光散射膜的生產方法、光散射膜、起偏振片、圖像顯示裝置和透射/半透射液晶顯示裝置的制作方法

專利名稱：光散射膜的生產方法、光散射膜、起偏振片、圖像顯示裝置和透射/半透射液晶顯示裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及光散射膜的生產方法、光散射膜、起偏振片、圖像顯示裝置和透射/半 透射液晶顯示裝置。
背景技術：
近年來，由于液晶顯示器(IXD)纖薄、重量輕且耗電很少，已經得到廣泛使用。液 晶顯示器都包括液晶單元和起偏振片。起偏振片通常由保護膜和起偏振膜形成，可以通過 用碘酒對聚乙烯醇制成的起偏振膜染色，拉伸所得的膜并然后在其兩側都堆疊保護膜來獲 得起偏振片。在透射液晶顯示裝置中，可以將起偏振片附著到液晶單元的兩側并可以進一 步設置一個或多個光學補償片。在反射型液晶顯示裝置中，通常的做法是按照下述次序放 置反射板、液晶單元、一個或多個光學補償片和起偏振片。由于LCD不是發光型顯示裝置，因此其需要面光源。作為面光源的一種模式，廣泛 使用了背光類型，其在液晶單元和發光光源之間有著具有光漫射能力的構件，例如漫射片 或棱鏡片，以提供均勻的面光源，而且將冷陰極熒光燈(CCFL)或LED用作其發光光源。已 知一些LCD使用放置在導光板和漫射片或棱鏡片邊緣部分的光源組合作為其面光源。在這 些裝置中，通常，將線光源或點光源轉換成面光源，從而利用漫射片或漫射膜(光漫射片或 光漫射膜)使面光源均勻。在背光中用于獲得面光源的構件中，通常將漫射片放置在背光和其一側上的起偏 振片之間。通過放置漫射片，能夠減小由于光源造成的亮度不均勻，并在屏幕上實現均勻的 顯示性質(JP-A-2000-75134)，同時，抑制由于入射光與液晶單元中的像素干涉而產生干涉 條紋，例如莫爾條紋。不過，近年來已經試圖減少液晶顯示單元的構件數量或減少被用作光源的熒光燈 數量，以實現更低功耗。隨著IXD厚度的減小，背光的光源和漫射片之間的距離變窄，因此 難以利用常規漫射膜實現均勻的光漫射。為了盡可能地增大這一距離，曾經使用在起偏振 片位于背光一側的表面上具有漫射性質的漫射片作為替代。例如，JP-A-2000-75134提出了一種光漫射起偏振片，其包含散布形式的多孔 非晶體顆粒和球形顆粒，并有著具有預定性質的光漫射層，使用它能夠省去光漫射片。 JP-A-2001-172403和JP-A-2003-25504提出了一種光漫射膜的生產工藝，包括向支撐體上 澆鑄含細小顆粒的涂料(dope)的步驟。其公開了這種工藝能夠制備在光學各向異性等方 面極好的光漫射膜。

發明內容
然而，由于總的透光率低，所以在用于圖像顯示裝置中時，JP-A-2000-75134、 JP-A-2001-172403和JP-A-2003-25504中描述的光漫射膜可能會導致正向白光亮度 (front white luminance)的降低。另一方面，減小霧度，換言之增大總透射率以便保持正 向亮度有時可能會妨礙抑制顯示屏均勻性的劣化(背光的不均勻)或抑制諸如莫爾條紋的 干擾條紋的產生。僅利用無定形顆粒或二級顆粒來控制均勻性的這種劣化或干涉環的產 生，不過這具有不可控的光散射性質，或者僅通過與諸如Ra或Rt的高度相關的因素控制表 面形狀。于是，這些措施不包括用于精確光散射的表面設計。本發明的目的是提供一種光散射膜、起偏振片和能夠以低成本容易地生產光散射 膜的方法，每者都有助于改善顯示性能并減薄諸如液晶顯示裝置的圖像顯示裝置。本發明的另一目的是提供一種圖像顯示裝置，這種圖像顯示裝置具有高的正向白 光亮度，能夠在屏幕中提供均勻顯示，并能夠抑制諸如莫爾條紋的干涉環，同時，能夠對減 薄要求做出響應。 可以通過以下構造實現上述目的。(1) 一種用于生產光散射膜的方法，包括向支撐體上澆鑄至少包含熱塑樹脂和透光顆粒的涂料以提供澆鑄膜，并剝離和干 燥所述澆鑄膜以制備透光基底材料；向所述透光基底材料上涂敷至少包含可固化化合物、聚合引發劑和溶劑的涂布溶 液并干燥所述溶劑；以及固化所述可固化化合物以形成固化層，其中，所述透光基底材料的至少一個表面具有粗糙形狀，所述透光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2. 5 u m，但不大于12 u m,所述固化層的平均厚度為0. 1 ii m或更大但不大于10. 0 ii m，并且所述固化層滿足公式(1)到(3)0. 05 u m ^ Ra ^ 0. 8 u m (1)10 u m ^ Sm ^ 300 u m (2)1. 5° ( e a < 4. 5° (3)其中，Ra代表所述固化層的算術平均粗糙度，Sm代表所述固化層表面的平均峰谷 距離，e a代表所述固化層表面的平均傾角，每個都基于Jis B 0601。(2) 一種用于生產光散射膜的方法，包括向支撐體上澆鑄至少包含熱塑樹脂和透光顆粒的涂料以提供澆鑄膜，并剝離和干 燥所述澆鑄膜以制備透光基底材料；向所述透光基底材料上涂敷至少包含可固化化合物、聚合引發劑和溶劑的涂布溶 液并干燥所述溶劑；以及固化所述可固化化合物以形成固化層，其中，所述透光基底材料的至少一個表面具有粗糙形狀，透光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2. 5 ii m，但不大于12 u m，所述固化層的平均厚度為0. 1 ii m或更大但不大于10. 0 ii m，并且所述固化層的表面傾角具有以下分布
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(a)0°或更大但小于1.0°的頻率的積分值小于25%，(b) 1. 0°或更大但小于10°的頻率的積分值為60%或更大但小于100%，并且(c)10°或更大的頻率的積分值為0%或更大但小于25%。(3)如上文在⑴或⑵中所述的生產光散射膜的方法，在澆鑄所述涂料和完成所 述光散射膜之間不包括收緊(take up)步驟。(4) 一種光散射膜，包括透光基底材料，所述透光基底材料具有作為主要成分的熱塑樹脂和透光顆粒，所 述透光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2. 5 y m但不大于12 y m ；以及固化層，所述固化層的平均厚度為0. lym或更大但不大于lO.Oym，其中，所述透光基底材料在所述固化層一側的表面形狀具有基本平行于膜形成表 面的平坦部分和源于所述透光顆粒的曲線凸起部分，并且所述凸起部分和所述平坦部分之間的最大高度Rt為1 P m或更大但不大于15 u m。(5)如上文在(4)中所述的光散射膜，其中，依照JIS B 0601，所述固化層的算術 平均粗糙度和所述固化層側的所述透光基底材料的算術平均粗糙度之間的差異ARa為 0. 05um或更大但不大于0. 50 u m。(6)如上文在(4)或(5)中所述的光散射膜，其中，所述固化層的最小厚度t-與 最大厚度t_的比例tmin/tmax小于0. 2。(7)如上文在⑷到(6)的任一項中所述的光散射膜，其中，所述透光顆粒是基本 球形樹脂顆粒。(8)如上文在⑷到(7)的任一項中所述的光散射膜，其中，所述透光基底材料和 所述透光顆粒之間的折射率差異的絕對值小于0. 09。(9)如上文在(4)到(8)的任一項中所述的光散射膜，所述光散射膜具有光散射性 質，以在基于JIS K 7105利用圖像清晰度測量儀器通過寬度為2mm的光學梳測量時，給出 5%到60%的圖像清晰度。(10)如上文在⑷到(9)的任一項中所述的光散射膜，其中，利用光接受角為2° 的光強分布測定儀測量的透射和散射光分布滿足公式(d)(d)0.03 彡 1(4° )/10 彡 0.07其中，1(4° )表示在相對于所述光散射膜法線傾斜4°的位置處的透射光強度， 10表示從光源正向測量的光源的光強。(11)如上文在(4)到(10)的任一項中所述的光散射膜，其中，內部霧度(haze)為 0. 1到30 %，表面霧度為3到40 %。(12) 一種包括起偏振膜和所述起偏振膜至少一側上的保護膜的起偏振片，所述保 護膜是如上文在(4)到(11)中任一項所述的光散射膜。(13) 一種具有如上文在⑷到(11)所述的光散射膜或如上文在(12)中所述的起 偏片的任一個的圖像顯示裝置。(14) 一種透射/半透射液晶顯示裝置，包括背光、液晶單元和位于所述液晶單元 的背光側上的如上文在(12)中所述的起偏振片。


圖1A到1C是示出了根據本發明示范性實施例的光散射膜范例的截面圖；圖2A和2B是示出了背景技術中的光散射膜范例的截面圖；圖3是光散射曲線測量儀器的示意圖；圖4是示出了利用澆鑄鼓的溶液膜形成設備的視圖；圖5是示出了利用澆鑄帶的溶液膜形成設備的視圖；圖6A是示出了多歧管(multi-manifold)型共澆鑄模具的視圖，圖6B是示出了供 料頭(feed block)型共澆鑄模具的視圖；圖7是示出了固化層的最小和最大膜厚度的示意圖；以及圖8A是示出了背景技術中的液晶顯示裝置的一個范例的示意圖，圖8B是示出了 根據本發明示范性實施例的液晶顯示裝置一個范例的示意圖。下面給出附圖中的附圖標記。
