專利名稱:透鏡模塊及其形成方法
技術領域:
本披露涉及透鏡模塊,尤其涉及具有圖案化基底的透鏡模塊及其形成方法。
背景技術:
微光學構件(micro-optical components)(例如,一維及/或二維透鏡組)一般用于例如是透鏡模塊的元件中。便攜式電子產品的透鏡模塊的設計與制造非常具有挑戰性。 一些挑戰性因素包括高生產量、固定價錢損耗、尺寸限制、效能改變、及功能需求。圖1顯示公知圖像透鏡模塊的剖面圖。請參照圖1,公知圖像透鏡模塊10包括 第一雙平行面基底(plano-plano substrate) 12,其具有形成于基底12的兩側上的第一透鏡14及第二透鏡16 ;第二雙平行面基底22,其具有形成于基底22的兩側上的第三透鏡M 及第四透鏡26 ;以及夾置于第一基底12與第二基底22之間的間隔物(spacer) 36。可于第二透鏡16上形成黑色阻光層(black yard coating (layer)) 18以作為光圈(aperture)。 可于第四透鏡26上形成抗反射膜(antireflection film08。間隔物36可分離第一基底 12及第二基底22,使其間隔有預定間隙(predetermined gap)。此外,分別于第一基底12 的前表面上及第二基底22的背表面上形成間隔物34及38。于間隔物(34、36、38)與基底 (12,22)之間使用堆疊膠(stacking glue) 32。一般而言,當堆疊與對準圖像透鏡模塊10時,使用封裝技術。公知封裝的透鏡模塊遭遇一些問題,例如間隔物造價昂貴、所使用的基底受限、間隔物厚度不精確、透鏡模塊的光學中心因間隔物工藝而造成對不準。
發明內容
為了解決現有技術的問題,本發明一實施例提供一種透鏡模塊,包括一第一透鏡組,包括一第一圖案化基底;一第一凹陷,形成自該第一圖案化基底的一第一表面;一第一透鏡元件,設置于該第一凹陷之中;以及一第二透鏡元件,設置于該第一圖案化基底之上,其中該第二透鏡元件對齊于穿過該第一透鏡元件的一光軸。本發明一實施例提供一種透鏡模塊的形成方法,包括形成一第一透鏡組,該第一透鏡組的形成包括提供一第一基底,具有一第一表面及一第二表面;自該第一基底的該第一表面移除部分的該第一基底以形成一第一凹陷;將一第一透鏡元件設置于該第一凹陷之中;以及將一第二透鏡元件設置于該第一基底之上,其中該第二透鏡元件對齊于穿過該第一透鏡元件的一光軸。本發明的透鏡元件可全部或至少部分對齊于相同的光軸。
圖1顯示公知圖像透鏡模塊的剖面圖。圖2A-圖2D顯示根據本發明實施例,對基底進行處理的剖面圖。圖3A-圖3C顯示根據本發明實施例的各種圖案化基底。
圖4A-圖4F顯示根據本發明實施例,于圖案化基底上形成透鏡的剖面圖。圖5顯示根據本發明實施例,堆疊兩圖案化基底,并接著將其切割成多個獨立的透鏡模塊的立體圖。圖6根據本發明一實施例的透鏡組的剖面圖。圖7根據本發明一實施例的堆疊透鏡模塊的剖面圖。圖8A-圖8D圖顯示根據本發明一實施例的透鏡組的工藝剖面圖。圖9A-圖9E顯示根據本發明另一實施例透鏡組的工藝剖面圖。圖IOA-圖IOE顯示根據本發明又一實施例的透鏡組的工藝剖面圖。圖IlA-圖11Z、圖IlAA顯示根據本發明實施例的堆疊透鏡模塊的剖面圖。其中,附圖標記說明如下10 透鏡模塊;12 基底;14、16 透鏡;18 黑色阻光層;22 基底;24、26 透鏡;28 抗反射膜;32 堆疊膠;;34、36、38 間隔物;100、100a、100b、101a、IOlbUOlc 基底;103a、103b 中間區域;105a、105b、105c 墻;IlOaUlOb 開口;122、124 透鏡元件;200 透鏡組;201 墻;203 中間區域;212、214 透鏡元件;216 抗反射層;218 黑色阻光層;221 墻;223 中間區域;232 透鏡元件;234 抗反射層;235 粘著層;300 透鏡模塊;400 基底;401 中間區域;403、405 墻;
