偏振片和使用該偏振片的液晶顯示裝置的制作方法

專利名稱：：偏振片和使用該偏振片的液晶顯示裝置的制作方法
技術領域：
：本發明涉及使相互正交的偏振光成分的一方透射、另一方反射的所謂的反射型的偏振片以及使用該偏振片的液晶顯示裝置。更詳細地講，涉及可與構成液晶盒的兩片偏振片之中的至少一片偏振片置換的反射型偏振片。
背景技術：
：裝載于液晶顯示裝置中的液晶盒，至少由液晶層和以夾著該液晶層的方式配置的兩片的偏振片(起偏振片；polarizingplate)構成。該偏振片是使聚乙烯醇等的高分子片吸附碘、色素后，通過拉伸來進行取向，由此得到的利用了吸收各向異性的片。即，通過吸收入射到偏振片中的光之中的與吸收軸平行的成分的光，并使與吸收軸正交的成分的光透射，來呈現偏振光特性。因此，這樣的吸收型的偏振片，在原理上入射自然光之類的非偏振光時的透射率不會超過50%。從液晶顯示裝置的低耗電化的觀點考慮，要求提高亮度。可是，在以往的偏振片的延長線上的改良中，在亮度提高方面存在極限。因此，作為實現進一步的高亮度化的手段，提出了使用反射型的偏振片的方法。該方法是將構成液晶盒的兩片偏振片之中的至少一個置換成使一方的偏振光成分透射，使另一方的偏振光成分反射的偏振光分離片，即所謂的反射型的偏振片。由此，通過將吸收的偏振光成分反射并再利用，來使亮度提高的方法。作為這樣的反射型的偏振片，已知例如多層疊層型、圓偏振光分離型、線柵(wiregrid)型的偏振片等。5多層疊層型偏振片，是將折射率各向同性層和折射率各向異性層交替地層疊幾層的類型。該類型的偏振片，"i殳計成在位于片材面內的一個方向上，不產生各層的折射率差，在與該方向正交的方向上，增大各層的折射率差。根據該構成，使一方的偏振光成分透射，并將與之正交的偏振光成分反射，作為反射型的偏振片發揮功能(例如，參照專利文獻l)。圓偏振光分離型偏振片，是利用了膽齒型液晶層呈現的圓偏振光二色性的偏振片。膽齒型液晶層，通過液晶分子在膜厚方向描繪螺旋，可根據螺旋方向選擇性地反射右旋或左旋的圓偏振光。通過將該膽齒型液晶層和V4波長板組合，作為反射型的偏振片發揮功能(例如，參照專利文獻2)。線柵型偏振片，是具有將細金屬線平行排列的結構的偏振片。該類型的偏振片，使與金屬線垂直地振動的偏振光透射，并使與之平行地振動的偏振光反射。由此，作為反射型的偏振片發揮功能(例如，參照專利文獻3~5)。專利文獻1特表2003-511729號^^才艮專利文獻2特開2002-90533號^S才艮專利文獻3美國專利第6122103號公報專利文獻4特開2005-195824號公才艮專利文獻5特開平7-294730號^^艮
發明內容然而，多層疊層型偏振片的場合，為了適用于可見光區域全體，必須寬帶域下呈現偏振光特性。因此，多層疊層型偏振片中，必須貼合多個調整了疊層比和膜厚的片。由此，膜厚變厚，光程長度根據光的入射角度而變化，因此存在偏振光特性產生角度依賴性的問題。另外，在利用該方法的偏振光分離中，難以使可見光的波長區域全域的偏振光特性高于以往的偏振片。因此，實際上必須并用其他的偏振片，不能夠代替以往的偏振片粘貼用于液晶盒。另外，圓偏振光分離型偏振片的場合，難以在面內均勻地形成膽甾型6液晶層。而且，為了在寬帶域呈現偏振光特性，需要貼合多個螺旋間距不同的層。在采用該方法的偏振光分離中，也難以使可見光的波長區域全域的偏振光特性高于以往的偏振片。因此，實際上必須與偏振片并用，難以代替以往的偏振片粘貼用于液晶盒。另一方面，在線柵型偏振片中，不需要上述2個例子那樣的復雜形狀。另外，通過以一定間距形成金屬線，可控制可見光的波長區域全域的偏振光特性，能夠得到與以往的偏振片同等程度的較高的偏振光特性。然而，實際上若與偏振片置換來使用，則金屬特有的色調、外部光照入而反射。因此，線柵型偏振片存在不能進行黑色顯示的問題。本發明的目的在于，克服所述的現有技術的問題，提供能夠與構成液晶盒的2片的偏振片之中的至少一個偏振片置換，并且能夠以高亮度進行鮮明的顯示的偏振片、以及使用該偏振片來呈現較高的亮度提高效果的液晶顯示裝置。本發明為了解決所述的課題，采用以下的方案。根據以下的方案，能夠將偏振片的兩面的光學特性分別控制在特定的范圍。其結果，使用本發明的偏振片，能夠提供可兼備高亮度和鮮明的黑色顯示的液晶顯示裝置。即，本發明的偏振片，是具有基材、以設定的間隔配置的多個線狀的金屬層(以下有時稱為"線狀金屬層"。)、和以設定的間隔配置的多個線狀的黑色層(以下有時稱為"線狀黑色層"。)的偏振片，上述多個線狀的金屬層和上述多個線狀的黑色層之中的至少任一方的層設置于上述基材上。另外，本發明的液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，上述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面側的偏振片(A)和面光源側的偏振片(B)，上述偏振片(B)是前面所述的偏振片，并且該偏振片被設置成滿足下迷(i)~(iii)的條件。(i)在上迷線狀的金屬層和上述線狀的黑色層形成于基材的不同的面上的偏振片中，設有上述線狀的金屬層的面與面光源相對。(ii)在上述線狀的金屬層和上述線狀的黑色層形成于基材的同一面上的偏振片中，相比于與基材面平行的上述線狀的金屬層與上述線狀的黑色層的界面，上述線狀的金屬層位于更接近于面光源的側。(iii)在與上述(i)或(ii)的任一情況均不符合的情況下，上述偏振片兩面之中的反射率更高的面與面光源相對。另外，本發明的偏振片，具有基材；在上述基材表面以設定的間隔排列的多個線狀的金屬層；和與上述線狀的金屬層接觸，將上述多個線狀的金屬層被覆的透明層。本發明的液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，上述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面側的偏振片(A)和面光源側的偏振片(B)，上述偏振片(B)是前面所述的偏振片，并且該偏振片被設置成滿足下述(i)或(ii)的條件。(0相比于與上述基材面平行的上述線狀的金屬層與上述透明層的界面，上述線狀的金屬層配置于更接近于面光源的側。(ii)在與上述(i)不符合的情況下，上述偏振片兩面之中的反射率更高的面與面光源相對。進而，本發明的偏振片，從一面(A面)側入射光時的總光線透射率為30~50%，總光線絕對反射率或總光線相對反射率的至少一方為30~50%，透射光的偏振光度為99%以上，從另一面(B面)側入射光時的總光線透射率為30~50%，總光線絕對反射率為0~30%。本發明的液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，上述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面側的偏振片(A)和面光源側的偏振片(B)，上述偏振片(B)是前面所述的偏振片，并且上述A面與面光源對置。在本發明中，在線柵型偏振片中，通過設置線狀黑色層、透明層，可將偏振片的兩面的光學特性分別控制在特定的范圍。并且，控制線柵型偏振片的2個面的總光線絕對反射率或總光線相對反射率的值。由此，能夠有效防止由金屬特有的色調、外部光的照入所引起的反射。其結果，能夠提供可與構成液晶盒的2片的偏振片之中的至少一個偏振片置換的偏振片。另外，與使用以往的碘型偏振片的情況相比，能夠提供高亮度且薄型的偏振片。而且，通過將本發明的偏振片安裝于液晶顯示裝置等中，能夠兼備高亮度的顯示和鮮明的黑色顯示。圖l是模式地表示發明的偏振片(1)以及偏振片(2)的構成的圖。圖2是模式地表示構成本發明的偏振片(l)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對位置關系的圖。圖3是模式地表示構成本發明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的優選的斷面形狀的圖。圖4是模式地表示構成本發明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的立體圖。圖5是模式地表示構成本發明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對位置關系的圖。圖6是模式地表示構成本發明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對位置關系的圖。圖7是模式地表示構成本發明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對位置關系的圖。圖8是模式地表示構成本發明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對位置關系的圖。圖9是模式地表示構成本發明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的優選的斷面形狀的圖。圖IO是模式地表示構成本發明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的立體圖。圖ll是模式地表示構成本發明的偏振片(2)的線狀金屬層、透明層的相對位置關系的圖。圖12是模式地表示構成本發明的偏振片(2)的線狀金屬層的優選的斷面形狀的圖。圖13是模式地表示構成本發明的偏振片(2)的透明層的優選的斷面形狀的圖。圖14是模式地表示構成本發明的偏振片(2)的線狀金屬層、透明層的相對位置關系的圖。圖15是模式地表示構成本發明的偏振片(2)的線狀金屬層的優選的斷面形狀的圖。圖16是才莫式地表示構成本發明的偏振片(2)的透明層的優選的斷面形狀的圖。圖17是模式地表示構成本發明的偏振片(2)的線狀金屬層、透明層的相對位置關系的圖。圖18是模式地表示構成本發明的偏振片(1)的表面具有線狀凹凸結構的基材的圖。圖19是模式地表示構成本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的表面具有線狀凹凸結構的基材的優選的斷面形狀的圖。圖20是模式地例示在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，線狀凹凸結構的形成工序的圖。圖21是模式地表示在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，金屬層形成工序中的金屬的蒸鍍角度的圖。圖22是說明使用具有可改變基材角度的機構的裝置，改變形成角度0的方法的圖。圖23是說明使用輥對輥型蒸鍍裝置，改變形成角度e進行蒸鍍的方法的圖。圖24是模式地表示裝有本發明的偏振片的液晶顯示裝置(側光型)的構成的圖。圖25是模式地表示裝有本發明的偏振片的液晶顯示裝置(正下型)的構成的圖。圖26是對裝有本發明的偏振片的液晶顯示裝置的效果進行說明的圖。圖27是模式地表示裝有本發明的偏振片的液晶顯示裝置的構成的另10一例的圖。圖28是模式地表示在實施例、比較例中制作的樣品的斷面形狀的圖。附圖標號說明1基材2線狀黑色層3線狀金屬層4透明層10線狀凹凸結構11線狀凹凸結構的凸部12線狀凹凸結構的凹部40線狀凹凸結構形成用片50模具51模具凸部52模具凹部60蒸發源61巻狀的基材62輥狀鼓63、66放巻/巻取軸64、65輥67隔板68旋轉中心100本發明的偏振片200熒光管300導光板310擴散板400反射片410框體500光擴散片600棱鏡片700面光源800液晶盒810下偏振片820液晶層830上偏振片P線狀凹凸結構的凸部的間距w線狀凹凸結構的凸部的寬度h線狀凹凸結構的凸部的高度h,基材膜厚或第一層的膜厚h2線狀黑色層2的膜厚h3線狀金屬層3的膜厚h4透明層4的膜厚w21線狀黑色層2的寬度w22線狀黑色層2間的寬度w31線狀金屬層3的寬度w32線狀金屬層3間的寬度Ll與基材面平行并且與線狀凹凸結構的縱向平行的線與基材面平行并且與線狀凹凸結構的縱向垂直的線基材面的法線Ml金屬的蒸鍍方向6基材面的法線L3與金屬的蒸鍍方向Ml構成的角度XI由面光源射出的從偏振片中透射的方向的偏振光由面光源射出的由偏振片吸收或反射的方向的偏振光;3外部光具體實施例方式以下先說明本發明的偏振片的功能。其次說明獲得該功能的偏振片的結構等。(本發明的偏振片的功能)本發明的偏振片，從其一個面(A面)側入射時的總光線透射率為30~50%，總光線絕對反射率或總光線相對反射率的至少一方為30~50%，透射光的偏振光度為99%以上，從另一個面(B面)側入射時的總光線透射率為30~50%，總光線絕對反射率為0~30%。本發明的偏振片，通過制成這樣的光學特性的偏振片，可在利用A面呈現反射型的偏振光分離特性的同時，利用B面防止外部光的照入。即，向A面側入射光的場合，具有使某一方的偏振光成分透射，并且將與該一方的偏振光成分垂直的偏振光成分反射的偏振光分離功能。另外，從B面側入射光的場合，可具有使某一方的偏振光成分透射，并且使與該一方的偏振光成分垂直的偏振光成分消失的功能。其結果，在將本發明的偏振片作為液晶盒的下側的偏振片，并且設置成A面側與光源相對的場合，可使從面光源側射出的光之中的、以往不能由下側偏振片吸收的偏振光成分，由于A面的反射型分離特性而反射到面光源側，從而進行返回再利用。因此，與以往相比，可制成高亮度的液晶顯示裝置。另一方面，在外部光入射進來的場合，可利用B面使外部光消失。其結果，能夠解決以往的反射型偏振片的、在黑色顯示時的外部光照入的問題。從以上的情況來看，本發明的反射型偏振片，通過一片的偏振片就能夠兼備高亮度的顯示和鮮明的黑色顯示。本發明的偏振片，只要從A面入射光時的總光線透射率Tat為30%~50%即可。在此所說的總光線透射率Tat,是使用受光器上具有積分球的分光光度計，從A面側以入射角0。入射光時測定的值。更詳細地講，是在光源與樣品之間插入偏振光鏡來測定其透射率時，測定其透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)TAmax、和與其垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)TAmin，由下述式(1)得到的、在波長550nm下的值。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>總光線透射率TAt優選為32。/。50。/0，進一步優選為35~50%，特別優選為37~50%。當總光線透射率TAt不到30。/。時，在組裝于液晶顯示裝置中的場合，不能使由面光源發出的光充分透射。其結果，得不到亮度提高效果。另外，總光線透射率TAt超過50。/。時，對比度降低，黑色顯示時發生漏光，圖4象變得不鮮明。在本發明的偏振片中，通過使從A面側入射光時的總光線透射率Tat為30。/。~50%的范圍，在組裝于液晶顯示裝置中的場合，與以往的偏振片相比，可制成高亮度、并且可鮮明顯示的偏振片。另外，在本發明的偏振片中，從B面入射光時的總光線透射率TBt為30%~50%。在此所說的總光線透射率TBt，其特征是，在具備積分球的分光光度計中，從B面側以入射角0。入射光時的總光線透射率TBt為30%~50%。更詳細地講，是在光源與樣品之間插入偏振光鏡測定其透射率時，測定其透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)TBmax、和與之垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)TBmin，由下述式(2)得到的、在波長550nm下的值。TBt(%)=(TBmax+TBmin)/2(2)總光線透射率TBt優選為32%~50%，進一步優選為35~50%，特別優選為37~50%。當總光線透射率TBt不到30%時，在組裝于液晶顯示裝置中的場合，不能夠使由面光源發出的光充分透射。其結果，得不到亮度提高效果。另外，當總光線透射率TBt超過50。/。時，對比度降低，在黑色顯示時發生漏光，圖像變得不鮮明。在本發明的偏振片中，通過使從B面側入射光時的總光線透射率TBt為30%~50%的范圍，在組裝于液晶顯示裝置中的場合，與以往的偏振片相比，可制成高亮度、并且可鮮明顯示的偏振片。另外，在本發明的偏振片中，從A面入射光時的總光線絕對反射率RAt或總光線相對反射率R，At的至少一方為30%~50%。在此所說的總光線絕對反射率Rat，是使用分光光度計，在向A面側以入射角5°入射光時作為正反射測定的值。更詳細地講，是在光源與樣品之間插入偏振光鏡，測定其絕對反射率時，測定其反射率最大的偏振光成分的絕對反射率(最大絕對反射率)RAmax、和與之垂直的方向的偏振光成分的絕對反射率(最小絕對反射率)RAmin，由下述式(3)得到的在波長550nm下的值。RAt(%)=(RAmax+RAmin)/2(3)另外，所謂總光線相對反射率，是使用具有內面為硫酸鋇制的積分球、10。傾斜間隔件的分光光度計、作為標準白色板的硫酸鋇，以入射角10°入射光時的作為擴散反射而測定的值。更詳細地講，是在光源與樣品(實際上，光源與積分球)之間插入偏振光鏡測定其絕對反射率時，測定其反射率最大的偏振光成分的相對反射率(最大相對反射率)R，Amax、和與之垂直的方向的偏振光成分的相對反射率(最小相對反射率)R，Amin，由下述式(3，)得到的在波長550nm下的值。R，At(%)=(R，Amax+R，Amin)/2(3，)總光線絕對反射率RAt或總光線相對反射率R，At優選為32%~50%、進一步優選為35~50%,特別優選為37~50%。總光線絕對反射率RAt以及總光線相對反射率R，At兩者不到30%時，光的利用效率降低，得不到亮度提高效果。另外，總光線絕對反射率RAt以及總光線相對反射率R，At兩者超過50%時，總光線透射率降低，不能使由面光源發出的光充分透射，其結果，得不到亮度提高效果。在本發明的偏振片中，通過使從A面側入射光時的總光線絕對反射率RAt或總光線相對反射率R，At的任一方為30%~50%的范圍，與以往的偏振片相比，可制成更高亮度的偏振片。另外，在本發明的偏振片中，從B面入射光時的總光線絕對反射率RBt為0~25%。在此所說的總光線絕對反射率RBt,是使用分光光度計，在向B面側以入射角5。入射光時作為正反射而測定的值。更詳細地講，是在光源與樣品之間插入偏振光鏡測定其絕對反射率時，測定其反射率最大的偏振光成分的絕對反射率(最大絕對反射率)RBmax、和與之垂直的方向的偏振光成分的絕對反射率(最小絕對反射率)RBmin，由下述式(4)得到的在波長550nm下的值。RBt(%)=(RBmax+RBmin)/2(4)總光線絕對反射率RBt優選為0~25%，進一步優選為0~20%，特別優選為0~15%，最優選為0~10%。總光線絕對反射率RBt超過30%時，在使液晶顯示為黑顯示時，外部光照入而反射，變得發白，圖像變得不鮮明。通過使從B面側入射光時的總光線絕對反射率RBt為0~30%的范圍，在組裝于液晶顯示裝置中的場合，與以往的偏振片相比，可一邊保持高亮度，一邊進行鮮明的黑顯示。另夕卜，在本發明的偏振片中，從A面側入射光時的偏振光度為99%以上。在此所說的偏振光度，是使用受光器上具有積分球的分光光度計，表示從A面側以入射角0。入射光時的透射光的偏振光成分的比例的值。更詳細地講，是在樣品與受光器之間插入偏振光鏡，入射無偏振狀態的光，一邊使偏振光鏡的角度變化一邊測定透射率時，測定其透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)T，Amax、和與之垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)T，Amin,由下述式(5)得到的在波長550nm下的值。偏振光度P=(T，Amax國T，Amin)/(T，Amax+T，Amin)xlOO(5)偏振光度優選為99.2%以上，更優選為99.5%以上。