專利名稱:構造尤其用于微光刻投射曝光系統的分面鏡的個體反射鏡的制作方法
技術領域:
本發明涉及一種用于構造分面鏡的個體反射鏡,所述分面鏡尤其為在微光刻投射曝光系統中用作光束引導光學部件的分面鏡。
背景技術:
US 6,438,199B1和US 6,658,084B2中公開了由個體反射鏡構造的此類型的分面
^Mi ο
發明內容
本發明的目的在于提供用于構造根據本發明的分面鏡的個體反射鏡,使得分面鏡具有用于傾翻個體反射鏡的反射面的緊湊布置,并確保足夠高的調節力。根據本發明,通過具有權利要求1中公開的特征的個體反射鏡可以實現此目的。注意到,根據本發明的個體反射鏡具有緊湊布置且帶有致動器,所述個體反射鏡允許產生mN(毫牛)范圍內的調節力,該調節力利用一體式鉸鏈(solid-bodyjoint)的典型微構造足以產生個體反射鏡所需要的傾翻。對應的致動器為所謂的拉鏈運動(zipping) 致動器(移動楔致動器或卷動關閉致動器),并在例如以下的專業論文中被公開J.Li et al. "Deep-Reactive Ion-Etched Compliant Starting Zone Electrostatic Zipping Actuators,,,Journal of Micromechanical Systems, VOL. 14, NO. 6, 2005 ;以及 Μ. A. Rosa et al. "A novel external electrode configuration for the elastrostatic actuation of MEMS based devices,,,J. Micromech. Microeng. , 14, 2004。根據權利要求2的移動電極的數量已被證明對于確保足夠多的移動自由度是有利的。反射面的邊形狀可被適配于移動電極的數量。如果使用三個移動電極,則個體反射鏡的反射面可以是例如三角形。個體反射鏡的邊形狀優選使得利用該邊形狀,具有相同邊的個體反射鏡構成的分面鏡的總反射面可以無間隙傾翻。根據權利要求3的移動電極的構造提供了當在移動電極與對應電極之間施加電壓時連續增加接觸面部分的可能性,其中移動電極與對應電極之間的間隔在間隔面部分中減小,從而在那里產生具有相應大調節力的高電場強度。根據權利要求4和5的移動電極的基面設計已被證明特別適合于提供緊湊調節布置。這里,根據權利要求5的螺旋設計特別緊湊。根據權利要求6,在間隔面部分中逐漸增大的電極間隔提供了隨著電極之間所施加的電壓的增加而發展出相應的自增強(self-reinforcing)力的可能性。根據權利要求7的電壓輸入,即使在中性位置,也可以提供反射鏡主體相對于載置器主體的精確規定的定位。中性位置不由至少一個一體式鉸鏈的未受力狀態預先確定。本發明的另一目的在于提供用于構造分面鏡的個體反射鏡,其中所述分面鏡可以復制,可以精確調節,并且同時通過反射鏡主體的散熱而確保充分散失熱量,尤其是對個體反射鏡反射的有用輻射的殘余吸收所產生的熱量。
根據本發明,通過具有權利要求8中公開的特征的個體反射鏡實現此目的。在給定低剛度情況下,尤其是為了以較低的力耗費實現調節偏移,鉸鏈長度與鉸鏈厚度的根據本發明的尺寸比,確保了從反射鏡主體通過一體式鉸鏈向載置器主體充分散熱。與鉸鏈厚度相比較大的鉸鏈長度在此情況下確保穿過一體式鉸鏈的足夠大的熱傳遞截面。由于鉸鏈厚度相對于鉸鏈長度較小,所以可以利用小的力耗費來進行反射鏡主體的給定角度偏轉,以調節個體反射鏡。例如,這提供了使用致動器系統傾翻反射鏡主體的可能性,這可以通過較小的力來實現,因此在設計上可以非常緊湊。特別地,可以用于傾翻反射鏡主體的致動器是在傳統微反射鏡陣列的構造中使用的那些。對于本領域的技術人員來說,此類型的微反射鏡布置在關鍵詞“MEMS”之下(微機電系統),例如由EP 1289273A1, 是已知的。與已知的具有小得多長度/厚度比的微反射鏡轉矩懸架(參見how et al., Sensors and Actuators A 117 (2005),331_;340)相比,當使用根據本發明的一體式鉸鏈時,熱傳遞被大大改善。這是有利的,尤其在由于反射鏡主體的顯著殘留吸收而必須散熱的情況下,例如,當使用EUV輻射作為被個體反射鏡的有用輻射時。此外,通過使用載置器主體中的微通道可以進一步提高反射鏡主體和載置器主體之間的熱傳遞,該微通道允許主動冷卻,尤其是利用層狀通流的冷卻液體。根據權利要求9的兩個鉸鏈允許照射在反射鏡主體上的有用輻射的偏轉角度的可變調節。根據權利要求10所涉及的個體反射鏡主體的功能分離允許其簡單的結構設計。根據權利要求11的具有兩個一體式鉸鏈的構造允許通過兩個一體式鉸鏈進行良好的熱傳遞。特別地,可以從反射鏡主體經由中間體到載置器主體進行良好的熱傳遞。根據權利要求12的分離一體式鉸鏈部分致使一體式鉸鏈的彎曲剛度降低。根據權利要求13的電容式動作電極致動器可以利用微處理技術緊湊地制造。在給定熱傳遞時,具有這么小的彎曲剛度的一體式鉸鏈可以通過根據本發明的鉸鏈長度與鉸鏈厚度之間的比來實現,從而此類型的電極致動器所能夠產生的、例如在毫牛范圍中的典型力足以產生必要的傾翻角度。根據權利要求14的電極間隔,一方面導致高電場強度的產生,另一方面足以產生通常所需要的小傾翻角度。根據權利要求15的具有電極堆的致動器致使通過相鄰電極之間的給定絕對電壓差能夠產生總和較高的調節力。根據權利要求16的個體反射鏡的致動器的優點對應于上面結合根據權利要求1 的致動器已經描述的優點。該致動器可以以上面結合權利要求2至7已經說明的方式來改進。根據權利要求17的反射面已證明適合根據本發明的分面鏡的構造。可選地,反射鏡面還可以更小,例如具有跨越反射鏡面的在幾十毫米范圍中的尺度。諸如Imm2的更大的反射鏡面也可以。反射面可以具有矩形、六角形或者三角形的邊形狀。還可以是其他多邊形邊形狀,例如五邊形。根據權利要求18的傾翻軸線布置允許對有用輻射的精確調節。如果傾翻軸線位于反射鏡面的平面中,則個體反射鏡的傾翻不導致出射的有用輻射的偏移,或最多只有非常小的偏移。
根據權利要求19的傾翻鉸鏈的側邊布置允許就總體深度實現緊湊結構。根據權利要求20的傾翻鉸鏈布置避免了反射鏡主體的反射面的平面上的死區。 從而,相鄰個體反射鏡的反射面可以被布置為緊密排列,而幾乎沒有中間空間。根據權利要求21和22彼此分開布置的電極允許反射鏡主體相對于載置器主體以
