專利名稱：一種真空電鍍模具的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于光學器件領域，尤其涉及一種光潔度高的真空電鍍模具。
背景技術：
目前，現有的光學器件對有源光線的利用極低，尤其是在背光行業，一般來說，其 中導光板對與外部光的有效利用不到50%，隨著光學顯示的進一步發展，尤其是在TFT液晶顯示屏之中，更是需要高性能的 導光板。一般來說，導光板設計原理是將線光源轉變為面光源，同時，還要求對背光透過導 光板后的亮度盡可能地高以及使導光板出光面出來的光盡可能地均勻分布，這樣才能夠滿 足TFT液晶顯示屏對背光光源的要求。而目前增亮途徑有兩種，一是提高燈的亮度，二是加增亮膜，但對光線充分利用有 一定局限性。并且，側光對光源能量的利用小于底部進光，同時提高燈的亮度和加增亮膜都 需增加成本，如何提高對光的利用需在光學器件表面有新突破，是一個急需解決的技術問 題。
實用新型內容本實用新型針對傳統的模具表面的表面光潔度不高的缺點而提出，提供一種高光 潔度的模具配件表面，其具有光潔度高、對光利用率較高的特點。本實用新型解決上述技術問題所采取的技術方案如下面所描述—種真空電鍍模具，包括模具本體以及模具上表面和模具下表面，所述模具上表 面和下表面為真空電鍍面。進一步地，優選的結構是，所述真空電鍍模具是導光板。進一步地，優選的結構是，所述導光板由透光材料組成。本實用新型在采取了上述技術方案以后，由于模具上表面和模具下表面都選取的 是真空電鍍面，并且，該真空電鍍面光滑平整，具有光潔度高的技術優點，能夠充分地滿足 光學器件的表面光潔度要求。
通過
以下結合附圖對其示例性實施例進行的描述，本發明上述特征和優點將會變 得更加清楚和容易理解。圖1為通用的導光板結構的結構示意圖；圖2為本實用新型優選實施例的結構示意具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型進行進一步的描述在具體實施例之中，我們采取導光板進行描述。[0016]圖1為通用的導光板結構的結構示意圖，如圖所示，其包括導光板本體1、導光板 出光面2以及導光板底面3，由于傳統的導光板設計，我們從該示意圖可以發現，導光板出 光面2以及導光板底面3都比較粗糙，因此，不能夠很好地滿足現代的光學發展對于導光板 (光學器件)的光潔度要求。為了解決上述技術問題，我們提出了一種真空電鍍模具，包括模具本體以及模具 上表面和模具下表面，所述模具上表面和下表面為真空電鍍面。還是以導光板為例，圖2為本實用新型優選實施例的結構示意圖。如圖所示，其包 括導光板本體1以及導光板出光面2以及導光板底面3，由于上述導光板出光面2以及導光 板底面3都選取的是真空鍍光面，因此，其光潔度非常高。相對于傳統的設計，其明顯光潔 許多。下面，我們對上述真空電鍍模具的制作方法進行一個詳細的描述。一般來說，該種真空電鍍模具的制作工藝由如下幾個方面完成第一、模具慢走絲加工；第二、模具配件加工好后表面先用拋光機打磨；第三、在上述部件拋光以后再將配件進行真空電鍍；第四、電鍍后進行光掃描放大測試表面光潔度，經過上述步驟以后，我們就能夠獲 得較為滿意的光潔度的電鍍模具。本實用新型在采取了上述技術方案以后，由于模具上表面和模具下表面都選取的 是真空電鍍面，并且，該真空電鍍面光滑平整，具有光潔度高的技術優點，能夠充分地滿足 光學器件的表面光潔度要求。需要注意的是，上述具體實施例是示例性的，在本實用新型的上述教導下，本領域 技術人員可以在上述實施例的基礎上進行各種改進和變形，而這些改進或者變形落在本實 用新型的保護范圍內。本領域技術人員應該明白，上面的具體描述只是為了解釋本實用新型的目的，并 非用于限制本實用新型。本實用新型的保護范圍由權利要求及其等同物限定。
權利要求1.一種真空電鍍模具，包括模具本體以及模具上表面和模具下表面，其特征在于，所述 模具上表面和下表面為真空電鍍面。
2.根據權利要求1所述的真空電鍍模具，其特征在于，所述真空電鍍模具是導光板。
3.根據權利要求1所述的真空電鍍模具，其特征在于，所述導光板由透光材料組成。
專利摘要本實用新型公開了一種真空電鍍模具，包括模具本體以及模具上表面和模具下表面，所述模具上表面和下表面為真空電鍍面。本實用新型在采取了上述技術方案以后，由于模具上表面和模具下表面都選取的是真空電鍍面，并且，該真空電鍍面光滑平整，具有光潔度高的技術優點，能夠充分地滿足光學器件的表面光潔度要求。
文檔編號G02B6/00GK201845092SQ20102056746
公開日2011年5月25日 申請日期2010年10月18日 優先權日2010年10月18日
發明者周建紅 申請人:深圳市鴻智電子技術有限公司