偏振光度不到99%時，在組裝于液晶顯示裝置中的場合，不能充分得到亮度提高效果，另夕卜，在使液晶顯示為黑顯示時，不能充分隱蔽來自光源的光，發生漏光，顯示變得不鮮明。在本發明的偏振片中，通過使從A面側入射時的透射光的偏振光度P為99。/o以上，在組裝于液晶顯示裝置中的場合，與以往的偏振片相比，可一邊保持高亮度一邊進行鮮明的黑顯示。本發明的偏振片，優選其總膜厚為150fim以下。通過為該膜厚，與以往的偏振片相比，可制成薄的液晶顯示裝置。更優選為120nm以下，進一步優選為llOjim以下，特別優選為lOOjun以下。在此，所謂偏振片的總膜厚，是將構成偏振片的各層全部包括在內的厚度。作為本發明的偏振片的偏振光分離方式，只要是至少含有多層疊層方式、棱鏡方式、液晶排列方式、各向異性擴散方式、線柵方式、以及將這些方式組合的方式等具有反射型的偏振光分離功能的方式的偏振光分離方式，則均可使用。其中，優選至少含有薄型、單一結構的、在寬的波長區域可呈現高的偏振光分離性能的線柵方式。通過成為含有線柵方式的構成，能夠制成對以往的偏振片而言成為問題的對比度、亮度、耐熱性、薄型化全部兼備的偏振片。以下基于附圖對具有上述功能的偏振片的例子進行說明。圖l是模式地說明本發明的偏振片的圖。本發明的偏振片至少包括圖l(a)所示的、具有基材l、以設定的間隔配置的多個線狀的金屬層3、和以設定的間隔配置的多個線狀的黑色層2,并且上述多個線狀的金屬層3和上述多個線狀的黑色層2之中的至少任一方的層設置于上述基材上的結構的偏振片(以下稱為"本發明的偏振片(1)");和圖1(b)所示的、具有基材l、在上述基材表面以設定的間隔排列的多個線狀的金屬層3、和與上述線狀的金屬層3接觸、并且將上述多個線狀的金屬層3被覆的透明層4的結構的偏振片(以下稱為"本發明的偏振片(2)")。[本發明的偏振片(1)]本發明的偏振片(l)至少具有基材l;隔開間隔而形成的多個線狀金屬層3;和隔開間隔而形成的多個線狀黑色層2。在此，所謂線狀黑色層2，是指后面所定義的呈黑色的層。在本發明的偏振片(1)中，通過成為上述構成，在利用線狀金屬層3來呈現反射型的偏振光分離特性的同時，利用線狀黑色層2來防止外部光的照入。在此，對于偏振片(l)的各面，1)在線狀金屬層3和線狀黑色層2形成于基材l的不同的面上的偏振片中，將形成有線狀金屬層3的面作為A面，將形成有線狀黑色層2的面作為B面；2)在線狀金屬層3和線狀黑色層2形成于基材1的同一面上的偏振片中，從與基材l面平行的線狀金屬層3與線狀黑色層2的界面起，將線狀金屬層3側的面作為A面，將線狀黑色層2側的面作為B面。另外，在與l)、2)的任一情況都不符合的情況下，測定兩面的反射率，將反射率更高的面作為A面，將反射率更低的面作為B面。從A面側入射光的場合，具有使與線狀金屬層3的縱向垂直的偏振光成分透射，并且將與該偏振光成分垂直的方向(與線狀金屬層3的縱向平行的方向)的偏振光成分反射的偏振光分離功能。而且，從B面側入射光的場合，具有使與線狀黑色層2的縱向垂直的方向的偏振光成分(與線狀黑色層2的縱向垂直的方向)透射，并JU吏與該偏振光成分垂直的方向(與線狀黑色層2的縱向平行的方向)的偏振光成分消失的功能。將本發明的偏振片(1)作為液晶盒的下側的偏振片，并且設置成A面側在面光源側的場合，可使從面光源側入射的光之中的、以往由下側偏振片吸收的偏振光成分由于線狀金屬層3的反射型分離特性而反射到面光源側從而進行返回再利用。其結果，與以往相比，可制成高亮度的液晶顯示裝置。另外，在外部光入射的場合，能夠利用線狀黑色層2使外部光消失。其結果，黑色顯示時的外部光照入這一以往的反射型偏振片的問題消除。即，本發明的反射型偏振片(1)，通過一片的偏振片即可一邊保持高亮度一邊進行鮮明的黑顯示。(線狀黑色層)作為線狀黑色層2的黑色，表;見上呈黑色即可。作為呈現該黑色的方法，優選使用1)在應用的波長區域吸收光、2)在應用的波長區域通過薄膜干涉而使光消失、3)將該1)和2)組合的方法等。在此，所謂l)r在應用的波長區域吸收光』,是通過將入射到線狀黑色層2的光轉換成熱等的別的能量從而使光消失的方法。所謂2)r在應用的波長區域通過薄膜干涉而使光消失J，是使由線狀黑色層2表面反射的光、和入射到線狀黑色層2的內部并由背面等反射從而返回來的光由于相位的不同而相互抵消，由此使之消失的方法。在本發明的偏振片(1)中，作為構成線狀黑色層2的例子，可舉出選自金、銀、銅、鉑、硅、硼、鈀、錸、釩、鋨、鈷、鐵、鋅、釕、鐠、鉻、鎳、鋁、錫、鋅、鈦、鉭、鋯、銻、銦、釔、鑭、鎂、釣、鈰、鉿、鋇等的任一群中的無機物、使以上述無機物群為主成分的物質氧化、亞氧化、次氧化而成的物質、或者上述無機物群與使上述無^/L物群氧化、亞氧化、次氧化而成的物質的混合物(以后將它們稱為無機氧化物(1))、使18以上述無機物群為主成分的物質氮化、亞氮化、次氮化而成的物質、或上述無機物群與將上述無機物群氮化、亞氮化、次氮化而成的物質的混合物(以后將它們稱為無機氮化物(1))、使以上述無機物群為主成分的物質氮氧化、亞氮氧化、次氮氧化而成的物質、或上述無機物群與4吏上迷無機物群氮氧化、亞氮氧化、次氮氧化而成的物質的混合物(以后將它們稱為無機氮氧化物(1))、使以上述無機物群為主成分的物質碳化、亞碳化、次碳化而成的物質、或上述無機物群與使上述無機物群碳化、亞碳化、次碳化而成的物質的混合物(以后將它們稱為無機碳化物(1))、使以上述無機物群為主成分的物質氟化和/或氯化和/或溴化和/或碘化(以下將這些稱為卣化)、亞卣化、次卣化而成的物質、上述無機物群與使上述無機物群卣化、亞卣化、次囟化而成的物質的混合物(以后將它們稱為無機卣化物(1))、或上述無機物群與使上述無機物群硫化、亞硫化、次硫化而成的物質的混合物(以后將它們稱為無機硫化物(1))、以及石墨狀碳、類似金剛石的碳等的碳系化合物(以后將它們稱為碳系化合物(1))等的無機物群、酞胥、偶氮化合物、吡啶系化合物、酞菁系化合物、卟啉系化合物、花青系化合物、部花青系化合物、香豆素系化合物、聚次甲基(polymethine)系化合物、紅汞系化合物、曙紅系化合物等與上述無才幾物群配位形成的有機金屬配位化合物系化合物、異丐l咪啉酮化合物、蒽醌化合物、次甲基化合物、丙烯酰胺化合物、二酮氯苯酚化合物、喹吖咬酮化合物、萘酚化合物、苯并咪唑啉化合物、硫欷化合物、二萘嵌苯系化合物等的芳香族系有機化合物等的有機物群、以及它們的混合物等。其中，特別是無機氧化物(1)、無機氮化物(1)、無機氮氧化物(1)、無機碳化物(1)、無機閨化物(1)、無機硫化物(1)、碳系化合物(1)，從光消失效率高的方面考慮是更優選的。另外，上述材料只要在線狀黑色層2中至少含有即可，但更優選是主成分。另外，將在線狀黑色層中超過50重量％的情況定義為主成分。在本發明的偏振片(1)中，作為線狀黑色層2，可以是至少含有上述材料的單一的層，也可以是由多個層構成的疊層結構。在為疊層結構的場合，通過控制各層的疊層厚度，可更加提高光的消失效果，或使更寬范圍的波長區域的光消失。在本發明的偏振片(1)中，作為線狀黑色層2，形成于膜厚100nm的鋁的蒸鍍膜(基材表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7))上時，是以線狀周期性地形成多個下述層而成的黑色層，所述層為使用該線狀黑色層2形成前的總光線絕對反射率Ra、線狀黑色層2形成后的總光線絕對反射率Rb,由下述式(6)求得的光消失率(消光率)L，作為應用的波長區域全體的平均值為40%以上的層。光消失率<formula>formulaseeoriginaldocumentpage20</formula>在此，所謂線狀黑色層2形成前的絕對反射率Ra、線狀黑色層2形成后的絕對反射率Rb，是采用分光光度計分別以入射角5。入射無偏振狀態的光時作為正反射而測定的值。優選由上述式(6)得到的消失率為50%以上，更優選為60%以上。光消失率L不到40。/。時，在4吏液晶顯示為黑顯示時，外部光照入并反射，變得發白，有時圖像變得不鮮明，因此不優選。在本發明的偏振片(1)中，通過使光消失率L為40%以上，在組裝于液晶顯示裝置中的場合，與以往的偏振片相比，可一邊保持高亮度一邊進行鮮明的黑顯示。在本發明的偏振片(1)中，作為線狀黑色層2，優選至少含有在使用波長下吸收光的物質。即，在用于液晶顯示裝置的場合，優選至少含有具有在400~800nm的可見光區域吸收光的特性的物質。在上述的呈現黑色的方法中，在1)r在應用的波長區域吸收光J的方法中，含有吸收光的物質是必需的要件，但在2)r在應用的波長區域通過薄膜干涉而使光消失J的方法中，通過使材料具有光吸收性，(即，3)將1)和2)組合的方法)，可降低角度依賴性和波長依賴性。(線狀金屬層)另外，在本發明的偏振片(1)中，優選線狀金屬層3是「由高反射性金屬構成的層J、和/或r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層j。另外，可以是它們混合的層，也可以是疊層的結構。在此，「由高反射性金屬構成的層J是由單一的金屬構成的線狀金屬層3、或以由多種金屬構成的合金形成的線狀金屬層3。優選是一層或者由不同的材質構成的二層以上的疊層結構。在為由不同的材質構成的二層以上的疊層結構的場合，只要至少一層是由高反射性金屬構成的層即可。例如，反射性低的金屬氧化物等層疊于線狀金屬層3表面也可以。另外，在使用容易氧化的高反射性金屬的場合，優選預先在線狀金屬層3表面形成由該高反射性金屬的氧化物或其他金屬的氧化物構成的透明層來作為保護層，以提高隨時間遷移的穩定性。另外，r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層J中所含的高反射性金屬粒子以及由高反射性金屬被覆的粒子，其粒徑優選為1~100nm，更優選為1~50nm。在此所說的粒徑，是指中值徑d50。粒徑為100nm以下的金屬粒子，熔合溫度降低，因此即使在例如200-300。C下的低溫熱處理，粒子也開始連結，呈現作為金屬的特性，提高光反射性，因此優選。另夕卜，當粒徑為50nm以下時，通過更^f氐溫并且短時間的熱處理，粒子就熔合，因此更優選。這些粒子的形狀不特別限定，無論是怎樣的形態都能夠優選使用。另外，由高反射性金屬被覆的內層的粒子，例如為丙烯酸樹脂等的交聯樹脂粒子、二氧化硅、氧化鋁等的無機粒子等、可不特別限定而優選使用。這些高反射性金屬粒子、由高反射性金屬粒子被覆的粒子，優選通過單獨的粒子、或粒子與分散劑的組合、進而粒子與分散劑與作為粘合劑的熱塑性樹脂、光固性樹脂、熱固性樹脂中的任一種或以這些樹脂的混合物為主成分的樹脂組合物組合，來形成r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層J。在本發明的偏振片(1)中，作為高反射性金屬，優選是選自鋁、鉻、銀、銅、鎳、鉑和金中的金屬以及以這些金屬為主成分的合金。在此，所謂作為主成分，是指線狀金屬層3中的該金屬的含量超過50重量％。另外，所謂高反射性，是指在使用的光的波長區域顯示高反射率。具體地講是指，在表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7)上以100nm的厚度形成金屬層，從該金屬層側入射時的反射率在應用的波長區域全體中為75%以上。更優選為80%21以上，進一步優選為85%以上。使用反射率不到75%的金屬作為線狀金屬層3的場合，光學損耗增多，不能充分得到光利用效率；有時即使光學損耗小，偏振光度也降低，因此不優選。在本發明的偏振片(1)中，通過使用反射率為75。/。以上的金屬，不僅可提高光利用效率，而且可得到高的偏振光度。上述金屬之中的鋁、鉻、銀，在可見光區域的全域中反射率高，因此更優選。(本發明的偏振片(1)的形態)本發明的偏振片(1)，在基材1上，分別隔開間隔地形成多個的、上述的線狀黑色層2和線狀金屬層3。對于本發明的偏振片(l)的形態，用圖2~圖10進4亍詳細說明。圖2~4表示使用表面平坦的基材1時的優選的方式的例子。圖5~10是以具有斷面為矩形的凸部11的線狀的凹凸結構(以下稱為線狀凹凸結構)10為例，表示線狀黑色層2和線狀金屬層3的優選的方式的例子的圖。例如，在使用表面平坦的基材l時，作為線狀黑色層2和線狀金屬層3的相對關系，可舉出下述的情況來作為優選的例子如圖2(a)~(h)那樣，線狀黑色層2和線狀金屬層3相對于基材1在其相同側的表面形成的情況；如圖2(i)~(j)那樣，線狀黑色層2和線狀金屬層3相對于基材l在相反側形成的情況；等等。在線狀黑色層2和線狀金屬層3相對于基材1在相同側的表面形成的情況下，可舉出下述情況作為優選的例子在基材1上形成線狀金屬層3,并在該線狀金屬層3上形成線狀黑色層2的情況(圖2(a));在基材1上形成線狀黑色層2，并在該線狀黑色層2上形成線狀金屬層3的情況(圖2(b));在基材1上直接形成線狀黑色層2和線狀金屬層3兩者的情況(圖2(c)、(d));或者，將這些情況組合的情況(圖2(e)~(h);等等。另外，線狀黑色層2和線狀金屬層3相對于基材1在反對側形成的場合，可舉出下述情況作為優選的例子線狀黑色層2和線狀金屬層3存在相對于膜面對稱的位置關系的情況(圖2(i));線狀黑色層2和線狀金屬層3不存在相對于膜面對稱的位置關系的情況(圖2(j));等等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。但是，在圖2(j)中，線狀黑色層2的線狀寬度w21的寬度小于線狀金屬層3間的寬度w32，或線狀金屬層的寬度w31小于線狀黑色層2間的寬度w22的寬度。在基材1上形成的情況下的線狀黑色層2的斷面形狀，作為優選的例子例如可舉出矩形(圖3(a))、梯形(圖3(b))、三角形(圖3(c))或它們的角、側面為曲線狀的形狀(圖3(d)~(f))、以及將這些形狀的上下顛倒而成的形狀；等等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在，另外，并不限于這些形態，只要是在面內隔開間隔地形成多個線狀黑色層2，就可優選使用。另外，在基材1上形成的場合的線狀金屬層3的斷面形狀，作為優選的例子例如可舉出矩形(圖3(g))、梯形(圖3(h))、三角形(圖3(i))或它們的角、側面為曲線狀的形狀(圖3(j)~(1))、以及將這些形狀的上下顛倒而成的形狀；等等，但并不限于這些形態，只要是在面內隔開間隔地形成多個線狀金屬層3,就可優選使用。另外，圖4(a)表示具有圖3(a)的斷面形狀的基材l的立體圖，圖4(b)表示具有圖3(g)的斷面形狀的基材l的立體圖，分別表另外，在基材1的一側具有線狀凹凸結構10的場合，線狀黑色層2和線狀金屬層3的相對的關系，作為優選的例子可舉出線狀黑色層2形成于線狀凹凸結構10上，線狀金屬層3形成于平坦面側的情況(圖5);線狀黑色層2形成于平坦面側，線狀金屬層3形成于線狀凹凸結構10上的情況(圖6);一f壬一方都形成于線狀凹凸結構IO上的情況(圖7、圖8);任一方都形成于平坦面側的情況(與圖2(a)~(h)同樣)；等等。線狀黑色層2形成于基材1的線狀凹凸結構10側，線狀金屬層3形成于基材1的平坦面側的場合，對于其位置關系，作為優選的例子可舉出線狀金屬層3形成于基材1的線狀凹凸結構IO的凸部11的背側的情況(圖5(a)~(e));線狀金屬層3形成于線狀凹凸結構10的凹部的背側的情況(圖5(f)~(j));等等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。但是，在圖5(f)~(j)中，線狀黑色層2的寬度w21的寬度小于線狀金屬層3間的寬度w32，或線狀金屬層的寬度w31小于線狀黑色層2間的寬度w22的寬度。另外，線狀金屬層3形成于線狀凹凸結構10側，線狀黑色層2形成于平坦面側的場合，對于其位置關系，作為優選的例子可舉出線狀黑色層2形成于線狀凹凸結構10的凸部11的背側的情況(圖6(a)~(e));線狀黑色層2形成于線狀凹凸結構10的凹部的背側的情況(圖6(f)(j));等等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。但是，在圖6(e)~(i)中，線狀黑色層2的寬度w21的寬度小于線狀金屬層3間的寬度w32,或線狀金屬層的寬度w31小于線狀黑色層2間的寬度w22的寬度。另外，對于線狀黑色層2形成于線狀凹凸結構10上，接著線狀金屬層3也形成于線狀凹凸結構IO上的情況下的位置關系、形態，以線狀黑色層2形成于線狀凹凸結構10的凸部11的頂部的情況(圖9(a))為例，作為優選的例子可舉出線狀黑色層2和線狀金屬層3相接觸而形成的情況(圖7(a)~(d));線狀金屬層3與線狀凹凸結構IO接觸而形成的情況(圖7(e)~(f));線狀金屬層3與線狀黑色層2和線狀凹凸結構IO兩者接觸的情況(圖7(g)~(i));等等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。另外，對于線狀金屬層3形成于線狀凹凸結構10上，接著線狀黑色層2形成于線狀凹凸結構IO上的情況下的位置關系、形態，以線狀金屬層3形成于線狀凹凸結構10的凸部11的頂部的情況(圖9(f))為例，作為優選的例子可舉出線狀金屬層3和線狀黑色層2相接觸而形成的情況(圖8(a)~(d));線狀黑色層2與線狀凹凸結構10接觸而形成的情況(圖8(e)~(f));線狀黑色層2與線狀金屬層3和線狀凹凸結構10兩者接觸的情況(圖8(g)~(i));等等。更優選包含在基材表面的法線方向線狀黑色層2和線狀金屬層3層疊的結構(圖8(a)、(c)、(d)、(h)、(0)。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。在此，作為線狀黑色層2形成于線狀凹凸結構10側的場合的線狀黑色24層2的形態，除了線狀黑色層2形成于線狀凹凸結構10的凸部11的頂部的情況(圖9(a))以外，作為優選的例子還可舉出形成于相鄰的凸部11間、即形成于凹部12的情況(圖9(b));形成于凸部ll的側面的情況(圖9(c));形成于凸部11的周圍的情況(圖9(d));或以將它們組合的形狀形成的情況(例如圖9(e));等等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。另外，作為線狀金屬層3形成于線狀凹凸結構10側的場合的線狀金屬層3的形態，除了線狀金屬層3形成于線狀凹凸結構10的凸部11的頂部的情況(圖9(f))以外，作為優選的例子還可舉出形成于相鄰的凸部11間、即形成于凹部12的情況(圖9(g));形成于凸部ll的側面的情況(圖9(h));形成于凸部11的周圍的情況(圖9(i));或以將它們組合的形狀形成的情況(例如圖9(j));等等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。圖10(a)表示具有圖9U)的斷面形狀的基材1的立體圖，圖10(b)表示具有圖9(f)的斷面形狀的基材l的立體圖，分別表示出以線狀在基材1表面上形成線狀黑色層2、以及在基材1表面上形成線狀金屬層3的情形。在此，在本發明的偏振片(1)中，上述的形狀之中的線狀黑色層2和線狀金屬層3的位置關系，從兼備高透射率、高光利用效率和抑制外部光反射的方面考慮，優選如圖2(a)~(b)、(e)~(i)、圖5(a)~(d)、(j)、圖6(a)~(d)、(j)、圖7(a)、(c)(d)、(h)~(i)，圖8(a)、(c)(d)、(h)~(i)那樣，通過線狀黑色層2，與線狀黑色層2的縱向平行，并且在與膜面垂直的面內存在線狀金屬層3(或者，通過線狀金屬層3，與線狀金屬層3的縱向平行，并且在與膜面垂直的面內存在線狀黑色層2)。特別是從加工容易的方面考慮，更優選如圖2(a)、(e)、(g)、圖8(a)、(c)、(d)、(h)、(i)那樣在線狀金屬層3上形成線狀黑色層2，或者，如圖2(b)、(f)、(h)、圖7(a)、(c)、(d)、(h)、(i)那樣在線狀黑色層2上形成線狀金屬層3。