若干自由度調節。根據權利要求23的電極的布置簡化了個體反射鏡的電極致動器系統的啟動耗費,該啟動耗費用于實現個體反射鏡對入射有用輻射的偏轉的、例如以目標線性方式運行的改變。根據權利要求M的分面鏡的優點對應于上面結合根據本發明的個體反射鏡已經描述的優點。分面鏡可以恰好具有一個根據本發明的個體反射鏡。分面鏡可以具有多個根據本發明的個體反射鏡。分面鏡可以具有超過50、超過100、超過200、超過500或超過1000 個根據本發明的個體反射鏡。當使用根據權利要求25的分面鏡時,當在投射曝光系統中使用分面鏡時,對要曝光的物場的各種照明幾何形狀的調節的可變性增加。將分面鏡細分為可以彼此獨立傾翻的大量個體反射鏡允許將分面鏡細分為個體反射鏡組的各種實現方式。這可以被用于產生具有不同邊的分組,從而例如確保適配于要照明的物場的形狀。個體反射鏡的單獨可啟動性確保可以存在物場的大量不同照明,而不由于遮擋而損耗光。特別地,能夠采用所述分面鏡的照明光學系統可適配于輻射源的光學參數,例如適配于光束發散或光束截面上的強度分布。分面鏡被構造為使得多個個體反射鏡組本身分別照明整個物場。超過10、超過50或超過100個此類型的個體反射鏡組可以被設置在根據本發明的分面鏡中。個體反射鏡照明通道是被分面鏡引導的照明輻射束的光束路徑中被分面鏡的恰好一個個體反射鏡所引導的部分。根據本發明,必須至少兩個此類型的個體反射鏡照明通道來照明整個物場。在根據US 6,438,199B1和US 6,658,084B2的分面鏡中,個體反射鏡照明通道分別照明大小與物場一致的物場部分。根據權利要求沈的照明光學系統的優點對應于上面已經參照根據本發明的分面鏡而列出的優點。根據本發明被細分為個體反射鏡的場分面鏡和根據本發明被細分為個體反射鏡的光瞳分面鏡兩者都可以被優選地使用在照明光學系統內。從而,通過場分面鏡和光瞳分面鏡上的個體反射鏡組的相應分組,可以在幾乎不損耗光的情況下實現特定照明角分布, 即照明設置。根據本發明,例如US2006/0132747A1中描述的形式的鏡面反射器也可以被細分為個體反射鏡。當利用鏡面反射器調節物場中的強度和照明角分布時,這里由于細分為個體反射鏡而導致的附加可變性很好地表現出來。根據權利要求27的照明光學系統例如可以將由個體反射鏡構造的場分面鏡的優點與由個體反射鏡構造的光瞳分面鏡的優點結合。可以在幾乎沒有光損耗的情況下進行最大變化的照明設置的調節。光瞳分面鏡可以比位于上游的場分面鏡具有更大數目的個體反射鏡。利用位于上游的場分面鏡,如果各分面可以被致動器相應地移位,尤其是傾翻,以用于調節,則可以實現光瞳分面鏡的各種照明形狀,從而可以實現照明光學系統的各種照明設置。根據權利要求28的投射曝光系統的優點對應于上面已經討論過的優點。
根據權利要求四的投射曝光系統允許高結構分辨率。根據權利要求30的制造方法以及根據權利要求31的微結構部件的優點對應于上面已經參照權利要求1至四所述的優點。可以實現具有直到亞微米范圍的高集成密度的微結構部件。
下面借助于附圖更詳細地描述本發明的實施例,其中圖1示意性地示出了穿過用于EUV投射光刻的投射曝光系統的子午面;圖2示意性地示出了在圖1所述的投射曝光系統中使用的、由個體反射鏡構造的場分面鏡的平面圖;圖3示出了用于構造圖2所示場分面鏡的個體反射鏡的平面圖;圖4示出了由觀察方向IV觀察到的、圖3中個體反射鏡的視圖,其中個體反射鏡的反射面被示出處于非傾翻的中性位置;圖5示出了圖4的細節放大圖;圖6示出了由觀察方向VI觀察到的、圖3中的個體反射鏡的視圖;圖7以與圖4類似的視圖示出個體反射鏡處于由致動器傾翻的傾翻位置;圖8以與圖4類似的視圖示出個體反射鏡的另一構造;圖9以與圖6類似的視圖示出圖8所示的個體反射鏡;圖10示出了用于構造圖2所示的分面鏡的個體反射鏡的另一構造的分解圖;圖11示出了圖10所示的個體反射鏡處在傾翻位置的構造的透視圖,其中,反射鏡板相對于載置器基板繞兩個傾翻軸線之一傾翻,這可以由致動器啟動(activate);圖12以與圖11類似的視圖示出了根據圖10和11的個體反射鏡,其中鏡面被示為相對于載置器基板繞兩個傾翻軸線傾翻;圖13示出了具有圖3至12所示構造之一的個體反射鏡的、被構造為一體式鉸鏈的傾翻鉸鏈的細節;圖14以與圖3類似的視圖示出了構造圖2所示的分面鏡的個體反射鏡的另一構造;圖15示意性地示出了用于實現圖3至圖14所示的個體反射鏡的反射鏡主體的受控傾翻的靜電電容型移動楔致動器的構造,其中致動器的兩個電極之間未施加電壓;圖16示出了圖15所示的致動器,其中在其電極之間施加了電壓;圖17以與圖8類似的視圖示出了用于構造圖2所示的分面鏡的個體反射鏡的另一構造,其被示為處在中性位置,并使用了根據圖15和圖16的致動器;圖18示出了圖17所示的個體反射鏡,其中個體反射鏡被示為處在繞其兩個傾翻軸線中的第一傾翻軸線的第一傾翻位置;圖19示出了圖17所示的個體反射鏡,其中個體反射鏡被示為處在繞與圖18的視圖相同的傾翻軸線在與圖18相反的方向上傾翻的第二傾翻位置;圖20示出了圖17所示的個體反射鏡的構造的傾翻致動器的電極布置的變型;圖21示出了具有圖20所示的電極布置的個體反射鏡的與圖10類似的分解圖;圖22示出了具有圖20所示的電極布置的個體反射鏡的側視圖23示出了具有圖20所示的電極布置的個體反射鏡的透視圖;圖M示出了圖17所示的個體反射鏡的構造的傾翻致動器的電極布置的變型;圖25示出了具有圖M所示的電極布置的個體反射鏡的與圖10類似的分解圖;圖沈示出了具有圖M所示的電極布置的個體反射鏡的側視圖;圖27示出了具有圖M所示的電極布置的個體反射鏡的透視圖;圖觀以與圖18類似的視圖示意性地示出了用于構造根據圖2的分面鏡的個體反射鏡的另一構造,該構造具有帶有電極堆的另一構造的傾翻致動器;圖四以與圖17類似的視圖示出了用于構造圖2所示的分面鏡的個體反射鏡的另一構造,其中具有圖觀所示的傾翻致動器的構造;圖30示出了圖四所示的個體反射鏡的與圖18類似的視圖;圖31透視地示出了可以由致動器傾翻的個體反射鏡的另一構造;圖32示出了圖31所示的個體反射鏡的平面圖;圖33示出了圖31所示的個體反射鏡的側視圖;圖34示出了圖31所示的個體反射鏡的分解圖。