407 開口(或凹陷);410,410' 光致抗蝕劑層;412、414 透鏡元件;416 抗反射層;418 黑色阻光層;422 粘著層;似4 間隔物;500a、500a,、500b、500b,、500c、500c,、500d 透鏡組;501 基底;502 透鏡元件;503、503b、503c、503d 基底;504,506,508 透鏡元件;512 黑色阻光層;514、516 抗反射層;602 粘著層;604、606、608 間隔物;H” H2、H3 厚度。
具體實施例方式以下將詳細說明本發明實施例的制作與使用方式。然應注意的是,本發明提供許多可供應用的發明概念,其可以多種特定形式實施。文中所舉例討論的特定實施例僅為制造與使用本發明的特定方式,非用以限制本發明的范圍。此外,在不同實施例中可能使用重復的標號或標示。這些重復僅為了簡單清楚地敘述本發明,不代表所討論的不同實施例及/ 或結構之間必然具有任何關連性。此外,當述及一第一材料層位于一第二材料層上或之上時,包括第一材料層與第二材料層直接接觸或間隔有一或更多其他材料層的情形。為了簡單與清楚化,許多結構可能會繪成不同的尺寸。作為本發明的關鍵特征之一,本發明實施例提供圖案化基底,其具有開口或凹陷陣列,其中可形成或設置透鏡元件(lens elements) 0可將兩圖案化基底對齊且堆疊,并接著將其切割成透鏡模塊。透鏡模塊包括第一圖案化基底,其具有至少一第一凹陷。第一凹陷的底部可包括大抵平坦的中間區域,其由第一圖案化基底的第一凹陷的突起側壁所圍繞。 第一透鏡元件可設置于大抵平坦的中間區域的前表面上,而第二透鏡元件可設置于大抵平坦的中間區域的背表面上。透鏡結構的制作可借由模制法(molding)而完成。透鏡可由具有UV固化高分子化合物(UV curable polymer compounds)的材料形成。披覆層可選擇性或擇一設置于第一透鏡元件或第二透鏡元件之上。圖2A及圖2B顯示根據本發明實施例處理一基底的剖面圖。請參照圖2A及圖2B, 提供基底100。基底100可為玻璃基底、熔融硅石(fused silica)基底、石英基底、氟化鈣 (CaF2)基底、或其他光學級透明基底。基底100例如借由蝕刻而部分移除以形成圖案化開口 IlOa或IlOb的陣列,其例如為溝槽(trenches)、凹陷(recesses)、或溝道(grooves),具有大抵平坦的中間區域,其由開口的突起側壁所圍繞。開口的截面的形狀可為圓形、矩形、六角形、八角形、或其他適合的幾何形狀。基底100也可兩側均部分移除,如圖2C及圖2D 所示。圖3A-圖3C顯示根據本發明實施例的圖案化基底的剖面圖。在圖3A中,圖案化基底IOla中可形成有至少一第一凹陷及至少一第二凹陷。第一及第二凹陷的組合可為一兩側凹陷,其具有兩側突起的墻105a,其圍繞大抵平坦的中間區域103a。兩側突起墻的厚度 H1^H3及大抵平坦的中間區域的厚度H2分別小于300 μ m。兩側突起墻與大抵平坦的中間區域的總厚度(HpH2、及H3)可小于300μπι。在圖:3Β中,圖案化基底IOlb可形成有單側凹陷 (也稱為第一凹陷),其形成自基底IOlb的頂表面(或第一表面)。單側凹陷包括向上突起的墻10 ,其圍繞大抵平坦的中間區域10北。向上突起的墻及大抵平坦的中間區域的厚度分別小于300 μ m。向上突起的墻與大抵平坦的中間區域的總厚度可小于300 μ m。在圖3C 中,圖案化基底IOlc可形成有單側凹陷(也稱為第一凹陷),其形成自基底IOlb的底表面 (或第二表面)。單側凹陷包括向上突起的墻105c,其圍繞大抵平坦的中間區域10北。擇一地或選擇性地,可于圖案化基底的一側或兩側上沉積披覆層(未顯示),其例如是鉻涂層 (Cr coating) JR涂層、AR涂層、及/或冊涂層。披覆層的沉積可借由濺鍍或熱蒸鍍工藝而進行。圖4A-圖4F顯示根據本發明實施例而于圖案化基底上形成透鏡的剖面圖。在圖 4A-圖4C的實施例中,可分別于圖案化基底101a、101b、及IOlc的大抵平坦的中間區域的第一表面上形成第一透鏡元件122。在圖4D-圖4F的實施例中,可選擇性分別于圖案化基底101a、101b、及IOlc的大抵平坦的中間區域的第二表面上形成第二透鏡元件124。