在本發明的偏振片(1)中，通過成為上述的構成，可在維持作為反射型偏振片的高透射率、高偏振光度、光利用效率的狀態下抑制外部光的反射。其結果，可制成能夠以對于以往的反射型偏振片而言較困難的、與下側偏振片置換并粘貼成液晶盒的形式使用、并且通過光的再利用而可提高亮度的偏振片。在本發明的偏振片(1)中，線狀黑色層2的膜厚h2優選為1~200nm。通過使之為該膜厚，除了由黑色層形成材料進行光吸收外，還可利用薄膜干涉效應，因此優選。在此所說的線狀黑色層2的膜厚h2，是沿本發明的偏振片的膜厚方向測定的膜厚，只要在基材1上的至少一部分上以滿足上述范圍的膜厚形成線狀黑色層2即可。特別是如圖2U)、(e)、(g)、圖8(a)、(c)、(d)、(h)、(i)那樣在線狀金屬層3上形成線狀黑色層2的場合，優選從線狀金屬層3的頂部上形成上述厚度的線狀黑色層2。線狀黑色層2的膜厚，更優選為1~200nm，進一步優選為1~100nm，特別優選為1~50nm。線狀黑色層2的膜厚h2不到lnm時，不能得到充分的抑制外部光反射的效果，因此不優選。另外，當線狀黑色層2的膜厚h2超過200nm時，會不必要地吸收透射光，有時透射率降低，因此不優選。在本發明的偏振片(1)中，通過使線狀黑色層2的膜厚h2在1~200nm的范圍，可制成兼備高透射率和抑制外部光反射的效果的偏振片。另外，在本發明的偏振片(1)中，線狀黑色層2的寬度w21與線狀黑色層2的間距p2之比w21/p2優選為0.1~0.7。在此，用于算出該比率的線狀黑色層2的寬度w21、間距p2，是在與線狀黑色層2的縱向垂直的斷面上，在與基材l面平行的方向測定的線狀黑色層2的寬度以及重復單位。更優選w21/p2為0.2~0.6，進一步優選為0.3~0.6。當該比率超過0.7時，光利用效率和透射率降低，因此不優選。另外，w21/p2不到0.1時，不能得到充分的抑制外部光反射的效果，因此不優選。在本發明的偏振片(1)中，通過使線狀黑色層2的寬度w21與間距p2之比w21/p2在0.1~0.7的范圍，能夠得到兼備高透射率和抑制外部光反射的效果的偏振片。在本發明的偏振片(1)中，線狀黑色層2的間距p2、寬度w21根據應用的光的波長區域來適宜選擇即可。例如，按以下所述來形成為了應用于波長800~4000nm的近紅外-紅外光的波長區域，間足巨p2=50~800nm、寬度w21=20~780nm，另夕卜，為了應用于波長400~800nm的可見光的波長區域，間距p2-50400nm、寬度w21=20~380nm，等等。通過形成該尺寸的線狀黑色層2，在分別應用的光的波長區域，可不降低偏振光特性而呈現抑制外部光反射的效果。特別是應用于可見光的波長區域的場合，對于間距p2，當超過400nm時，可見光的短波長區域的偏振光度降低，因此不優選。另外，當間距p2小于50nm時，變得難以形成線狀黑色層2，因此不優選。間距p2更優選為70~200nm，進一步優選為80~160nm，特別優選為80~140nm。另外，對于寬度w21，當比20nm狹窄時，成形變得困難。另外，即使能夠成形，有時防照入的效果也降低，因此不優選。另外，關于寬度w21，當在應用于近紅外光區域的波長區域的場合大于780nm、在應用于可見光的波長區域的場合大于380nm時，開口率變得非常低，光線透射率變低，本來應該透射的方向的偏振光也吸收，有時偏振光度降低，因此不優選。關于寬度w21，在應用于近紅外光的波長區域的場合，進一步優選為20300nm、最優選為20~200nm,在應用于可見光的波長區域的場合，進一步優選為20~150nm、最優選為25~100nm。間距p2以及寬度w21，為了在面內保持防反射特性、偏振光特性的均一性，優選為一定。如果在上述范圍內，則各種的間距以及寬度混雜也可以。另外，當以應用于可見光區域的形狀制作偏振片時，不僅可見光區域，在作為更長波長的近紅外線區域、紅外線區域也能夠呈現抑制反射效果。因此，也可作為近紅外線用或紅外線用的偏振片使用。另外，在本發明的偏振片(1)中，線狀金屬層3的膜厚h3優選為10~200nm。在此所說的線狀金屬層3的膜厚h3，是沿本發明的偏振片(1)的膜厚方向測定的膜厚，只要在基材1上的至少一部分上以滿足上述范圍的膜厚形成線狀金屬層3即可。線狀金屬層3的膜厚h3，更優選為30~200nm、進一步優選為40~200nm。線狀金屬層3的膜厚h3不到10nm時，27有時得不到充分的偏振光度，未發揮偏振片的功能；得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優選。線狀金屬層3的膜厚h3超過200nm時，變得難以形成，通過形成線狀金屬層3，凸部寬度變大，其結果，不能確保充分的開口率，因此透射率降低，因此不優選。在本發明的偏振片(1)中，通過使線狀金屬層3的膜厚在10~200nm的范圍，可制成兼備較高的透射率和偏振光度、光利用效率的偏振片。在此，在本發明的偏振片(1)中，在基材1表面具有線狀凹凸結構IO的場合，為了得到高的光利用效率和高透射率，更優選線狀金屬層3只在凸部ll周邊形成(例如，圖7(a)(d)、(g)(i)、圖8等)。該場合下，將在凸部11上形成的線狀金屬層3膜厚和凸部11的高度h合計的高度更優選為400nm以下。合計的高度超過400nm時，有時偏振光特性依賴于光的入射角度，因此不優選。在本發明的偏振片(1)中，通過使在凸部11上形成的線狀金屬層3膜厚與凸部11的高度h合計的高度設為400nm以下，可不依賴于光的入射角度而得到均一的偏振光特性。另外，在本發明的偏振片(1)中，線狀金屬層3的寬度w31與線狀金屬層3的間距p3之比w31/p3優選為0.1~0.7。在此，為計算該比率而需要的線狀金屬層3的寬度w31、間距p3，是在與線狀黑色層2的縱向垂直的斷面上，沿與基材l面平行的方向測定的線狀黑色層2的寬度以及重復單位。更優選w31/p3為0.2~0.6、進一步優選為0.3~0.6。w31/p3超過0.7時，透射率降低，因此不優選。另外，該比率不到0.1時，得不到充分的偏振光度，得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優選。在本發明的偏振片(1)中，通過使線狀金屬層3的寬度w31與間距p3之比w31/p3在0.1~0.7的范圍，可制成兼備高的透射率和偏振光度、光利用效率的偏振片。在本發明的偏振片(1)中，線狀金屬層3的間距p3、寬度w31只要根據應用的光的波長區域適宜選擇即可。例如，按以下所述來形成為了應用于波長800~4000nm的近紅外-紅外光的波長區域，間距p3=50~800nm、寬度w31=20~780nm,另外，為了應用于波長400~800nm的可見光的波長區域，間距p3-50400nm、寬度w31=20~380nm，等等。通過形成該尺寸的線狀金屬層3，能夠在分別應用的光的波長區域呈現高的偏振光特性。特別是應用于可見光的波長區域的場合，對于間距p3，當超過400nm時，可見光的短波長區域的偏振光度降低，因此不優選。另外，當間距p3小于50nm時，變得難以形成線狀金屬層2，因此不優選。間距p3更優選為70~200nm、進一步優選為80~160nm、特別優選為80~140nm。另外，對于寬度w31，當比20nm窄時，成形變得困難。另外，即使能夠成形，有時防照入的效果也降低，因此不優選。另外，關于寬度w31，當在應用于近紅外光區域的波長區域的場合大于780nm、在應用于可見光的波長區域的場合大于380nm時，開口率變得非常低，光線透射率變低，或本來應該透射的方向的偏振光也反射，有時偏振光度降低，因此不優選。對于寬度w31，在應用于近紅外光的波長區域的場合，進一步優選為20300nm、最優選為20~200nm,在應用于可見光的波長區域的場合，進一步優選為20~150nm、最優選為25~100nm。間距p3以及寬度w31，為了在面內保持偏振光特性的均一性，優選為一定。另外，如果在上述范圍內，則也可以各種的間距以及寬度混雜。另外，當以應用于可見光區域的形狀制作偏振片時，不僅可見光區域，在作為更長波長的近紅外線區域、紅外線區域也能夠呈現偏振光特性。即，也能夠作為近紅外線用或紅外線用的偏振片使用。另外，在本發明的偏振片(1)中，線狀金屬層3的膜厚h3與寬度w31之比h3/w31優選為0.5以上。更優選為0.6以上、進一步優選為0.7以上、特別優選為0.8以上、最優選為1.0以上。h3/w31不到0.5時，得不到充分的偏振光度，或得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優選。在本發明的偏振片(1)中，通過使線狀金屬層3的膜厚h3與寬度w31之比h3/w31為0.5以上，能夠制成兼備高的透射率和偏振光度、光利用效率的偏振片。[本發明的偏振片(2)]本發明的偏振片(2)至少具有基材l;在上述基材表面以設定的間隔排列的多個線狀的金屬層3;與上述線狀的金屬層接觸，并將上述多個線狀的金屬層被覆的透明層4。在此，所謂透明層4,是指實質上不吸收光的層。在本發明的偏振片(2)中，連續的透明層4以與按設定的間隔排列的多個線狀金屬層3接觸的方式被覆。通過該構成，可在利用線狀金屬層3呈現反射型的偏振光分離特性的同時，利用透明層4來防止外部光的照入。具體地講，在偏振片(2)中，相比于與上述基材l面平行的上述線狀的金屬層3和上述透明層4的界面，線狀金屬層3側作為A面、透明層4側作為B面。另外，在無論如何也不符合的場合，測定兩面的反射率，反射率更高的面作為A面、反射率更低的面作為B面。從A面側入射光的場合，具有使與線狀金屬層3的縱向垂直的偏振光成分透射、并且將與該偏振光成分垂直的方向(與線狀金屬層3的縱向平行的方向)的偏振光成分反射的偏振光分離功能。進而從B面側入射光的場合，由于透明層4透明，因此與線狀金屬層3的縱向垂直的方向的偏振光成分(與線狀金屬層2的縱向垂直的方向)不^^皮阻礙而進行透射。另外，在與該偏振光成分垂直的方向(與線狀金屬層3的縱向平行的方向)的偏振光成分^L^射時，可具有下述功能，即，由于由線狀金屬層2與透明層4的界面反射的光、和由透明層4的表面反射的光的相位不同，從而相互抵消，由此使光消失。其結果，在作為液晶盒的下側的偏振片、并且設置成A面側為面光源側的場合，從面光源側入射的光之中的、以往由下側偏振片吸收的偏振光成分由于線狀金屬層3的反射型分離特性而反射到面光源側，可進行返回再利用。因此，與以往相比，可制成高亮度的液晶顯示裝置。而且，對于以往的反射型偏振片成為問題的黑色顯示時的外部光的照入，在外部光入射進來時，可利用透明層4使外部光消失。即，本發明的反射型偏振片(1)，通過一片的偏振片就能夠一邊保持高亮度一邊進行鮮明的黑顯示。在本發明的偏振片(2)中，作為構成透明層4的例子，可舉出將選自金、銀、銅、鉑、硅、硼、鈀、錸、釩、鋨、鈷、鐵、鋅、釕、鐠、鉻、30鎳、鋁、錫、鋅、鈦、鉭、鋯、銻、銦、釔、鑭、鎂、釣、鈰、鉿、鋇、等的任一群中的無機物群作為主成分的物質氧化、亞氧化、次氧化而成的物質(以后將它們稱為無機氧化物(2))、使以上述無機物群為主成分的物質氮化、亞氮化、次氮化而成的物質(以后將它們稱為無機氮化物(2))、使以上述無機物群為主成分的物質氮氧化、亞氮氧化、次氮氧化而成的物質(以后將它們稱為無機氮氧化物(2))、使以上述無機物群為主成分的物質碳化、亞碳^f匕、次碳化而成的物質(以后將它們稱為無機碳化物(2))、使以上述無機物群為主成分的物質氟化和/或氯化和/或溴化和/或碘化(以下將它們稱為鹵化)、亞鹵化、次鹵化而成的物質(以后將它們稱為無機卣化物(2))、類似金剛石的碳等的碳系化合物(以后稱為碳系化合物(2))、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚2，6-萘二曱酸乙二醇酯、聚對苯二曱酸丙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等的聚酯系樹脂、聚甲基丙烯酸曱酯等丙烯酸系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚曱基戊烯、脂環式聚烯烴樹脂等的聚烯烴系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚;友酸酯、聚苯乙烯、聚醚、聚酯酰胺、聚醚酯、聚氯乙烯、聚乙烯醇等的樹脂化合物、以及它們的混合物。其中，特別是從利用蒸鍍法可高精度地形成均勻的膜的方面考慮，更優選無機氧化物(2)、無機氮化物(2)、無機氮氧化物(2)、無機碳化物(2)、無機囟化物(2)、碳系化合物(2)。另外，上述材料，只要在透明層4中至少含有即可，更優選作為主成分。另外，將在該層中超過50重量％的情況定義為主成分。在本發明的偏振片(2)中，作為透明層4，可以是至少含有上述材料的單一的層，也可以是由多個層構成的疊層結構。在為疊層結構的場合，通過控制各層的疊層厚度，可更加提高光消失效果，使更寬范圍的波長區域的光消失。在本發明的偏振片(2)中，透明層4是在使用波長下實質上不吸收光的層。即，是在用于液晶顯示裝置中的場合，在400~800nm的可見光區域實質上不吸收光的層。在此，所謂實質上不吸收光，是在表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7))表面形成了透明層4時，采用從其形成面入射光時的總光線透射率Tp、總光線絕對反射率RP，由下述式(7)求得的光吸收率A，作為應用的波長區域全體的平均值為20%以下。光吸收率A(%)=100-(TP+R卩)(7)在此，所謂總光線透射率Tp，是使用受光器上具有積分球的分光光度計，以入射角0。入射無偏振狀態的光時測定的值。所謂總光線絕對反射率R卩，是在分光光度計中，以入射角5。入射無偏振狀態的光時作為正反射而測定的值。優選由上述式(7)得到的光吸收率A為15%以下、進一步優選為10%以下。光吸收率A超過20。/。時，偏振片的總光線透射率降低，不能使由面光源發出的光充分透射，有時得不到亮度提高效果，因此不優選。在本發明的偏振片(2)中，通過使透明層4的光吸收率A為20%以下，在組裝于液晶顯示裝置中的場合，與以往的偏振片相比，可一邊保持高的亮度，一邊進行鮮明的黑顯示。另外，在本發明的偏振片(2)中，線狀金屬層3優選是r由高反射性金屬構成的層」和/或「含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層」。另外，可以是混合有高反射性金屬和由高反射性金屬被覆的粒子的層，也可以是疊層了的結構。在此，所謂「由高反射性金屬構成的層」，是由單一的金屬、或由多種金屬形成的合金構成的線狀金屬層3。可優選使用一層或者由不同的材質構成的二層以上的疊層結構。在為由不同的材質構成的二層以上的疊層結構時，只要至少一層是由高反射性金屬構成的層即可，例如，可以將反射性低的金屬氧化物等層疊于線狀金屬層3表面。特別是，在使用容易氧化的高反射性金屬的場合，可優選預先在線狀金屬層3表面形成由該金屬的氧化物構成的透明層作為保護層，來提高隨時間遷移的穩定性。另外，r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層J中所含的高反射性金屬粒子以及由高反射性金屬被覆的粒子，其粒徑優選為l~100nm，進一步優選為l~50nm。在此所說的粒徑是指中值徑d50。粒徑為100nm以下的金屬粒子其熔合溫度降低。因此，例如通過在200300。C下的低溫熱處理，粒子即開始連結，呈現作為金屬的特性，并提高光反射性，因此優選。另外，粒徑為50nm以下時，通過更低溫并且短時間的熱處理，粒子就熔合，因此是進一步優選的。這些粒子的形狀不特別限定，無論是怎樣的形態都可優選^f吏用。另外，由高反射性金屬被覆的內層的粒子，例如為丙烯酸樹脂等的交聯樹脂粒子、二氧化硅、氧化鋁等的無機粒子等，可不特別限定地優選使用。這些高反射性金屬粒子、由高反射性金屬粒子坤皮覆的粒子，優選通過單獨的粒子、或粒子與分散劑的組合，進而通過粒子與分散劑與作為粘合劑的熱塑性樹脂、光固性樹脂、熱固性樹脂中的任一種或將它們的混合物作為主成分的樹脂組合物組合，來形成r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層J。在本發明的偏振片(2)中，作為高反射性金屬，優選是選自鋁、鉻、銀、銅、鎳、鉑以及金中的金屬以及以它們為主要的成分的合金。在此，所謂作為主要的成分，是指金屬層3中的該金屬的含量超過50重量％。另外，所謂高反射性，是指在使用的光的波長區域顯示高反射率。具體地講是指，在表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7)上以100nm的厚度形成金屬層3，從該金屬層3側入射時的反射率，在應用的波長區域全體中為75%以上。更優選為80%以上、進一步優選為85%以上。在4吏用反射率小于75%的金屬作為金屬層3的場合，光學損耗增多，不能充分得到光利用效率，或者即使光學損耗小，有時偏振光度也降低，因此不優選。在本發明的偏振片(2)中，通過^f吏用反射率為75%以上的金屬層3，不僅能夠提高光利用效率，而且能夠得到高的偏振光度。上述金屬之中的鋁、鉻、銀，在可見光區域的全域反射率高，因此是更優選的。本發明的偏振片(2)至少具有基材l;在上述基材表面以設定的間隔排列的多個線狀金屬層3;和與線狀金屬層3接觸，并將上迷多個線狀的金屬層3凈皮覆的層4。關于其形態，用圖11~圖18進行詳細說明。圖11~12是表示使用表面平坦的基材1的場合的優選方式的例子的圖。圖14~16是以具有斷面為矩形的凸部11的線狀凹凸結構IO為例，表示線狀金屬層3和透明層4的優選方式的例子的圖。33例如，在使用表面平坦的基材l的場合，作為線狀金屬層3和透明層4的相對的關系，如圖11那樣，在基材1上形成線狀金屬層3后，形成透明層4的情況等為優選的例子。另外，作為線狀金屬層3的斷面形狀，以形成于基材l上的情況為例，作為優選的例子可舉出例如矩形(圖12(a))、梯形(圖12(b))、三角形(圖12(c))或它們的角、側面為曲線狀的形狀(圖12(d)~(g))、以及將它們的上下顛倒而成的形狀、以及將它們的上下顛倒而成的形狀等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。另外，并不限于這些例子，只要在面內以設定的間隔配置多個線狀金屬層3即可。另外，圖12(g)表示具有圖12(a)的斷面形狀的基材l的立體圖。圖12(g)表示在基材1表面上以線狀形成了多個線狀金屬層3的情形。另外，在基材l上形成透明層4后，形成線狀金屬層3的情況也同樣。在本發明的偏振片(2)中，透明層4的形態，以線狀金屬層3的斷面形狀為矩形的情況(圖12(a))為例，可例舉出圖13所示的形態。除了如圖13(a)那樣在線狀金屬層3上形成了平板狀的透明層的形態以外，還可舉出在線狀金屬層3間也局部地形成透明層，并且在線狀金屬層3間具有空隙的形態(圖13(b)、(c));在線狀金屬層3間也形成透明層，并且與線狀金屬層3和基材1兩者接觸，不存在空隙的情況(圖13(d)、(e));等等。另外，在透明層4的表面如圖13(a)、(b)、(d)那樣為平坦的場合，可舉出如圖13(c)、(e)那樣具有反映線狀金屬層3的凹凸結構的情況等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。另外，作為表示在基材l的一側具有線狀凹凸結構10的情況的例子中的線狀金屬層3與透明層4的相對的關系的例子，如圖14那樣在線狀凹凸結構10上形成線狀金屬層3，再在線狀金屬層3上形成透明層4的情況等是優選的例子。