具體實施例方式圖1在子午面中示意性地示出了用于微光刻的投射曝光系統1。投射曝光系統1 的照明系統2除輻射源3之外還具有照明光學系統4,用于在物平面6中曝光物場5。圖中未示出的布置在物場5中的掩模母版在這里被曝光,并被掩模母版保持器(也未示出)保持。投射光學系統7被用于將物場5成像在像平面9中的像場8中。掩模母版上的結構被成像在晶片的光敏層上,其中晶片被布置在像平面9的像場8的區域中且圖中未示出,并且由晶片保持器保持,晶片保持器在圖中也未示出。輻射源3是發射5nm至30nm的范圍中的有用輻射的EUV輻射源。其可以是等離子體源,例如⑶PP(Gas Discharge-Produced Plasma,氣體放電產生的等離子體)源或者 LPP (Laser-Produced Plasma,激光產生的等離子體)源。基于同步加速器的輻射源也可以被用于輻射源3。本領域的技術人員可以從例如US 6,859,515B2中發現關于此類型的輻射源的信息。由輻射源3發射的EUV輻射10由聚光器11成束。從EP 1225481A中已知相應的聚光器。在聚光器11之后,EUV輻射10在其照射到場分面鏡13之前傳播穿過中間焦平面12。場分面鏡13布置在照明光學系統4的與物平面6光學共軛的平面中。下文中,EUV輻射10也被稱為照明光或成像光。在場分面鏡13之后,EUV輻射10被光瞳分面鏡14反射。光瞳分面鏡14布置在照明光學系統4的與投射光學系統7的光瞳平面光學共軛的光瞳平面中。借助于光瞳分面鏡14以及具有反射鏡16、17和18 (以光束路徑的順序標記)的傳輸光學系統15的形式的成像光學組件(assembly),場分面鏡13的場個體分面19被成像在物場5中,下面將更詳細地描述場個體分面19,并也將其稱為子場或個體反射鏡組。傳輸光學系統15的最后一個反射鏡18是掠入射反射鏡。圖2以高度示意的視圖示出了場分面鏡13的構造的細節。場分面鏡13的總反射面20被按行和按列劃分為個體反射鏡21的光柵(raster)。個體反射鏡21的個體反射面是平面的。個體反射鏡行22具有彼此直接相鄰布置的多個個體反射鏡21。在個體反射鏡行22中可以設置幾十到幾百個個體反射鏡21。在圖2所示的示例中,個體反射鏡21是方形的。 也可以使用其他形式的、允許盡可能地無間隙地占據反射面20的個體反射鏡。可以從傾翻的數學原理中獲知此類型的替代個體反射鏡形式。在此,引用以下文章=Istvan Reimann "Parkette, geometrisch betrachtet,,,in “Mathematisches Mosaik,,,Cologne (1977);以及 Jan Gulberg :‘‘Mathematics-From the birth of numbers,,,New York/London(1997)。例如,可以將場分面鏡13構造為與DE 102006036064A1中描述的一樣。根據場分面鏡13的構造,個體反射鏡列23也具有多個個體反射鏡21。例如,每個個體反射鏡列23設置幾十個個體反射鏡21。為了輔助位置關系的描述,在圖2中畫出了笛卡爾xyz坐標系作為場分面鏡13的局部坐標系。相應的局部xyz坐標系還出現在后面以平面視圖示出分面鏡或其細節的附圖中。在圖2中,χ軸平行于個體反射鏡行22水平向右伸展。圖2中的y軸平行于個體反射鏡列23向上伸展。ζ軸垂直于圖2的圖平面向外伸展。在投射曝光期間,掩模母版保持器和晶片保持器在y方向上相對于彼此同步被掃描。掃描方向與y方向之間也可以具有小角度,如下面將說明的。在χ方向上,場分面鏡13的反射面20具有尺寸X00在y方向上,場分面鏡13的反射面20具有尺寸J00根據場分面鏡13的構造,個體反射鏡21具有例如600μπιΧ600μπι至例如 2mmX2mm范圍內的x/y尺寸。整個場分面鏡13根據構造具有例如300mmX300mm或者 600mmX 600mm的尺寸。場個體分面19具有25mmX 4mm或者104mmX 8mm的典型x/y 尺寸。根據各個場個體分面19的大小與建立這些場個體分面19的個體反射鏡21的大小的比例,每個場個體分面19具有相應數目的個體反射鏡21。每個個體反射鏡21分別連接到致動器M,用于實現入射照明光10的個體偏轉,如圖2中借助于布置在反射面20的左下角的兩個個體反射鏡21通過虛線所顯示的,以及在圖3中借助于個體分面行22的細節更詳細顯示的。致動器M布置在每個個體反射鏡21 的與個體反射鏡21的反射側遠離的一側上。致動器M可以例如被構造為壓電致動器。由微反射鏡陣列的結構已知此類型的致動器的構造。個體反射鏡行22的致動器M分別通過信號線連接到行信號總線26。一個個體反射鏡行22分別被分配到行信號總線沈之一。個體反射鏡行22的行信號總線沈繼而連接到主信號總線27。主信號總線27具有與場分面鏡13的控制裝置觀的信號連接。特別地,控制裝置觀被配置用于個體反射鏡21的按行列(即按行或按列)的共同啟動。每個個體反射鏡21可以單獨地獨立地繞兩個彼此垂直的傾翻軸線傾翻,所述傾翻軸線中的第一傾翻軸線平行于X軸延伸,所述兩個傾翻軸線中的第二傾翻軸線平行于y 軸延伸。這兩個傾翻軸線位于各個個體反射鏡21的個體反射面中。個體反射鏡21可以例如以微反射鏡陣列(MMA陣列)的方式實現,在MMA陣列中, 通過附接在邊上的彈簧鉸鏈而可移動地安裝個體反射鏡,并且可以以靜電方式致動個體反射鏡。對于本領域的技術人員來說,此類型的微反射鏡布置在關鍵詞“MEMS”(微機電系統) 之下,例如從EP 1289273A1,是已知的。在上述實施例中,個體反射鏡21在投射曝光系統1的物場5中提供用于疊加EUV 輻射10(即照明輻射)的照明通道。個體反射鏡21的反射鏡面的尺寸使得這些個體反射鏡照明通道能夠在物場5中照明物的部分,該物的部分小于物場5。個體反射鏡21可以具有帶有鉬和硅的個體層的多層涂層,所以個體反射鏡21的反射率被針對所使用的EUV波長而優化。下面將參照圖3至圖7更詳細地描述個體反射鏡的實施例,例如用于構造圖2所示的場分面鏡13的個體反射鏡21之一。對應于上面已經參照圖1至2描述的部件的部件具有相同的附圖標記,并將不再詳細討論。根據圖3至圖7的個體反射鏡21具有構造為反射鏡板的反射鏡主體79。反射鏡主體79由硅制成。反射鏡主體79具有矩形反射面80,在根據圖3至圖7的構造中,為大致方形的反射面80,用于反射EUV輻射10。