專利名稱：：一種低張力正膠顯影液的制作方法
技術領域：
：本發明涉及一種正膠顯影液，尤其涉及一種用于IC、FPD制造用正性光刻膠的低張力正膠顯影液。
背景技術：
：正膠顯影液，無色的有機堿性水溶液，有特殊臭味，有腐蝕性；該產品主要用于IC、FPD制造用正性光刻膠的顯影劑；可防止和減少鈉離子的污染，改善應用性能，具有顯影干凈、親和力性能好等優點，有利于提高分辯力。目前低張力正膠顯影液的成份主要為四甲基氫氧化銨(TMAH)；該產品主要存在以下幾點缺點①該正膠顯影液的表面張力大于等于70，應用后其產品容易產生過顯和⑶值不穩定的現象；②該正膠顯影液的使用壽命短，由此在生產使用時顯影液消耗量大，造成單位成本較高。三、技術內容針對上述缺點，本發明的目的在于提供一種表面張力低及顯影液的使用壽命長的低張力正膠顯影液。本發明的技術內容為，一種低張力正膠顯影液，其特征是包括以下質量百分比的組份四甲基氫氧化銨2.352.41非離子型表面活性劑聚氧乙烯烷基醚0.20.3水97.2997.45。本發明的低張力正膠顯影液的為常規方法，即將原料四甲基氫氧化銨、聚氧乙烯烷基醚和水按比例打入調配罐中，，經過0.5um過濾器循環過濾，再經0.2μm的過濾器過濾，以去除混合液中粒徑大于0.2μm的有害粒子，即得低張力正膠顯影液。本發明在原有工藝的基礎上新加入微量非離子型表面活性劑聚氧乙烯烷基醚，使其表面張力控制在我們需要的制定范圍之內，可以有效避免常規產品出現的過顯及CD值問題，使其在使用效果不受影響的前提下顯影速率均勻快速，使用后產品顯影線條無鋸齒形且清晰。本發明與現有技術相比所具有的優點是1、在本發明的低張力正膠顯影液中加入微量非離子型表面活性劑，使其表面張力降于70，避免常規產品出現過顯及⑶值問題。2、本發明的低張力正膠顯影液的使用壽命長，減少顯影液的消耗量，降低客戶產生中的使用成本。具體實施例方式下面通過實施例進一步描述本發明，但未限于所舉的實施例。濃度為25重量％的四甲基氫氧化銨，高純級，杭州格林達化學有限公司生產，其指標如表1<table>tableseeoriginaldocumentpage4</column></row><table>表1濃度為99重量％的聚氧乙烯烷基醚，優等級，南京威爾化工有限公司，其指標如表2<table>tableseeoriginaldocumentpage4</column></row><table>表2例1、稱取四甲基氫氧化銨9.52kg，在攪拌下加入裝有50kg水的反應釜中，充分攪拌均勻15分鐘，加入聚氧乙烯烷基醚0.22kg，加水至100kg，攪拌20分鐘后，將制得的混合物經0.5μm的過濾器過濾，以去除混合物中粒徑大于0.5μm的有害粒子，即得低張力正膠顯影液，其表明張力為42。例2、稱取四甲基氫氧化銨9.52kg，在攪拌下加入裝有50kg水的反應釜中，充分攪拌均勻15分鐘，加入聚氧乙烯烷基醚0.25kg，加水至100kg，攪拌20分鐘后，將制得的混合物經0.5μm的過濾器過濾，以去除混合物中粒徑大于0.5μm的有害粒子，即得低張力正膠顯影液，其表明張力為41.5。例3、稱取四甲基氫氧化銨9.52kg，在攪拌下加入裝有50kg水的反應釜中，充分攪拌均勻15分鐘，加入聚氧乙烯烷基醚0.27kg，加水至100kg，攪拌20分鐘后，將制得的混合物經0.5μπι的過濾器過濾，以去除混合物中粒徑大于0.5μπι的有害粒子，即得低張力正膠顯影液，其表明張力為41。例4、稱取四甲基氫氧化銨9.52kg，在攪拌下加入裝有50kg水的反應釜中，充分攪拌均勻15分鐘，加入聚氧乙烯烷基醚0.3kg，加水至100kg，攪拌20分鐘后，將制得的混合物經0.5μm的過濾器過濾，以去除混合物中粒徑大于0.5μm的有害粒子，即得低張力正膠顯影液，其表明張力為41。權利要求一種低張力正膠顯影液，其特征是包括以下質量百分比的組份四甲基氫氧化銨2.35～2.41非離子型表面活性劑聚氧乙烯烷基醚0.2～0.3水97.29～97.45。全文摘要本發明涉及一種低張力正膠顯影液，其特征是包括以下質量百分比的組份四甲基氫氧化銨2.35～2.41、非離子型表面活性劑聚氧乙烯烷基醚0.2～0.3、水97.29～97.45。本發明具有表面張力低及顯影液的使用壽命長的優點。文檔編號G03F7/32GK101813896SQ20101013908公開日2010年8月25日申請日期2010年4月1日優先權日2010年4月1日發明者朱龍,欒成,殷福華,邵勇申請人:江陰市江化微電子材料有限公司