對第一彩色膜層和黑矩陣材料層進行一次曝光顯影后還形成有一第三區域，第三區域的黑矩陣材料層與第一彩色膜層均被去除。其中，涂覆或沉積第一彩色膜層之前還可以包括 在襯底基板上涂覆或沉積第二彩色膜層；對第二彩色膜層進行曝光顯影，被保留的第二彩色膜層形成第二彩膜圖形，其中第二彩膜圖形位于第三區域上。進一步地，涂覆或沉積第一彩色膜層具體為在形成有第二彩膜圖形的襯底基板上涂覆或沉積第一彩色膜層。進一步地，對第一彩色膜層和黑矩陣材料層進行一次曝光顯影之后還包括在第一區域、第二區域和第三區域上涂覆或沉積第三彩色膜層；對第三彩色膜層進行曝光顯影，被保留的第三彩色膜層形成第三彩膜圖形，其中第三彩膜圖形位于第三區域上。在形成所有彩膜圖形之后，在形成有所有彩膜圖形和黑矩陣的襯底基板上涂覆平坦化層，接著沉積透明導電層作為公共電極。本發明實施例通過一次曝光顯影同時形成第一彩膜圖形和黑矩陣，采用黑矩陣與彩膜圖形一起形成的技術方法，減少了彩膜基板的制造工序，提高了生產效率，進而降低了產品的成本。下面結合具體的實施例對本發明的彩色濾光片的制造方法進行具體介紹。第一實施例本實施例中，具體以彩色濾光片的襯底基板上形成三種彩膜圖形，即第一彩膜圖形、第二彩膜圖形和第三彩膜圖形，且黑矩陣與第一彩膜圖形同時形成為例進行說明，具體步驟如下步驟11 :同時形成第一彩膜圖形和黑矩陣；圖3為黑矩陣與第一彩膜圖形同時形成的制造方法示意圖，如圖3(a)所示，在襯底基板300上涂覆或沉積第一彩色膜層301 ;在第一彩色膜層301上涂覆或沉積黑矩陣材料層302 ；如圖3(b)所示，用具有灰色調或部分透過功能的掩模板304進行曝光，在第一彩色膜層301上形成完全去除區域、部分保留區域和完全保留區域，其中，部分保留區域為第一區域，完全保留區域為第二區域，完全去除區域為第三區域；如圖3(c)所示，接著進行顯影操作，完全去除區域309的黑矩陣材料層和第一彩色膜層被完全去除，部分保留區域的黑矩陣材料層被去除而第一彩色膜層被保留從而形成第一彩膜圖形306，完全保留區域黑矩陣材料層與第一彩色膜層均予以保留從而形成黑矩陣 305 ；步驟12 :在已形成第一彩膜圖形和黑矩陣的襯底基板上涂覆或沉積第二彩色膜層；用掩模板進行曝光，在上述基板上形成完全去除區域和完全保留區域，接著進行顯影操作，完全保留區域的第二彩色膜層被予以保留從而形成第二彩膜圖形，在完全去除區域的第二彩色膜層被完全去除；步驟13 :在已形成第一彩膜圖形、第二彩膜圖形和黑矩陣的襯底基板上涂覆或沉積第三彩色膜層；用掩模板進行曝光，在上述基板上形成完全去除區域和完全保留區域，接著進行顯影操作，完全保留區域的第三彩色膜層被予以保留從而形成第三彩膜圖形，在完全去除區域的第三彩色膜層被完全去除。如圖4所示為本實施例中全部三種彩膜圖形都形成后的示意圖，可以看出在襯底基板300上形成有黑矩陣305、第一彩膜圖形306、第二彩膜圖形 307和第三彩膜圖形308。此后，可以在黑矩陣和所有的彩膜圖形都形成后，在襯底基板上涂覆平坦化層，而后可以在平坦化層上沉積透明金屬材料作為公共電極層。上述步驟11、步驟12和步驟13的順序可以互換，比如順序可以為步驟12-步驟11-步驟13、步驟12-步驟13-步驟11、步驟13-步驟11-步驟12或步驟13-步驟12-步驟11，第二實施例以步驟11和步驟13互換，順序為步驟13-步驟12-步驟11為例進行具體說明步驟21 :在襯底基板上涂覆或沉積第一彩色膜層；用掩模板進行曝光，在上述基板上形成完全去除區域和完全保留區域，接著進行顯影操作，完全保留區域的第一彩色膜層被予以保留從而形成第一彩膜圖形，在完全去除區域的第一彩色膜層被完全去除；步驟22 :在已形成第一彩膜圖形的襯底基板上涂覆或沉積第二彩色膜層；用掩模板進行曝光，在上述基板上形成完全去除區域和完全保留區域，接著進行顯影操作，完全保留區域的第二彩色膜層被予以保留從而形成第二彩膜圖形，在完全去除區域的第二彩色膜層被完全去除；步驟23 :在已形成第一彩膜圖形和第二彩膜圖形的襯底基板上涂覆或沉積第三彩色膜層；在第三彩色膜層上涂覆或沉積黑矩陣材料層；用具有灰色調或部分透過功能的掩模板進行曝光，在第三彩色膜層上形成完全去除區域、部分保留區域和完全保留區域。