1透光基底材料
2基底層
3表面層
4表面層(背面層)
5固化層
6透光材料
7第二固化層
11攪拌器
12輸送泵
13過濾器
14貯槽
15a用于背層的澆鑄溶液輸送泵
15b用于基底層的澆鑄溶液輸送泵
15c用于表面層的澆鑄溶液輸送泵
16a添加劑(溶劑、無光澤顆粒等)噴射泵
16c添加劑(溶劑、透光顆粒等)噴射泵
17澆鑄模具
18澆鑄帶
19減壓室
20澆鑄鼓
30澆鑄模具
32歧管
33供料頭
具體實施例方式
根據本發明示范性實施例的光散射膜既不會導致正向白光亮度減小也不會導致 莫爾條紋，尤其在將其用作液晶顯示裝置背光側上的起偏振片的保護膜時，能夠提供具有
7高度均勻亮度的圖像顯示。接下來將描述本發明的示范性實施例，但本發明不限于它們。在說明書中，在數字 值表示物理性質值、特征值等時，術語“從(數字值1)到(數字值2) ”表示“(數字值1)或 更大但不大于(數字值2)”。如本文所使用的術語“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯和甲 基丙烯酸酯的至少一種。這種情況也適用于“(甲基)丙烯酸”或“(甲基)丙烯酰”。本發明涉及一種具有光散射性質的光散射膜，通過在其表面上具有特定不平滑形 狀的透光基底材料上形成固化層來控制光散射性質。尤其在將其用作液晶顯示裝置背光側 上的起偏振片的保護膜時，根據本發明示范性實施例的光散射膜具有高的正向白光亮度， 能夠在裝置的屏幕中提供均勻的圖像，能夠抑制諸如莫爾條紋的不均勻干涉條紋的發生， 并能夠提供能夠對纖薄要求做出響應的圖像顯示裝置。在涉及生產光散射膜的方法的本發明第一方面中，用于生產光散射膜的方法包括 如下步驟向支撐體上澆鑄至少包含熱塑樹脂和透光顆粒的涂料以提供澆鑄膜，并剝離和 干燥澆鑄膜以制備透光基底材料；向透光基底材料涂敷至少包含可固化化合物、聚合引發 劑和溶劑的涂布溶液，并干燥溶劑；以及固化可固化化合物以形成固化層。透光基底材料的 至少一個表面具有不光滑形狀，透光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2. 5 y m但不大于12 u m, 固化層的平均厚度從0. 1 y m或更大但不大于10. 0 u m,固化層滿足公式(1)到(3)0. 05um^ Ra^ 0. 8um (1)10 u m ^ Sm ^ 300 u m (2)1. 5° ( e a 彡 4. 5° (3)其中，Ra代表固化層的算術平均粗糙度，Sm代表固化層表面的平均峰谷距離，9 a 代表固化層表面的平均傾角，每個都基于JIS B 0601。在本發明的第二方面中，用于生產光散射膜的方法包括如下步驟向支撐體上澆 鑄至少包含熱塑樹脂和透光顆粒的涂料以提供澆鑄膜，并剝離和干燥澆鑄膜以制備透光基 底材料；向透光基底材料涂敷至少包含可固化化合物、聚合引發劑和溶劑的涂布溶液，并干 燥溶劑；以及固化可固化化合物以形成固化層。透光基底材料的至少一個表面具有不光 滑形狀，透光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2. 5 y m但不大于12 u m。固化層的平均厚度為 0. lum或更大但不大于10. 0 u m,固化層的表面傾角表現出如下分布(a)傾角為0°或更大但小于10°的頻率的積分值小于25%，(b)傾角為1.0°或更大但小于10°的頻率的積分值為60%或更大但小于100%， 并且(c)傾角為10°或更大的頻率的積分值為0%或更大但小于25%。根據本發明另一方面的光散射膜在透光基底材料上具有固化層，固化層至少具有 0. lum或更大但不大于10. 0 y m的平均厚度，透光基底材料包含透光顆粒，透光顆粒以熱 塑樹脂作為主要成分，平均原顆粒尺寸大于2. 5 y m但不大于12 u m。透光基底材料在固化 層一側的表面形狀具有平坦部分和曲線凸起部分，平坦部分基本平行于基底材料的膜形成 表面，曲線凸起部分源自透光顆粒；從平坦部分凸起的部分的高度A h為0. 5 y m或更大但 不大于8 li m。如圖8A所示，背景技術中液晶顯示裝置的一個范例從光源一側開始包括(光源 41/導光板(熒光管)42/下方漫射片43/光收集片44 (棱鏡片等)/上方漫射片45/液晶
8面板(下方起偏振片46/襯底48/液晶單元47/上方起偏振片46))。下方漫射片是具有強 的光漫射性質的光學片，主要用于減小背光單元的平面內亮度不均。光收集片是用于收集 朝向液晶顯示裝置正向(顯示裝置平面的法線方向)的漫射光的光學片。上方漫射片是用 于減少由于充當光收集片的棱鏡片或諸如液晶單元中像素的周期性結構而產生的莫爾條 紋并減小利用下方漫射片不能完全消除的平面內亮度不均的光學片。在本發明的液晶顯示裝置中，如圖8B所示，為下方起偏振片(光散射膜49)而非 上方漫射片的保護膜賦予光漫射性質，以幫助其實現類似于上方漫射片的性能。這種構成 使其不僅能夠減少莫爾條紋或平面內亮度不均，而且能夠抑制在上方漫射片或常規技術中 造成麻煩的正向亮度或正向對比度的降低。取消上方漫射片能夠減小整個液晶顯示裝置的 厚度，因此使用下方起偏振片而非上方漫射片的保護膜比使用多個上方漫射片更有效。原 則上，能夠將顯示裝置的厚度減小被消除的漫射片的總厚度。更具體而言，在背景技術中的上方漫射片或技術中，在過寬的角度范圍內漫射入 射光，由此向正向輸出的光的量表現出相對減少。在本發明的一種構成中，亦即，在通過優 化下方起偏振片的光漫射保護膜的光漫射分布獲得的液晶顯示裝置中，賦予了減少莫爾條 紋或亮度不均必需和充足的漫射性質，而沒有減少輸出到正向的光量，因此可以克服這種 問題。盡管在背光或下方漫射片的性質變化時或在將這些構件用作組合件時，具有光漫射 性質且要在本發明中使用的光學膜的最佳光散射曲線可能會變化，如果光學膜具有上述范 圍之內的構造，它基本能夠表現出期望的性能。此外，一些液晶顯示裝置在下方起偏振片的正下方使用亮度改善的膜(例如， “DBEF”，商標；這是3M的產品)。在設置光散射膜作為下方起偏振片的保護膜時，可能會發 生去偏振，并導致亮度改善性能降低。不過，本發明的液晶顯示裝置使用的光學膜會經受大 的去偏振作用并具有少量的寬角度散射成分，因此可以使亮度改善性能的降低盡可能小。〈光散射膜的表面形狀〉在下文中將描述本發明的光散射膜。本發明的光散射膜包括透光基底材料并具有光散射性能，透光基底材料在其至少 一個表面上具有不光滑形狀(傾斜表面)并包含透光顆粒，透光顆粒的平均原顆粒尺寸大 于2. 5 y m但不大于12 u m,且至少在放置于透光基底材料上的固化層上。在下面的描述中， 將控制其不光滑形狀以控制光散射性質的固化層側的表面定義為表面A，而將另一表面定 義為表面B。首先，在下文中將描述表面A的形狀。必需要控制本發明的光散射膜的表面的傾角以使膜具有正向散射性質。在通過 JIS B 0601指定的粗糙度參數表達固化層的表面形狀時，它們應當滿足公式1到3 0. 05 u m ^ Ra ^ 0. 8 u m (1)10 u m ^ Sm ^ 300 u m (2)1. 5° ( e a 彡 4. 5° (3)優選的范圍是0. 1 u m ^ Ra ^ 0. 6 u m (1，)50 u m ^ Sm ^ 200 u m (2，)1. 8° 彡 e a 彡 4. 2° (3，)更優選的范圍是
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0. 1 u m ≤ Ra≤ 0. 5 u m (1”)80um≤Sm≤ 150 um (2”)2. 0°≤ θa ≤4. 0° (3”)可以利用根據JIS-B0601 (1994，2001)的設備測量這些粗糙度參數，這種設備例 如是"SURFCORDER MODEL SE-3500，，，商標；Kosaka Laboratory 的產品。在Ra小于0.05 iim時，膜不能具有足夠的散射效果。另一方面，在其超過0. 8 y m 時，光在寬的角度上發生不必要的散射，導致正向亮度的減小。在Sm超過300 y m時，峰和 谷之間的距離變得過寬，使得難以改善背光的均勻性或消除莫爾條紋。在通過為具有原顆 粒尺寸大于2. 5 y m但不大于12 y m的透光顆粒的透光基底材料的表面賦予不光滑度來制 備本發明的光散射膜時，難以獲得Sm小于10 iim的表面形狀。在Sm小于lOiim時，0 a表 現出相對增大并超過4.5°，使得難以獲得期望的表面形狀。此外，在Sm小于lOym時，變 得難以滿足4. 5°或更小的ea，使得難以獲得期望的表面形狀。為了防止液晶裝置的莫爾 條紋，優選將Sm控制為不大于背光側棱鏡片的間距或是液晶單元像素間距的兩倍或更小。 在0a小于1.5°時，沿直線方向前進的光分量過分增加，妨礙獲得散射效果，而ea超過 4.5°增加了不必要寬角度散射的分量，導致正向亮度降低。接下來，通過以下方法確定在以另一種方式表達，即由傾角及其比例表達時，表面 A的表面形狀。假設面積從0. 