第一透鏡元件122可為設置于平坦的中間區域的第一表面上的凸透鏡(convex lens),而第二透鏡元件124可為設置于平坦的中間區域的第二表面上的凸透鏡。在一實施例中,第二透鏡元件1 對齊于穿過第一透鏡元件122的光軸(optical axis)。第一及第二透鏡元件可借由透鏡形成技術而形成,特別是可使用玻璃上高分子透鏡(polymer-on-glass lens)的 UV光浮雕法(UV-embossing)來制作堆疊的透鏡模塊。可擇一地或選擇性地于第一透鏡元件或第二透鏡元件上形成披覆層,其例如是黑色阻光層或抗反射層。圖5顯示一實施例,其中堆疊了兩圖案化基底,并接著切割成多個獨立的透鏡模塊。提供第二基底100b,其具有第二透鏡組的陣列(an array ofsecond lens assemblies) 形成于其中或其上。每一第二透鏡組對應至基底100a的其中一第一透鏡組。第二基底100b 對齊且堆疊于第一基底100a。可于第二透鏡組與第一透鏡組之間涂布粘著層。可進行堆疊基底的切割以將堆疊基底分離成多個獨立的透鏡模塊。據此,可因而提供透鏡組(lens assembly)或堆疊透鏡模塊(stacked lens module)。圖6顯示根據本發明實施例的透鏡組的剖面圖。在圖6中,透鏡組200包括具有兩側凹陷的圖案化基底。凹陷包括兩側突起的墻201,其圍繞大抵平坦的中間區域203。可于大抵平坦的中間區域203的第一表面上設置凸透鏡元件212。可于大抵平坦的中間區域203 的第二表面上設置凸透鏡元件214。換言之,透鏡元件214可設置于自基底的下表面所形成的凹陷中。可于凸透鏡元件212上設置抗反射層(antireflection layer,AR layer) 2160 可于凸透鏡元件214上設置黑色阻光層218以作為透鏡組200的光圈(aperture)。圖7顯示根據本發明一實施例的堆疊透鏡模塊織剖面圖。在圖7中,堆疊透鏡模塊300包括第二透鏡組,其對齊且堆疊于圖6的第一透鏡組200之上。第二透鏡組包括圖案化基底,其具有向下突起的墻221,其圍繞大抵平坦中間區域223。可于大抵平坦中間區域223的第二表面上設置凸透鏡元件232。可擇一或選擇性地于凸透鏡元件232上設置抗反射(AR)層234。可于第二透鏡組與第一透鏡組之間夾置粘著層235。在一實施例中,透鏡元件212、214、及232對齊于穿過透鏡元件212的光軸。圖8A-圖8D顯示根據本發明一實施例的透鏡組的工藝剖面圖。請參照圖8A,提供基底400,其例如是裸玻璃基底或玻璃晶片。于基底400的兩側上形成圖案化光致抗蝕劑層 410以露出將被部分移除的基底400的表面。進行適當的移除工藝(例如,濕式蝕刻、干式蝕刻、或其他物理處理)以于基底400的兩側上制造開口 407(或凹陷407),如圖8B所示。請參照圖8C,緊接著將圖案化光致抗蝕劑層410自基底移除,留下包含兩側凹陷的圖案化基底。基底包括兩側突起的墻403及405,其圍繞大抵平坦中間區域401。可于大抵平坦中間區域401的第一表面上設置凸透鏡元件412。可于大抵平坦中間區域401的第二表面上設置凸透鏡元件414。換言之,透鏡元件412可設置于形成自圖案化基底的上表面的凹陷中,而透鏡元件414可設置于形成自圖案化基底的下表面的凹陷中。可于凸透鏡元件412上設置抗反射層416。可于凸透鏡元件414上設置黑色阻光層418,如圖8D所示。 可進行附加的切割工藝以將基底分離成多個獨立的透鏡組。在一實施例中,透鏡元件412 及414對齊于穿過透鏡元件412的光軸。圖9A-圖9E顯示根據本發明另一實施例的透鏡組的工藝剖面圖。請參照圖9A,提供基底400,其例如是裸玻璃基底。于基底400的前表面(或第一表面)上形成圖案化光致抗蝕劑層410,露出基底400的將被部分移除的表面。于基底400的背表面(或第二表面) 上形成另一光致抗蝕劑層410’。進行適合的移除工藝(例如,濕式蝕刻、干式蝕刻、或其他物理處理工藝)以于基底400的前表面上制造開口 407(或凹陷),如圖9B所示。