專利名稱：光學零件多層鍍膜新工藝的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種光學零件鍍膜工藝，尤其是光學鏡片的多層鍍膜新工藝。
背景技術：
光學鏡片鍍膜常用工藝包括抽真空工序和鍍膜工序，其中為了達到減反射要求，鍍膜常用MgF2和H4為鍍材，一層MgF2 —層H4這樣疊加，為了達到寬波域減 反射要求(400-700nm 0.4% ；700-750nm R彡I. 3% )，通常要鍍7_9層，成本高，而且減反射效果還不理想。
發明內容
針對上述存在問題，本發明提供一種光學零件多層鍍膜新工藝，通過鍍材和鍍層的改變，達到節約成本，提高減反射效果的目的。本發明采取以下技術方案，一種光學零件多層鍍膜新工藝，包括抽真空工序和鍍膜工序，其特征在于所述鍍膜工序的鍍層為六層，第一層為H4,第二層為AL2O3,第三層為H4，第四層為AL2O3,第五層為H4，第六層為MgF2。本發明的優點是由于采用H4、AL2O3和MgF2為鍍材，所以只需6層就可以達到減反射要求，節約了成本，提高了減反射效果。
具體實施例方式下面結合實施例對本發明作進一步說明。實施例一一種光學零件多層鍍膜新工藝，包括抽真空工序和鍍膜工序，其特征在于所述鍍膜工序的鍍層為六層，第一層為H4,第二層為AL2O3,第三層為H4，第四層為AL2O3,第五層為H4,第六層為MgF2。經本發明光學零件多層鍍膜新工藝制作而成的光學鏡片的減反射膜指標為400-700nm R = O. 3-0. 35% ；700-750nm R ^ I. 0%實施例二同實施例一的一種光學零件多層鍍膜新工藝，其不同之處在于各鍍層的膜厚初始值依次分別為0. 5,0. 5,1,0. 5,0. 5，I。實施例三同實施例一的一種光學零件多層鍍膜新工藝，其不同之處在于所述抽真空工序的初始真空度為4. 5*l(T4Pa-7. 0*l(T4Pa (在4. 5*IO^4Pa與7. 0*1 O^4Pa之間的任一初始真空度都可以)。常規一般為3. 0*10_3Pa。實施例四同實施例一的一種光學零件多層鍍膜新工藝，其不同之處在于所述鍍膜工序的參數還包括溫度、加氧量和鍍膜速率，其溫度控制為290-320度，加氧量為30-50標準毫升/分鐘(sccm)，鍍膜速率為0. 5nm/s。除上述實施例外，本發明還可以有其它實施方式。凡采用等同替換或等效變換形 成的技術方案，均落在本發明要求的保護范圍內。
權利要求
1.ー種光學零件多層鍍膜新エ藝，包括抽真空エ序和鍍膜エ序，其特征在于所述鍍膜エ序的鍍層為六層，第一層為H4,第二層為AL2O3,第三層為H4，第四層為AL2O3,第五層為H4,第六層為MgF2。
2.根據權利要求I所述的ー種光學零件多層鍍膜新エ藝，其特征在于所述各鍍層的膜厚初始值依次分別為:0· 5，O. 5，I，O. 5，O. 5，I。
3.根據權利要求I所述的ー種光學零件多層鍍膜新エ藝，其特征在于所述抽真空エ序的初始真空度為4. 5*l(T4Pa-7. O*IO^4Pa0
4.根據權利要求1、2或3所述的ー種光學零件多層鍍膜新エ藝，其特征在于所述鍍膜エ序的參數還包括溫度、加氧量和鍍膜速率，其溫度控制為290-320度，加氧量為30-50標準毫升/分鐘(sccm)，鍍膜速率為O. 5nm/s。
全文摘要
本發明涉及一種光學零件多層鍍膜新工藝，包括抽真空工序和鍍膜工序，其特征在于所述鍍膜工序的鍍層為六層，第一層為H4，第二層為AL2O3，第三層為H4，第四層為AL2O3，第五層為H4，第六層為MgF2。本發明的優點是由于采用H4、AL2O3和MgF2為鍍材，所以只需6層就可以達到寬波域減反射要求，節約了成本，提高了減反射效果。
文檔編號G02B1/10GK102692657SQ201110073358
公開日2012年9月26日 申請日期2011年3月25日 優先權日2011年3月25日
發明者馬云燕 申請人:江蘇雙儀光學器材有限公司