在基材1的一側具有線狀凹凸結構10的場合，作為線狀金屬層13的形態，除了在凸部11的頂部形成的情況(圖15(a))以外，作為優選的例子還可舉出在相鄰的凸部11間即在凹部U形成的情況(圖15(b));在凸部11的側面形成的情況(圖15(c));在凸部11的周圍形成的情況(圖15(d));或以將這些情況組合的形狀形成的情形(例如圖15(e));等等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。另外，圖15(f)表示具有圖15(a)的斷面形狀的基材l的立體圖。在圖15(f)中，表示了在基材1表面上以線狀形成線狀金屬層3的情形。另外，作為線狀金屬層3上的透明層4的形態，若以線狀金屬層3形成于線狀凹凸結構10的凸部11的頂部的情況(圖15(a))為例，則可例舉圖16所示的形態。除了如圖16(a)那樣在線狀金屬層3上形成平板狀的透明層的形態以外，還可舉出在線狀金屬層3間也局部地形成，并且只與線狀金屬層3接觸，具有空隙的情況(圖16(b)、(c));在線狀金屬層3間也局部地形成，并且與線狀金屬層3和基材1兩者接觸，具有空隙的情況(圖16(d),(e));在線狀金屬層3間也形成，與線狀金屬層3和基材1兩者接觸，不存在空隙的情況(圖16(f)、(g));等等。另外，在透明層4表面如圖16(a)、(b)、(d)、(f)那樣為平坦的場合，可舉出如圖16(c)、(e)、(g)那樣具有反映線狀凹凸結構IO的凹凸結構的情況等等。這些形態可以是單獨的，也可以多個形態混合存在。在此，在本發明的偏振片(2)中，上述舉出的形狀之中，線狀金屬層3與透明層4的關系，優選如圖11、圖13(a)~(c)、圖14、圖16(a)~(c)那樣，透明層4只與線狀金屬層3接觸，并且在線狀金屬層3間含有空隙的形態。原因是當為這樣的形態時，可得到高的偏振光特性。在本發明的偏振片(2)中，通過成為上述的構成，可在維持作為反射型偏振片的高透射率、高偏振光度、光利用效率的狀態下抑制外部光的反射。其結果，能夠制成能夠以對于以往的反射型偏振片而言較困難的與下側偏振片置換、貼合成液晶盒的形式使用，并且通過光的再利用能夠提高亮度的偏振片。另外，本發明的偏振片(2)，除了如上所迷，在基材上形成線狀金屬層3，并在線狀金屬層3上形成透明層4的情況以外，如圖17所示的、在基材1上形成透明層4后，形成線狀金屬層3的情況等也是優選的形態。在本發明的偏振片(2)中，透明層4的膜厚h4可根據進行貼合的對方的材料等來決定。一般地，優選為l~200nm。通過為該范圍的膜厚，可高效率地使光線消失。在此所說的透明層4的膜厚，是沿本發明的偏振片(2)的膜厚方向測定的膜厚，優選從線狀金屬層3的頂部上形成上述的厚度的透明層4。透明層4的膜厚更優選為5~150nm、進一步優選為10~120nm。特別優選為15~100nm。透明層4的膜厚h4不到lnm時，不能得到充分的抑制外部光反射的效果，因此不優選。透明層4的膜厚h4超過200nm時，有時透射光著色，因此不優選。在本發明的偏振片(2)中，通過使透明層4的膜厚h4在1~200nm的范圍，可制成兼備透射光的色彩和抑制外部光反射的效果的偏振片。另夕卜，在本發明的偏振片(2)中，線狀金屬層3的膜厚h3優選為10~200mn。在此所說的線狀金屬層3的膜厚h3,是沿本發明的偏振片(2)的膜厚方向測定的厚度，只要在基材1上的至少一部分上以滿足上述范圍的膜厚形成線狀金屬層3即可。線狀金屬層3的膜厚更優選為30~200nm、進一步優選為40~200nm。線狀金屬層3的膜厚h3不到10nm時，有時得不到充分的偏振光度，未發揮偏振片的功能，得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優選。線狀金屬層3的膜厚h3超過200nm時，形成變得困難，通過線狀金屬層3的形成，凸部寬度擴大，其結果，不能確保充分的開口率，因此透射率降低，因此不優選。在本發明的偏振片(2)中，通過4吏線狀金屬層3的膜厚在10~200nm的范圍，可制成兼備高的透射率和偏振光度、光利用效率的偏振片。在此，在本發明的偏振片(2)中，在基材1表面具有線狀凹凸結構IO的場合，為了得到高的光利用效率和高透射率，更優選線狀金屬層3只形成于凸部ll周邊(例如，圖15(a)、(c)、(d)、(e)、圖17(b)、(d)、(e)，(f)等。該場合下，在凸部11上形成的線狀金屬層3的膜厚和凸部11的高度h合計的高度更優選為400nm以下。合計的高度超過400nm時，有時偏振光特性依賴于光的入射角度，因此不優選。在本發明的偏振片(2)中，通過使在凸部11上形成的線狀金屬層3的膜厚和凸部11的高度h合計的高度為400nm以下，可不依賴于光的入射角度而得到均一的偏振光特性。另外，在本發明的偏振片(2)中，線狀金屬層3的寬度w31與線狀金屬層3的間距p3的比即w31/p3優選為0.1~0.7。在此，為計算該比率而需要的線狀金屬層3的寬度w31、間距p3，是如圖17所示那樣在與線狀金屬層3的縱向垂直的斷面上，沿與基材1面平行的方向測定的線狀金屬層3的寬度、以及重復單位。更優選w31/p3為0.2~0.6、進一步優選為0.3~0.6。該比率超過0.7時，透射率降低，因此不優選。另外，該比率不到0.1時，得不到充分的偏振光度，因此得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優選。在本發明的偏振片(2)中，通過^f吏線狀金屬層3的寬度w31與間距p3的比w31/p3為0.1~0.7的范圍，可制成兼備高的透射率和偏振光度、光利用效率的偏振片。在本發明的偏振片(2)中，線狀金屬層3的間距p3、寬度w31根據應用的光的波長區域適宜選擇即可。例如，按以下所述來形成為了在波長800~4000nm的近紅外-紅外光的波長區域應用，間距p3=50~別Onm、寬度w31-20780nm，另外，為了在波長400~800nm的可見光的波長區域應用，間距p3-50400nm、寬度w31=20~380nm，等等。通過形成該尺寸的線狀金屬層3，可在分別應用的光的波長區域呈現高的偏振光特性。特別是在應用于可見光的波長區域的場合，關于間距p3，當超過400nm時，可見光的短波長區域的偏振光度降低，因此不優選。另外，當間距p3小于50nm時，難以形成線狀金屬層2，因此不優選。間距p3更優選為70~200nm、進一步優選為80~160nm、特別優選為80~140nm。另外，關于寬度w31，當比20nm窄時，成形變得困難。另外，即使能夠成形，有時防照入的效果也降低，因此不優選。另外，關于寬度w31，當在應用于近紅外光區域的波長區域的場合大于780nm、在應用于可見光的波長區域的場合大于380nm時，開口率變得非常低，光線透射率變低，本來應該透射的方向的偏振光也反射，有時偏振光度降低，因此不優選。關于寬度w31,在應用于近紅外光的波長區域的場合，進一步優選為20~300nm、最優選為20~200nm，在應用于可見光的波長區域的場合，進一步優選為20~150nm、最優選為25~100nm。間距p3以及寬度w31，為了在面內保持偏振光特性的均一性，優選為一定。另外，如果在上述范圍內，則也可以各種的間距以及寬度混合。另外，當以應用于可見光區域的形狀制作偏振片時，不僅可見光區域，在作為更長波長的近紅外線區域、紅外線區域也能夠呈現偏振光特性。因此，也能夠作為近紅外線用或紅外線用的偏振片使用。另夕卜，在本發明的偏振片(2)中，線狀金屬層3的膜厚h3與寬度w31的比h3/w31優選為0.5以上。更優選為0.6以上、進一步優選為0.7以上、特別優選為0.8以上、最優選為1.0以上。h3/w31不到0.5時，得不到充分的偏振光度，或得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優選。在本發明的偏振片(3)中，通過使線狀金屬層3的膜厚h3與寬度w31的比h3/w31為0,5以上，可制成兼備高的透射率和偏振光度、光利用效率的偏振片。[具有線狀凹凸結構的基材〗在本發明的偏振片(l)和本發明的偏振片(2)中，作為使用的基材1，更優選在表面形成有線狀的凹凸結構10的基材。以下說明存在線狀凹凸結構IO所帶來的效果。首先，第一個特征是通過形成線狀凹凸結構10,可呈現雙折射性。若形成以入射的波長以下的間距具有周期性的凹凸的線狀凹凸結構10，則在圖案縱向和與該縱向正交的方向呈現折射率的各向異性、即雙折射。即，通過適當設定構成圖案的凸部ll的寬度、間距、高度以及材質單體的折射率，可控制基材l的雙折射性。在可很適合地安裝本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的液晶顯示裝置中裝入面光源。從面光源射出的光，由于導光板、棱鏡片等的、利用了在界面的反射、折射的構件的影響，不是完全的無偏振狀態，有時偏向于偏振光狀態。因此，即使將反射型的偏振片配置于液晶盒的面光源側，在該偏移的方向、和反射型的偏振片透射的偏振光軸不一致的場合，反射成分增多，結果光的利用效率不會提高。因此，當在基材l上形成具有周期的凹凸的線狀凹凸結構10時，可使基材l呈現雙折射性。通過從該基材l側入射光，可消除由雙折射而偏移的偏振光狀態，可提高光的利用效率。例如，在線狀凹凸結構10的凸部11的寬度、間距以及材質相同的場合，通過提高凸部ll的高度，可更加消除偏振狀態。另外，為了有效利用雙折射性，優選只在線狀凹凸結構10的凸部11周邊形成線狀金屬層3的結構。另夕卜，該場合下，不僅線狀凹凸結構IO部分，基材l整體具有雙折射的場合也同樣地優選。另外，第二個特征是金屬的圖案化容易。通過預先在基材l表面形成圖案，在本發明的偏振片(1)中可容易地形成與該圖案形狀相應的線狀黑色層2、線狀金屬層3，在本發明的偏振片(2)中可容易地形成與該圖案形狀相應的線狀金屬層3。詳細情況在說明制造方法時來說明，但不需要利用半導體制造工藝等的抗蝕劑的圖案化和蝕刻處理這些煩雜的工藝。第三個特征是可提高本發明的偏振片(1)中的線狀黑色層2、線狀金屬層3的機械強度、以及本發明的偏振片(2)中的線狀金屬層3的機械強度。以往，通過利用了半導體制造工藝等的抗蝕劑的圖案化和蝕刻處理而制作的偏振片，4吏平面上形成了金屬的細線。在本發明的偏振片(l)中的、線狀黑色層2與基材1的界面、線狀金屬層3與基材1的界面、線狀黑色層2與線狀金屬層3的界面的面積，在本發明的偏振片(2)中的、線狀金屬層3與基材1的界面、線狀金屬層3與透明層4的界面的面積很小。因此，當用以往的方法制作本發明的偏振片時，線狀黑色層2、線狀金屬層3對外力的抗力較弱，容易地破壞、剝離。另一方面，通過使基材l表面形成線狀凹凸結構10，本發明的偏振片(1)中的、線狀黑色層2與基材1的界面、線狀金屬層3與基材1的界面、線狀黑色層2與線狀金屬層3的界面的面積、以及本發明的偏振片(2)中的、線狀金屬層3與基材1的界面、線狀金屬層3與透明層4的界面的面積變大。其結果，不僅線狀黑色層2、線狀金屬層3的粘接性提高，而且圖案凸部ll也具有對線狀黑色層2、線狀金屬層3進行增強的效果，可提高抗外力的強度。這樣，通過在基材l表面存在線狀凹凸結構10，能夠以容易的工藝形成具有高的光學特性、機械強度的偏振片。圖18是表示構成本發明的偏振片(l)或偏振片(2)的、形成有線狀凹凸結構10的基材1的形狀的一例的圖。圖18(a)是在一個表面具有含有斷面為矩形狀的凸部11的線狀凹凸結構10的基材1的斷面圖。圖中分別表示出凸部11的間距p、寬度w、高度h。本發明中，寬度w是凹凸重復的方向上的長度，并且是指在凸部ll的高度h的2分之l，即從基材l面(凹部12底面)起h/2的高度的與基材l面平行的平面上的長度。圖18(b)例舉了具有周期性地形成有凸部11的平行的線狀凹凸結構10的基材1的立體圖。圖18(a)以及圖19(a)~(e)表示構成本發明的偏振片(1)或(2)的基材l的優選的斷面形狀的例子。凸部ll的斷面形狀，可舉出例如，矩形(圖19(a))、梯形(圖19(a))、或它們的角、側面為曲線狀的的形狀(圖19(b)、(c))、波形(圖19(d))、三角形(圖19(e))等，但不限于這些，只要是在面內形成有線狀凹凸結構IO就可優選使用。另外，在相鄰的凸部11間也可以如圖18(a)以及圖19(a)~(c)那樣形成平坦部，還可以如圖19(d)、(e)那樣形成平坦部。在這些斷面形狀之中，優選斷面為矩形、梯形的凸部ll、或它們的角、側面為曲線狀的形狀的凸部11、相鄰的凸部11在其自身的底部沒有連接的凸部(例如圖18(a)以及圖19(a)~(c))。本發明的偏振片(1)的場合，可得到形成了線狀黑色層2時的透射率和防止外部光反射的效果這兩方面的效果，在形成了線狀金屬層3時，可呈現高的偏振光分離性能。本發明的偏振片(2)的場合，在形成了線狀金屬層3時，可呈現高的偏振光分離性能。另外，關于基材1表面的線狀凹凸結構10，相鄰的凸部ll的底部為如圖18(a)、圖19(a)(b)(c)所示那樣不連接的形狀時，容易只在凸部11周邊形成線狀金屬層3，因此優選。在如圖19(d)那樣的斷面形狀為波形的場合，也能夠只在凸部11周邊形成線狀黑色層2、線狀金屬層3。可是，凸部ll周邊的斜面多，線狀黑色層2、線狀金屬層3的形成部位容易擴大，因此難以控制。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，線狀凹凸結構10以圖18(b)所示的線條形成，即凸部ll平行地形成。在此所說的平行，只要實質上平行即可，也可以完全地平行。另外，各線條優選是在面內最容易呈現光學的各向異性的直線，但在相鄰的線條不接觸的范圍下也可以是曲線折線。各線條為了容易呈現光學的各向異性，優選是連續的直線。可是，如果至少是應用的波長以上的長度，則各線條可以是虛線。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，線狀凹凸結構IO，不僅可以在基材1的一側形成，也可以在其兩側形成。當在基材1的兩側形成時，優選以線狀凹凸結構IO的縱向在表面背面平行的方式形成。該場合下，在本發明的偏振片(l)中，無論是使線狀黑色層2和線狀金屬層3分別形成于不同的面上，還是在一側的面上形成線狀黑色層2和線狀金屬層3兩者，還是在兩面上形成線狀黑色層2和線狀金屬層3兩者都可以。在使線狀黑色層2和線狀金屬層3分別形成于各自的面上的場合，可提高防照入的效果。在兩面上形成線狀金屬層3時，可制成高偏振光度的反射型偏振片。另外，在本發明的偏振片(2)中，通過在兩面上形成線狀金屬層3，可制成高偏振光度的反射型偏振片。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，與線狀凹凸結構10的縱向垂直的斷面上的凸部11的尺寸等，根據應用的光的波長區域適宜選擇即可。例如，可按以下所述來形成為了應用于波長8004000nm的近紅外-紅外光的波長區域，間距p-50800nm、寬度w=20~780nm，另外，為了應用于波長400800nm的可見光的波長區域，間距p=50~400nm、寬度w=20~380nm，等等。通過在具有該尺寸的線狀凹凸結構10的基材1上形成線狀黑色層2、線狀金屬層3，可得到在分別應用的光的波長區域，具有抑制外部光反射的效果，并且具有高的偏振光特性的偏振片。特別是在應用于可見光的波長區域的場合，關于間距p，若超過400nm，則可見光的短波長區域的偏振光度降低，因此不優選。另外，間41距p小于50nm時，不僅難以在基材l表面形成線狀凹凸結構10，而且難以沿著該線狀凹凸結構10形成線狀金屬層3，因此不優選。間距p更優選為70~200nm、進一步優選為80~160nm、特別優選為80~140nm。另外，關于寬度w，當比20nm窄時，成形變得困難。另外，即使能夠成形，機械強度也低，容易發生線狀凹凸結構10的破壞，因此不優選。另外，關于寬度w,當在應用于近紅外光區域的波長區域的場合大于780nm、在應用于可見光的波長區域的場合大于380nm時，若考慮到間3巨p的范圍，在線狀凹凸結構10上形成了線狀金屬層3的場合，難以以反映的形狀來形成。即使能夠形成，開口率也非常低，光線透射率變低，因此不優選。關于寬度w，在應用于近紅外光的波長區域的場合，進一步優選為20~300nm、最優選為20~200nm,在應用于可見光的波長區域的場合，進一步優選為20~150nm、最優選為25~100nm。間距p以及寬度w，為了在面內保持偏振光特性的均一性，優選為一定，但也可以在上述范圍內，各種的間距以及寬度混合。另外，當以應用于可見光區域的形狀制作偏振片時，不僅可見光區域，在作為更長波長的近紅外線區域、紅外線區域也能夠呈現偏振光特性，也能夠作為近紅外線用或紅外線用的反射型偏振片使用。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，根據構成線狀凹凸結構IO的凸部ll的高度h，有時偏振光特性依賴于光的入射角度。作為線狀凹凸結構10的凸部ll的高度h，在應用于近紅外光的波長區域的場合，優選為10800nm，在應用于可見光的波長區域的場合，優選為10400nm。在應用于近紅外光的波長區域的場合，進一步優選為20~600nm、最優選為30~400nm，在應用于可見光的波長區域的場合，進一步優選為20~300nm、最優選為30~300nm。若凸部11的高度h超過上述范圍，則有時偏振光度根據光的入射角度而變化，因此不優選。另一方面，高度h小于10nm時，即使沿著其形成了線狀金屬層3，有時也得不到充分的光學各向異性，因此不優選。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，通過使線狀凹凸結構IO的凸部11的高度h在上述范圍內，可不依賴于光的入射角度而得到均一的偏振光特性。其結果，特別是在要求寬視野角的用途中可很好地使用。但是，在以狹窄的視野角的范圍使用本發明的偏振片(l)或偏振片(2)的場合，例如，只利用法線方向的光學素子、或只利用正面方向的顯示裝置等的場合，可以不考慮光的入射角度，因此高度h可以超出上述范圍。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，基材l表面的線狀凹凸結構10，優選其凸部ll的高度h與寬度w的比h/w在0.55的范圍。更優選為1~5、進一步優選為2~5。h/w不到0.5時，難以選擇性地形成線狀金屬層3，不能充分發揮結構的各向異性，有時得不到充分的偏振光特性，因此不優選。另外，h/w超過5時，難以形成線狀凹凸結構10，蛇行而倒塌，或斷裂，在面內，偏振光特性有時顯現偏差，因此不優選。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，通過使基材1表面的線狀凹凸結構10的凸部11的高度h與寬度w的比h/w在上述的范圍，可制成具有高的偏振光特性、才幾械強度，并且這些特性的面內均一性優異的偏振片。另外，在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，基材l表面的線狀凹凸結構IO，優選其凸部ll的高度h、與凸部ll間的寬度、即與凹部12的寬度(p-w)的比h/(p-w)在1~5的范圍。更優選比值h/(p-w)為1.2~5、進一步優選為1.3~5。h/(p-w)超過5時，難以形成線狀凹凸結構IO。另外，h/(p-w)不到l時，難以選擇性地形成線狀黑色層2、線狀金屬層3，不能充分發揮結構的各向異性，有時得不到充分的偏振光特性。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，通過使基材l表面的線狀凹凸結構10的凸部11高度h與凹部12的寬度(p-w)的比h/(p-w)滿足1~5的范圍，線狀黑色層2、線狀金屬層3的選擇形成性增高，特別是只在凸部11周邊形成線狀黑色層2、線狀金屬層3變得容易，可得到具有抑制外部光反射的效果，并且具有高的偏振光特性的偏振片。