反射面80可以具有多層反射涂層,用以針對EUV 輻射10優化個體反射鏡21的反射率。個體反射鏡21的反射鏡主體79可以相對于由硅制成的剛性載置器主體81繞兩個傾翻軸線傾翻。在圖3至圖7中,這兩個傾翻軸線被標記為W1和《2。這兩個傾翻軸線Wl、 w2中的每個屬于各自被構造為一體式鉸鏈的傾翻鉸鏈82、83。這兩個傾翻軸線Wl、W2彼此垂直。在此情況中,傾翻軸線W1平行于χ軸伸展,傾翻軸線平行于y軸伸展。反射鏡主體79和載置器主體81還可以由FW2或Fi3N4制成。傾翻軸線W2在此情況中在反射鏡主體 79的延伸平面中伸展。除了反射鏡主體79的實際反射面80之外,還留有小的不可傾翻的死區83a,該死區在圖30中為示為位于傾翻軸線W2上方。這兩個傾翻軸線巧、W2都平行于反射面80的平面而伸展。或者,還可以如下布置傾翻鉸鏈82、83 兩個傾翻軸線wi、w2中的至少一個在反射面80的平面中伸展。適用于構造個體反射鏡21的、EUV兼容且高真空兼容的材料的其他材料示例有 CVD (Chemical Vapour D印osition,化學氣相層積)金剛石、SiC(碳化硅)、Si02 (氧化硅)、 Al2O3、銅、鎳、鋁合金、以及鉬。圖5以放大視圖示出了屬于傾翻軸線W1的傾翻鉸鏈82。傾翻鉸鏈83被相應地構造。垂直于傾翻軸線W1 (即沿圖5中的ζ方向)的傾翻鉸鏈82具有鉸鏈厚度S。沿著傾翻軸線W1 (即圖5中的χ方向),傾翻鉸鏈82具有鉸鏈長度L (見圖6)。鉸鏈長度L在尺寸上與反射鏡主體79的橫向尺寸相當。根據圖3至圖7,個體反射鏡21中的鉸鏈長度L約為1mm。鉸鏈厚度S是1 μ m,圖中以夸張的方式顯示。因此,在圖30至圖34所示的個體反射鏡21中,商L/S約為1000。例如通過各項異性AOH(Sic)刻蝕,可以產生材料的漸縮,該材料漸縮導致一體式傾翻鉸鏈82的鉸鏈厚度S,并且在圖5中示例性地顯示為V型槽口。或者,可以例如通過刻蝕工藝,使傾翻鉸鏈82的材料臂整體成為與鉸鏈厚度S對應的尺寸。反射鏡主體79通過傾翻鉸鏈83成整體地連接到中間載置器主體84,傾翻鉸鏈83 的尺度,具體是其鉸鏈厚度S和鉸鏈長度L,對應于傾翻鉸鏈82的尺度。中間載置器主體 84也由硅制成。中間載置器主體84在圖6的截面上呈L形,并具有與傾翻鉸鏈83直接相鄰布置的鉸鏈部分85,以及布置在反射鏡主體79下方(即在反射鏡主體79的遠離反射面 80的一側上)的板部分86。間隙B(見圖6)(也被稱為傾翻鉸鏈83的寬度)存在于反射鏡主體79與中間載置器主體84的鉸鏈部分85之間的傾翻鉸鏈83的區域中。中間載置器主體84的板部分86經由傾翻鉸鏈82成整體地連接到載置器主體81的鉸鏈部分87。鉸鏈部分87固定到載置器主體81的板部分88。載置器主體81的板部分 88布置在中間載置器主體84的板部分86的下方。在圖4和6中所示的中性位置中,中間載置器主體84的板部分86以及載置器主體81的板部分88彼此平行。為了實現反射鏡主體79繞兩個傾翻軸線Wl、W2的受控傾翻,使用兩個電極致動器 89、90 (見圖7)。電極致動器89在此情況中被分配給傾翻鉸鏈82,所以其也被稱為W1致動器90。電極致動器90在此情況中被分配給傾翻鉸鏈83,所以其也被稱為W2致動器。W2致動器將導電的反射鏡主體79本身作為第一電極。W2致動器90的對應電極91被構造為施加到中間載置器主體84的板部分86的導電涂層,所述涂層面向反射鏡主體79。在個體反射鏡21的中性位置中,對應電極91與反射鏡主體79間隔約100 μ m。W2致動器90的兩個電極90、91通過信號線92連接到可啟動電壓源93。電壓源 93通過控制線94連接到致動器控制裝置95。對應電極91被同時用作用于巧致動器89的電極。W1致動器89的對應電極96 被構造為載置器主體81的板部分88上的導電涂層。W1致動器89的對應電極96被布置在載置器主體81的板部分88的面向中間載置器主體84的板部分86的一側上。在中性位置上,即在未施加力的狀態下,W1致動器89的對應電極96與中間載置器主體84的板部分86 的間隔為100 μ m。電極91、96通過信號線92電連接到另一電壓源97。電壓源97通過另一控制線 98連接到致動器控制裝置95。一方面,通過施加直流電壓Vl和V2(參見圖7),可以以可控的方式相對于載置器主體81的板部分88繞傾翻軸線W1傾翻中間載置器主體84的板部分86,另一方面,可以以可控的方式相對于中間載置器主體84的板部分86繞傾翻軸線W2傾翻反射鏡主體79,在各自情況下分別大致傾翻預定的傾翻角度。這里,繞各個傾翻軸線《1、w2的傾翻角度的量取決于傾翻鉸鏈82、83的尺度、電極90、91、96的面積、它們彼此的間隔、當然還取決于所施加的電壓V1、V2的大小等等。通過所施加的電壓V1、V2,繞兩個傾翻軸線wi、w2可以實現無級傾翻角度要求。圖7示出了如下傾翻位置其中通過施加電壓V1、V2,一方面發生中間載置器主體 84的板部分86繞傾翻軸線W1相對于載置器主體81的板部88朝向后者的傾翻,另一方面, 發生反射鏡主體79繞傾翻軸線W2相對于中間載置器主體84的板部分86朝向后者的傾翻。 入射EUV輻射10被反射鏡主體79的反射面80以相應地限定的方式偏轉,如圖7中所示。參照圖8和圖9,下面將描述個體反射鏡99的另一實施例,其可代替圖3至圖7所示的個體反射鏡21用來構造上述分面鏡。與上面參照圖1至圖2以及特別是參照圖3至圖7描述的部件對應的部件具有相同的附圖標記,并將不再詳細討論。在圖8和圖9所示的構造中,個體反射鏡99的有用反射面80覆蓋反射鏡主體79 的整個表面而沒有死區。板形的反射面載置器100通過沿著y方向在邊緣上延伸的連接條 101剛性地連接到反射鏡主體79的鉸鏈部分102。鉸鏈部分102也是板形的,并大約占據個體反射鏡99的反射面80的一半面積。鉸鏈部分102在反射面80的后面平行于反射面載置器100延伸。反射鏡主體79的鉸鏈部分102通過W2傾翻鉸鏈83連接到個體反射鏡 99的中間載置器主體104的W2鉸鏈部分103。中間載置器主體104在功能上對應于圖3至圖7所示的個體反射鏡21的中間載置器主體84。