5 y m2到2 y m2的三角形的頂點位于透明支撐體上，法線從這三個頂 點垂直向上延伸(支撐體上的三條法線)。然后利用支撐體上的這三條法線與膜表面(表 面A)相交的三個點形成三角形。將按以上方式形成的三角形平面的法線和從支撐體垂直 向上延伸的法線之間形成的角度定義為傾角。接下來將描述如何確定傾角的比例。將面積為2500001； m2(0. 25mm2)或更大的支 撐體分成上述三角形并測量所有三角形的傾角。確定相應測量點的傾角并且確定傾角數量 (頻率)相對于所有測量點數量的比例。將這個比例確定為傾角的頻率。在本發明中，確定 在0°或者更大但小于1.0°、1.0°或更大但小于10.0°以及10.0°或更大范圍之內的傾 角頻率的積分值。可以根據在JP-A-2007-108724第6頁第12段中描述的方法詳細執行測 量。在本發明中，支撐體上的測量面積優選為ZSOOOOiimYO. 25m2)或更大，從滿足測 量精度和測量效率兩方面的角度來講，優選為0. 25mm2或更大但不大于1. 0mm2。作為測量 單元的三角形的面積優選從0. 5mm2到2mm2，以便確保測量精度。在投放市場的一些測量設備中，本發明中使用的是“SXM 520-AS150”(商標； Micromap/USA的產品)。這種設備并入了插入其中作為光源的鹵素燈和放大率從2. 5X到 50X的物鏡，鹵素燈裝備有干涉濾光片，干涉濾光片具有560nm的中心波長。通過2/3英 寸CCD收集數據，這是一種像素數量為640X480的標準設備。在本發明中，分別將物鏡、 測量單元和測量面積設置為10X放大率、0.8 iim2和500000 iim2(0.5mm2)。如果需要，增 大物鏡的放大率，同時可以相應減小測量單元和測量面積。利用諸如“MAT-LAB” (商標； Math Works, Inc./USA的產品)的軟件分析測量數據以計算傾角分布。在本發明中，以大 約0.01°的增量測量傾角。在本發明中，作為固化層側上的光散射膜表面的表面A的傾角應當具有以下分布(a)0°或更大但小于1.0°的頻率的積分值小于25%，(b) 1. 0°或更大但小于10°的頻率的積分值為60%或更大但小于100%，并且(c)10°或更大的頻率的積分值為0%或更大但小于25%。傾角優選具有以下分布(a)0°或更大但小于1.0°的頻率的積分值為2%或更大但不大于20%，(b)1.0°或更大但小于10°的頻率的積分值為60%或更大但不大于95%，并且(c)10°或更大的頻率的積分值為或更大但不大于20%。傾角更優選具有以下分布(a)0°或更大但小于1. 0°的頻率的積分值為3%或更大但不大于15%，(b)1.0°或更大但小于10°的頻率的積分值為65%或更大但不大于90%，并且(c) 10°或更大的頻率的積分值為或更大但小于16%。在0°或更大但小于1.0°的傾角頻率的積分值為25%或更大時，不能實現充分 的散射性質，因為平面的比例變得過大。在1.0°或更大但小于10°的頻率的積分值小于 60%時，對正向對比度降低影響較小且具有足夠大散射角的散射分量減少。在10°或更大 的頻率的積分值變為25%或更大時，寬角度側的散射分量過分增大，導致正向對比度降低。在本發明中，除了上述要求之外，尤其優選滿足以下傾角分布，以便給出足夠的散 射性質，同時抑制正向對比度的降低。(d)0°或更大但小于0.5°的頻率的積分值小于9%，并且(e)3°或更大但小于8.0°的頻率的積分值為25%或更大但不大于60%。下面是更優選的傾角分布(d)0°或更大但小于0.5°的頻率的積分值為或更大但不大于8%，并且(e)3°或更大但小于8.0°的頻率的積分值為30%或更大但不大于55%。〈透光基底材料的表面形狀〉通過向具有粗糙表面的透光基底材料上涂敷可固化化合物將本發明的光散射膜 的表面形狀控制在上述范圍之內。透光基底材料的表面形狀需要充分控制。更具體而言， 如圖1A到1C所示，基底材料具有平坦部分和源自透光顆粒的曲線凸起部分，所述平坦部分 基本平行于基底材料的膜形成表面，術語“膜形成表面”表示包括形成膜時的膜形成方向的 表面。如JISB 0601中規定的，凸起部分和平坦部分之間的最大高度Rt應當為lym或更 大但不大于15 u m,優選從1. 5 ii m到12 u m,更優選從2 y m至lj 10 y m。另一方面，凸起部分和平坦部分之間的高度差優選從0. 5 ii m到8 ii m，更優選從 111111到611111。在高度差為0.5 iim或更大時，可以利用固化層充分地控制表面形狀。在它 是8 y m或更小時，即使在增大固化層的厚度時，也能夠獲得本發明必需的表面形狀。可以通過掃描電子顯微鏡觀察沿著凸起部分頂點切割透光基底材料獲得的截面 來測量高度差。希望本發明中的透光基底材料具有這樣的表面形狀沿著這樣的表面形狀，透光 顆粒的形狀按照原樣呈現出來，而且無需找平就可以進行含透光顆粒的溶液(涂料)的干 燥。這意味著涂料的粘性越高越好。粘度優選為lOOOcP或更大，更優選為5000或更大。不 過，在采用諸如涂敷法的常規方法時，不能涂敷這種高粘度溶液。在本發明中發現，可以通
11過澆鑄熱塑樹脂(粘度例如為lOOOOcP的聚合物溶液的涂料)的溶液來克服這個困難。<利用固化層形成低傾角分布表面>至于本發明中對表面傾角分布的控制，重要的是如上所述在透光基底材料的表面 上形成不平坦度在一定范圍之內的表面，然后利用固化層對表面進行平坦化。對此而言以 下控制是必需的。可以通過連同高度差Ah將固化層的厚度調節到優選從0. liim到lOiim，更優選 從0. 2 ii m到5 ii m,最優選從0. 5 y m或更大但小于3 u m來獲得期望的表面形狀。在厚度小 于0. lym時，不能對表面形狀進行充分調節，不能為固化層賦予硬涂層性質。在厚度超過 10 y m時，固化層的表面變得太平坦，不能獲得期望的表面形狀。透光基底材料的算術平均粗糙度(Ra，b)和固化層的算術平均粗糙度(Ra，c)之間 的差異(A Ra = Ra, b-Ra, c)優選從 0. 05 ii m 到 0. 50 u m,更優選從 0. 10 ii m 到 0. 45 u m。 0. 05um或更大的A Ra能夠實現充分的表面控制，在為液晶顯示裝置等使用具有這種性質 的本發明的光散射膜時，可以充分地克服更多。超過0.5i!m的ARa使得無法形成期望的 表面形狀。膜厚比(t^/t.)，即固化層的最小厚度tmin(常常是在透光基底材料中的透光顆 粒頂點上的厚度)與最大厚度(常常是透光基底材料的平坦部分上的固化層的厚度)之比 優選小于0. 2，因為這能夠實現有效的找平和期望表面形狀的形成。厚度比更優選為小于 0. 15。希望在干燥/膜形成期間對通過在溶劑中溶解可固化化合物和聚合引發劑而獲 得的固化層形成涂布溶液進行充分找平。具體而言，優選調節涂布溶液使其具有從大約lcP 到lOOcP的粘度；涂布溶液中固體成分的粘度優選為10cP或更大；因此，涂布溶液的濃度 優選從0.5%的質量百分比到幾十的質量百分比，但這取決于溶劑。在涂布溶液具有lcP或 更大粘度或固體成分具有10cP或更大粘度時，可以通過充分的找平獲得期望的表面形狀， 并可以容易地消除莫爾條紋。在涂布溶液的粘度為lOOcP或更小時，可以高效地執行找平， 這有助于形成期望的表面形狀。用于形成固化層的涂布溶液還可以包含其他表面控制顆粒、導電無機細小顆粒、 導電聚合物、氟或硅酮基防污材料等，只要能夠保持期望的表面形狀即可。此外，可以與形成固化層同時或在之后在固化層上堆疊包含導電無機微細顆粒的 層、導電聚合物層、氟或硅酮基防污層、低折射率層或抗反射層。在本發明的光散射膜生產方法中，可以進行連續生產，更具體而言，可以連續執行 制備透光基底材料的步驟和形成固化層的步驟而無需在澆鑄和形成光散射膜之間插入收 緊步驟。在這種情況下，在涂布用于形成固化層的涂布溶液時，用于透光基底材料的涂料的 殘留溶劑量優選從2%的質量百分比到50%的質量百分比。不論涂布溶液的溶劑種類是什 么，2%的質量百分比或更大的殘留溶劑量能夠提供良好的粘合。50%的質量百分比或更小 的殘留溶劑量有助于利用印輥處理以及將光散射膜的表面形狀控制在期望范圍之內，因為 涂布溶液的溶劑不會過多滲入用于透光基底材料的涂料中。在本發明中，從改善生產效率和成本的角度來講，優選不在形成透光基底材料和 制備光散射膜之間插入收緊步驟。對光散射膜表面B的形式沒有任何特殊限制。為了在制備起偏振片期間利用其賦予粘合并減小對源于表面凹凸形狀的光散射特征的影響(這是本發明的上述特征)，表面 B優選是平坦的。表面B的運算平均粗糙度(Ra)優選從0. 001 u m到0. 10 u m,更優選從 0. 001 um 到 0. 05 u m,最優選從 0. 001 um 到 0. 03 u m。〈光散射膜的光學性質〉在光從光散射膜的法線方向入射時，考慮到通過光散射膜的輸出光的強度(輸 出光的強度相對于入射光的強度)，假設從正向測量的基本平行光源的光強度為10，比例 1(0° )/I0，g卩，沿本發明的光散射膜法向的輸出光的強度1(0° )與10的比例優選從0.40 到0. 