另外，在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，基材l表面的線狀凹凸結構10，優選其凸部11的寬度w與間距p的比w/p在0.10.5的范圍。更優選比值w/p為0.1~0.45、進一步優選為0.1~0.4。w/p超過0.5時，在形成線狀金屬層3后不能確保充分的開口率，因此有時透射率降低，因此不優選。另夕卜，w/p不到0.1時，即使形成線狀金屬層3，有時也不能得到充分的偏振光度，因此不優選。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，通過使基材1表面的線狀凹凸結構10的凸部11的寬度w與間距p的比w/p在0.10.5的范圍，在形成了線狀金屬層3時，可制成具備高的偏振光度和透射率的偏振片。在此，在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，線狀凹凸結構10優選是容易切削的材質、或容易賦形的材質。在此，所謂容易切削的材質，是指通過^L械性切削、研磨等、或通過抗蝕劑圖案等在化學或物理上容易選擇性除去的材料，可舉出玻璃、金屬等的無機基材或樹脂基材。另外，所謂容易賦形的材質，是指通過才莫具轉印可形成凹凸結構的材料。這些材質之中，如后述那樣，從生產率等的觀點考慮，為了在基材l表面進行線狀凹凸結構10的賦形，優選模具轉印法，當使用容易賦形的材質時，利用模具轉印法可在基材l表面形成線狀凹凸結構10，因此是更優選的。具體地講，基材l、以及基材l表面的線狀凹凸結構10，優選由熱塑性樹脂、光固性樹脂、熱固性樹脂中的任一種或以它們的混合物為主成分的樹脂組合物構成。在此，在線狀凹凸結構10中，樹脂組合物超過50重量％的情況定義為主成分。作為熱塑性樹脂的例子，例如，可舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等的聚酯系樹脂、聚曱基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、脂環式聚烯烴樹脂等的聚烯烴系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚醚、聚酯酰胺、聚醚酯、聚氯乙烯、聚乙烯醇以及將它們作為成分的共聚物、或它們的混合物等的熱塑性樹脂。作為光固性樹脂的例子，可舉出在分子內具有至少一個的自由基聚合性的化合物、或具有陽離子聚合性的化合物等。作為具有自由基聚合性的化合物，是在利用活化能量射線產生自由基的聚合引發劑的存在下，通過活化能量射線照射進行高分子化或交聯反應的化合物。例如，可舉出在結44構單元中至少舍有l個烯性不飽和鍵的化合物、除了單官能的乙烯基單體以外還含有多官能乙烯基單體的化合物、或這些化合物的低聚物、聚合物、混合物等。另外，作為在分子內具有至少一個的陽離子聚合性的化合物，可舉出從選自下迷化合物的一種或兩種以上的化合物中選擇的化合物具有環氧乙烷環的化合物、具有氧雜環丁烷環的化合物、乙烯基醚化合物。作為熱固性樹脂的例子，可舉出丙烯酸樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、酚樹脂、脲-三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂、有機硅樹脂等，可使用從這些樹脂中選擇的1種或2種以上的混合物等。在光固性樹脂以及熱固性樹脂中可配合聚合引發劑。在光固性樹脂的場合，優選相應于感光波長以及聚合形式，使用通過活化能量射線的照射來產生自由基種或陽離子種的光聚合引發劑，另外，在熱固性樹脂的場合，優選使用與工藝溫度相應的熱聚合引發劑。這些樹脂，優選在使用波長下、即在用于液晶顯示裝置中的場合在400~800nm的可見光區域是透明的，不能看到特定波長下的吸收峰。另外，優選是實質上不將光線散射的樹脂，優選是在形成為膜厚10(Hmi的平坦的片狀時的濁度值大約為30%以下的樹脂。更優選濁度為20%以下、進一步優選濁度為10%以下。另外，在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，在構成基材l以及基材1的表面的線狀凹凸結構10的樹脂，以熱塑性樹脂為主要的成分的場合，其玻璃轉變溫度可通過示差掃描量熱測定(以下稱為DSC)得到。升溫過程(升溫速度10°C/min)中的玻璃轉變溫度Tg優選為70~160。C、更優選為100~160°C、最優選為110150。C的范圍。在此，玻璃轉變溫度Tg是采用依據了JISK-7121(1999)的方法求得的值，在以升溫速度1(TC/min掃描時得到的示差掃描量熱測定圖的玻璃轉變的階梯狀的變化部分中，根據從各基線的延長的直線在縱坐標方向等距離的直線、與玻璃轉變的階梯狀的變化部分的曲線相交的點求得的值。玻璃轉變溫度Tg大于該范圍時，為了形成線狀凹凸結構10即使按壓模具50，也難以形成充分的形狀，即使形成線狀金屬層3，有時也難以得到充分的光學特性，因此不優選，另外，當小于該范圍時，在接續的黑色層形成工序、以及線狀金屬層形成工序等工序中，有時由于熱負荷而導致基材或圖案變形，因此不優選。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，在構成基材l以及基材1的表面的線狀凹凸結構10的樹脂，以熱塑性樹脂為主要的成分的場合，通過使其玻璃轉變溫度在上述范圍，可兼備良好的圖案形成性、線狀黑色層2、線狀金屬層3形成工序中的圖案形狀保棒性。其結果，可得到具有抑制外部光反射的效果，并且具有高的偏振光特性的偏振片。另外，在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，在構成基材l以及基材1的表面的線狀凹凸結構10的樹脂以熱固性樹脂或光固性樹脂為主要的成分的場合，玻璃轉變溫度Tg也可以在上述范圍以外。該場合下，熱分解開始溫度優選為150。C以上、更優選為200。C以上、最優選為250。C。當小于該范圍時，在接續的線狀黑色層2、線狀金屬層3的形成工序中，有時基材或圖案發生變形等。另外，在線狀金屬層形成工序中，大量釋放出低分子量有機成分，阻礙金屬原子的致密排列。因此，形成的線狀金屬層3的金屬性降低。其結果，有時光學特性降低，因此不優選。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，在構成基材l以及基材l的表面的線狀凹凸結構10的樹脂以熱固性樹脂或光固性樹脂為主要的成分的場合，通過使其熱分解開始溫度在上述范圍，可較高地保持在線狀金屬層形成工序中形成的線狀金屬層3的金屬性。其結果，可得到具有抑制外部光反射的效果，并且具有高的偏振光特性的偏振片另外，在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，基材l以及構成基材1的表面的線狀凹凸結構10的樹脂為熱塑性樹脂的場合，其在25。C下的光彈性系數k優選為50xlO"Pa"以下、更優選為40xlO"Pa"以下、最優選為30xlO^Pa"以下。在此所說的光彈性系數k，是在將樹脂通過熔融制膜、溶液制膜等公知的方法進行片化，對于該片，在25。C、65RH。/。的氣氛下，對厚度d(nm)的片不施加張力的時的相位差設為ri(nm)、施加張力F(Pa)時產生的相位差設為r2(nm)時，由k=(r2-ri)/(dxF)定義的值。另外，相位差r的測定如以下那樣進行，即，在對膜施加lkg/mm2(9.81xl06Pa)的張力的狀態下，采用具有正交尼科耳(Nicol)偏光鏡、作為光源的鈉D線(波長589nm)的偏振光顯微鏡，在25。C的氣氛下進行。所述的光彈性系數k大于SOxlO^Pa"時，在基材1以及基材1的表面的線狀凹凸結構IO加工時殘留光學畸變，在形成了線狀金屬層3的場合，有時在面內光學特性發生變化，發生色調的不勻等，因此不優選。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，構成基材l以及基材l的表面的線狀凹凸結構10的樹脂，通過將所述的光彈性系數k控制在上述的特定的范圍，在加工時不會殘留光學畸變，并能夠形成線狀凹凸結構。其結果，在形成了線狀金屬層3時，在面內可得到均一的光學特性。也優選在這些樹脂中根據需要添加各種成分。作為所述的添加劑，例如，可優選使用表面活性劑、交聯劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、熱穩定劑、增塑劑、粘度調節劑、抗氧化劑、抗靜電劑等。另外，在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，在基材l由樹脂構成的場合，出于提高線狀黑色層2、線狀金屬層3的選擇形成性和粘接性、提高線狀金屬層3的特性的目的，也可以在基材l表面形成以無機物為主要的成分的層。該場合下，若在基材1表面形成由無機物構成的層，則在金屬層3的形成工序中可防止從基材1釋放低分子量有機成分。由此，在基材l上沉積金屬時，可抑制低分子量有機成分進入，能夠提高基材與金屬層的界面附近的金屬的結晶排列等，因此可在樹脂制的基材1上形成致密的結晶性高的線狀金屬層3。其結果，可利用線狀金屬層3提高反射特性、偏振光特性、光利用效率。另外，在采用后述的方法在線狀凹凸結構10上選擇性地形成線狀黑色層2、線狀金屬層3的場合，與從基材釋放的低分子量有機成分的碰撞概率降低，可提高線狀黑色層2、線狀金屬層3的選擇形成性。其結果，可得到兼備偏振片的高透射特性、高偏振光特性和抑制外部光反射的效果的偏振片。另外，在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，優選基材l至少為由樹脂構成的第一層與由支持體構成的第二層的疊層結構。通過制成疊層結構，可由作為支持體的第二層確保機械強度、耐熱性，并且在基材l表面平坦的場合，可提高其平面性。另外，在使基材l表面形成線狀凹凸結構10的場合，第一層可使用容易賦形的材質，可在基材l表面容易地形成線狀凹凸結構IO，因此是優選的。另外，作為支持體的第二層，其本身可以是單層，也可以是多個層的疊層結構。在此，在使基材l表面形成線狀凹凸結構IO的場合，第一層中使用的容易賦形的材質是指前面所述的熱塑性樹脂、光固性樹脂、熱固性樹脂。如后所述，從生產率等的觀點出發，為了在基材l表面賦形出線狀凹凸結構IO，優選模具轉印法。通過將這些樹脂用于第一層，可利用^^莫具轉印法在基材l表面形成線狀凹凸結構10，因此優選。另外，作為支持體的第二層，可使用玻璃、金屬等的無機基材、聚酯樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯等的丙烯酸樹脂、脂環族聚烯烴等的聚烯烴樹脂、聚碳酸酯等所代表的樹脂基材等的各種材質。在使用玻璃、金屬等的無機基材作為支持體的場合，可制成平坦性、機械強度、耐熱性優異的偏振片。另外，在使用聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚烯烴樹脂、聚碳酸酯等所代表的具有撓性的樹脂基材的場合，能夠進一步賦予柔軟性、輕量化、薄膜化、操作性，因此更優選。在上述材質中，優選以聚酯樹脂為主成分的熱塑性樹脂片，為了提高機械強度、耐熱性，特別優選單軸拉伸或雙軸拉伸的聚酯樹脂片。當使用雙軸拉伸的聚酯樹脂片時，可確保機械強度以及耐熱性，并且實現薄膜化、柔軟性以及輕量化，因此是更優選的支持體。特別是與作為無機基材的玻璃相比，薄膜化后的耐沖擊性優異。另外，通過進行拉伸，呈現出雙折射性，因此如前面所述那樣往往可消除入射光的偏振光狀態的偏移，可提高液晶顯示裝置等的亮度，因此優選。在此使用的聚酯樹脂，可優選使用聚對苯二曱酸乙二醇酯、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯、或以這些樹脂為基礎的與其他成分的共聚物等的聚酯樹脂。另外，也優選使用以該聚酯樹脂為主成分、并添加了其他的相容性和/或非相容性的成分的樹脂組合物。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，在基材l為由樹脂構成的第一層與作為支持體的第二層的疊層結構的場合，優選盡可能地減小含有線狀凹凸結構10的第一層的折射率Nl與作為支持體的第二層的折射率n2之差An=INl-N2I，優選折射率差An為0~0.15、更優選為0~0.10、進一步優選為0~0.06、最優選為0~0.03。在此所說的折射率，是按照JIS-K7105(1999年版)，使用阿貝式折射率計在20'C下測定的基材面內的折射率，在基材的折射率根據面內的方向而不同(具有雙折射性)的場合，采用其折射率最大的方向的折射率N2max與折射率最小的方向的折射率N2min的平均值，即(N2max+N2min)/2來作為基材的折射率N2。當折射率差An在上述范圍以外時，起因于與基材1的折射率差、以及線狀凹凸結構的高度h、第一層的膜厚h，等的薄膜干涉增大。由于該薄膜干涉，會使本來應該進行反射、再利用的光消失。特別是，在基材l側入射時，該影響顯著地呈現，反射率大大降低。其結果，會使光的利用效率降低，不能充分得到亮度提高效果。另外，該光利用效率的降低有時根據光的波長而變化，液晶顯示裝置的色彩根據面內的位置以及觀察角度而顯現為不勻，有時色均一性降低，因此不優選。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，通過使含有線狀凹凸結構10的第一層的折射率nl與作為支持體的第二層的折射率n2的差An=INl-N2I在上述的范圍，可制成色均一性良好，并且光線的利用效率優異的偏振片。具體地講，在使用雙軸拉伸了的聚酯膜作為第二層的場合，構成第一層的樹脂的折射率nl優選1.50~1.7，更優選為1.55~1.7，進一步優選為1.58~1.7，特別優選為1.60~1.68。為了達到上述折射率nl，可通過向該樹脂的分子骨架引入環己烷、異冰片、金剛烷等的脂環族基、苯、萘、蒽、芘、聯苯、雙酚等的芳香環、溴、氯、碘等的卣素原子、硫等而得到。其中，從環境問題等考慮，優選引入脂環族基、芳香族基。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，基材l表面的線狀凹凸結構10的凹部最下部與相反側的表面之間的厚度(以下作為基材1膜厚)h，優選為1~lOOOjun，更優選基材1膜厚h，為1~500fim，進一步優選為1~200拜。另外，在基材1為由樹脂構成的第一層與作為支持體的第二層的疊層結構的場合，具有線狀凹凸結構IO的第一層的凹部最下部、與第一層和第二層界面間的厚度(以下作為第一層的膜厚)h，優選為02jim，更優選第一層的膜厚h，為0~ljim，進一步優選為0~500nm。另外，在該場合下第二層的厚度不特別限定，從機械強度以及薄膜化的觀點考慮，例如，在無機基材的場合，優選為0.1~3mm，在樹脂基材的場合，優選為50jim~3mm。在本發明的偏振片(l)中，在將線狀黑色層2和線狀金屬層3只形成于同一面側的一面上的場合，優選在沒有形成線狀黑色層2、線狀金屬層3的側的基材l表面形成防反射層；在本發明的偏振片(2)中，優選在沒有形成線狀金屬層3的側的基材1表面形成防反射層，所述防反射層防止由來于空氣-基材l界面的折射率差而產生的光反射。通過形成防反射層，在沒有形成線狀黑色層2、線狀金屬層3、透明層4的面側的表面，可抑制界面處的不需要的反射。其結果，可進一步提高光線的利用效率。作為防反射層，既可以由具有防止反射的性質的材料形成，從而發揮防反射功能，也可以通過以特定的形狀形成該層來發揮防反射功能。另外，在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，也可以使用顯示光擴散性的材質作為成為支持體的第二層。由此，可實現偏振片與光擴g的功能綜合，從該點來看是優選的構成。另外，為了呈現光擴散性，例如，可以通過使粒子等分散于支持體內部、在沒有形成線狀凹凸結構10的面側凈M含有微粒子的材料、賦形出凹凸形狀等等來實現。在通過^^材1內部分散粒子等來對基材l自身賦予光擴散性的場合，主要能夠呈現各向同性的光擴散效果。另一方面，在基材1表面設置光擴散層的場合，可任意地設計表面的形狀，因此除了各向同性的擴散性以外，還能夠容易地控制任意的光擴散性。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，在使用顯示光擴散性的材質作為成為支持體的第二層的場合，第二層的濁度Ht，只要根據安裝本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的液晶顯示裝置的構成來適當選擇最佳的范圍從而使用即可。例如，在液晶顯示裝置為使用棱鏡片的構成的場合，濁度Ht更優選570。/。。進一步優選為10~70%、特別優選為15~60%、最優選為20~55%。基材1的濁度Ht不到5%時，可辨認出干擾條紋、閃爍等，有時顯示品質降低，因此不優選，另外，Ht超過70%時，通過棱鏡片在正面方向指向的光大大地擴散，其結果，有時得不到亮度提高效果，因此不優選。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，通過使第二層的濁度Ht為5~70%，可不增加面光源的厚度，并且不損害顯示品質而制成與以往的面光源相比亮度更高的面光源。另外，在液晶顯示裝置為不使用棱鏡片的構成，并含有側光型的面光源的場合，濁度Ht優選為5。/。以上。更優選濁度Ht為10%以上，進一步優選為15~95%，特別優選為20~卯％。基材1的濁度Ht不到5%時，有時亮度提高效果降低，或者有時可辨認出導光板的點印刷圖案等，因此不優選。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，通過使第二層的濁度Ht為5。/。以上，可不增加面光源的厚度，并且不損害顯示品質而制成與以往的面光源相比亮度更高的面光源。另外，在液晶顯示裝置為不使用棱鏡片的構成，并含有正下型的面光源(2)的場合，濁度Ht優選為40%以上。更優選濁度Ht為50%以上，進一步優選為60~95%，特別優選為70~92%。濁度Ht不到40。/。時，有時亮度提高效果降低，有時可辨認出熒光管像等，因此不優選。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)中，通過使第二層的濁度Ht為40%以上，可不增加面光源的厚度，并且不損害顯示品質而制成與以往的面光源相比亮度更高的面光源。另外，在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)中，也優選對作為支持體的第二層賦予1/4波長板的功能。該場合下，若從基材1側入射光，則由偏振片反射的偏振光同時地轉換成圓偏振光。該圓偏振光返回到面光源，可消除一部分的偏振光狀態，但在含有較多的、通過反射而反轉地轉換的圓偏振光的狀態下再次返回至偏振片。當該反轉的圓偏振光通過基材1時，轉換成從偏振片透射的直線偏振光，因此可提高光的利用效率。另外，作為第二層，也可使用顯示光吸收性的材質、顯示光反射性的材質。在該場合下，可作為反射特定的偏振光成分的偏振光反射板使用。[偏振片的制造]本發明的偏振片(l)或偏振片(2)可采用至少包括以下工序的方法制造。本發明的偏振片(l)的制造方法，在基材l平坦時，可采用包括以下的(a-l)~(a-6)工序的工序制造。工序(a-l):制作基材l的工序(基材形成工序)工序(a-2):形成黑色層2的工序(黑色層形成工序)工序(a-3):形成金屬層3的工序(金屬層形成工序)工序(a-4):在由工序(b-2)形成的黑色層上和/或由(工序b-3)形成的金屬層上形成抗蝕劑圖案的工序(抗蝕劑圖案形成工序)工序(a-5):局部地除去黑色層2的工序(黑色層選擇性除去工序)工序(a-6):局部地除去金屬層3的工序(金屬層選擇性除去工序)。