請參照圖9C,緊接著自基底大抵移除光致抗蝕劑層410及410’,留下圖案化基底, 其包含單側凹陷,形成自圖案化基底的前表面(第一側),且朝向圖案化基底的背表面(第二側)。凹陷包括向上突起的墻403,其圍繞大抵平坦中間區域401。可于大抵平坦中間區域401的第一表面上設置凸透鏡元件412。換言之,可將凸透鏡元件412設置于形成自前表面的凹陷中。可于大抵平坦中間區域401的第二表面上設置凸透鏡元件414。可于凸透鏡元件412上設置抗反射層416。可于凸透鏡元件414上設置黑色阻光層418,如圖9D所示。 可于圖案化基底的背表面上設置間隔物424,且間隔物424圍繞凸透鏡元件414,其中可于間隔物424與圖案化基底的背表面之間使用粘著層422,如圖9E所示。可進行附加的切割工藝以將基底分離成多個獨立的透鏡組。在一實施例中,透鏡元件412及414對齊于穿過透鏡元件412的光軸。圖IOA-圖IOE顯示根據本發明又一實施例的透鏡組的工藝剖面圖。請參照圖10A, 提供基底400,其例如是裸玻璃基底。于基底400的背表面(或第二表面)上形成圖案化光致抗蝕劑層410,露出基底400的將被部分移除的表面。于基底400的前表面(或第一表面)上形成另一光致抗蝕劑層410’。進行適合的移除工藝(例如,濕式蝕刻、干式蝕刻、或其他物理處理工藝)以于基底400的背表面上制造開口 407(或凹陷),如圖IOB所示。請參照圖10C,緊接著自基底大抵移除光致抗蝕劑層410及410’,留下圖案化基底,其包含單側凹陷,形成自圖案化基底的背表面(第二側)。凹陷包括向下突起的墻405, 其圍繞大抵平坦中間區域401。可于大抵平坦中間區域401的第一表面上設置凸透鏡元件 412。可于大抵平坦中間區域401的第二表面上設置凸透鏡元件414。換言之,可于圖案化
8基底的前表面上設置凸透鏡元件412,而可將凸透鏡元件414設置于形成自圖案化基底的背表面的凹陷中。可于凸透鏡元件412上設置抗反射層416。可于凸透鏡元件414上設置黑色阻光層418,如圖IOD所示。可于圖案化基底的前表面上設置間隔物424,且間隔物424 圍繞凸透鏡元件412,其中可于間隔物424與圖案化基底的前表面之間使用粘著層422,如圖IOE所示。可進行附加的切割工藝以將基底分離成多個獨立的透鏡組。在一實施例中, 透鏡元件412及414對齊于穿過透鏡元件412的光軸。圖IlA-圖IlAA顯示根據本發明各種實施例的堆疊透鏡模塊的剖面圖。在圖IlA 中,第二透鏡組500a,對齊并堆疊于第一透鏡組500a之下,其中第一透鏡組500a與第二透鏡組500a’之間夾置有粘著層602。在一實施例中,第一透鏡組500a包括第一圖案化基底 501,其具有第一凹陷及第二凹陷。第一及第二凹陷包括突起墻,圍繞大抵平坦中間區域。第一透鏡元件502設置于大抵平坦中間區域的第一表面上,而第二透鏡元件504設置于大抵平坦中間區域的第二表面上。換言之,第一透鏡元件502及第二透鏡元件504分別設置于形成自第一圖案化基底501的相反表面的凹陷中。可于第一透鏡元件502上設置抗反射層 514,并可于第二透鏡元件504上設置黑色阻光層512。第二透鏡組500a’包括第二圖案化基底503,其具有第三凹陷及第四凹陷。第三及第四凹陷包括突起墻,圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件506設置于第三凹陷(其包括大抵平坦中間區域)的第一表面上,而第四透鏡元件508設置于第四凹陷(其包括大抵平坦中間區域)的第二表面上。換言之,第三透鏡元件506及第四透鏡元件508分別設置于形成自第二圖案化基底503的相反表面的凹陷中。可于第四透鏡元件508上設置抗反射層516。在一實施例中,所有的透鏡元件對齊于相同的光軸。例如,透鏡元件502、504、506、及508對齊于穿過第一透鏡元件502的光軸ο在其他實施例中,圖1IA的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500a’之間的間隔物604,如圖IlZ所示。