98，更優選從0. 45到0. 80，最優選從0. 50到0. 70。0. 40到0. 98的比例是優選的，因 為在白色顯影期間的白色亮度減小得少，且不會發生顯示屏暗化。已經發現，為了抑制莫爾條紋和不均勻的平面內亮度，同時保持正向白光亮度和 正向對比度，優選朝向低角度側具有更大光散射強度的(具有更大的正向散射性質)光散 射膜，優選這樣的膜，與散射到另一角度的光相比，這種膜散射到2°到6°附近角度的光 強度相對于從膜法線入射的直線光具有較大強度。更具體而言，在本發明的光散射膜中， 比例1(4° )/I0優選為0. 03到0. 07，更優選為0. 03到0. 065，最優選為0. 035到0. 06， 其中1(4° )表示輸出光在與光散射膜表面法向傾斜4°的位置處的輸出光強度。在比例 1(4° )/10為0.03到0.07時，對比度的降低較小，可以抑制莫爾條紋的產生。0.03或更大 的比例改善了莫爾條紋減小能力，而不大于0. 07的比例抑制正向對比度的降低。利用設置 在2°接受角的光強分布測定儀測量透射和散射光的分布曲線。源于光散射膜內部的內部霧度(通過從總霧度減去表面霧度獲得)優選為0. 1% 到30 %，更優選為0. 5 %到25 %，最優選為1 %到20 %。在內部霧度落在以上范圍之內時， 由于凹凸表面導致的表面散射以及足夠的內部散射，可能難以看到液晶面板的圖案、色彩 不均勻或亮度不均勻。最好在通過涂敷形成固化層之前對透光基底材料的表面稍微進行粗糙化。總霧度 優選為10%或更大，更優選為15%或更大，再優選為30%或更大。由于光散射膜的表面導致的其表面霧度優選為3 %到40 %，更優選為5 %到35 %， 最優選為8%到30%。根據JIS K 7105的定義，利用圖像清晰度測量儀器通過2mm寬的光學梳測量的光 散射膜的圖像清晰度優選為5到60 %，更優選為10 %到60 %，最優選為10 %到55 %。這個 范圍之內的圖像清晰度不會導致正向對比度的較大降低，同時，難以看到液晶面板的圖案、 色彩不均勻、亮度不均勻、莫爾條紋等。〈透光顆粒〉本發明中的透光基底材料中包含的透光微細顆粒優選基本是球形的。可以在透光 基底材料的整個厚度方向上分布透光微細顆粒，但優選離開中心，位于透光基底材料的表 面附近。透光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2.5 ym，但不大于12 ym。在進行內部散射時，這 個范圍之內的顆粒有助于形成凸起部分，此外，有助于正向散射，同時抑制寬角度散射。平 均原顆粒尺寸更優選大于3. 5 ii m但不大于10 u m，最優選大約5 u m但不大于9 y m。在平 均原顆粒尺寸不大于2. 5 y m時，不能容易地形成凸起部分，光均勻地散射到不必要的寬角 度。另一方面，在平均原顆粒尺寸超過10ym時，利用固化層進行表面控制變得困難。透光 顆粒具有優選為1. 40到1. 65，更優選為1. 45到1. 60，最優選為1. 45到1. 55的折射率。
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透光顆粒和透光基底材料之間的折射率差異的絕對值優選小于0. 09、更優選為 0. 07或更小，更優選為0. 05或更小。在其小于0. 09時，透光顆粒界面處的散射角不會變得 過大，寬角度散射分量不會增大。此外，在以上范圍之內，可以組合內部散射和表面散射以 實現充分的正向散射光學性質。透光顆粒的用量優選為0. lg/m2到5. Og/m2，更優選為0. 2g/m2到3. Og/m2，最優選 為0. 3g/m2到2. Og/m2，每個數字都是單位面積的數字。可以通過將使用量控制在以上范圍 之內來獲得期望的表面形狀。作為透光顆粒，可以使用無機顆粒和有機顆粒。無機顆粒的范例包括氧化硅和三 氧化二鋁。例如，它們是由Micron Co.制造的球形氧化硅和球形三氧化二鋁。有機顆粒的范例包括聚(異丁烯酸甲脂)丙烯酸樹脂、丙烯酸苯乙烯樹脂、聚(異 丁烯酸甲脂)樹脂、硅樹脂、聚苯乙稀樹脂、聚碳酸酯樹脂、苯并胍胺樹脂、三聚氰胺樹脂、 聚烯烴樹脂、聚酯樹酯、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂和聚(氟化乙烯)樹脂。市場上買得到的苯乙烯樹脂或丙烯酸樹脂產品包括“Chernisnow MXSeries" 和 “Chemisnow SX Series”(每者都是商標；Soken ChemicalEngineering 的產品) 和“Techpolymer” (商標；Sekisui Plastics的產品)；苯并胍胺樹脂可買到的產品 包括“Epostar” (商標；Nippon Shokubai的產品)；三聚氰胺樹脂的可買到產品包括 "Optbeads" ( 示；NissanChemical 白勺/^iPn )。從與透光基底材料中的熱塑樹脂的粘合角度來講或從因為水份導致顆粒的界面 剝離或滴落的角度來講，優選使用膨脹系數與熱塑樹脂不那么不同的有機顆粒。在本發明 中，透光顆粒尤其優選是基本球形的樹脂顆粒。<透光基底材料的材料>接下來將描述根據本發明的透光基底材料的材料。構成本發明的透光基底材料的 主要成分(構成透光基底材料固體成分51%的質量百分比或更大但不大于99%的質量百 分比的材料)優選為熱塑樹脂。具體范例包括纖維素酰化產物(例如三乙酰纖維素、雙乙 酰纖維素、丙酰纖維素、丁酰纖維素、乙酰丙酰纖維素和硝化纖維素)、聚酰胺、聚碳酸酯、聚 脂(例如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯萘、聚-1，4-環己胺乙烯對苯二酸酯、聚乙烯-1， 2-聯苯氧乙烷_4，4’ -羧酸鹽和聚對苯二甲酸丁二醇酯)、聚苯乙稀(例如，即間同聚苯乙 稀)、聚烯烴(例如聚丙稀、聚乙烯、聚甲基戊烯和聚環烷)、聚砜、聚醚砜、聚烯丙基、聚醚酰 亞胺、聚(異丁烯酸甲脂)、聚醚酮、降冰片烯樹脂(“ART0N”，商標，JSR的產品)、非晶聚烯 烴(“ZE0NEX，，，商標，Zeon Corp.的產品)和(甲基)丙烯酸樹脂(“ACRYPET"VRL20A，商 標；Mitsubishi Rayon 的產品，在 JP-A-2004-70296 和 JP-A-2006-171464 中描述的含環形 結構的丙烯酸樹脂)。在這些材料中，尤其優選三乙酰基纖維素、雙乙酰基纖維素、丙酰基纖 維素、聚對苯二甲酸乙二醇酯和聚乙烯萘。對于優選用于起偏振片的透明保護膜而言，膜的疏水性/親水性平衡、起偏振膜 的乙烯醇膜的結合性質和膜的整個平面的均勻光學性質是重要的。具體而言，尤其優選纖 維素的脂肪酸酯(纖維素酰化產物)，更優選三乙酰纖維素、雙乙酰纖維素和丙酰纖維素。在生產用于本發明中的本發明的透光基底材料時，可以使用堆疊和澆鑄方法，例 如共澆鑄(同時多層澆鑄)和順序澆鑄。在采用共澆鑄或順序澆鑄時，首先制備多種涂料。 共澆鑄方法是這樣的鑄造方法，其中，從澆鑄器(澆鑄模具)向澆鑄支撐體(帶或鼓)擠出
14涂料，該澆鑄模具能夠同時從相應裂隙等擠出多種涂料(用于三個或更多層)，對涂料進行 充分干燥、與支撐體分離，然后干燥以形成透光基底材料。作為澆鑄模具，可以使用圖6A所 示的多歧管型或圖6B所示的供料頭型。優選在其涂料擠出部分裝備有減壓室的設備。順序澆鑄方法是按照如下方式執行的澆鑄方法。從澆鑄器向澆鑄支撐體擠出并澆 鑄第一澆鑄涂料；在干燥或不干燥涂料之后，從澆鑄器向第一涂料上澆鑄并擠出第二澆鑄 涂料；以同樣方式依次澆鑄和堆疊第三和后續涂料；并在適當時間從支撐體分離堆體，并 加以干燥以形成透光基膜。在從干燥到涂敷期間，可以沿特定方向拉伸基底材料。具體而 言，可以沿縱向和/或寬度方向將其拉伸例如0. 9到1. 5倍。可以通過熔體擠出成膜方法(melt extruding film formation method)形成透 光基底材料。在這種方法中，混合并溶解上述熱塑樹脂和透光顆粒，接下來進行熔體擠出和 拉伸，以制備透光基底材料。在本發明中，優選在特定方向進行拉伸比為1. 0到2. 0而在垂 直于其的方向上拉伸比為1. 5到7. 0的雙軸拉伸。更優選地，在某一方向上的拉伸比為1. 1 到1. 8，而在垂直于其的方向上為3. 0到5. 0。控制拉伸比使其落在這個范圍之內有助于將 透光顆粒形成從透光基底材料平面突出的形式。如上所述，可以將這些共澆鑄方法、順序澆鑄方法和熔體擠出成膜方法中的任何 方法用于生產透光基底材料。然而，通常順序澆鑄方法涉及復雜的步驟，且在維持膜的平面 性方面有困難，而共澆鑄方法是優選的，因為其步驟簡單且生產率高。在采用熔體擠出成膜 時，通過這種方法形成的一些基底材料可能會由于部分不良溶解導致異物干擾。在共澆鑄方法中，包含透光顆粒的涂料優選構成透光基底材料的最上層(參考圖 1B)。更具體而言，在澆鑄期間，從剝離性質的角度來講，優選將涂料放置在支撐體的表面上 或放置在空氣界面一側，更優選放置在空氣界面一側。為了防止在澆鑄的初期進行找平，優 選將支撐體的溫度調節到20°C或更低。