在此，在線狀黑色層2和線狀金屬層3相對于基材1形成于同一側的表面上的場合，在基材1上形成線狀金屬層3，并在線狀金屬層3上形成線狀黑色層2的情形(圖2(a)等)，可通過按以下順序施行上述工序來形成。工序l:工序(a-l)基材形成工序工序2:工序(a-3)金屬層形成工序工序3:工序(a-2)黑色層形成工序工序4:工序(a-4)在黑色層上形成抗蝕劑圖案的工序工序5:工序(a-5)黑色層選擇性除去工序工序6:工序(a-6)金屬層選擇性除去工序。另外，在基材1上形成線狀黑色層2，在該線狀黑色層2上形成線狀金屬層3的情形(圖2(b)等)，可通過按以下順序施行上述工序來形成。工序1:工序(a-l)基材形成工序工序2:工序(a-2)黑色層形成工序工序3:工序(a-3)金屬層形成工序工序4:工序(a-4)在金屬層上形成抗蝕劑圖案的工序工序5:工序(a-6)金屬層選擇性除去工序工序6:工序(a-5)黑色層選擇性除去工序。另外，在線狀黑色層2和線狀金屬層3相對于基材1形成于相反側的場合(圖2(i)、(j)等)，例如可通過按以下順序施行上述工序來形成。工序l:工序(a-l)基材形成工序工序2:線狀黑色層形成工序工序2-l:工序(a-2)黑色層形成工序工序2-2:工序(a-4)在黑色層上形成抗蝕劑圖案的工序工序2-3:工序(a-5)黑色層選擇性除去工序工序3:線狀金屬層形成工序工序3-1:工序(a-3)金屬層形成工序工序3-2:工序(a-4)在金屬層上形成抗蝕劑圖案的工序工序3-3:工序(a-6)金屬層選擇性除去工序另夕卜，只要工序2中的工序2-1~工序2-3、以及工序3中的工序3-1~工序3-3分別按該次序進行，則也可以工序3比工序2先施行，也可以將工序2和工序3并4于地施行。另外，在本發明的偏振片(l)的制造方法中，在基材l的表面形成了線狀凹凸結構10的場合，雖然也可以采用上述制法來形成，但也優選使用包括以下的工序的方法。在線狀黑色層2、線狀金屬層3的任一方形成于基材的形成有線狀凹凸結構10的側，另一方形成于基材的平坦面上的場合，可采用包括以下的工序(b-l)~工序(b-4)的工序來形成。本方法容易形成線狀黑色層2和/或線狀金屬層3，從該點出發是優選的。工序(b-l):制作基材l的工序(基材形成工序)工序(b-2):在基材1表面形成線狀凹凸結構10的工序(圖案形成工序)工序(b-3):在基材1的具有線狀凹凸結構10的面側形成線狀黑色層2或線狀金屬層3的工序(線狀黑色層形成工序或線狀金屬層形成工序)工序(b-4):在基材1的平坦面側形成金屬層3或黑色層2的工序(金屬層3形成工序或黑色層形成工序)工序(b-5):在金屬層3或黑色層2上形成抗蝕劑圖案的工序(抗蝕劑圖案形成工序)工序(b-6):局部地除去金屬層3或黑色層2的工序(選擇性除去工序)。在此，當線狀黑色層2在基材1的形成有線狀凹凸結構10的面側形成、線狀金屬層3在基材1的平坦面側形成的情形(圖5)，例如可通過按以下順序施4于上述工序來形成。工序l:工序(b-l)基材形成工序工序2:線狀黑色層形成工序工序2-l:工序(b-2)圖案形成工序工序2-2:工序(b-3)線狀黑色層形成工序工序3:線狀金屬層形成工序工序3-l:工序(b-4)金屬層形成工序工序3-2:工序(b-5)在金屬層上形成抗蝕劑圖案的工序工序3-3:工序(b-6)金屬層選擇性除去工序另夕卜，只要工序2中的工序2-1~工序2-2、以及工序3中的工序3-1~工序3-3分別按該次序施行，則也可以工序3比工序2先施行，也可以將工序2和工序3并行地施行。另外，線狀金屬層3在基材1的形成有線狀凹凸結構IO的面側形成、線狀黑色層2在基材1的平坦面側形成的情形(圖6),例如可通過按以下順序施行上述工序來形成。。工序l:工序(b-l)基材形成工序工序2:線狀黑色層形成工序工序3-l:工序(b-4)黑色層形成工序工序3-2:工序(b-5)在黑色層上形成抗蝕劑圖案的工序工序3-3:工序(b-6)黑色層選擇性除去工序工序3:線狀金屬層形成工序工序3-l:工序(b-2)圖案形成工序工序3-2:工序(b-3)線狀金屬層形成工序另夕卜，只要工序2中的工序2-1~工序2-3、以及工序3中的工序3-1~工序3-2分別按該次序施行，則也可以工序3比工序2先施行，也可以將工序2和工序3并行地施行。另外，在線狀黑色層2、線狀金屬層3都形成于線狀凹凸結構IO上的場合，可采用包括以下的工序(c-l)~工序(c-4)的工序的方法制造，從可更加減少工序數，并且生產率優異的方面考慮，是更優選的。工序(c-l):制作基材l的工序(基材制作工序)工序(c-2):在基材1表面形成線狀凹凸結構10的工序(圖案形成工序)工序(c-3):在基材1的具有線狀凹凸結構10的面側形成線狀黑色層2的工序(線狀黑色層形成工序)工序(c-4):在基材1的具有線狀凹凸結構10的面側形成線狀金屬層3的工序(線狀金屬層形成工序)在此，在基材1上形成線狀黑色層2，并在該線狀黑色層2上形成線狀金屬層3的情形(圖7等)，可通過按以下順序施行上述工序來形成。工序1:工序(c-l)基材制作工序工序2:工序(c-2)圖案形成工序工序3:工序(c-3)線狀黑色層形成工序工序4:工序(c-4)線狀金屬層形成工序另外，在基材1上形成線狀金屬層3，并在該線狀金屬層3上形成線狀黑色層2的情形(圖8等)，可通過按以下順序施行上述工序來形成。工序1:工序(c-l)基材制作工序工序2:工序(c-2)圖案形成工序工序3:工序(c-4)線狀金屬層形成工序工序4:工序(c-3)線狀黑色層形成工序另外，本發明的偏振片(2)的制造方法，在基材l平坦時，可釆用包括以下的工序(d-l)~工序(d-5)的工序制造。工序(d-l):制作基材l的工序(基材形成工序)工序(d-2):形成金屬層3的工序(金屬層形成工序)工序(d-3):在金屬層3上形成抗蝕劑圖案的工序(抗蝕劑圖案形成工序)工序(d-4):局部地除去金屬層3的工序(金屬層選擇性除去工序)工序(d-5):形成透明層4的工序(透明層形成工序)。在此，在基材1上形成線狀金屬層3，并在該線狀金屬層3上形成透明層4的情形(圖ll等)，可通過按以下順序施行上述工序來形成。工序1:工序(d-l)基材制作工序工序2:工序(d-2)金屬層形成工序工序3:工序(d-3)抗蝕劑圖案形成工序工序4:工序(d-4)金屬層選擇性除去工序工序5:工序(d-5)透明層形成工序另外，在基材1上形成透明層4，并在該透明層4上形成線狀金屬層3的情形(圖17(a)等)，可通過按以下順序施行上述工序來形成。工序1:工序(d-l)基材制作工序工序2:工序(d-5)透明層形成工序工序3:工序(d-2)金屬層形成工序工序4:工序(d-3)抗蝕劑圖案形成工序工序5:工序(d-4)金屬層選擇性除去工序另外，在本發明的偏振片(2)的制造方法中，在基材l的表面形成線狀凹凸結構IO,并在該基材1上形成線狀金屬層3后，形成透明層4的情形，也可采用上述制法來形成，但也優選采用包括以下工序(e-l)~工序(e-4)的工序的方法。本方法容易形成線狀金屬層3，從該點來考慮是優選的。工序(e-l):制作基材1的工序(基材制作工序)工序(e-2)在基材1表面形成線狀凹凸結構IO的工序(圖案形成工序)工序(e-3):在基材1的具有線狀凹凸結構10的面側形成線狀金屬層3的工序(線狀金屬層形成工序)工序(e-4):形成透明層4的工序(透明層形成工序)在此，在基材1上形成線狀金屬層3，并在該線狀金屬層3上形成透明層4的情形(圖14等)，可通過按以下順序施行上述工序來形成。工序1:工序(e-l)基材制作工序工序2:工序(e-2)圖案形成工序工序3:工序(e-3)線狀金屬層形成工序工序4:工序(e-4)透明層形成工序另夕卜，在基材1上形成透明層4，并在該透明層4上形成線狀金屬層3的情形(圖17(b)等)，可通過按以下順序施行上述工序來形成。工序1:工序(e-l)基材制作工序工序2:工序(e-2)圖案形成工序工序3:工序(e-4)透明層形成工序工序4:工序(e-3)線狀金屬層形成工序以下對各工序的詳細情況進行說明。<工序(a-l)、工序(b誦l)、工序(c國l)、工序U-l)、工序(e國l):基材制作工序>在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)制造方法中，作為基材l的形成方法，例如，可采用將基材1形成用材料在擠出機內加熱炫融，由噴口擠出到冷卻的流延鼓上，加工為片狀的方法(熔融流延法)。作為其他的方法，也可^f吏用使基材l形成用材料溶解于溶劑中，將其溶液從噴口擠出到流延鼓、環形帶(endlessbelt)等的支持體上形成為膜狀，接著從該膜層干燥除去溶劑，從而加工為片狀的方法(溶液流延法)等。另外，作為在基材l上形成用于形成線狀凹凸結構IO的樹脂層的方法，可使用下述的方法在該樹脂層為熱塑性樹脂的場合，將兩種不同的熱塑性樹脂投入兩臺擠出機中，進行熔融，由噴口共擠出到冷卻的流延鼓上，加工為片狀，從而同時地形成基材l和樹脂層的方法(共擠出法)；一邊將樹脂層的原料投入擠出機中進行熔融擠出，從噴口擠出到以單膜制作的基材1上，一邊進行層壓的方法(熔融層壓法)；分別分開地以單膜制作基材l和樹脂層，利用加熱了的輥組等進行熱壓接的方法(熱層壓法)；通過粘接劑進行貼合的方法(粘接法)；此外，使樹脂層用材料溶解于溶劑中，將其溶液涂布于基材l上的方法(涂覆法)；等等。另外，在樹脂層的材料為光固性樹脂、熱固性樹脂時，可優選使用上述的方法之中的粘接法、涂覆法。作為基材1,從與樹脂層的粘接力方面出發，可優選使用形成易粘接層等的涂布層的基材。該場合下，作為構成涂布層的樹脂，可相應于使用的基材1、樹脂層，適宜選擇使用例如聚酯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚氨酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、酚樹脂、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、硅樹脂等的熱塑性樹脂、以及它們的混合物等。在使用雙軸拉伸聚酯膜作為基材l時，從粘接性方面考慮，優選使用以聚酯系樹脂為主要的成分的樹脂。在此所說的主要的成分，是表示構成涂布層的熱塑性樹脂之中的聚酯系樹脂優選為50重量％以上、更優選為60重量％以上、最優選為70重量％以上。另外，從提高基材l與涂布層的密著性、抗粘連等方面考慮，優選在涂布層中含有交聯劑。作為這樣的交聯劑，可優選使用與構成涂布層的樹脂中存在的官能團例如羥基、羰基、縮水甘油基、酰胺基等進行交聯反應的樹脂、化合物，作為其例子，可使用羥甲基化或者烷酰基化的尿素系、三聚氰胺系、丙烯酰胺系、聚酰胺系樹脂以及環氧化合物、異氰酸酯化合物、偶聯劑(couplingagent)、氮丙咬化合物、喁唑啉化合物等、以及它們的混合物等。該交聯劑的種類以及含有量，可根據構成基材l、樹脂層、涂布層的樹脂、交聯劑的種類等來適宜選擇，通常相對于樹脂固體成分100重量份，優選為0.01~50重量份、更優選為0.230重量份的范圍。另夕卜，也優選在該交聯劑中并用催化劑來促進交聯反應。另外，作為交聯反應方式，可以是加熱方式、電磁波照射方式、吸濕方式等的任一方式，通常優選寸吏用利用加熱的方法。另外，在涂布層中，為了改善涂布層的滑動性、抗粘連性，優選含有微粒子。作為其例子，可使用無機微粒子、有機微粒子等。作為該無機微粒子，例如，可使用金、銀、銅、鉑、釔、錸、釩、鋨、鈷、鐵、鋅、釕、鐠、鉻、鎳、鋁、錫、鋅、鈦、鉭、鋯、銻、銦、釔、鑭等的金屬、氧化鋅、氧化鈦、氧化銫、氧化銻、氧化錫、銦錫氧化物、氧化釔、氧化鑭、氧化鋯、氧化鋁、氧化硅等的金屬氧化物、氟化鋰、氟化鎂、氟化鋁、水晶石等的金屬氟化物、磷酸鈣等的金屬磷酸鹽、碳酸釣等的碳酸鹽、硫酸鋇等的硫酸鹽、以及滑石和高嶺土等。另外，作為有機微粒子，除了交聯苯乙烯、交聯丙烯酸等的交聯微粒子以外，與構成涂布層的熱塑性樹脂不相容，但進行微分散從而形成海島結構的熱塑性樹脂也能夠作為微粒子使用。作為所述^:粒子的形狀，可使用圓球狀、旋轉橢圓體狀、扁平體狀、念珠狀、板狀或針狀等的微粒子，但并不特別限定。從分散性、滑動性、抗粘連性方面考慮，所述微粒子的平均粒徑優選0.05~15jim，更優選0.1~10|tm。另外，所述微粒子的添加量是任意的，但通常相對于樹脂固體成分100重量份，優選為0.1重量份~50重量份、更優選為130重量份。另外，在涂布層中，可在不喪失效果的范圍內根據需要添加各種的添加劑。作為能夠添加配合的添加劑的例子，例如，可使用分散劑、染料、熒光增白劑、抗氧化劑、耐氣候劑、抗靜電劑、阻聚劑、增粘劑、消泡劑、紫外線吸收劑、流平劑、pH調節劑以及鹽等。作為上述的在基材l上形成涂布層的方法，可優選使用將構成上述的涂布層的材料溶解/分散于溶劑中，將所得到的涂液涂布于基材1上并進行干燥的方法。此時，使用的溶劑是任意的，但從安全性考慮優選將水作為主要的成分來使用。該場合下，為了改善涂布性、溶解性等，也可以少量添加溶于水的有機溶劑。作為所述有機溶劑的例子，可使用甲基醇、乙基醇、異丙基醇、正丙基醇、正丁基醇等的脂肪族或脂環族醇類、乙二醇、丙二醇、二甘醇等的二醇類、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙二醇單甲基醚等的二醇衍生物、二嗜、烷、四氫呋喃等的醚類、乙酸曱酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯等的酯類、丙酮、甲乙酮等的酮類、N-甲基吡咯烷酮等的酰胺類等、以及它們的混合物，但并不限于這些物質。作為在基材1上涂布設置涂布層的方法，可舉出在基材l的制膜中進行涂布設置的在線涂覆法、對制膜后的巻筒膜進行涂布設置的離線涂覆法，哪一種方法都能夠使用。更優選在線涂覆法，理由是可與基材l制膜同時地進行，效率高，并且涂布層與基材l的粘接性高。另外，在涂布設置時，從涂布液在支持體上的潤濕性提高、粘接力提高的觀點考慮，也優選對基材1表面進行電暈處理等。另外，作為基材1，選擇單軸或雙軸拉伸了的膜基材的場合，作為樹脂層的形成方法，可舉出上述的熔融層壓法、熱層壓法、涂覆法等的方法。在樹脂層由熱塑性樹脂構成的場合，也優選實行下述方法，即向二臺擠出機分別投入樹脂層用材料和基材l形成用的聚酯材料，進行熔融，從噴口共擠出到冷卻了的流延鼓上，進行雙軸拉伸后，實施熱處理的方法(共擠出雙軸拉伸法)。作為進行雙軸拉伸的方法，可以是分開地進行縱向和橫向的拉伸的逐次雙軸拉伸方法、同時地進行縱向和橫向的拉伸的同時雙軸拉伸方法中的任一方法。另外，熱處理工序中的熱處理溫度Ta，在樹脂層的熔點(或軟化點)設為Tml、基材1的熔點設為Tm2時，優選為Tm2>Ta>Tml。通過在該溫度范圍進行熱處理，能夠在將基材l熱固定、賦予機械強度的同時，使樹脂層熔融從而進行均一化，賦予易成形性。<工序(b-2)、工序(c-2)、工序(e-2):圖案形成工序〉所謂圖案形成工序，是通過工序(b-l)、工序(c-l)、工序(e-l)的工序得到的、在基材1的至少一側表面形成線狀凹凸結構10的工序。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，作為線狀凹凸結構10的形成方法，也可使用在半導體制造工藝等中使用的光刻、蝕刻法。可是，由于這些方法工藝復雜，因此在生產率以及成本方面，優選采用模具轉印法的賦形。即，通過采用加熱-加壓或電磁波照射的模具轉印，在基材l表面形成線狀凹凸結構10。在采用加熱-加壓的方法中，如圖20(a)所示，將基材(線狀凹凸結構形成用片40)和模具50重疊，進行加熱-加壓，脫模，由此將模具形狀轉印至基材(線狀凹凸結構形成用片40)表面上。此時，優選至少基材(線狀凹凸結構形成用片40)表面由熱塑性樹脂或熱固性樹脂構成。另外，在采用電磁波照射的方法中，如圖20(b)所示，向模具50直接填充光固性樹脂，或通過將模具50按壓在涂覆有上述樹脂的基材(線狀凹凸結構形成用片40)上來向模具50填充上述樹脂，使之與基材重疊，進行電磁波照射，使樹脂固化，脫模，由此轉印模具50形狀。優選至少基材表面采用利用電磁波例如紫外線、可見光、電子束進行固化的樹脂構成。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，為了形成線狀凹凸結構10而使用的模具50的制作方法，并不特別限定。優選根據本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的尺寸，使用X射線、電子束、紫外線或紫外線激光等，將在^^莫具材質上形成的抗蝕劑層圖案化，然后經由蝕刻等的工序來制作。模具50的材質，并不特別限定，可使用玻璃、硅、不銹鋼(SUS)、或者鎳(Ni)等各種材料。從模具50的可加工性方面考慮，優選硅、玻璃，從脫模性、耐久性考慮，優選不銹鋼(SUS)、鎳(Ni)等的金屬材質。模具50可以原樣地使用上述的材質。優選采用表面處理劑對模具50的表面進行處理、賦予易滑性，以使得在模具轉印后，能夠容易地將成形品脫模。表面處理后的模具50的表層的接觸角優選為80。以上、更優選為100°以上。作為模具50的表面處理的方法，可使用使表面處理劑與模具50表面化學結合的方法(化學吸附法)、使表面處理劑物理性地吸附于模具50表面的方法(物理吸附法)等。其中，從表面處理效果的反復使用耐久性、以及防止對成形品污染的觀點考慮，優選利用化學吸附法進行表面處理。作為用于化學吸附法的表面處理劑的優選例子，可使用氟系硅烷偶聯劑。作為使用該表面處理劑的表面處理方法，可使用首先通過在有機溶劑(丙酮、乙醇等)中進行超聲波處理、在硫酸等的酸、過氧化氫等的過氧化物的溶液中進行煮沸等，將模具50的表面洗滌后，浸漬于將氟系硅烷偶聯劑溶解于氟系溶劑中而成的溶液中的方法(濕式法)；進行真空蒸鍍，從而在模具50表面進行析出的方法(干式法)；等等。在濕式法的場合，優選在浸漬時將溶液加熱。優選在浸漬時將溶液加熱。另外，優選在浸漬后進4于加熱處理。利用圖20i兌明使用上述模具50在基材1表面形成線狀凹凸結構10的方法的例子。圖20(a)是表示使用加熱-加壓進行模具賦形的場合的例子的圖。將用于形成基材1的線狀凹凸結構形成用片40和模具的至少一方加熱至片的玻璃轉變溫度Tg2(疊層片的場合，為樹脂層的熱塑性樹脂的玻璃轉變溫度Tg21，以后將其稱為Tg2)以上、且小于熔點Tm的溫度范圍內(圖20(a-l))，使線狀凹凸結構形成用片40和模具50接近，原樣地以設定壓力進行壓制(加壓)，保持設定時間(圖20(a-2))。接著在保持壓制的狀態下降溫。最后釋放壓制壓力，從模具50將片脫模(圖20(a-3))。在采用加熱-加壓進行模具賦形的場合，加熱溫度以及壓制溫度(Tl)優選為Tg2Tg2+60。C的范圍內。小于該范圍時，線狀凹凸結構形成用片40或樹脂層未充分軟化，因此在對模具50加壓時難以引起變形，成形所需的壓力非常高。另外，大于該范圍時，加熱溫度以及壓制溫度Tl高，在能量上無效率。另外，模具50與片的加熱/冷卻時的體積變動量的差過大，線狀凹凸結構形成用片40咬入模具50，不能脫模，另外，即使能夠脫模，圖案的精度也降低，局部性地欠缺圖案等等，由于上述理由而不優選。通過使加熱溫度以及壓制溫度(Tl)為該范圍，可兼備良好的成形性和脫^莫性。另外，在采用加熱-加壓進行模具賦形的場合，壓制壓力可才艮據在壓制溫度T1下的線狀凹凸結構形成用片40或樹脂層的彈性模量的值等來適當調整。優選為0.5~50MPa、更優選為l30MPa。小于該范圍時，向模具50內填充樹脂會不充分，圖案精度降低。另外，大于該范圍時，需要的載荷增大，對模具50的負荷大，反復使用耐久性降低，因此不優選。通過使壓制壓力為該范圍，可得到良好的轉印性。另外，在采用加熱-加壓進行模具賦形的場合，壓制壓力保持時間可根據在壓制溫度T1下的線狀凹凸結構形成用片40或樹脂層的彈性模量的值等和成形壓力來適當調整。