個體反射鏡99的傾翻鉸鏈83也沿著反射面80的整個寬度(即沿著圖3至圖7 所示構造的鉸鏈長度L)延伸。這同樣適用于個體反射鏡99的傾翻鉸鏈82。W2鉸鏈部分103通過連接條105剛性地連接到中間載置器主體104的相繼的一個板型W1鉸鏈部分106。鉸鏈部分106仍然占據個體反射鏡99的反射面80的約一半面積。 在此情況中,鉸鏈部分106的矩形形狀被取向為相對于鉸鏈部分102的矩形形狀旋轉90°。 W1鉸鏈部分106通過傾翻鉸鏈82成整體地連接到載置器主體81的鉸鏈部分107。鉸鏈部分102、103以及鉸鏈部分106、107分別在傾翻鉸鏈83、82的整個鉸鏈長度 L上延伸。反射鏡主體79以及兩個對應電極108、109順次作為電極屬于傾翻鉸鏈83的W2致動器,所述兩個對應電極108、109布置在中間載置器主體104的板部分88上作為彼此絕緣的兩個涂層,并被鉸鏈部分103彼此分離。這兩個對應電極108、109分別覆蓋中間載置器主體104的板部分88的約一半面積。通過在電極79、108之間施加傾翻電壓,反射面可以繞圖9中的傾翻軸線W2逆時針傾翻。通過在電極79、109之間施加電壓,圖9中的反射鏡主體79可以順時針傾翻。對于W1致動器,對應電極110、111被用作電極108、109的對應電極。與電極108、 109類似地,對應電極110、111作為涂層被施加在載置器主體81的板部分88上,并被鉸鏈部分107彼此分離且由此電絕緣。通過在電極108、109與對應電極110之間施加傾翻電壓,在圖8中,中間載置器主體104繞傾翻軸線W1在逆時針方向上發生受控傾翻。通過電極 108或109與對應電極111之間施加傾翻電壓,在圖8中,中間載置器主體104繞傾翻軸線 W1在順時針方向上發生傾翻。以此方式,個體反射鏡99的反射面80可以繞兩個傾翻軸線W1、W2分別在兩個傾翻方向上從圖8和圖9中所示的中性位置實現電壓控制的傾翻。下面將參照圖10至圖12說明個體反射鏡112的另一構造。對應于上面已經參照圖1至2、尤其是參照圖3至9描述的部件的部件具有相同的附圖標記,并將不再詳細討論。在個體反射鏡112中,反射面載置器100連接到連接條101,連接條101同時作為鉸鏈部分102。布置在反射面載置器100的與反射面80相反的一側上的是間隔件(spacer) 112a, 其在較大傾翻角度時確保反射面載置器100不與下面的部件直接接觸。間隔件11 由反射面載置器100的整體材料通過深反應離子刻蝕(DRIE)制成。鉸鏈部分102通過第一 W2 傾翻鉸鏈83連接到W2鉸鏈部分103,W2鉸鏈部分103同時是個體反射鏡112的第一 L形中間載置器主體。W2鉸鏈部分103通過第一 W1傾翻鉸鏈82連接到第一鉸鏈部分107,第一鉸鏈部分107剛性地連接到載置器主體81的板部分。W2鉸鏈部分103的L形狀的一條腿同時是W1鉸鏈部分106。個體反射鏡112總共具有兩個L形組件,L形組件具有鉸鏈部分102、103、106、 107,并相應具有傾翻鉸鏈82、83,所述傾翻鉸鏈82、83分別包含在此L結構形狀的一條腿中。這兩個L形組件各自具有相同構造的鉸鏈連接部件。在各個L結構形狀的、由互相鄰接的L腿形成的轉角區域中,這兩個組件彼此裝配到對方中,使得總體上產生十字交叉形結構(比較本文中圖21所示的結構上相同的構造,下文中將描述),其中,兩個wl傾翻鉸鏈 82和兩個w2傾翻鉸鏈83分別彼此齊平(flush)。
13
間隔件11 分別連接到兩個W2傾翻鉸鏈83的連接條101。因為平行于反射面80 的平面并橫對著它們的縱向的兩個連接條101由于這兩個L組件的十字交叉結構而被布置為彼此偏離,所以間隔件112也具有在相同方向上彼此偏離的間隔件部分。反射鏡主體79本身在各個情況下一方面用作W1致動器的電極,用于實現反射面 80繞傾翻軸線W1的受控傾翻,另一方面用作W2致動器的電極,用于實現反射面80繞傾翻軸線W2的受控傾翻。個體反射鏡112具有四個對應電極114、115、116、117,它們分別覆蓋載置器主體81的板部分88的各象限,并被構造為板部分88上的彼此絕緣的導電涂層。根據在這四個對應電極114至117中的哪個電極與反射鏡主體79之間施加傾翻電壓V,反射面80相對于載置器主體81產生相應傾翻。通過圖IlA中的示例顯示這一點。那里,在反射鏡主體79與兩個對應電極114、117之間施加電壓V。反射鏡主體79繞傾翻鉸鏈82的傾翻軸線W1發生相應傾翻。圖12示出在另一傾翻示例中僅在反射鏡主體79與對應電極114之間施加電壓V 的情形。一方面發生繞傾翻鉸鏈82的傾翻軸線W1的傾翻,另一方面發生繞傾翻鉸鏈83的傾翻軸線W2的傾翻。在圖5的替代視圖中,圖13示出了傾翻鉸鏈82的另一構造的尺寸比。而且在此情況中,鉸鏈厚度S約為1 μ m,鉸鏈寬度B約為20 μ m,并且垂直于圖13的畫面延伸的鉸鏈長度L約為1mm。圖14示出了傾翻鉸鏈82或83的變型,其中沿著鉸鏈長度L被分為多個一體式鉸鏈區段118。在圖14所示的實施例中,鉸鏈長度L被劃分為約25個此類型的一體式區段 118。相鄰所一體式鉸鏈區段118相對于彼此具有間隔,即使間隔非常小。可以通過深反應離子刻蝕(DRIE)將傾翻鉸鏈82或83劃分為一體式鉸鏈區段118。作為劃分為一體式鉸鏈區段或部分118的替代,或者對其的附加,可以在反射鏡主體79和/或在載置器主體81中設置微通道。這些微通道可以允許個體反射鏡的主動冷卻,尤其是利用層狀通流的冷卻液體。圖15和圖16示出了用于實現例如個體反射鏡21的反射面80繞至少一個傾翻軸線W1^2的受控傾翻的致動器119的另一構造。對應于上面已經參照圖3至圖14描述的部件的部件具有相同的附圖標記,并且將不再詳細描述。致動器119具有移動電極120,移動電極120的自由端121在圖15和圖16中被構造成與分配給致動器119的傾翻鉸鏈的鉸鏈體(圖15和圖16中未示出)的活動連接。移動電極120是平的,圖15和圖16中示出了其截面。移動電極120在圖15和圖16的截面中是彎曲的。剛性連接到載置器主體81的板部分88的是致動器119的對應電極122。對應電極122例如被構造為載置器主體81的板部分88上的涂層。布置在移動電極120和對應電極122之間的是電介質123形式的層。電介質例如可以被構造為對應電極122上的平涂層。在接觸面部分124中,對應電極122直接倚靠在電介質123上。移動電極120的間隔面部分125與對應電極122和電介質123間隔開。移動電極120的自由端121是間隔面部分125的一部分。圖15和圖16示出了移動電極120的兩個位置。