還優選在澆鑄之后將支撐體的溫度調節到0°C或更 低，以便通過冷卻造成凝結。優選在透光基底材料中形成沿透光基底材料的深度方向透光顆粒的量不同的區 域。透光顆粒量大的區域優選位于透光基底材料的表面A—側中。更具體而言，該區域更 優選地位于透光基底材料中從表面A到總深度的90%，更優選在透光基底材料中從表面A 到總深度的75%，最優選地在透光基底材料中從表面A到總深度的50%。透光基底材料還 可以在從表面A到深度的25%的區域中不包含顆粒。可以通過使透光顆粒存在于這些范圍 之內來獲得本發明的表面形狀。例如，可以同時或順序地澆鑄多種顆粒含量不同的涂料或 共澆鑄多種顆粒含量不同的溶解樹脂，從而形成在預定深度方向上具有隔離的透光顆粒的 透光基底材料。只要不會導致剝離，用于多層的熱塑樹脂可以彼此不同。例如，可以逐一堆 疊纖維素酰化產物的取代或置換量不同的涂料。透光基底材料的膜厚優選為20 ii m到200 u m,更優選地為20 y m到80 u m,最優選 為25 pm到50i!m。當在共澆鑄中利用多種涂料形成透光基底材料時，表面層涂料(在材 料在其兩側都具有表面層時的總厚度)與基底層涂料的厚度比{(表面層涂料厚度)/(基 底層涂料厚度)X 100}優選為0. 25 %到50 %，更優選為0.6%到40 %。0. 25 %或更大的厚 度比有助于形成均勻的層。不大于50%的厚度比使涂料的界面穩定，幾乎不會損傷表面形 狀。如本文所使用的，術語“涂料厚度”表示在從涂料蒸發溶劑之后的涂料厚度。術語“表 面層涂料”和“基底層涂料”表示溶解于溶劑中的熱塑樹脂的涂料被從澆鑄模具澆鑄出來并構成彼此相鄰的表面層和基底層的狀態。它們永遠不表示在蒸發溶劑之后透光基底材料中 存在界面。因此在圖1和2中，利用虛線表示涂料之間的界線。優選用作本發明中透光基底材料的材料的材料為纖維素酰化產物，尤其優選碳原 子總數為2到22的纖維素的羰酸酯。范例包括纖維素的烴基羰基酯、烯基羰基酯、芳香羰 基酯和芳香烴基羰基酯。它們還可以具有置換基團。要用于本發明中的纖維素酰化產物中具有2到22個碳原子的酰基不受特別限制， 可以是脂肪族酰基和芳香族酰基。酰基的優選范例包括乙酰基、丙酰基、丁酰基、庚酰基、己 酰基、辛酰基、環己烷羰基、金剛烷羰基、苯乙酰、苯甲酰、萘基羰基、(甲基)丙烯酰基和苯 乙烯醛基。在這些酰基中，更優選的是乙酰基、丙酰基、丁酰基、戊酰基、己酰基、環己烷羰 基、苯乙酰基、苯甲酰基和萘基羰基。適用于本發明中的纖維素酰化產物優選為纖維素羥基的置換度滿足以下公式(7) 和(8)的纖維素酰化產物公式(7):2. 3 彡 SA，+SB，彡 3. 0公式(8):0 彡 SA，彡 3. 0在公式中，SA，代表纖維素中乙酰基置換羥基上的氫原子程度，SB’代表纖維素中 具有3到22個碳原子的酰基置換羥基上的氫原子的程度。順便提及，SA代表纖維素中置 換羥基上的氫原子的乙酰基，SB代表纖維素中置換羥基上的氫原子且具有3到22個碳原 子的酰基。構成纖維素的0-1，4_結合的葡萄糖單體在2位、3位和6位具有自由羥基。通過 對具有酰基的這些羥基的一些或全部進行酯化而獲得纖維素酰化產物。術語“酰基的置換 程度”表示在2位、3位和6位的每個位置羥基的酯化程度(相應位置100%的酯化對應于 置換程度1)。在本發明中，SA和SB的置換程度的總和(SA’+SB’)優選為2. 6到3.0，更 優選為2. 70到3. 00。SA(SA’ )的置換程度優選為1. 4到3. 0，尤其優選為2. 3到2. 9。在本發明中，置換纖維素羥基上的氫原子(SB)的酰基的碳原子數量優選為3或4。除 了以上公式(7)和(8)之外，具有這種數量碳原子的酰基的置換程度優選還滿足以下公式(9)。公式(9):0 彡 SB” 彡 1.2其中，SB”代表置換了纖維素的羥基上的氫原子的具有3或4個碳原子的酰基。可以基于油脂酸結合到纖維素中羥基的程度的測量值計算確定置換程度。可以依 照ASTM D-817-91和ASTM D-817-96執行測量。而且，通過13C NMR方法測量酰基到羥基 的置換狀態。作為構成其的聚合物成分，纖維素酰化產物膜優選基本由滿足公式(7)和(8)的 纖維素酰化產物構成。術語“基本”表示所有聚合物成分的55%的質量百分比或更大(優 選70%的質量百分比或更大，更優選80%的質量百分比或更大)。可以單獨或組合使用這 些纖維素酰化產物。就粘度平均聚合的程度而言，優選用于本發明中的纖維素酰化產物的聚合程度 為200到700，優選為230到550，更優選為230到350，尤其優選為240到320。可以利用 Uda 等人的極限粘度方法(Kazuo Uda 和 HideoSaito，JOURNAL OF THE SOCIETY OF FIBER SCIENCE AND TECHNOLOGY, JAPAN, Vol. 18，No. 1，pp. 105-120(1962))測量平均聚合度。此 外，在JP-A-95538/1997中詳細描述了這種方法。
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纖維素酰化產物的數均分子量Mn優選為7X104到25X 104，更優選為8X104到 15 X 104，纖維素酰化產物的質量平均分子量Mw與Mn的比例Mw/Mn優選為1. 0到5. 0，更優 選為1. 0到3. 0。可以利用高性能液相色譜法測量纖維素酰化產物的平均分子量和分子量 分布。從測量結果可以確定Mn和Mw并計算Mw/Mn的比例。(增塑劑)在本發明中，可以使用增塑劑為透光基底材料賦予柔性并提高尺寸穩定性和耐濕 性。在將纖維素丙烯酸酯用作透光基底材料的材料時，尤其優選辛醇-水分配系數(log P值)為0到10的增塑劑。Log P值為10或更小的化合物表現出與纖維素酰化產物良好的 兼容性，于是往往會抑制膜的麻煩，例如暗晦和起塵。另一方面，log P值為0或更大的化合 物未呈現出過高的親水性，從而不會劣化纖維素酰化產物膜的耐水性。因此優選使用上述范 圍之內的纖維素丙烯酸酯。Log P值更優選處于從1到8的范圍內，尤其優選從2到7。為了測量辛醇/水分配系數(log P值)，可以采用JIS Z7260-107(2000)中描 述的燒瓶振蕩法。可以通過計算化學或經驗方法而非測量值來估計辛醇/水分配系數 (log P值)。計算化學的優選范例包括Crippen的碎裂法(J. Chem. Inf. Comput. Sci.， 27，p. 21 (1987) )、Viswanadhan 的碎裂法(J. Chem. Inf. Comput. Sci. ,29, p. 163 (1989) ) 和 Broto 的碎裂法(Eur. J. Med. Chem. -Chim. Theor, 19, p. 71 (1984).)。在這些方法中， Crippen 的碎裂法(J. Chem. Inf. Comput. Sci.，27，p. 21 (1987).)更為優選。優選通過 Crippen的碎裂法判斷在通過測量方法或計算方法獲得的特定化合物的log P值不同時該 化合物是否落在本發明的范圍之內。優選添加的增塑劑范例包括具有上述范圍之內的物理性質且分子量為大約190 到5000的低分子到寡聚物化合物。范例包括磷酸酯、碳酸酯和多元醇酯。磷酸酯的范例包括磷酸三苯酯(TPP)、磷酸三甲苯酯、甲苯基二苯基磷酸酯、辛基 二苯基磷酸酯、二苯基-聯二苯磷酸酯、磷酸三辛酯和磷酸三丁酯。碳酸酯的典型范例包括鄰苯二甲酸酯和檸檬酸酯。鄰苯二甲酸酯的范例包括二甲 基鄰苯二甲酸酯、鄰苯二甲酸二乙酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸 二苯酯和鄰苯二甲酸二乙基己基酯。檸檬酸酯的范例包括o-乙酰基檸檬酸三乙酯、o-乙 酰基檸檬酸三丁酯、乙酰基檸檬酸甲酯和乙酰基檸檬酸三丁酯。除TPP之外(熔解溫度大約50°C )，這些優選的增塑劑在25°C處于液體形式，沸 點為250°C或更高。單獨或組合使用這些增塑劑。基于100份質量的纖維素酰化產物，可以按照2到 30份的質量，尤其優選為5到20份質量的量添加增塑劑。優選增大含透光顆粒的層中增塑 劑的含量，以便改善纖維素酰化產物和透光顆粒之間的親合力并改善脆性。(紫外線吸收體)優選透光基底材料還包含紫外線吸收劑(紫外線預防劑)，以便具有改善的耐光 性或防止液晶顯示裝置的起偏振片或圖像顯示構件，例如液晶化合物的劣化。作為紫外線吸收劑，優選是從防止液晶劣化的角度來講吸收波長為370nm或更小 的紫外光性能極好，且同時考慮到良好的圖像顯示性質對波長400nm或更大的可見光表現 出盡可能低吸收的那些紫外線吸收劑。具體而言，希望在波長370nm的透射率為20%或更
