專利名稱：圓片的光刻方法
技術領域：
本發明涉及一種圓片的光刻方法。
背景技術：
現有圓片的光刻，采用的光刻機強度低，只有2. 5mW/cm2，導致生產效率低下。
發明內容
本發明目的是針對現有技術存在的缺陷提供一種圓片的光刻方法。本發明為實現上述目的，采用如下技術方案本發明圓片的光刻方法，包括如下步驟將圓片放入光刻機，光刻機的汞光燈強 8 12mW/cm2、曝光時間3 6秒，所述圓片為勻膠后的硅片。所述光刻機為北京四十五所生產的401A型本發明提高汞光燈的光強，大大降低了工作時間，提高了效率。
具體實施例方式實施例1本發明圓片的光刻方法，包括如下步驟將圓片放入光刻機，光刻機的汞光燈強 8mw/cm2、曝光時間6秒。實施例2本發明圓片的光刻方法，包括如下步驟將圓片放入光刻機，光刻機的汞光燈強 12mw/cm2、曝光時間3秒。所述光刻機為北京四十五所生產的401A型本發明提高汞光燈的光強，大大降低了工作時間，提高了效率。
權利要求
一種圓片的光刻方法，其特征在于包括如下步驟將圓片放入光刻機，光刻機的汞光燈強8～12mw/cm2、曝光時間3～6秒，所述圓片為勻膠后的硅片。
2.根據權利要求1所述的圓片的光刻方法，其特征在于所述光刻機為北京四十五所生 產的401A型。
全文摘要
本發明公布了一種圓片的光刻方法，將圓片放入光刻機，光刻機的汞光燈強8～12mw/cm2、曝光時間3～6秒。本發明提高汞光燈的光強，大大降低了工作時間，提高了效率。
文檔編號G03F7/20GK101963764SQ201010253479
公開日2011年2月2日 申請日期2010年8月13日 優先權日2010年8月13日
發明者張春華, 張馨月 申請人:無錫春輝科技有限公司