在平板壓制的場合，優選10秒10分。小于該范圍時，向模具50內填充樹脂會不充分，圖案精度降低，或者面內均一性降低。另外，大于該范圍時，由于樹脂的熱分解而引起劣化等，存在成形品的機械強度降低的可能性，因此不優選。通過使保持時間為該范圍，可兼備良好的轉印性和成形品的機械強度。但是，在輥對輥成形的場合，壓制時間也可以為IO秒以下。另外，在采用加熱-加壓進行模具賦形的場合，優選壓制壓力釋放溫度T2為Tg2-10°C~Tg2+30。C的溫度范圍內，并比壓制溫度Tl低，更優選為Tg2-l(TC~Tg2+30°C。小于該范圍時，壓制時的樹脂的變形作為殘留應力殘留，脫模時圖案破壞，即使能夠脫模，成形品的熱學穩定性也降低，因此不優選。另外，大于該范圍時，壓力釋放時的樹脂的流動性高，因此圖案變形，或轉印精度降低，因此不優選。通過使壓制壓力釋放溫度T2為該范圍，能夠兼備良好的轉印性和脫模性。另外，在采用加熱-加壓進行模具賦形的場合，優選脫模溫度T3為20。CT2。C的溫度范圍內，更優選為2(TCTg2。C的溫度范圍、最優選為20°C~Ts°C(其中Ts〈Tg2)的溫度范圍。大于該范圍時，脫模時的樹脂的流動性高，表面軟化，具有粘著性等，在脫模時有時圖案變形、精度降低，因此不優選。通過使脫模時的溫度為該范圍，可圖案精度良好地脫模。圖20(b)是表示采用電磁波照射進行模具賦形時的例子的圖，使用于形成基材l的線狀凹凸結構形成用片40、和具有與應該轉印的圖案相顛倒的凹凸的模具50接近(圖20(b-l))。原樣地以設定壓力進行壓制后，從模具50側或線狀凹凸結構形成用片40的任一方照射電磁波，使樹脂固化(圖20(b-2))。接著釋放壓制壓力，將線狀凹凸結構形成用片40從模具50進行脫模(圖20(a-3))。通過采用電磁波照射的模具轉印來進行賦形的場合，壓制壓力依賴于在賦形溫度下賦形的材料的粘度。優選為0.05~10MPa、更優選為0.1~5MPa。小于該范圍時，樹脂向模具50內的填充不充分，圖案精度降低。另外，大于該范圍時，需要的載荷增大，對模具50的負荷大，反復使用耐久性降低，因此不優選。通過使壓制壓力為該范圍，可得到良好的轉印性。通過采用電磁波照射的模具轉印來進行賦形的場合，電磁波的照射量依賴于累積能量照射的波長下的吸光率等。優選為10-5000mJ/cm2。小于該范圍時，樹脂的固化不充分，圖案精度降低，在脫模時強度不足，由于脫才莫應力而斷裂等，因此成形面內均一性降低。另外，大于該范圍時，過于固化，存在由于固化收縮而引起巻曲的可能性，因此不優選。通過使電磁波的照射量為該范圍，可兼備良好的轉印性和成形品的機械強度。通過采用電磁波照射的模具轉印來進行賦形的場合，一系列的工序中的溫度沒有特別限制。壓制溫度為10~200'C、更優選為10~150。C、最優選為10~100°C。高于該溫度時，樹脂的流動性過高，在壓制前流動，或者在壓制前樹脂固化，成形不充分，因此不優選。另外，脫模溫度T3優選在固化物的玻璃轉變溫度Tg3以下，更優選為Tg3-10。C、最優選為Tg3-20。C。大于該范圍時，脫模時的樹脂的流動性變高，或者表面軟化，具有粘著性，因此脫模時有時圖案變形、精度降低，因此不優選。通過使脫模時的溫度為該范圍，可圖案精度良好地進行脫模。通過采用電磁波照射的模具轉印來進行賦形的場合，通過對進行模具賦形而得到的基材1實施熱處理，可進一步提高固化度。作為其方法，下述的方法均可優選地使用在前述的模具50壓制時對模具50或基材1的至少一方加熱的方法；在利用電磁波照射進行固化后、脫模前，對模具50或基材l的至少一方加熱的方法；在圖案形成工序后進行熱處理的方法。其中，將模具壓制時的模具溫度T1或疊層體1的溫度T2的至少一方加熱的方法，能夠減少工序數，因此優選地進行。另外，為了進一步提高固化度，也可以將這些方法組合來進行。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，作為圖案形成方法，可舉出上述的方法。除了如圖20所示的將平版進行加壓的方法(平版壓制法)以外，還可以是使用在表面形成了凹凸的輥狀模具，成型為巻狀片，得到巻狀的成形體的輥對輥的連續成形。輥對輥連續成形的場合、從生產率方面考慮，平版壓制法更優異。<工序(a-2)、工序(b-4)黑色層形成工序>在本發明的偏振片(l)的制造方法中，在表面平坦的基材l上形成線狀黑色層2的場合，在基材的平坦面側全面上形成黑色層。作為其方法，可優選使用蒸鍍法、濺射法等的干式法、涂覆法、鍍覆法等的濕式法等。蒸鍍法以及濺射法等的干式法，是用于在面內形成均一的黑色層的有效的手段。涂覆法是通過在基材1上涂布含有黑色層形成用的材料的涂劑來形成黑色層的方法。另外，關于鍍覆法，可舉出在固體表面，使用外部電源電析出(電沉積)黑色層的電解鍍法；化學還原析出黑色層的無電解鍍法；等等。關于鍍覆法，可舉出在基材l上通過蒸鍍等形成金屬等之后，使鍍層生長，或在基材l上涂覆銀、鈀等的成為催化劑的微粒子后，使鍍層生長等等。在上述這些方法中，形成的黑色層的控制容易、并且均一性優異的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優選的形成方法。在本發明的偏振片(l)的制造方法中，作為由干式法形成黑色層的方法，可舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應性濺射法、離子束濺射法、ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學氣相沉積法(CVD法)等。在此，在形成黑色層的材料使用以無機氧化物(1)、無機氮化物(1)、無機氮氧化物(1)、無機鹵化物(1)、無機硫化物(1)等為主要的成分的材料的場合，可使與形成的黑色層的組成相同的材料直接揮發，從而沉積于基材l表面上。可是，在利用該方法進行的場合，在揮發中組成發生變化，其結果，有時形成的膜未呈現黑色。因此，使用下述等等的方法1)作為揮發源，4吏用與形成的黑色層相同的組成的材料，一邊分別向系統內輔助性地導入氣體，一邊使之揮發的方法，所述的導入氣體，在無機氧化物(1)的場合為氧氣，在無機氮化物(1)的場合為氮氣，在無機氮氧化物(1)的場合為氧氣與氮氣的混合氣體，在無機囟化物(1)的場合為卣素系氣體，在無機硫化物(1)的場合為硫系氣體；2)作為揮發源，使用無機物群，一邊使之揮發，一邊分別向系統內導入氣體，使無機物和導入的氣體反應，在基材l表面沉積的方法，所述的導入氣體，在無機氧化物(1)的場合為氧氣，在無機氮化物(1)的場合為氮氣，在無機氮氧化物(1)的場合為氧氣與氮氣的混合氣體，在無機卣化物(1)的場合為卣素系氣體，在無枳^充化物(1)的場合為硫系氣體；3)作為揮發源，使用無機物群，使其揮發，形成無機物群的層后，將該層在下述氣體氣氛下保持，由此使無機物層和導入的氣體反應的方法，所述氣體氣氛，在無機氧化物(1)的場合為氧氣氣氛，在無機氮化物(1)的場合為氮氣氣氛，在無機氮氧化物(1)的場合為氧氣與氮氣的混合氣體氣氛，在無機卣化物(1)的場合為卣素系氣體氣氛，在無才;u克化物(i)的場合為硫系氣體氣氛。在這些方法中，從容易從揮發源揮發的觀點出發，更優選使用2)的方法或3)的方法。進而，從膜質的控制容易的觀點出發，進一步優選使用2)的方法。另外，在黑色層2為無機氧化物(1)的場合，使用無機物群作為揮發源，使其揮發，形成無機物群的層。從容易形成的方面考慮，此后通過在空氣中放置而使無機物群自然氧化的方法也被優選使用。另夕卜，由PVD法形成黑色層的場合，在揮發前進行減壓時，優選提高系統內的真空度。通過提高系統內的真空度，可形成致密、缺陷少的黑色層2，可均勻地形成黑色層。另外，在黑色層由疊層結構構成的場合，在無機物群不同時，只要使用具有多個揮發源的裝置，形成第一層后，改變揮發源形成為第二層、第三層即可，另外，在為同一無機物群，只U應的程度和/或反應氣體的種類不同的場合，只要形成第一層后，變更導入氣體的流量和/或導入氣體的種類形成為第二層、第三層...即可。<工序(d-5)、(e-4):透明層形成工序>在本發明的偏振片(2)的制造方法中，作為形成透明層4的方法，可優選使用蒸鍍法、濺射法等的干式法、涂覆法等的濕式法等。關于蒸鍍法以及濺射法等的干式法，是用于形成在面內均一的透明層4的有效手段。涂覆法是通過涂布含有透明層4形成用的組合物的涂劑來形成透明層的方法。在這些上迷方法中，對形成的透明層4的控制容易、并且均一性優異的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優選的形成方法。在本發明的偏振片(2)的制造方法中，由干式法形成透明層4的方法，可列舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束的輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應性'減射法、離子束濺射法、ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學氣相沉積法(CVD法)等。在此，在形成透明層4的材料使用以無機氧化物(2)、無機氮化物(2)、無機氮氧化物(2)、無機鹵化物(2)等為主要的成分的材料的場合，可使與形成的透明層4的組成相同的材料直接揮發，從而沉積于基材1表面上。可是，在利用該方法進行的場合，在揮發中組成發生變化，其結果，有時形成的膜未作為透明層4發揮作用。因此，可舉出下述等等的方法1)作為揮發源，使用與形成的透明層4相同的組成的材料，一邊分別向系統內輔助性地導入氣體，一邊使之揮發的方法，所述的導入氣體，在無機氧化物(2)的場合為氧氣，在無機氮化物(2)的場合為氮氣，在無機氮氧化物(2)的場合為氧氣與氮氣的混合氣體，在無機囟化物(2)的場合為閨素系氣體；2)作為揮發源，使用無機物群，一邊使之揮發，一邊分別向系統內導入氣體，使無機物和導入的氣體反應，在基材l表面沉積的方法，所述的導入氣體，在無機氧化物(2)的場合為氧氣，在無機氮化物(2)的場合為氮氣，在無機氮氧化物(2)的場合為氧氣與氮氣的混合氣體，在無機卣化物(2)的場合為卣素系氣體；3)作為揮發源，4吏用無才幾物群，使其揮發，形成無機物群的層后，將該層在下述氣體氣氛下保持，由此使無機物層和導入的氣體反應的方法，所述氣體氣氛，在無機氧化物(2)的場合為氧氣氣氛，在無機氮化物(2)的場合為氮氣氣氛，在無機氮氧化物(2)的場合為氧氣與氮氣的混合氣體氣氛，在無機卣化物(2)的場合為卣素系氣體氣氛。在這些方法中，從容易從揮發源揮發的觀點出發，更優選使用2)的方法或3)的方法，從形成的膜的透明性優異的方面考慮，進一步優選^f吏用2)的方法。另外，由PVD法形成透明層4的場合，在揮發前進行減壓時，優選提高系統內的真空度。通過提高系統內的真空度，可形成致密、缺陷少的透明層4，可均勻地形成透明層4。另外，在透明層4由疊層結構構成的場合，在無機物群不同時，只要使用具有多個揮發源的裝置，形成第一層后，改變揮發源形成為第二層、第三層即可。另外，在為同一無機物群，只是反應的程度和/或反應氣體的種類不同的場合，只要形成第一層后，變更導入氣體的流量和/或導入氣體的種類依次形成為第二層、第三層..即可。在此，在本發明的偏振片(2)的制造方法中，為了在線狀金屬層3上形成透明層4，通過改變蒸鍍角度e即蒸鍍時的基材1的法線方向與揮發源的方向構成的角度、材料的沉積量，可形成任意的形態的透明層4。在此所說的蒸鍍角度e，是蒸鍍時的基材1的法線方向與揮發源的方向構成的角度。例如，在上述的蒸鍍角度e(。)設為tanG^(p-w)/h的場合，會難以向凹部表面形成透明層4。在減少材料的沉積量的場合，可形成如圖13(c)、圖16(c)、(e)那樣的形態，當材料的沉積量增多時，可形成如圖13(a)、(b)、圖16(a)、(b)、(d)那樣的形態。另夕卜，在蒸鍍角度設為0°時，當減少材料的沉積量的場合，可形成如圖13(e)、圖16(g)那樣的形態，當材料的沉積量增多時，可形成如圖13(d)、圖16(f)那樣的形態。<工序(a-3)、工序(b-4)工序(d-2):金屬層形成工序>在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，在基材l的平坦面上形成線狀金屬層3的場合，在基材1的平坦面全面上形成金屬層。作為其方法，優選使用蒸鍍法、濺射法等的干式法、涂覆法、鍍覆法、等的濕式法等。關于蒸鍍法以及濺射法等的干式法，是用于形成在面內均一的金屬層的有效手段。涂覆法是通過在基材1上涂布含有金屬粒子或由金屬被覆的粒子的涂劑來形成金屬層的方法。另外，關于鍍覆法，可舉出在固體表面，使用外部電源電析出(電沉積)金屬等的電解鍍法；化學還原析出線狀金屬層的無電解鍍法；等等。關于鍍覆法，可舉出在基材l上通過蒸鍍等形成金屬之后，使鍍層生長，或在基材1上涂覆^L、鈀等的成為催化劑的孩t粒子后，使鍍層生長等等。在這些上述方法中，形成的金屬層的金屬性高的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優選的形成方法。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，作為形成金屬層方法，可舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束的輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應性賊射法、離子束濺射法ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學氣相沉積法(CVD法)、溶膠-凝膠法等的涂布法等。其中，從可均勻地形成致密的膜的方面出發，優選PVD法或CVD法。在利用真空蒸鍍法形成金屬層時，系統內的真空度越高越好，優選為8.0xl(T4Pa以下，更優選為1.0xlO-4Pa以下，進一步優選為5.0xl(TsPa以下。當不到該范圍時，從揮發源揮發的金屬原子沉積時，會一邊混入系統內殘存的氣體分子一邊在基材l上析出，從而金屬性降低，有時光學特性降低，因此不優選。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，通過使蒸鍍時的真空度在上述的范圍內，可形成致密的膜。其結果，可制成偏振光分離特性優異的偏振片。在利用真空蒸鍍法形成金屬層時，蒸鍍速度優選為0.2nm/秒以上，更優選為0.5nm/秒以上，進一步優選為lnm/秒以上。當不到該范圍時，會成為在沉積時系統內殘存的氣體分子容易進入的狀態，形成的金屬層的金屬性降低，有時光學特性降低，因此不優選。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，通過使蒸鍍速度在上述的范圍內，可形成致密的膜。其結果，可制成偏振光分離特性優異的偏振片。<工序(b-3)、工序(c-4):線狀黑色層形成工序>在本發明的偏振片(l)的制造方法中，在基材l表面形成的線狀凹凸結構10上形成線狀黑色層2的場合，作為其方法，優選使用蒸鍍法、、減射法等的干式法、涂覆法、鍍覆法等的濕式法等。關于蒸鍍法以及濺射法等的干式法，通過控制基材1與揮發源所成的角度，能夠只在線狀凹凸結構10的凸部11周邊形成線狀黑色層2。這是用于位置選擇性地形成線狀黑色層2的有效手段。在此，控制基材l與金屬源的角度是指控制金屬源相對于基材l面的法線方向的角度，例如如圖21所示，優選從相對于法線方向傾斜的方向，并且相對于線狀凹凸結構10的縱向垂直的方向進行蒸鍍或賊射。其次，涂覆法是通過在基材1上涂布含有黑色層形成用的材料的涂劑來形成線狀黑色層2。通過控制涂膜厚度、溶劑的極性、涂布條件，可局部地形成線狀黑色層2。另外，關于鍍覆法，可舉出在固體表面，使用外部電源電析出(電沉積)線狀黑色層2等的電解鍍法；化學還原析出線狀黑色層2的無電解鍍法；等等。關于鍍覆法，可舉出在基材l上通過蒸鍍等形成金屬等之后，使鍍層生長，或在基材l上涂覆銀、鈀等的成為催化劑的微粒子后，使鍍層生長等等。例如，向線狀凹凸結構10的凹部12填充作為催化劑的金屬粒子后，若進行無電解鍍，則可只在凹部12形成線狀黑色層2。在上述這些方法中，線狀黑色層2的形成位置容易控制、并且形成的線狀金屬層3的控制容易、且均一性優異的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優選的形成方法。作為利用千式法形成線狀黑色層2的方法的例子，可舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束的輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應性濺射法、離子束濺射法ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學氣相沉積法(CVD法)等。在此，在形成線狀黑色層2的材料使用以無機氧化物(1)、無機氮化物(1)、無機氮氧化物(1)、無機卣化物(1)、無機硫化物(1)等為主要的成分的材料的場合，可使與形成的線狀黑色層2的組成相同的材料直接揮發，從而沉積于基材l表面上。可是，在利用該方法進行的場合，在揮發中組成發生變化，其結果，有時形成的膜未呈現黑色。因此，可舉出下述等等的方法l)作為揮發源，使用與形成的線狀黑色層2相同的組成的材料，一邊分別向系統內輔助性地導入氣體，一邊使之揮發的方法，所述的導入氣體，在無機氧化物(1)的場合為氧氣，在無機氮化物(1)的場合為氮氣，在無機氮氧化物(1)的場合為氧氣與氮氣的混合氣體，在無機卣化物(1)的場合為鹵素系氣體，在無機硫化物(1)的場合為硫系氣體；2)作為揮發源，使用無機物，一邊使之揮發，一邊分別向系統內導入氣體，使無機物和導入的氣體反應，在基材l表面進行沉積的方法，所述的導入氣體，在無機氧化物(1)的場合為氧氣，在無機氮化物(1)的場合為氮氣，在無機氮氧化物(1)的場合為氧氣與氮氣的混合氣體，在無機鹵化物(1)的場合為卣素系氣體，在無機硫化物(1)的場合為硫系氣體；3)作為揮發源，使用無機物群，使其揮發，形成無機物群的層后，將該層在下述氣體氣氛下保持，由此使無機物層和導入的氣體反應的方法，所述氣體氣氛，在無機氧化物(1)的場合為氧氣氣氛，在無機氮化物(1)的場合為氮氣氣氛，在無機氮氧化物(1)的場合為氧氣與氮氣的混合氣體氣氛，在無機卣化物(1)的場合為g素系氣體氣氛，在無機硫化物(1)的場合為石危系氣體氣氛。在這些方法中，從容易從揮發源揮發的觀點出發，更優選使用2)的方法或3)的方法。進而，從膜質的控制容易的觀點出發，進一步優選使用2)的方法。另外，在線狀黑色層2為無機氧化物(1)的場合，從容易形成的方面考慮，優選采用使用無機物群作為揮發源，使其揮發，形成無機物群的層后，在空氣中放置而使無機物群自然氧化的方法。在由真空蒸鍍法形成線狀黑色層2時，在揮發前進行減壓時，優選提高系統內的真空度。通過提高系統內的真空度，可形成致密、缺陷少的線狀黑色層2，可均勻地形成線狀黑色層2。在本發明的偏振片(l)的制造方法中，蒸鍍角度e即蒸鍍時的基材i的法線方向與揮發源的方向構成的角度，在基材1表面具有線狀凹凸結構10時，依賴于基材l的凹凸形狀。在此所說的蒸鍍角度e是蒸鍍時的基材1的法線方向與揮發源的方向構成的角度。優選如圖21所示，線狀黑色層2的蒸鍍方向Ml包含于由基材面的法線L3、和與基材1面平行并且與線狀凹凸結構10的縱向垂直的線L2構成的面內。線狀黑色層2的蒸鍍方向M1，包含于由基材面的法線L3、和與基材1面平行并且與線狀凹凸結構10的縱向垂直的線L2構成的面內的場合，上述的蒸鍍角度e(。)，在線狀黑色層2的形成中可以是一定的，也可以使之變化。在蒸鍍角度e—定的場合，優選為tane^(p-w)/h。更優選為tan(9-5。)