17少，優選為10%或更少，更優選為5%或更少。這種紫外線吸收劑的范例包括，但不限于氧 二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、氰基丙烯酸酯化合 物、鎳絡合鹽化合物和包含上述紫外線吸收基團的高分子紫外線吸收化合物。可以組合使 用這些紫外線吸收劑的兩種或多種。在本發明中，基于用于透光基底材料的熱塑樹脂質量為100份，按照質量為0. 1到 5. 0份、優選質量為0. 5到4. 0份、更優選質量為0. 8到2. 5份的量使用紫外線吸收劑。(其他添加劑)此外，可以根據用途在相應制備步驟中向用于形成透光基底材料的成分(涂料) 中添加其他各種添加劑(例如，劣化抑制劑(例如抗氧化劑、過氧化物分解劑、原子團抑制 劑、金屬鈍化劑、酸凈化劑或胺)、光學各向異性控制劑、脫模劑、抗靜電劑和紅外吸收劑)。 這種添加劑可以是固體形式或油的形式。這意味著它們不受其熔解溫度或沸騰溫度的特別 限制。作為紅外吸收劑，可以使用例如在JP-A-2001-194522中描述的那些紅外吸收劑。可以在涂料制備步驟的任何階段添加這些添加劑，或者可以提供添加添加劑的步 驟作為涂料制備的最后制備步驟。只要能夠執行其功能，每種材料的量不受特別限制。在透 光基底材料由多層構成時，各層之間的熱塑樹脂和/或添加劑的種類或量可以不同。例如， JP-A-2001-151902 中描述的是常規已知技術。在 JIII Journal of TechnicalDisclosure, No. 2001-1745,pp. 16-22(Japan Institute of Invention andlnnovation T 2001 ^ 3 M 15日發布)中描述了包括紫外線吸收劑的這些添加劑的細節，優選使用其中描述的材料。基于構成透光基底材料的總成分，優選根據需要以0. 001到20%的質量百分比的 量使用這種添加劑。(溶劑)接下來，將介紹用于在其中溶解透光基底材料的有機溶劑。作為有機溶劑，可以使 用常規已知有機溶劑，例如，優選那些溶解度參數為17到22的那些有機溶劑。溶解度參數 表示例如在 J. Brandrup，E. H.等人的 PolymerHandbook，第四版，VII/671 到 VII/714 中所 述的那些。具有這樣的溶解度參數的有機溶劑范例包括低脂族烴漂白劑、低脂族醇、具有3 到12個碳原子的酮、具有3到12個碳原子的酯、具有3到12個碳原子的醚、具有5到8個 碳原子的脂族烴、具有6到12個碳原子的芳香烴和氟醇(例如在JP-A-8-143709的(0020) 段和JP-A-11-60807的(0037)段所述的化合物)。構成透光基底材料的材料優選是在10到30%的質量百分比、更優選為13到27% 的質量百分比、尤其優選為15到25%的質量百分比的有機溶劑中溶解獲得的溶液。為了將 濃度控制在上述范圍之內，可以制備溶液以在溶解材料的階段給出預定濃度；或者可以事 先制備低濃度溶液(例如9到14%的質量百分比)，接著在稍后介紹的濃縮步驟中將濃度 提高到預定濃度。此外，可以通過制備構成透光基底材料的材料的高濃度溶液，然后向溶液 中添加各種添加劑來獲得預定的低濃度溶液。作為溶劑，可以使用一種或多種上述溶劑。〈涂料的制備〉接下來，將描述構成透光基底材料的材料，例如纖維素酰化產物的溶液(涂 料)的制備。如上所述，其溶解方法不受特別限制，通過室溫溶解法、冷卻溶解法或高 溫溶解法或其組合制備涂料。至于這些方法，例如在JP-A-5-163301、JP-A-61-106628、
18JP-A-58-127737、JP-A-9-95544、JP-A-10-95854、JP-A-10-45950、JP-A-2000-53784、 JP-A-11-322946, JP-A-322947、JP-A-2-276830, JP-A-2000-273239, JP-A-11-71463, JP-A-4-259511、JP-A-2000-273184、JP-A-11-323017 和 JP-A-11-302388 中描述了纖維素 酰化產物溶液的制備方法。根據需要，在本發明的范圍之內，還可以將在有機溶劑中溶解纖 維素酰化產物的這些方法的技術用于本發明。這些專利公開中描述的涂料制備方法，尤其 是在使用非氯型溶劑時，是根據 JIII Journal of Technical Disclosure, No. 2001-1745, pp. 22-25中詳細描述的方法執行的。此外，通常對纖維素酰化產物的涂料溶液進行濃縮和 過濾，類似地在 JIII Journal of Technical Disclosure，No. 2001-1745，第 25 頁中詳細 描述了這種情況。順便提及，當在高溫下溶解纖維素酰化產物時，在大多數情況下溫度不低 于有機溶劑的沸點，在這種情況下，在壓力下溶解涂料。〈固化層〉(可固化化合物)利用至少包含可固化化合物(粘合劑)和聚合引發劑的涂布溶液形成本發明的光 散射膜中的固化層。可以通過可熱固化和/或可離子化輻射固化的化合物(即可固化化合 物)的交聯反應或聚合反應來形成可固化層。粘合劑可以是單體粘合劑或聚合物粘合劑。(單體粘合劑)單體粘合劑優選是可熱固化和/或可離子化輻射固化的多功能單體或多功能寡 聚物。在這些材料中，從生產率和消除設備而節省空間的角度來講，優選可離子化輻射固化 的化合物。可離子化輻射固化的多功能單體或多功能寡聚物的功能基團優選是可光聚合、可 電子束聚合或可輻射聚合的基團。在這些基團中，優選可光聚合的功能基團。可光聚合功能基團的范例包括不飽和可聚合功能基團，例如(甲基)丙烯酰基、乙 烯基、苯乙烯基和烯丙基，優選(甲基)丙烯酰基基團。作為具有可光聚合功能基團的可光聚合多功能單體的具體范例，可以參考例如在 JP-A-2007-268753的段落W018]到
中描述的那些。作為單體粘合劑，可以將折射率不同的單體用于控制每層的折射率。折射率特別 高的單體范例包括二(4-異丁烯酰基苯硫基)硫化物、乙烯基萘、乙烯基苯基硫化物、4-異 丁烯酰基羥苯基-4’ -甲氧苯基硫醚和二芳基芴丙烯酸酯單體。此外，可以使用例如在JP-A-2005-76005和JP-A-2005-36105中描述的 dendrimers和例如在JP-A-2005-60425中描述的含降冰片烯環的單體。作為多功能單體，可以組合使用兩個或更多單體。可以在存在光敏基團聚合引發劑或熱敏基團引發劑的情況下，通過暴露于離子化 輻射或加熱來聚合這些具有烯鍵不飽和基團的單體的一種或多種。優選將光聚合引發劑用于可光聚合多功能單體的聚合反應。作為光聚合引發劑， 優選光敏基團聚合引發劑和光敏陽離子聚合引發劑，尤其優選光敏基團聚合引發劑。(聚合物粘合劑的交聯)作為要用于本發明中的可固化化合物，可以使用具有反應基團的聚合物。至于具有反應基團的聚合物，參考JP-A-2007-268753的段落(0024)到(0030)。〈聚合引發劑〉
可以在存在光敏基團引發劑或熱敏基團引發劑的情況下，通過暴露于輻照輻射或 加熱來聚合具有烯鍵不飽和基團的一種或多種單體。在制備本發明的光散射膜時，可以組合使用光聚合引發劑和熱聚合引發劑。至于聚合引發劑及其使用方法，參考JP-A-2007-268753的段落(0073)到(0089)。〈固化層的其他添加劑〉可以通過進一步向固化層添加顆粒(參考圖1C)來調節表面凹凸形狀和光學性 質，以落在優選范圍之內。作為要添加的顆粒，優選顆粒尺寸為5nm到2. 5 ym的無機或有 機顆粒，更優選顆粒尺寸為5nm到1. 5 y m的無機顆粒。只要顆粒不會導致不必要的寬角散 射，它們可以是無定形的(包括二級聚集)或平坦的。裝備有固化層的光散射膜的強度優選為H或更大，更優選為2H或更大，每個值都 按照鉛筆硬度測試的標準。在將本發明的光散射膜用作起偏振片的保護膜并使其粘附到起偏振膜時，尤其優 選對表面進行親水化處理，例如酸處理、堿處理、等離子體處理、電暈處理等，以改善與起偏 振膜的粘合。從粘合等角度來講，表面B —側的透光基底材料的表面能優選為55mN/m或更大， 更優選為60mN/m或更大，但不大于75mN/m。可以通過上述表面處理調節它。<起偏振片>(起偏振片的構成)在具有起偏振膜和設置于起偏振膜的至少一側上的保護膜的起偏振片中，可以將 本發明的光散射膜用作保護膜。在利用本發明的透光基底材料生產起偏振片時，可以利用 起偏振片表面側的表面A和起偏振膜一側的表面B獲得本發明期望的光學性質。可以降低 起偏振片的生產成本，因為透光基底材料還充當保護膜。此外，將本發明的透光基底材料用 作背光側上的表面可以滿足正向對比度的改善和莫爾條紋或亮度不均的減小兩者。在構造起偏振片時，在將保護膜設置于起偏振膜兩側時，可以將本發明的光散射 膜用作一個保護膜，而可以將通常使用的乙酰纖維素膜用作另一保護膜。還可以將相位差 膜用作另一保護膜。而且在優選模式中，本發明的起偏振片在一側具有本發明的光散射膜，并具有光 學補償膜作為另一保護膜，光學補償膜具有由液晶化合物構成的光學各向異性層。(起偏振膜)起偏振膜的范例包括碘基起偏振膜、具有二向色性染料的染料起偏振膜和聚烯基 起偏振膜。通常利用聚乙烯醇膜制備碘基起偏振膜和染料基起偏振膜。作為起偏振膜，可以使用已知的起偏振膜或從長的起偏振膜切下來的起偏振膜， 長起偏振膜的吸收軸既不平行于也不垂直于縱向。通過以下過程制備起偏振膜的吸收軸既 不平行于也不垂直于縱向的長起偏振膜。可以通過如下過程制備這種起偏振膜利用固定單元固定諸如聚乙烯醇膜的連續 饋送聚合物膜的兩端，在施加張力的同時至少沿著膜寬方向以1. 1到20的拉伸比拉伸膜， 在膜的兩個邊緣移動固定單元以沿縱向生成3 %或更小的移動速度差異，并在膜在兩個邊 緣都固定的狀態下彎折膜的行進方向，使得在固定膜的兩個邊緣的步驟中在出口處的膜行 進方向與膜的大致拉伸方向所形成的角度傾斜20°到70°。具體而言，考慮到生產率，優