圖15示出了其中在兩個電極120、 122之間未施加電極的中性位置。這時,移動電極120的自由端121從板部分88被最大限度地提升。圖16示出了其中在電極120、122之間施加例如80V的傾翻電壓的位置。在根據圖16的傾翻位置中,移動電極120額外地倚靠在電介質123上與接觸面部分IM相鄰的區域上,所以自由端121與載置器主體81的板部分88的間隔被相應地降低。圖15和圖16所示的類型的致動器119也被稱為微移動楔驅動器(拉鏈致動器, 拉鏈運動致動器)。圖17至圖19示出了圖15和圖16所示的兩個致動器119在個體反射鏡126中的使用,個體反射鏡126在傾翻鉸鏈82、83的布置方面依據圖8和圖9的個體反射鏡99來構造。在個體反射鏡126中,W1鉸鏈部分106被構造為繞傾翻軸線W1的搖桿(rocker), 其被模制(mould)到鉸鏈部分107上。在邊緣處,W1鉸鏈部分106的兩個搖臂127、1 連接到相對于接觸面部分彼此背對背布置的兩個致動器119的自由端121。圖17示出了兩個致動器119的中性位置,其中wl鉸鏈部分106表現為未相對于載置器主體81的板部分88傾翻。在個體反射鏡1 的第一變型中可通過使所有電極120、 121被切換為無電壓而實現圖17所示的此中性位置。用于致動器119的替代電壓啟動裝置(圖中未示出)被構造為使得在W1鉸鏈部分 106(即搖臂127、128(參見圖17))的中性位置,在移動電極120與所關聯的對應電極122 之間施加不為OV的偏置電壓。此類型的電偏置電壓被用于產生杠臂127、1觀繞傾翻軸線 W1的機械偏置電壓。以此方式,可以以規定的方式調節其中反射鏡主體79平行于載置器主體81精確定向的中性位置。圖18示出了向圖18左邊所示的致動器119的電極120、122施加傾翻電壓的情形。 相應地,反射鏡主體79繞傾翻軸線W1在逆時針方向上傾翻。圖19示出了向圖19右邊所示的致動器119施加傾翻電壓的情形。相應地,反射鏡主體79繞傾翻軸線W1在順時針方向上傾翻。圖20至圖23以及圖M至圖27示出了移動電極120的兩個不同的構造和布置變型。對應于上面已經參照圖1至19描述的部件的部件具有相同的附圖標記,并將不再詳細說明。具有圖20至27所示的布置的移動電極120的對應電極被設計為根據圖10至圖 12所示的構造的四象限電極114至117。在圖20至23所示的致動器119中,呈現了分別在載置器主體81的板部分88的四象限之一中沿徑向布置在板部分88上的四個移動電極120。圖20至23所示的移動電極 120的自由端121分別被布置為靠近載置器主體81的方形板部分88的四個角。這些自由端121具有接觸部分129,通過接觸部分129,移動電極120可移動地連接到中間載置器主體或反射鏡主體79。接觸部分1 是移動電極120與例如W1鉸鏈部分106(即鉸鏈體)的連接區域。與自由端121相對,圖47至50所示構造中的每個移動電極120在接觸面部分 124的區域中具有剛性連接到板部分88的端部。在圖M至圖27所示的移動電極120的構造和布置示例中,每個移動電極呈現為螺旋面體。在圖M至圖27所示的移動電極120的固定端130(移動電極120在固定端130 被固定到板部分88)與自由端121的接觸部分1 之間,每個移動電極120伸展約三個螺旋圈。
根據圖20至23所示的布置,還在圖M至圖27所示的布置中布置有四個移動電極120,四個移動電極120之一分別布置在板部分88的四個象限之一中。在圖M至圖27所示的布置中,每個移動電極120的固定端130靠近板部分88的各象限的角部。在圖M至圖27所示的布置中,接觸部分1 位于板部分88的各個象限的中心區域中。致動器119也可以具有電磁驅動,以代替靜電驅動。在此情況下,提供電磁磁阻致動器,以代替對應電極122和電介質123。提供薄的鐵磁性金屬板代替移動電極120。下面參照圖觀至圖30描述用于實現反射鏡主體繞傾翻軸線的受控傾翻的致動器 131的另一構造。對應于已經參照圖1至圖27、尤其是參照圖3至圖27描述的部件的部件具有相同的附圖標記,并將不再詳細討論。在圖觀至圖30所示的致動器131中,載置器主體81的板部分88上的導電涂層 132繼而被用作致動器131的電極之一。對應電極134、135、136的堆133布置在此電極132 上方。相鄰的對應電極可以分別繞一體式鉸鏈137相對于彼此傾翻,一體式鉸鏈137在圖 28中示意性的示出。因此,每個一體式鉸鏈137沿著反射鏡主體79上的反射面的鉸鏈寬度延伸到上述傾翻鉸鏈82、83。在未受力的中性位置,對應電極134至136分別已經相對于板部分88上的電極132的平面發生傾翻,如圖28中的虛線所示。圖28以實線示出了在相鄰電極132和134至136之間施加附加傾翻電壓的情形。這導致相鄰電極132和134至 136從傾翻的中性位置開始通過圍繞一體式鉸鏈137的偏轉進一步朝向彼此傾翻。因此, 圖觀中最上方示出的對應電極136經歷對應于布置在其下的電極對相對于彼此的相對傾翻的總和的傾翻角。反射鏡主體79繼而可以連接到圖觀最上方所示的對應電極136,從而被致動器相應地傾翻。最上方的對應電極136的總傾翻角α被作為對應電極134、135和 136的單獨傾翻角Qpa^a3的總和而產生。下面將參照圖四和圖30描述將致動器131應用于圖17至圖19所示個體反射鏡 126的形式的個體反射鏡138中的情形。在此情況中,具有對應電極堆133的致動器131布置在載置器主體81的板部分88與中間載置器主體104的W1鉸鏈部分106的搖臂127、1 之間。與根據圖觀的構造不同,在圖四和圖30所示構造的致動器131中,一體式鉸鏈157 被布置為與傾翻軸線W1相鄰。圖四示出了中性位置。圖30示出了其中向圖30的左邊所示的致動器的電極132 和134、135、136施加傾翻電壓的位置。結果是圖30中W1鉸鏈部分106繞傾翻軸線W1在逆時針方向上的傾翻。在鉸鏈的其他變型中,鉸鏈長度L與鉸鏈厚度S也可以呈現另一尺寸比。L/S可以大于50,大于100,大于250或者大于500。大于1000的L/S比也是可以的。下面將參照圖31至34描述個體反射鏡139的另一構造,其具有用于實現反射鏡主體79的受控傾翻的致動器119形式的致動器。對應于上面已經參照圖1至圖30、尤其是參照圖3至圖30描述的部件的部件具有相同的附圖標記,并將不再詳細描述。