請參照圖11B,第二透鏡組500b對齊且堆疊于第一透鏡組500a之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500b之間。在一實施例中,第二透鏡組500b包括第二圖案化基底50北,其具有第三凹陷,形成自第二圖案化基底50 的頂表面(或第三側)。第三凹陷包括向上突起墻,其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件506設置于第三凹陷的第一表面(或底表面)上,而第四透鏡元件508設置于第二圖案化基底相反于第三凹陷的背表面(或第四側)上。第四透鏡元件508上設置有第二抗反射層516。在第二圖案化基底50 的第二表面上設置有第一間隔物606,其圍繞第四透鏡元件508。在其他實施例中,圖IlB的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500b之間的第二間隔物604,如圖IlAA所示。請參照圖11C,第二透鏡組500c對齊且堆疊于第一透鏡組500a之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間。在一實施例中,第二透鏡組500c包括第二圖案化基底503c,其具有第四凹陷,形成自第二圖案化基底503c的底表面。第四凹陷包括向下突起墻,其圍繞大抵平坦中間區域。透鏡元件508設置于第四凹陷的大抵平坦中間區域的第二表面上。透鏡元件508上設置有第二抗反射層516。在其他實施例中,圖IlC 的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間的間隔物604,如圖IlD所示。透鏡元件506設置于第二圖案化基底的相反于第四凹陷的第二表面上。
請參照圖11E,第二透鏡組500d對齊且堆疊于第一透鏡組500a之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500d之間。在一實施例中,第二透鏡組500d包括雙平面基底503d。透鏡元件508設置于雙平面基底503d的第二表面(或第二側)上。 透鏡元件508上設置有第二抗反射層516。第一間隔物606設置于雙平面基底503d的背側上,且圍繞透鏡元件508。在其他實施例中,圖IlE的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500d之間的第二間隔物604,如圖IlF所示。請參照圖11H,第二透鏡組500b對齊且堆疊于第一透鏡組500a之上,其中第二粘著層602夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間。在一實施例中,第二透鏡組500b 包括第二圖案化基底5(X3b,其具有第三凹陷,形成自第二圖案化基底50 的頂表面。第三凹陷包括向上突起墻,其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件506設置于第三凹陷的大抵平坦中間區域的第一表面上,而第四透鏡元件508設置于第二圖案化基底的相反于第三凹陷的第二表面上。第四透鏡元件508上設置有黑色阻光層512,而第三透鏡元件506上設置有抗反射層516。在其他實施例中,圖IlH的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組 500a與第二透鏡組500b之間的間隔物604,如圖11所示。請參照圖11M,第二透鏡組500c對齊且堆疊于第一透鏡組500a之上,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間。在一實施例中,第二透鏡組500c包括第二圖案化基底503c,其具有第四凹陷,形成自第二圖案化基底的底表面。第四凹陷包括向下突起墻,其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件設置于第二圖案化基底的相反于第四凹陷的第一表面上,而第四透鏡元件設置于第四凹陷的第二表面上。第三透鏡元件上設置有抗反射層,而第四透鏡元件上設置有黑色阻光層。