20選以45°傾角生產的起偏振膜。(光學補償膜)在優選模式中，除本發明的光散射膜之外的起偏振膜的兩個保護膜之一是具有包 含光學各向異性層的光學補償層的光學補償膜。光學補償膜(相位差膜)可以改善液晶顯 示屏的視角特性。作為光學補償膜，可以使用已知的光學補償膜。從加寬視角的角度來講，優選 JP-A-2001-100042中描述的光學補償膜。〈本發明中的使用類型〉(圖像顯示裝置)本發明的光散射膜適用于諸如液晶顯示裝置(IXD)、等離子體顯示板(PDP)、電致 發光顯示器(ELD)和陰極射線管顯示裝置(CRT)的圖像顯示裝置中。(液晶顯示裝置)可以將本發明的光散射膜和起偏振片有利地用于諸如液晶顯示裝置的圖像顯示 裝置中。尤其優選將其用于透射/半透射液晶顯示裝置中液晶單元的背光側上的最上層。通常，液晶顯示裝置具有液晶單元和設置于其兩側的兩個起偏振片。液晶單元在 兩個電極基板之間具有液晶。此外，可以在液晶單元和起偏振片之一之間放置光學各向異 性層或可以在液晶單元和兩個起偏振片之間放置兩個光學各向異性層。液晶單元優選為TN、VA、OCR、IPS或ECB液晶單元。范例(透光基底材料的制備)根據表1中示出的涂料公式制備每種涂料。同時澆鑄基底層涂料和表面層涂料以 獲得表2所示的構造，從而制備透光基底材料1到透光基底材料16。利用如圖4所示的澆 鑄設備澆鑄透光基底材料1到15，使得用于表面層1的涂料到達冷卻到-10°C的鏡面拋光 鼓一側。在蒸發溶劑的同時通過冷卻使澆鑄的涂料形成膠體，然后剝離網。在利用100°C的 熱空氣干燥以將殘留溶劑量降低到10%的質量百分比之后，利用140°C的熱風執行10分鐘 的干燥。利用圖5所示的澆鑄設備將透光基底材料16澆鑄到18°C的鏡面拋光帶上，接著是 類似的干燥。透光基底材料均具有1. 48的折射率。表 1 (折射率)表2 *B 平面部分稍微不清楚或表面形狀為波動的**A 獲得期望的更好的表面形狀下面示出了用于制備基底材料的材料。三醋酸纖維素乙酰基的置換程度2. 86，粘度平均聚合化程度310紫外線吸收劑苯并三唑紫外線吸收劑("TINUVIN 326”/ "TINUVIN 328”的 20/80%的質量百分比混合物，每種都是Ciba Japan的產品)R972 原顆粒尺寸大約為 16nm，‘‘AEROSIL R972”，商標；Nippon AER0SIL 的產品S431 平均顆粒尺寸大約為2. 5um,"SYLYSIA 431”，商標；Fuji Sylysia的產品KEP-150 平均顆粒尺寸為2. 5 ii m的氧化硅球形顆粒，"SEAH0STARKEP-150”，商 fe ；Nippon Sholcubai 白勺/^iPn2000M 平均顆粒尺寸為2. 0 i m的三聚氰胺樹脂球形顆粒，“0ptbeads200GM”，商 t示；Nissan Chemical StJ/^mMX-350:平均顆粒尺寸為3.5iim的交聯聚(異丁烯酸甲脂)球形顆粒，Soken Chemical Engineering 的產品MX-1500:平均顆粒尺寸為20iim的交聯聚(異丁烯酸甲脂)球形顆粒，Soken Chemical Engineering 的產品XX-76S:平均顆粒尺寸為8iim的交聯聚(異丁烯酸甲脂)球形顆粒，Sekisui Plastics的產品XX-82S:平均顆粒尺寸為6iim的交聯聚(異丁烯酸甲脂)球形顆粒，Sekisui Plastics的產品XX-104S 平均顆粒為6 u m的交聯聚(異丁烯酸甲脂)_苯乙烯共聚物球形顆粒， Sekisui Plastics 的產品XX-119S 平均顆粒尺寸為10 iim的交聯聚甲基甲基丙烯酸酯球形顆粒，Sekisui Plastics的產品XX-147S:平均顆粒尺寸為Sym的交聯聚(異丁烯酸甲脂)苯乙烯共聚物球形顆 粒，Sekisui Plastics 的產品控制基底層涂料和表面層涂料以分別給出23%和18%的質量百分比的固體濃 度，溶劑為90 10(質量比)的二氯甲烷甲醇混合溶劑。
通過如下方式確定顆粒的折射率在兩種折射率不同的溶劑混合物(通過改變它 們的混合比改變其折射率)中散布等量的顆粒，測量分散體的濁度，然后利用阿貝折射率 計在濁度呈現最小時測量所得分散體的折射率。(固化層形成涂層溶液的制備)制備表3所示的涂層溶液A到I (I僅由溶劑構成)。下文示出了用于制備的材料。PET-30 季戊四醇三丙烯酸酯和季戊四醇四丙烯酸酯的混合物，NipponKayaku的
女口
廣口口DPHA:—縮二季戊四醇己丙烯酸酯和一縮二季戊四醇戊丙烯酸酯的混合物， Nippon Kayaku 的產品Irg. -127 光聚合引發劑 “ Irgacure 127”，商標；Ciba SpecialtyChemicals 的產 p
BFICAB 纖維素乙酸丁酯，“CAB-381-2”，商標；Eastman Chemical 的產品乙基纖維素乙基纖維，“Ethocel 200 Industrial ”，商標；Dow Chemical 的產品PMMA 平均分子量為350000的聚甲基丙烯酸甲酯ACA320 含酸的丙烯酸酯聚合物 “Cyclomer P (ACA320) ”，商標；DaicelChemical Industries 的產品CYMEL303 亞甲醇黑素可固化化合物，Nihon Cytec Industries的產品Catalyst 4050 熱酸發生劑(55% )溶液，Nihon Cytec Industries 的產品Coronate L溶液聚異氰酸酯，Coronate L(乙酸乙酯溶液)，利用MEK將Nippon Polyurethane Industry的Colonate L稀釋到50%固體成分而獲得的溶液TEDA:氨基甲酸乙酯固化催化劑，三乙撐二胺(1，4_ 二氮雜雙環[2，2，2]辛烷)MEK:甲基乙基酮MIBK:甲基異丁酮PGM 丙二醇單甲醚(1-甲氧基-2-丙醇)
表3 (通過涂敷形成固化層)利用JP-A-2003-211052的圖1中所示的槽模涂布機(slot die coater)向表4 中所示的透光基底材料上涂敷固化層形成涂布溶液，接著在30°C下干燥15秒，并進一步在 90°C下干燥20秒，以給出相應的干燥膜厚。之后，在氮氣吹掃下，利用160W/cm的“空氣冷 卻金屬鹵化物燈”{由EyeGraphics Co.，Ltd.制造}，在500mJ/cm2的劑量下，通過將所得層 暴露于紫外線將所得層固化，以形成固化層，由此形成光散射膜1到24和27到38。將得到 的固化層放置于表面層2 —側上的透光基底材料的表面上。為了制備干膜厚度為0. 05 y m 的膜6和16，將涂布溶液的每種的固體濃度調節到的質量百分比。為了制備干膜厚度為 10 um或更大的膜34和36，將涂布溶液的固體濃度調節到50%的質量百分比。以5. 0cm3/ m2的涂層重利用涂布溶液I形成膜15。類似地制備利用涂布溶液G和H的膜25和26，只是改變步驟條件，以便在90°C 下執行干燥和熱固化2分鐘，同時防止與被涂敷表面接觸，然后在100°C下執行熱固化5分 鐘。至于膜25的涂布溶液G，制備不包含TEDA的涂布溶液G。就在涂敷之前構造溶液供應 系統，并添加TEDA的2%溶液，接著在靜態混合器中混合。然后立刻涂敷所得的涂布溶液。在澆鑄涂料和生產光散射膜之間不插入收緊步驟。表 4