在個體反射鏡139中的反射鏡主體79和反射面80具有等邊三角形的形狀。三邊之一的邊長度可以是約1mm。各個致動器119之一分別被布置為平行于此三角形的三邊之一。每個致動器119具有移動電極120,移動電極120通過接觸部分1 連接到反射鏡主體79,并通過接觸面部分IM連接到載置器主體81。三個致動器119的致動可以如結合對圖15至27所示的致動器119的描述所說明的那樣彼此獨立地進行。以此方式,可以在三個獨立的傾翻自由度上實現反射面80相對于載置器主體81的傾翻。三個致動器119布置成使得在個體反射鏡139的平面視圖中,接觸部分1 沿逆時針方向分別布置在相鄰致動器119的接觸面部分124的上方。個體反射鏡139沒有傾翻鉸鏈82、83形式的鉸鏈。上述用于傾翻反射鏡主體79的致動器可以具有集成傳感器系統,用于測量繞傾翻軸線Wl、W2的各個傾翻角度。特別地,此傳感器系統可以被用于監測所調節的傾翻角度。此類型的傳感器系統可以例如由電容型測量橋形成,尤其是維恩(Wien)橋形式的測量橋。結果,可以確定反射鏡主體79的反射面與參考體之間的電容,這取決于兩者彼此間的距離,換句話說,取決于反射鏡主體79的反射面的傾翻角度位置。在此情況中,用于反射鏡主體79的上述致動器系統的直流電壓可以與施加在上述電極之間的交流電壓分量疊加。從而,通過集成測量橋可以測量所求電容的阻抗改變。為此目的,進行零平衡,其中, 已知的可變電容或者已知的可變電阻被用在橋電路內。測量橋本身可以被嵌入在集成電路中,該集成電路直接位于載置器主體81下方,或者甚至在載置器主體81內。這確保由于短信號線導致的寄生電容被最小化。致動器啟動和傳感器系統的信號放大和模擬/數字轉換也可以在集成ASIC(特定用途集成電路)中進行。借助于投射曝光系統1,物場5中的至少一部分掩模母版被成像在像場8中的晶片上的光敏層的區域上,以通過光刻方式產生微結構或納米結構部件,尤其是半導體部件,例如微芯片。根據作為掃描機或作為步進機的投射曝光系統1的構造,在掃描機操作中連續地或者在步進機操作中步進地,以時間同步的方式在y方向上移動掩模母版和晶片。
1權利要求
1.用于構造分面鏡(13,14;47 ;64 ;67 ;70)的個體反射鏡(139),-其中所述個體反射鏡Ol ;99 ;112 ;126 ; 138)的反射鏡主體(79)被構造為能夠繞至少一個傾翻軸線而相對于剛性載置器主體(81)傾翻,其特征在于,用于實現繞所述至少一個傾翻軸線的受控傾翻的致動器(119)具有 -移動電極(120),其可移動地連接到第一鉸鏈體, -對應電極(122),其剛性地連接到第二鉸鏈體,-其中在所述移動電極(120)和所述對應電極(12 之間布置有電介質層(123), -其中所述對應電極(12 在接觸面部分(124)中通過所述電介質層(123)直接倚靠在所述移動電極(120)上,并且其中,在間隔面部分(12 中,所述對應電極(12 和所述移動電極(120)之間的間隔在所述致動器(119)的未受力狀態下連續地增大,所述移動電極(120)用于連接到所述第一鉸鏈體的連接區域(121,129)位于所述間隔面部分(125) 中。
2.如權利要求1所述的個體反射鏡,其特征在于,三或四個致動器(119)各自具有一個移動電極(120)。
3.如權利要求1或2所述的個體反射鏡,其特征在于,所述移動電極(120)設計成彎曲狀。
4.如權利要求1至3中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,所述移動電極(120) 具有矩形基面。
5.如權利要求1至4中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,所述移動電極(120)具有螺旋基面。
6.如權利要求1至5中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,所述移動電極(120) 與所述對應電極(122)之間的間隔在所述間隔面部分(125)逐漸增大。
7.如權利要求1至6中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,用于所述電極致動器(119)的電壓輸入裝置被構造為使得在所述電極致動器(119)的中性位置中,所述電壓輸入裝置在所述至少一個移動電極(120)與所述至少一個對應電極(12 之間施加偏置電壓。
8.用于構造分面鏡(13,14;47 ;64 ;67 ;70)的個體反射鏡(21 ;99 ;112 ;126 ; 138),-其中所述個體反射鏡Ol ;99 ;112 ;126 ; 138)的反射鏡主體(79)被構造為能夠繞傾翻鉸鏈(82,83)的至少一個傾翻軸線(Wl,W2)相對于剛性載置器主體(81)傾翻, 其特征在于,所述傾翻鉸鏈(82,8 被構造為一體式鉸鏈,所述一體式鉸鏈具有 -垂直于所述傾翻軸線(巧,w2)的鉸鏈厚度S,以及 -沿著所述傾翻軸線(巧,w2)的鉸鏈長度L,其中,滿足L/S > 50。
9.如權利要求8所述的個體反射鏡,其特征在于,所述反射鏡主體(79)被構造為能夠繞兩個傾翻鉸鏈(82,83)的兩個彼此不平行的傾翻軸線(wi,w2)相對于所述載置器主體 (81)傾翻。
10.如權利要求9所述的個體反射鏡,其特征在于,所述兩個傾翻鉸鏈中的第一傾翻鉸鏈(8 布置在所述反射鏡主體(79)和中間體(84)之間,并且所述兩個鉸鏈中的第二傾翻鉸鏈(8 布置在所述中間體(84)和所述載置器主體(81)之間。
11.如權利要求8至10中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,所述兩個鉸鏈(82,83)被構造為一體式鉸鏈,其中所述兩個一體式鉸鏈-垂直于它們各自的傾翻軸線(W1,W2)具有鉸鏈厚度S,并且-沿著它們各自的傾翻軸線(W1,W2)具有鉸鏈長度L,其中,滿足L/S > 50。
12.如權利要求8至11中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,所述至少一個傾翻鉸鏈(82,83)沿著所述傾翻軸線(W1^2)被劃分為多個分開的一體式鉸鏈部分(118)。