第一間隔物608設置于第二圖案化基底的第一表面上,且圍繞第三透鏡元件。在其他實施例中,圖IlM的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間的第二間隔物604,如圖IlN所示。請參照圖11U,第二透鏡組500d對齊且堆疊于第一透鏡組500a之上,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500d之間。在一實施例中,第二透鏡組500d包括雙平面基底503d。第三透鏡元件506設置于雙平面基底503d的第一表面上,而第四透鏡元件508設置于雙平面基底503d的第二表面上。第三透鏡元件506上設置有抗反射層514, 而第四透鏡元件508上設置有黑色阻光層512。第一間隔物608設置于雙平面基底503d的前側上,且圍繞第三透鏡元件506。在其他實施例中,圖IlU的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500a與第二透鏡組500d之間的第二間隔物604,如圖IlV所示。請參照圖111,第二透鏡組500b,對齊且堆疊于第一透鏡組500b之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500b與第二透鏡組500b,之間。在一實施例中,第一透鏡組500b包括第一圖案化基底,其具有第一凹陷,形成自第一圖案化基底的頂表面。第一凹陷包括向上突起墻,其圍繞大抵平坦中間區域。第一透鏡元件502設置于第一凹陷的第一表面上,而第二透鏡元件504設置于第一圖案化基底相反于第一凹陷的第二表面上。第一透鏡元件502 上設置有抗反射層,而第二透鏡元件上設置有黑色阻光層。第二透鏡組500b’包括第二圖案化基底,其具有第三凹陷,形成自第二圖案化基底的頂表面。第三凹陷包括向上突起墻, 其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件506設置于第二圖案化基底的第三凹陷的第一表面上,而第四透鏡元件508設置于第二圖案化基底相反于第三凹陷的第二表面上。第四透鏡元件508上設置有第二抗反射層。在第二圖案化基底的背側上設置有第一間隔物606,其圍繞第四透鏡元件508。在其他實施例中,圖IlI圖堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500b與第二透鏡組500b,之間的第二間隔物604,如圖IlJ所示。請參照圖11K,第二透鏡組500c對齊且堆疊于第一透鏡組500b之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500b與第二透鏡組500c之間。在一實施例中,第二透鏡組500c包括第二圖案化基底,其具有第四凹陷,形成自第二圖案化基底的底表面。第四凹陷包括向下突起墻,其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件設置于第二圖案化基底的相反于第四凹陷的第一表面上,而第四透鏡元件設置于第二圖案化基底的第四凹陷中。第四透鏡元件上設置有抗反射層。間隔物604可夾置于第一透鏡組500b與第二透鏡組500c之間。請參照圖11L,第二透鏡組500d對齊且堆疊于第一透鏡組500b之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500b與第二透鏡組500d之間。在一實施例中,第二透鏡組500d包括雙平面基底。第三透鏡元件設置于雙平面基底的第一表面上,而第四透鏡元件設置于雙平面基底的第二表面上。第四透鏡元件上設置有第二抗反射層。第一間隔物606設置于雙平面基底503d的背側上,且圍繞第四透鏡元件508。第二間隔物604夾置于第一透鏡組 500a與第二透鏡組500d之間。請參照圖110,第二透鏡組500b對齊且堆疊于第一透鏡組500c之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500c與第二透鏡組500b之間。