率的積分值。(3)觀測透光基底材料的表面形狀利用切片機從透光基底材料切出截面，并從基底材料的截面方向和傾斜方向利用 掃描電子顯微鏡觀測基底材料的表面形狀。(4)測量固化層厚度利用切片機沿著顆粒中心切割光散射膜的截面來制備樣本。在利用鋨酸蒸汽染色 一天之后，通過掃描電子顯微鏡觀測固化層的膜厚分布。位于顆粒正上方的固化層最小厚 度為tmin，另一部分，例如平坦部分上的固化層最大厚度為t_，在十個點處測量這些厚度， 并計算它們的平均比例作為膜厚比(tmin/t_)。(5)透射圖像的清晰度利用“ICM-1T”(商標；Suga Test Instruments 的產品)依照 JIS K7105(1999) 測量光散射膜的圖像清晰度(％ )。將本發明中的圖像清晰度定義為利用2. 0mm的光學梳 測量的值。(6)光散射曲線的測量利用光電測角儀(“GP-5”，商標；MurakamiColor Research Laboratory 的產品) 測量光散射曲線。如圖3所示，將角度為1.5°的會聚光用作光源，并將探測器的接受角設 置為2°。從光散射膜的法線方向引入光，并測量透射和散射光的量，同時在包括膜的法線 的平面之內連續改變角度，從而獲得光散射曲線。至于透射和散射光的量，將無膜時光源的 光量設置為1。(7)霧度的測量[1]使用霧度計(haze meter) “NDH2000”(商標；Nippon Denshokulndustries 的 產品)，依照JIS K7136測量光散射膜的總霧度(H)。[2]通過以下方式確定光散射膜的內部霧度(Hin)向光散射膜的表面和背表面 添加幾滴顯微鏡浸鏡油(“浸鏡油A型”，商標；Nikon Corp.的產品，折射率n = 1. 515)， 從所得膜的兩側將所得膜夾置在厚度為1mm的兩塊玻璃板(“Micro slide glass Product No. S9111”，商標；Matsunami Glass的產品)之間，使這兩塊玻璃板和光學膜完全粘在一 起，在除去表面霧度的同時測量其霧度，并從得到的霧度減去兩塊玻璃板之間僅插入硅酮 油時獨立測量的霧度。[3]確定從[1]中測量的總霧度(H)減去在[2]中確定的內部霧度(Hin)獲得的 值作為膜的表面霧度(Hout)。(8)莫爾條紋從視頻信號發生器(“VG-848”，商標；Astro Design的產品)向液晶裝置輸入信 號，在采用全固態和128/256級灰度顯示模式的同時在暗室中從各方向視覺觀測裝置的屏 幕。觀測是否存在莫爾條紋的產生。A 未觀測到莫爾條紋并獲得好的顯示。B 觀測到輕微莫爾條紋，但未干擾觀察，這不是問題。C 觀測到莫爾條紋，且其稍稍干擾到觀察，這是個問題。D 清楚地觀測到莫爾條紋，這是個問題。E 清楚地觀察到莫爾條紋，并且是令人擔心的，這明顯是個問題。
(9)正向白光亮度以與評估莫爾條紋所用的類似方式，在暗室中，在采用全固態和256/256級白色 顯示模式的同時，利用亮度色度計(“BM5-A”，商標；TopconCorporation的產品)從液晶裝 置的平面的法線(正)方向測量亮度。測量在五個點處的亮度，即屏幕中心，以及距中心向 上、向下、向右和向左3cm的位置。基于以下三個基準對其進行評估，以不將光散射膜用于 背光側上其起偏振片的表面的液晶顯示裝置亮度作為基準值。A 無減少(基準值的99 %或更大)B 幾乎無減少(基準值的98%或更大但小于99% )C 輕微減少(基準值的95%或更大但小于98% )D 減少(小于基準值的95% )表2和4中示出了將樣本用作背光側起偏振片的保護膜的液晶裝置的每個樣本和 顯示性能的評估結果。透光基底材料8、9、10、11和12分別具有28 %、45 %、35 %、24 %和49 %的霧度，上 面形成有0. 8 y m到1. 5 y m厚的固化層的膜滿足莫爾條紋消除和正向亮度。[將纖維素乙酸丁酯作為基底材料的范例]以與制備膜9所采用的類似方式，只是制備分別具有制備表5中所示的組分的涂 料，使用涂料P-1、涂料P-2和涂料P-3分別取代基底材料16的涂料A(表面層1)、涂料B(基 底層)和涂料H(表面層2)，形成膜39。透光基底材料具有1.48的折射率。其表面形狀由 平坦部分和球面凸起部分構成。(將聚碳酸酯用作基底材料的范例)制備分別具有表5中所示的組分的涂料。以與制備膜9所采用的類似方式，只是 不使用用于基底材料16的表面層1的涂料；在帶表面一側上放置涂料Q-1取代涂料B (表 面層)；使用涂料Q-2取代涂料H(表面層2)；并執行兩層共澆鑄，制備膜40。下面示出了 用于制備的原材料。透光基底材料具有1. 58的折射率。其具有由平坦部分和球面凸起部 分構成的表面形狀。聚碳酸酯重量平均分子量為45000的聚碳酸酯樹脂SBX-8 交聯聚苯乙烯球形顆粒，平均顆粒尺寸8 u m, Sekisui Plastics的產品表 5 以類似方式評估膜39和40。結果，確認它們表現出幾乎與膜9的性能類似的性 能。從表4發現，將本發明的光散射膜用作液晶顯示裝置背光側的起偏振片的保護 膜，可以獲得正向白光亮度既不降低，也沒有莫爾條紋的圖像顯示裝置。
權利要求
一種用于生產光散射膜的方法，包括向支撐體上澆鑄至少包含熱塑樹脂和透光顆粒的涂料以提供澆鑄膜，并剝離和干燥所述澆鑄膜以制備透光基底材料；向所述透光基底材料上涂敷至少包含可固化化合物、聚合引發劑和溶劑的涂布溶液并干燥所述溶劑；以及固化所述可固化化合物以形成固化層，其中，所述透光基底材料的至少一個表面具有粗糙形狀，所述透光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2.5μm，但不大于12μm，所述固化層的平均厚度為0.1μm或更大但不大于10.0μm，并且所述固化層滿足公式(1)到(3)0.05μm≤Ra≤0.8μm(1)10μm≤Sm≤300μm (2)1.5°≤θa≤4.5° (3)其中，Ra代表所述固化層的算術平均粗糙度，Sm代表所述固化層表面的平均峰谷距離，θa代表所述固化層表面的平均傾角，每個都基于JIS B 0601。
2.一種用于生產光散射膜的方法，包括向支撐體上澆鑄至少包含熱塑樹脂和透光顆粒的涂料以提供澆鑄膜，并剝離和干燥所 述澆鑄膜以制備透光基底材料；向所述透光基底材料上涂敷至少包含可固化化合物、聚合引發劑和溶劑的涂布溶液并 干燥所述溶劑；以及固化所述可固化化合物以形成固化層， 其中，所述透光基底材料的至少一個表面具有粗糙形狀， 所述透光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2. 5 μ m，但不大于12 μ m， 所述固化層的平均厚度為0. 1 μ m或更大但不大于10. 0 μ m，并且 所述固化層的表面傾角具有以下分布(a)0°或更大但小于1.0°的頻率的積分值小于25%，(b)1. 0°或更大但小于10°的頻率的積分值為60%或更大但小于100%，并且(c)10°或更大的頻率的積分值為0%或更大但小于25%。
3.根據權利要求1所述的方法，在澆鑄所述涂料和完成所述光散射膜之間不包括收緊步驟。
4.根據權利要求2所述的方法，在澆鑄所述涂料和完成所述光散射膜之間不包括收緊步驟。
5.一種光散射膜，包括透光基底材料，所述透光基底材料具有作為主要成分的熱塑樹脂和透光顆粒，所述透 光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2. 5 μ m但不大于12 μ m ；以及固化層，所述固化層的平均厚度為0. 1 μ m或更大但不大于10. 0 μ m, 其中，所述透光基底材料在所述固化層一側的表面形狀具有基本平行于膜形成表面的 平坦部分和源于所述透光顆粒的曲線凸起部分，并且所述凸起部分和所述平坦部分之間的最大高度Rt為1 μ m或更大但不大于15 μ m。
6.根據權利要求5所述的光散射膜，其中，依照JISB 0601，所述固化層的算術平均 粗糙度和所述固化層一側上的所述透光基底材料的算術平均粗糙度之間的差異ARa為 0. 05 μ m或更大但不大于0. 50 μ m。
7.根據權利要求5所述的光散射膜，其中，所述固化層的最小厚度tmin與最大厚度tmax 的比例tmin/tmax小于0.2。
8.根據權利要求5所述的光散射膜，其中，所述透光顆粒是基本球形樹脂顆粒。
9.根據權利要求5所述的光散射膜，其中，所述透光基底材料和所述透光顆粒之間的 折射率差異的絕對值小于0. 09。
10.根據權利要求5所述的光散射膜，所述光散射膜的光散射性質為，在基于JISK 7105利用圖像清晰度測量儀器通過寬度為2mm的光學梳測量時，給出5%到60%的圖像清 晰度。
11.根據權利要求5所述的光散射膜，其中，利用光接受角為2°的光強分布測定儀測 量的透射和散射光分布滿足公式(d)(d) 0.03 彡 1(4° )/10 彡 0.07其中，1(4° )表示在相對于所述光散射膜法線傾斜4°的位置處的透射光強度，IO表 示從光源正向測量的光源的光強。
12.根據權利要求5所述的光散射膜，其中，內部霧度為0.1到30%，表面霧度為3到 40%。
13.一種起偏振片，包括起偏振膜和所述起偏振膜至少一側上的保護膜，所述保護膜是 根據權利要求5所述的光散射膜。
14.一種包括根據權利要求5所述的光散射膜的圖像顯示裝置。
15.一種透射液晶顯示裝置，包括背光、液晶單元和位于所述液晶單元的背光側上的 根據權利要求13所述的起偏振片。
16.一種半透射液晶顯示裝置，包括背光、液晶單元和位于所述液晶單元的背光側上 的根據權利要求13所述的起偏振片。
全文摘要
提供了一種用于生產光散射膜的方法，其包括向支撐體上澆鑄至少包含熱塑樹脂和透光顆粒的涂料以提供澆鑄膜，并剝離和干燥所述澆鑄膜以制備透光基底材料；向所述透光基底材料上涂敷至少包含可固化化合物、聚合引發劑和溶劑的涂布溶液并干燥所述溶劑；以及固化所述可固化化合物以形成固化層。透光基底材料的至少一個表面具有粗糙形狀，透光顆粒的平均原顆粒尺寸大于2.5μm但不大于12μm，固化層的平均厚度為0.1μm或更大但不大于10.0μm，且所述固化層滿足特定公式。
文檔編號G02B1/10GK101852872SQ201010154819
公開日2010年10月6日 申請日期2010年3月30日 優先權日2009年3月30日
發明者渡部淳, 米山博之, 阿比留大作 申請人:富士膠片株式會社