13.如權利要求8至12中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,用于實現繞所述至少一個傾翻軸線(W1^2)的受控傾翻的致動器(89,90 ; 119 ;131)具有-至少一個電極(79 ;91),其剛性地連接到所述傾翻鉸鏈(82,83)的第一鉸鏈體(79 ;84),-至少一個對應電極(91 ;96),其剛性地連接到所述傾翻鉸鏈(82,83)的第二鉸鏈體 (84 ;81)。
14.如權利要求13所述的個體反射鏡,其特征在于,所述電極(79;91)與所關聯的對應電極(91 ;96)的未受力作用時的間隔為100 μ m。
15.如權利要求13或14所述的個體反射鏡,其特征在于,在所述電極(132)與剛性地連接到所述傾翻鉸鏈(82,83)的第二鉸鏈體(79)的對應電極(136)之間布置其他電極(134,135),從而這些電極(134,13 與剛性地連接到所述第二鉸鏈體(79)的對應電極(136) —起形成電極堆(133),各個相鄰電極(132,134-136)被構造為能夠繞傾翻鉸鏈 (137)相對于彼此傾翻。
16.如權利要求8至15中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,用于實現繞所述至少一個傾翻軸線(W1)的受控傾翻的致動器(119)具有-移動電極(120),其可移動地連接到所述傾翻鉸鏈(82,83)的第一鉸鏈體(106), -對應電極(122),其剛性地連接到所述傾翻鉸鏈(82,83)的第二鉸鏈體(88), -其中在所述移動電極(120)和所述對應電極(12 之間布置電介質層(123), -其中所述對應電極(12 在接觸面部分(124)中通過所述電介質層(12 直接倚靠在所述移動電極(120)上,并且其中,在間隔面部分(12 中,所述對應電極(12 和所述移動電極(120)之間的間隔在所述致動器(119)的未受力狀態下連續增大,所述移動電極 (120)用于連接到所述傾翻鉸鏈(82,83)的第一鉸鏈體(106)的連接區域(121,129)位于所述間隔面部分(125)中。
17.如權利要求1至16中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,所述反射鏡主體(79)具有尺寸至少為ImmXlmm的反射面(80)。
18.如權利要求1至17中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,所述至少一個傾翻軸線(W1,W2)在所述反射面(80)的平面中或者與該平面平行地延伸。
19.如權利要求1至18中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,所述至少一個傾翻鉸鏈(83)被布置于所述反射鏡主體(79)的反射面 (80)的側邊。
20.如權利要求1至18中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,所述至少一個傾翻鉸鏈(82,8 布置在所述反射面(80)下方中央。
21.如權利要求1至20中的任一項所述的個體反射鏡,其特征在于,設置有有著彼此分開布置在所述載置器主體(81 ;84)上的至少兩個電極 (108,109 ;110,111 ;114-117)的致動器。
22.如權利要求21所述個體反射鏡,其特征在于,設置有有著彼此分開布置在所述載置器主體(81)上的四個電極(114-117)的致動器。
23.如權利要求22所述的個體反射鏡,其特征在于,所述四個電極(114-117)按照四個象限布置。
24.用作用于EUV微光刻的投射曝光系統(1)中的光學部件的分面鏡(13,14;47 ;64 ; 67,70),其中所述分面鏡(13,14 ;47 ;64 ;67, 70)具有如權利要求1至23中的任一項所述的個體反射鏡(21 ;69)。
25.如權利要求M所述的分面鏡,其特征在于,-所述個體反射鏡(21 ;69)提供個體反射鏡照明通道(AK),以將照明輻射(10)引導到所述投射曝光系統(1)的物場(5),-其中所述個體反射鏡Ol ;69)具有反射鏡面,使得所述個體反射鏡照明通道(AK)照明所述物場(5)中的小于所述物場(5)的物場部分(73 ;76),并且-其中,所述個體反射鏡Ol ;69)能夠通過致動器04)被傾翻。
26.用于微光刻的投射曝光系統(1)的照明光學系統G),其具有至少一個如權利要求 M或25所述的分面鏡。
27.如權利要求沈所述的照明光學系統,其特征在于,具有兩個如權利要求M或25所述的分面鏡(13,14)。
28.投射曝光系統,其具有如權利要求沈或27所述的照明光學系統0)、用于產生照明和成像光(10)的輻射源(3)、以及用于將所述投射曝光系統的物場( 成像在像場(8) 中的投射光學系統(7)。
29.如權利要求觀所述的投射曝光系統,其特征在于,所述輻射源(3)被構造為EUV輻射源。
30.用于制造微結構或納米結構的部件的方法,其包括以下方法步驟-提供晶片,在所述晶片上至少部分地施加有光敏材料層,-提供掩模母版,其具有要被成像的結構,-提供如權利要求觀或四所述的投射曝光系統(1),-借助于所述投射曝光系統(1)的投射光學系統(7)將所述掩模母版的至少一部分投射到所述光敏材料層的一區域上。
31.微結構部件,其由如權利要求30所述的方法制造。
全文摘要
個體反射鏡(112)被用于構造分面鏡。個體反射鏡(112)的反射鏡元件(79)能夠繞傾翻鉸鏈(82,83)的至少一個傾翻軸線(w1,w2)相對于剛性支撐元件(81)傾翻。傾翻鉸鏈(82,83)被設計為一體式鉸鏈。該一體式鉸鏈垂直于傾翻軸線(w1,w2)具有鉸鏈厚度S,沿著傾翻軸線(w1,w2)具有鉸鏈長度L,并滿足L/S>50。結果得到用于構造分面鏡的個體反射鏡,其中所述分面鏡能夠被復制,能夠被精確調節,并且同時通過反射鏡主體的散熱而確保充分地散失熱量,尤其是由對個體反射鏡反射的有用輻射的殘余吸收所產生的熱量。
文檔編號G02B26/08GK102272636SQ201080004210
公開日2011年12月7日 申請日期2010年1月8日 優先權日2009年1月9日
發明者弗洛里安.巴赫, 諾伯特.米爾伯格, 阿明.沃伯 申請人:卡爾蔡司Smt有限責任公司