在一實施例中,第一透鏡組500c包括第一圖案化基底,其具有第二凹陷,形成自第一圖案化基底的底表面。第二凹陷包括向下突起墻,其圍繞大抵平坦中間區域。第一透鏡元件設置于第一圖案化基底的相反于第二凹槽的第一表面上,而第二透鏡元件設置于第二凹槽的第二表面上。第一透鏡元件上設置有抗反射層,而第二透鏡元件上設置有黑色阻光層。第二透鏡組500b包括第二圖案化基底, 其具有第三凹陷,形成自第二圖案化基底的頂表面。第三凹陷包括向上突起墻,其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件設置于第二圖案化基底的第三凹陷中,而第四透鏡元件設置于第二圖案化基底相反于第三凹陷的第二表面上。第四透鏡元件508上設置有第二抗反射層。在第一圖案化基底的前側上設置有第一間隔物608,其圍繞第一透鏡元件。在第二圖案化基底的背側上設置有第二間隔物606,其圍繞第四透鏡元件。在其他實施例中,圖110的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500c與第二透鏡組500b之間的第三間隔物604, 如圖IlP所示。請參照圖1IX,第二透鏡組500d對齊且堆疊于第一透鏡組500b之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500b與第二透鏡組500d之間。在一實施例中,第二透鏡組500d包括雙平面基底。第三透鏡元件設置于雙平面基底的第一表面上,而第四透鏡元件設置于雙平面基底的第二表面上。第三透鏡元件上設置有抗反射層,而第四透鏡元件上設置有黑色阻光層。第一間隔物604設置于雙平面基底的前側上,且圍繞第三透鏡元件。第二間隔層 606設置于第一圖案化基底的背側上,且圍繞第二透鏡元件。在其他實施例中,圖IlX的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500b與第二透鏡組500d之間的第三間隔物604,如圖IlW所示。請參照圖11Q,第二透鏡組500c’對齊且堆疊于第一透鏡組500c之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500c與第二透鏡組500c’之間。在一實施例中,第二透鏡組500c’ 包括第二圖案化基底,其具有第四凹陷,形成自第二圖案化基底的底表面。第四凹陷包括向下突起墻,其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件設置于第二圖案化基底相反于第四凹陷的第一表面上,而第四透鏡元件設置于第四凹陷中。第四透鏡元件上設置有第二抗反射層。在第一圖案化基底的前側上設置有第一間隔物608,其圍繞第一透鏡元件。在其他實施例中,圖IlQ的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500c與第二透鏡組500c’之間的第二間隔物604,如圖IlR所示。請參照圖11S,第二透鏡組500d對齊且堆疊于第一透鏡組500c之下,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500c與第二透鏡組500d之間。在一實施例中,第二透鏡組500d包括雙平面基底。第三透鏡元件設置于雙平面基底的第一表面上,而第四透鏡元件設置于雙平面基底的第二表面上。第四透鏡元件上設置有第二抗反射層。第一間隔物608設置于第一圖案化基底的前側上,且圍繞第一透鏡元件。在其他實施例中,圖IlS的堆疊透鏡模塊可還包括夾置于第一透鏡組500c與第二透鏡組500d之間的第三間隔物604,如圖1IT所示。請參照圖11Y,第二透鏡組500d對齊且堆疊于第一透鏡組500c之上,其中粘著層 602夾置于第一透鏡組500c與第二透鏡組500d之間。在一實施例中,第二透鏡組500d包括雙平面基底。第三透鏡元件設置于雙平面基底的第一表面上,而第四透鏡元件設置于雙平面基底的第二表面上。第三透鏡元件上設置有抗反射層,而第四透鏡元件上設置有黑色阻光層。第一間隔物608設置于雙平面基底的前側上,且圍繞第三透鏡元件。第二間隔物 604設置于第一透鏡組500c與第二透鏡組500d之間。在所有上述實施例中,透鏡元件可全部或至少部分對齊于相同的光軸。雖然本發明已以數個優選實施例披露如上,然其并非用以限定本發明,任何本領域普通技術人員,在不脫離本發明的精神和范圍內,當可作任意的更動與潤飾,因此本發明的保護范圍當視所附的權利要求所界定的范圍為準。
