專利名稱：高真空光學鍍鈦膜涂層液晶屏幕保護貼的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于液晶屏幕保護貼膜技術領域，具體為一種高真空光學鍍肽膜涂層
液晶保護貼。
背景技術：
目前時下液晶屏幕的使用已經普及到絕大部分電器產品，液晶屏幕以高畫質、高分辨率、高清晰度眾多優勢面獲得大眾青睞，但同時也有一個很大缺陷，便是容易被刮花，時間久了由于靜電作用屏幕上會附著塵垢、油污、莓菌等。為解決這一問題，市面上也相應出爐了屏幕保護貼，保護屏幕防止刮花，貼這一層膜起到了保護作用卻又影響了它原有的高清晰度的優點。
實用新型內容本實用新型克服了以上所述屏幕保護貼膜在技術上存在的不足，提供了高清晰和
高通透高真空光學鍍肽膜涂層液晶屏幕保護貼。 本實用新型解決其技術問題所用的技術方案是 所述表層由低密度的聚酯樹脂制成，透明度高，同時具有阻隔性和熱封性，保護中層貼膜不受污染；底層由復合硅膠制成，吸附性能的好，利用靜電原理自動附貼，無殘膠留下，中間層為聚酯薄膜。 中間層由聚酯薄膜制成。聚酯薄膜材質是高耐磨性(硬度為3H)和耐熱性(允許
溫度為-l(TC 8(TC)，平整度好，化學性能穩定的雙向拉伸聚脂薄膜——PET(聚對笨二甲
酸乙二醇脂polyethylene ter印hthalate)，此薄膜經過真空光學鍍氧化鈦，增加了防紫外
線，自動分解塵垢的功效，具有高通透性的特征，透光度達到95%。 所述聚酯薄膜是由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)雙向拉伸制成。 所述表層、中間層、底層經層壓技術一體化成膜。結合牢度強，無氣泡灰塵夾雜之間。 所述表層上還鍍有氧化鈦。鍍氧化鈦是在高真空的環境下通過高真空熱蒸發鍍膜機給介度基體鍍上一層二氧化肽而形成的，這一涂層使得保護貼膜能夠阻擋95%的紫外線，能夠保護屏幕不因受熱過高而增強靜電反應，腐化屏幕表層，同時，這一涂層接觸到紫外線照射時，會因光電效果而產生強烈的氧化作用，空氣中的氧氣轉化成氧化離子，此時附著在貼膜表面的油污和污垢等有機物將會自動分解，其所含的碳元素將與空氣中的氧化離子自動結合，生成新的成分消散于空氣中，經過這一分解過程，貼膜已完成自動清潔的過程，起到除菌，除污垢的作用，從而保持潔凈和高透明。另外，此涂層只要通過微量的電流，就會產生熱量，附在薄膜上的霧氣便會立即融化，使此貼膜不受氣漫影響，保持清晰和通透，它只需要極小的電流，不會有任何傷害。 所述高真空光學鍍肽膜涂層液晶屏幕保護貼厚度為0. 19mm，中層貼膜厚度分別0. 18mm，表層和底層貼膜均為0. 05mm。[0011] 所述高真空光學鍍肽膜涂層液晶屏幕保護貼厚度為0. 28mm，中層貼膜厚度為0. 27mm，表層和底層貼膜均為0. 05mm。 實用新型所產生的有益效果可自動清潔，保護高清晰和高通透，在原有抗耐磨的基礎材質上增加了這一工藝過程，實現兼具了高透明這一性能，解決了一直存在的耐磨保護貼不夠通透的問題。
圖l是結構示意圖。
具體實施方式
為了詳細說明本實用新型，這里以其中一種形式為例子進行說明。如圖1所示的一種高真空光學鍍肽膜涂層液晶保護貼，包括表層20、中間層21和底層22。所述表層20為低密度的聚酯樹脂層，透明度高，同時具有阻隔性和熱封性，保護中層貼膜不受污染。中間層21聚酯薄膜材質是高耐磨性(硬度為3H)和耐熱性(允許溫度為_10°C 80°C )，平整度好，化學性能穩定的雙向拉伸聚脂薄膜——聚對笨二甲酸乙二醇脂(PET)，此薄膜經過真空光學鍍氧化鈦，增加了防紫外線，自動分解塵垢的功效，具有高通透性的特征，透光度達到95%。底層22為復合硅膠層，吸附性能的好，利用靜電原理自動附貼，無殘膠留下。[0015] 表層20、中間主膜21和底層22經層壓技術一體化成膜，結合牢度強，無氣泡灰塵夾雜之間。 表層20上面鍍有氧化鈦。鍍氧化鈦是在高真空的環境下通過高真空熱蒸發鍍膜機給介度基體鍍上一層二氧化肽而形成的。 上述具體實施方式
為本實用新型的優選實施例，并不能對本實用新型的權利要求進行限定，其他任何未背離本實用新型的技術方案而做的改變或其它等效的置換方式，都包含在本實用新型的保護范圍之內。
權利要求一種高真空光學鍍肽膜涂層液晶屏幕保護貼，主要由表層、底層以及位于表層及底層之間的中間層組成，其特征在于所述表層由低密度的聚酯樹脂制成，底層由復合硅膠制成，中間層由聚酯薄膜制成。
2. 根據權利要求1所述的高真空光學鍍肽膜涂層液晶屏幕保護貼，其特征在于所述 聚酯薄膜是由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)雙向拉伸制成。
3. 根據權利要求1所述的高真空光學鍍鈦膜涂層液晶屏幕保護貼，其特征在于所述 表層、中間層、底層經層壓技術一體化成膜。
4. 根據權利要求1所述的高真空光學鍍鈦膜涂層液晶屏幕保護貼，其特征在于所述 表層上還鍍有氧化鈦。
5. 根據權利要求1所述的高真空光學鍍鈦膜涂層液晶屏幕保護貼，其特征在于所述高真空光學鍍肽膜涂層液晶屏幕保護貼厚度為0. 19mm，中層貼膜厚度分別0. 18mm，表層和 底層貼膜均為0. 05mm。
6. 根據權利要求1所述的高真空光學鍍鈦膜涂層液晶屏幕保護貼，其特征在于所述 高真空光學鍍肽膜涂層液晶屏幕保護貼厚度為0. 28mm，中層貼膜厚度為0. 27mm，表層和底 層貼膜均為0. 05mm。
專利摘要本實用新型是一種高真空光學鍍鈦膜涂層液晶屏幕保護貼，由超強刮損處理的透明貼膜三層合一而成的復合膜，所述表層由低密度的聚酯樹脂制成，底層由復合硅膠制成，中間層由聚酯薄膜制成，貼膜的表層經真空光學鍍氧化鈦而形成光學鍍鈦膜涂層，可自動清潔，保護高清晰和高通透，在原有抗耐磨的基礎材質上增加了這一工藝過程，實現兼具了高透明這一性能，解決了一直存在的耐磨保護貼不夠通透的問題。
文檔編號G02B1/10GK201540377SQ200920236978
公開日2010年8月4日 申請日期2009年10月12日 優先權日2009年10月12日
發明者梁曉斌 申請人:梁曉斌