接著進行顯影操作，完全去除區域的黑矩陣材料層和第三彩色膜層被完全去除，部分保留區域的黑矩陣材料層被去除而第三彩色膜層被保留從而形成第三彩膜圖形，完全保留區域黑矩陣材料層與第三彩色膜層均予以保留從而形成黑矩陣。此后，可以在黑矩陣和所有的彩膜圖形都形成后，在襯底基板上涂覆平坦化層，而后可以在平坦化層上沉積透明金屬材料作為公共電極層。以上所述是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明所述原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發明的保護范圍。·
權利要求
1.一種彩色濾光片的制造方法，其特征在于，包括 涂覆或沉積第一彩色膜層； 在所述第一彩色膜層之上涂覆或沉積一黑矩陣材料層； 對所述第一彩色膜層和所述黑矩陣材料層進行一次曝光顯影，形成第一區域和第二區域，所述第一區域的黑矩陣材料層被去除而第一彩色膜層被保留形成第一彩膜圖形，所述第二區域的黑矩陣材料層與第一彩色膜層均被保留形成黑矩陣。
2.根據權利要求I所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述對所述第一彩色膜層和所述黑矩陣材料層進行一次曝光顯影后還形成有一第三區域，所述第三區域的黑矩陣材料層與第一彩色膜層均被去除。
3.根據權利要求2所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述涂覆或沉積第一彩色膜層之前還包括 在襯底基板上涂覆或沉積第二彩色膜層； 對所述第二彩色膜層進行曝光顯影，被保留的第二彩色膜層形成第二彩膜圖形，其中所述第二彩膜圖形位于所述第三區域上。
4.根據權利要求2或3所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述對所述第一彩色膜層和所述黑矩陣材料層進行一次曝光顯影之后還包括 在所述第一區域、第二區域和第三區域上涂覆或沉積第三彩色膜層； 對所述第三彩色膜層進行曝光顯影，被保留的第三彩色膜層形成第三彩膜圖形，其中所述第三彩膜圖形位于所述第三區域上。
5.根據權利要求3所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述涂覆或沉積第一彩色膜層具體為 在形成有所述第二彩膜圖形的襯底基板上涂覆或沉積第一彩色膜層。
6 一種以上述權利要求1-5所述的方法制造的彩色濾光片，其特征在于，包括 一襯底基板； 位于所述襯底基板上的第一彩色膜層和位于所述第一彩色膜層之上的黑矩陣，所述第一彩色膜層未被所述黑矩陣覆蓋的區域形成第一彩膜圖形。
7.根據權利要求6所述的彩色濾光片，其特征在于，還包括 位于所述襯底基板上的第二彩膜圖形，所述第二彩膜圖形為形成在所述第一彩膜圖形和所述黑矩陣之前的彩膜圖形。
8.根據權利要求6或7所述的彩色濾光片，其特征在于，還包括 位于所述襯底基板上的第三彩膜圖形，所述第三彩膜圖形為形成在所述第一彩膜圖形和所述黑矩陣之后的彩膜圖形。
全文摘要
本發明提供一種彩色濾光片及其制造方法，屬于液晶顯示領域。其中，該彩色濾光片的制造方法包括涂覆或沉積第一彩色膜層；在所述第一彩色膜層之上涂覆或沉積一黑矩陣材料層；對所述第一彩色膜層和所述黑矩陣材料層進行一次曝光顯影，形成第一區域和第二區域，所述第一區域的黑矩陣材料層被去除而第一彩色膜層被保留形成第一彩膜圖形，所述第二區域的黑矩陣材料層與第一彩色膜層均被保留形成黑矩陣。本發明實施例能夠簡化彩膜基板的制造工序，提高生產效率。本發明的技術方案適用于彩色濾光片的制造中。
文檔編號G02F1/1335GK102707564SQ20111021080
公開日2012年10月3日 申請日期2011年7月26日 優先權日2011年7月26日
發明者姚琪, 徐傳祥, 李淼 申請人:京東方科技集團股份有限公司