權利要求
1.一種透鏡模塊,包括 一第一透鏡組,包括一第一圖案化基底;一第一凹陷,形成自該第一圖案化基底的一第一表面; 一第一透鏡元件,設置于該第一凹陷之中;以及一第二透鏡元件,設置于該第一圖案化基底之上,其中該第二透鏡元件對齊于穿過該第一透鏡元件的一光軸。
2.如權利要求1所述的透鏡模塊,還包括一披覆層,設置于該第二透鏡元件之上,其中該披覆層包括一黑色阻光層或一抗反射層。
3.如權利要求1所述的透鏡模塊,還包括一第二凹陷,形成自該第一圖案化基底的一第二表面,其中該第二透鏡元件設置于該第二凹陷之中。
4.如權利要求1所述的透鏡模塊,其中該第一圖案化基底的一厚度小于300μ m。
5.如權利要求1所述的透鏡模塊,還包括 一第二透鏡組,對齊且堆疊于該第一透鏡組之上;一間隔物,夾置于該第二透鏡組與該第一透鏡組之間;以及一粘著層,夾置于該第二透鏡組與該第一透鏡組之間,其中該第二透鏡組包括一第二圖案化基底;一第三凹陷,形成自該第二圖案化基底的一底表面;以及一第三透鏡元件,設置于該第三凹陷之中,其中該第三透鏡元件對齊于穿過該第一透鏡元件的該光軸。
6.如權利要求5所述的透鏡模塊,還包括一第四透鏡元件,設置于該第二圖案化基底之上,其中該第四透鏡元件對齊于穿過該第一透鏡元件的該光軸,且該第四透鏡元件設置于該第二圖案化基底的一頂表面之上;一第四凹陷,形成自該第二圖案化基底的一頂表面,其中該第四透鏡元件設置于該第四凹陷之中;以及一第二披覆層,設置于該第三透鏡元件或該第四透鏡元件之上。
7.如權利要求1所述的透鏡模塊,還包括一第二透鏡組,對齊且堆疊于該第一透鏡組之上;一第一間隔物,設置于該雙平行面基底的該第一側之上,且圍繞該第三透鏡元件;以及一第二間隔物,設置于該雙平行面基底的該第二側之上,且圍繞該第四透鏡元件,其中該第二透鏡組包括一雙平行面基底,具有一第一側及一第二側;一第三透鏡元件,設置于該雙平行面基底的該第一側之上,其中該第三透鏡元件對齊于穿過該第一透鏡元件的該光軸;以及一粘著層,夾置于該第二透鏡組與該第一透鏡組之間。
8.如權利要求7所述的透鏡模塊,還包括一第四透鏡元件,設置于該雙平行面基底的該第二側之上。
9.一種透鏡模塊的形成方法,包括形成一第一透鏡組,該第一透鏡組的形成包括提供一第一基底,具有一第一表面及一第二表面;自該第一基底的該第一表面移除部分的該第一基底以形成一第一凹陷;將一第一透鏡元件設置于該第一凹陷之中;以及將一第二透鏡元件設置于該第一基底之上,其中該第二透鏡元件對齊于穿過該第一透鏡元件的一光軸。
10.如權利要求9所述的透鏡模塊的形成方法,還包括自該第一基底的該第二表面移除部分的該第一基底以形成一第二凹陷,其中該第二透鏡元件設置于該第二凹陷之中; 形成一第二透鏡組;將該第一透鏡組設置于該第二透鏡組之上;以及于該第一透鏡組與該第二透鏡組之間形成一粘著層。
全文摘要
本發明一實施例提供一種透鏡模塊及其形成方法,該透鏡模塊包括一第一透鏡組,包括一第一圖案化基底;一第一凹陷,形成自該第一圖案化基底的一第一表面;一第一透鏡元件,設置于該第一凹陷之中;以及一第二透鏡元件,設置于該第一圖案化基底之上,其中該第二透鏡元件對齊于穿過該第一透鏡元件的一光軸。本發明的透鏡元件可全部或至少部分對齊于相同的光軸。
文檔編號G02B7/02GK102411185SQ20111008594
公開日2012年4月11日 申請日期2011年4月2日 優先權日2010年9月20日
發明者朱翁駒, 林建邦, 鐘三源 申請人:美商豪威科技股份有限公司, 采鈺科技股份有限公司