^(p-w)/h、進一步優選為蒸鍍角度tan(0-10°)^(p-w)/h以上。當不到該范圍時，線狀黑色層2的選擇性形成變得困難，有時光學特性降低，因此不優選。在本發明的偏振片(l)的制造方法中，通過使蒸鍍角度e為上述范圍，可高選擇性地形成線狀黑色層2。其結果，可在維持高透射率的狀態下抑制外部光的照入。另夕卜，在使蒸鍍角度e變化的場合，與使蒸鍍角度e—定的方法相比，可抑制向凹部的附著，并且使線狀黑色層2在厚度方向形成得更高。其結果，可在維持得到的高透射率的狀態下更加抑制外部光的照入。該場合下，蒸鍍角度e，只要在形成初期滿足tane^(p-w)/h即可，到形成中期后期時可以變為tan0<(p-w)/h。在使蒸鍍角度e變化的場合，優選在形成初期階段，使蒸鍍角度e向變小的方向變〗匕。通過這樣地變化，在形成初期可抑制向凹部的附著，另外，隨著進行形成，可在厚度方向形成較高的線狀黑色層2。另外，在使蒸鍍角度e變化的場合，既可以使之斷續地變化，也可以使之連續地變化。作為改變形成角度e的方法，既可以使用具有基材角度可變機構的裝置來改變形成角度e，也可以使用輥對輥型蒸鍍裝置，將基材沿著輥狀鼓的外周設置，通過使輥旋轉，來改變形成角度e。在此，在使用輥對輥型蒸鍍裝置的場合，可成為連續工藝，因此從生產率方面考慮是更優選的。圖22是說明使用具有基材角度可變機構的裝置改變形成角度e進行蒸鍍的方法的圖。使用未圖示的基材角度可變機構，使基板i傾斜成蒸鍍角度e、即蒸鍍時的基材1的法線方向L3與來自揮發源60的金屬的方向mi構成的角度。這樣，通過一邊使用具有基材角度可變機構的裝置改變形成角度e，一邊進行蒸鍍，就可高選擇性地形成線狀黑色層2。圖23是說明使用輥對輥型蒸鍍裝置改變形成角度e進行蒸鍍的方法的圖。如圖23所示，巻狀的基材通過放巻/巻取軸63、66、輥狀鼓62的旋轉沿著輥狀鼓62的外周旋轉。在輥狀鼓62的側面附近設置有隔板67。隔板的開口部，開口成為基材面的法線方向L3與來自揮發源60的金屬的方向Mi構成的角度e從ei變化為e3(在該圖的例子中，ei>e3)。通過放巻/巻取軸63、66、輥狀鼓62的旋轉，一邊使形成角度9從91向93變化一邊在巻狀的基材61上進行蒸鍍。在本發明的偏振片(l)的制造方法中，基材l與揮發源間的距離大為宜，優選為15cm以上、更優選為20cm以上。當不到該范圍時，在斜向蒸鍍時，在接近于蒸鍍源的側較多的線狀黑色層2沉積，有時光學特性的面內均一性惡化，因此不優選。在本發明的偏振片(l)的制造方法中，通過使基材1與揮發源間的距離為上述的范圍，可制成面內的光學特性的均一性優異的偏振片。另外，在線狀黑色層2由疊層結構構成的場合，在無機物群不同時，只要使用具有多個揮發源的裝置，形成第一層后，改變揮發源形成為第二的程度和/或反應氣體的種類不同的場合，只要形成第一層后，變更導入氣體的流量和/或導入氣體的種類來形成為第二層、第三層即可。<工序(b-3)、工序(c-4)、工序(e-4):線狀金屬層形成工序>在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，在基材l表面形成的線狀凹凸結構10上形成線狀金屬層3的場合，作為其方法，優選使用蒸鍍法、濺射法等的干式法、涂覆法、鍍覆法等的濕式法等。關于蒸鍍法以及濺射法等的干式法，通過控制基材1與金屬源所成的角度，能夠只在線狀凹凸結構10的凸部11周邊形成線狀金屬層3，這是用于位置選擇性地形成線狀金屬層3的有效手段。在此，控制基材l與金屬源的角度是指控制金屬源相對于基材l面的法線方向的角度，例如如圖21所示，優選從相對于法線方向傾斜的方向，并且相對于線狀凹凸結構10的縱向垂直的方向進行蒸鍍或濺射。其次，涂覆法是通過在基材1上涂布含有金屬粒子或由金屬凈皮覆的粒子的涂劑來形成線狀金屬層3。通過控制涂膜厚度、溶劑的極性、涂布條件，可局部地形成線狀金屬層3。另外，關于鍍覆法，可舉出在固體表面，使用外部電源電析出(電沉積)金屬等的電解鍍法；化學還原析出線狀金屬層3的無電解鍍法；等等。關于鍍覆法，可舉出在基材1上通過蒸鍍等形成線狀金屬層3之后，使鍍層生長，或在基材l上涂覆銀、鈀等的成為催化劑的微粒子后，使鍍層生長等等。例如，向線狀凹凸結構10的凹部12填充作為催化劑的金屬粒子后，若進行無電解鍍，則可只在凹部12形成線狀金屬層3。在上述這些方法中，線狀金屬層3的形成位置容易控制、并且形成的線狀金屬層3的金屬性高的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優選的形成方法。作為利用干式法形成線狀金屬層3的方法的例子，可舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束的輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應性濺射法、離子束濺射法ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學氣相沉積法(CVD法)等。其中，從可高選擇性地形成金屬性高的致密膜的觀點出發，優選在電子束蒸鍍法、以及電子束法中組合了各種的輔助法的方法。在利用真空蒸鍍法形成線狀金屬層3時，系統內的真空度越高越好，優選為8.0xlO"Pa以下，更優選為1.0xlO"Pa以下，進一步優選為5.0xl(TsPa以下。當不到該范圍時，在從揮發源揮發的金屬原子到達基材l的期間，，會與系統內殘存的氣體分子碰撞，失去方向性。因此，在沉積時，系統內殘存的氣體分子會進入，并且在基材l上析出，從而金屬性降低，光學特性降低，或者在基材1表面具有線狀凹凸結構10的場合，難以選擇性形成線狀金屬層3，因此不優選。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，通過使蒸鍍時的真空度在上述的范圍內，可高選擇性地形成致密的膜。其結果，可得到偏振光分離特性優異的偏振片。在利用真空蒸鍍法形成線狀金屬層3時，蒸鍍速度優選為0.2nm/秒以上，更優選為0.5nm/秒以上，進一步優選為lnm/秒以上。當不到該范圍時，會成為在沉積時系統內殘存的氣體分子容易進入的狀態，形成的線狀金屬層3的金屬性降低，有時光學特性降低，因此不優選。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，通過使蒸鍍速度在上述的范圍內，可形成致密的膜。其結果，可得到偏振光分離特性優異的偏振片。在本發明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，蒸鍍角度e、即蒸鍍時的基材1的法線方向與蒸鍍源的方向構成的角度，在基材1平坦的場合，可以為任意的角度。在基材1表面具有線狀凹凸結構10的場合，依賴于基材i的凹凸形狀。在此所說的蒸鍍角度e，是蒸鍍時的基材i的法線方向與蒸鍍源的方向構成的角度。優選如圖21所示，金屬的蒸鍍方向Ml包含于由基材面的法線L3、和與基材1面平行并且與線狀凹凸結構10的縱向垂直的線L2構成的面內。在金屬的蒸鍍方向M1，包含于由基材面的法線L3、和與基材l面平行并且與線狀凹凸結構10的縱向垂直的線L2構成的面內的場合，上述的蒸鍍角度e(。)，在線狀金屬層3的形成中可以是一定的，也可以^吏之變化。在蒸鍍角度e—定的場合，優選為tan0g(p-w)/h。更優選為tan(6-5°)^(p-w)/h、進一步優選為蒸鍍角度tan(0-10。)^(p-w)/h以上。當不到該范圍時，線狀金屬層3的選擇性形成變得困難，有時光學特性降低，因此不優選。在本發明的偏振片(1)或偏振片(1)的制造方法中，通過使蒸鍍角度e為上述范圍，可高選擇性地附著金屬，其結果，可得到偏振光分離特性優異的偏振片。另夕卜，在使蒸鍍角度e變化的場合，與使蒸鍍角度e—定的方法相比，可抑制向凹部的附著，并且使線狀金屬層3在厚度方向形成得更高。其結果，可在維持得到的高透射率的狀態下得到偏振光分離特性更優異的偏振片。該場合下，蒸鍍角度e，只要在形成初期滿足tane^(p-w)/h即可，到形成中期后期時可以變為tane<(p-w)/h。在該情況下，使蒸鍍角度e變化時，優選在形成初期階段，使蒸鍍角度e向變小的方向變化。通過這樣地變化，在形成初期可抑制向凹部的附著，另外，隨著進行形成，可在厚度方向形成較高的線狀金屬層3。另外，在使蒸鍍角度e變化的場合，既可以使之斷續地變化，也可以使之連續地變化。作為改變形成角度e的方法，可以使用具有基材角度可變機構的裝置來改變形成角度e。也可以使用蒸鍍源被配置于不在包含輥狀鼓的旋轉中心軸、并且與水平面垂直的面內的位置的輥對輥型蒸鍍裝置，將基材沿著輥狀鼓的外周設置，通過使輥旋轉來改變形成角度e。在此，在使用輥對輥型蒸鍍裝置的場合，可成為連續工藝，因此從生產率方面考慮是更優選的。一邊改變形成角度e—邊進行蒸鍍的方法，采用與上述同樣的方法進行。在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，基材i與蒸鍍源間的距離大為宜，優選為15cm以上、更優選為20cm以上。當不到該范圍時，在斜向蒸鍍時，在接近于蒸鍍源的側沉積較多的金屬，有時光學特性的面內均一性惡化，因此不優選。在本發明的偏振片的制造方法中，通過使基材1與蒸鍍源間的距離為上述的范圍，可制成在面內的光學特性的均一性優異的偏振片。在本發明的偏振片(1)的制造方法中，在工序(a-2)工序(b-4)黑色層形成工序或者工序(b-3)工序(c-4)線狀黑色層形成工序、以及工序(a-3)工序(b-4)金屬層形成工序或者工序(b-4)工序(c-4)線狀金屬層形成工序的任一工序都釆用蒸鍍、濺射等的物理氣相沉積法進行的場合，另夕卜，在本發明的偏振片(2)的制造方法中，在工序(d-2)工序(e-3)透明層形成工序以及工序(d-3)金屬層形成工序或者工序(e-4)線狀金屬層形成工序的任一工序都采用蒸鍍、濺射等的物理氣相沉積法進行的場合，優選使用具有多個揮發源的裝置，將這些工序連續地進行。該場合下，與分成一個個的工序來進行的情況相比，可減少進行真空抽吸的次數。其結果，可^f吏工序時間變為約一半。另外，在將這些工序連續地進行的場合，也能夠使用巻狀的膜基材，采用輥對輥工序進行。該場合下，可以一邊放巻一邊形成一個層，接著一邊復巻，或者復巻后再次放巻，一邊形成另一層，優選使用在膜的輸送路徑內設有多個形成區的裝置，通過l次放巻來連續地形成兩個層。<工序(a-4)、工序(b-5)、工序(d-4):抗蝕劑圖案形成工序>在本發明的偏振片(l)的制造方法中，在基材l的平坦面上形成線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的場合，在利用工序(a-2)工序(b-4)形成的黑色層和/或利用工序(a-3)工序(b-4)形成的金屬層上形成抗蝕劑圖案，另外，在本發明的偏振片(2)的制造方法中，在基材l的平坦面上形成線狀金屬層3的場合，在利用工序(d-3)形成的金屬層上形成抗蝕劑圖案。作為其方法，首先，在黑色層和/或金屬層上，形成由下述材料構成的薄膜，所述材料是含有可通過電磁波照射進行交聯或分解的化合物的材料。接著，在該薄膜上，通過使用光掩模的曝光、電子束描畫、干涉膝光等的手法，使其部分地交聯或分解。接著，使用溶劑，將曝光部或非曝光部選擇性地溶解，從而可形成。另外，作為其他的方法，可通過在工序(b-2)、工序(c-2)、工序(e-2)中列舉出的采用加熱-加壓或電磁波照射的模具轉印來形成。其具體的方法是，在黑色層和/或金屬層上，形成具有熱塑性的材料、可通過加熱或電磁波照射進行交聯的材料的薄膜，在該形成的薄膜上，利用與工序(b-2)、工序(c-2)、工序(e-2)同樣的方法轉印模具形狀，從而可形成c在此，通過才莫具轉印來形成抗蝕劑圖案的場合，在形成的樹脂的凹凸形狀的凹部底面一般殘留樹脂。因此，在原樣的狀態下，在接下來的選擇性除去工序中，難以選擇性除去黑色層和/或金屬層。因此，優選除去殘存于凹部的樹脂，局部地露出黑色層和/或金屬層。作為其方法，可使用干式蝕刻、濕式蝕刻等的/>知的方法進行。由上述的方法形成的抗蝕劑圖案，可原樣地直接用于接下來的工序(a-5)、工序(a-6)、工序(b-6)、工序(d-5)的選擇性除去工序。也優選通過以該抗蝕劑圖案為基礎進行光刻，在黑色層和/或金屬層上形成別的金屬等的圖案。該場合下，與將抗蝕劑圖案原樣地直接使用的情況相比，可提高選擇性除去工序中的除去的選擇性。其結果，能夠形成高光學特性的偏振片，因此優選進行。<工序(a-5)、工序(a-6)、工序(b-6)、工序(d-5):選擇性除去工序>在本發明的偏振片(l)的制造方法中，在基材1的平坦面上形成線狀黑色層2以及線狀金屬層3的場合利用工序(a-4)工序(b-5)、在本發明的偏振片(2)的制造方法中，在基材1的平坦面上形成線狀金屬層3的場合利用工序(d-4)，以在黑色層和/或金屬層上形成的抗蝕劑圖案(或以抗蝕劑圖案為基礎進行光刻而形成的金屬圖案)為基礎，局部地除去黑色層和/或金屬層，由此可形成目標的偏振片。作為其方法，可使用干式蝕刻法、濕式蝕刻法、噴砂法等。其中，從能夠高選擇性地除去黑色層和/或金屬層的觀點出發，優選干式蝕刻法。干式蝕刻所使用的氣體，可根據黑色層和/或金屬層、以及抗蝕劑圖案(或以抗蝕劑圖案為基礎進行光刻而形成的金屬圖案)的材質來適宜選擇。本發明的偏振片(1)或偏振片(2)可通過至少包括上述工序的方法來形成。特別是在本發明的偏振片(l)的場合、以及在本發明的偏振片(2)中在基材1上形成透明層4后形成線狀金屬層3的場合，為了提高形成的線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的機械強度，或者，為了對表面賦予耐摩擦性，也可以在形成的線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的表面、形成有線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的整個面上，利用透明樹脂、金屬氧化膜等形成保護膜，或者向形成的線狀黑色層2和/或線狀金屬層3之間的凹部填充透明樹脂，等等。能夠使用的透明樹脂不特別限定，可優選使用熱塑性樹脂、熱固性樹脂、光固性樹脂等。另外，能夠使用的金屬氧化物，只要是透明的就不特別限定。另外，也優選在本發明的偏振片(l)或偏振片(2)的表面上貼合相位差膜、光學補償膜、保護膜等的別的膜。另外，在本發明的偏振片(1)的基材l的未形成線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的面側、本發明的偏振片(2)的基材1的未形成線狀金屬層3的面側，可以形成抗靜電層、防反射層、硬涂層等任意的層。另外，也可通過與具有其他功能的基材1等貼合，來制成具有多功能的功能綜合高性能片。本發明的偏振片(1)或偏振片(2)可通過上述的工序來形成。得到的偏振片，可在通過A面呈現反射型的偏振光分離特性的同時，通過B面防止外部光的照入。更詳細地講，在向A面側入射光的場合，具有使某一方的偏振光成分透射，并且將另一方的偏振光成分反射的偏振光分離功能。在從A面側入射光的場合，具有使某一方的偏振光成分透射，并且使另一方的偏振光成分消失的功能。本發明的偏振片(l)或偏振片(2)，可用于要求該功能的各種用途，作為其用途的一例，可舉出特別是在安裝于液晶顯示裝置中使用的場合，可發揮亮度提高效果。以下對該機理進行說明。液晶顯示裝置其構成大體可分成面光源700和液晶盒800。圖24表示4吏用側光型面光源作為光源700的液晶顯示裝置的例子。在圖24中，在導光板300的上面側配置有擴散片500，而且在擴散片500上配置有棱鏡片600,另夕卜，在導光板300的下面側配置有反射片400。而且，在導光板300的側面配置有熒光管200。從熒光管200照射的光，從導光板300的側面進入導光板300內，從導光板300的上面經由擴散片500、棱鏡片600向上方射出。另外，不限于上述構成例。作為導光板300，可以使用對表面和背面實施了點、棱鏡狀等各種各樣的加工的導光板。也可以設置多根熒光管200。另外，也可以使用發光二極管(LED)以代替熒光管200。而且，關于光擴散片500、棱鏡片600，在只使用某一方時和分別使用多個片時等，可優選使用各種各樣的構件以及構成。另外，圖25表示使用正下型面光源作為光源700的液晶顯示裝置的例子。該類型的光源為下述構成在裝有反射片400的框體410的內部，配置有多個線狀的熒光管200，在熒光管200的上側配置有擴散板310，而且在擴散板310上側按順序配置有光擴散片500、棱鏡片600。在正下型面光源的場合，各種構成構件可分別采用各種的構件和構成。例如，熒光管的形狀不限于直線狀，另外，也可以使用發光二極管(LED)來代替熒光管200。另外，關于擴散板、光擴散片、棱鏡片，也可與上述同樣地使用各種的構件、構成的制品。另外，作為面光源700，不僅可使用上述的面光源，而且能夠使用任意的面光源。本發明的液晶顯示裝置，在上述的面光源上以線狀金屬層3側(即A面)處于面光源側的方式配置了液晶盒，所述液晶盒，在液晶層820的上下至少具備作為上側偏振片的偏振片、和作為下側偏振片的本發明的偏振片亂采用圖26來說明由本發明的偏振片帶來的亮度提高效果、和防外部光照入的情況。以往的液晶顯示裝置(圖26(a))中使用的液晶盒800,由2片的偏振片810、830、和i殳置于2片的偏振片810、830之間的液晶層820等構成。以往的液晶盒800中使用的偏振片810、830—般是被稱為吸收型的偏振片。該偏振片，吸收與透射軸正交的方向的偏振光成分(X2)。因此，在理論上光的利用效率為50%。另外，以往的使用反射型偏振片的液晶顯示裝置(圖26(b))，代替下側的偏振片810，使用了以往的反射型偏振片840。由此可使由下側偏振片810吸收的偏振光成分(k2)反射到面光源700側進行返回再利用，可制成高亮度的液晶顯示裝置。可是，實際上在與偏振片置換來使用的場合，在黑色顯示時，外部光(>3)反射從而照入，存在不能進行黑色顯示的問題。另一方面，如本發明的液晶顯示裝置(圖26(c))那樣，將本發明的偏振片設置成A面與面光源700相對的場合，與以往的液晶顯示裝置相比，可使由下側偏振片810吸收的偏振光成分(X2)反射到面光源700側進行返回再利用。其結果，可制成高亮度的液晶顯示裝置。另外，與以往的使用反射型偏振片的液晶顯示裝置不同，在黑色顯示時即使外部光(X3)照入，也利用B面(本發明的偏振片(1)的場合為線狀黑色層2側，本發明的偏振片(2)的場合為透明層4側)使光消失。由此，使用本發明的偏振片的液晶顯示裝置，與以往的液晶顯示裝置相比，可成為高亮度的液晶顯示裝置。而且，在本發明的偏振片(1)中將線狀黑色層2和線狀金屬層3合計的高度、在本發明的偏振片(2)中將線狀金屬層3和透明層4合計的高度為數百納米。因此、與以往的液晶顯示裝置中使用的液晶盒相比，可將其厚度減薄。另外，作為本發明的液晶顯示裝置的例子，示出使下側偏振片810為本發明的偏振片而使用的例子。在本發明的偏振片的B面的總光線反射率小于15%，更優選為不到10%、進一步優選為不到5%的場合，如圖27U)所示那樣，作為液晶盒800的上側偏振片(830)使用本發明的偏振片100,如圖27(b)所示那樣，使液晶盒800的兩側的偏振片(810、820)為本發明的偏振片100而使用也是優選的形態。另外，上側偏振片(830)為本發明的偏振片IOO的場合，進行設置使得B面(本發明的偏振片(1)的場合為線狀黑色層2側，本發明的偏振片(2)的場合為透明層4側)為觀察者側。特別是，如圖27(b)所示那樣使液晶盒800的兩側的偏振片(810、830)為本發明的偏振片IOO而使用的場合，與只一側為本發明的偏振片的情況相比，可進一步減薄液晶盒的厚度。通過如以上那樣將本發明的偏振片安裝于液晶顯示裝置中，光利用效率提高，與以往的液晶顯示裝置相比，可制成高亮度的液晶顯示裝置。本發明的液晶顯示裝置，可很好地用于便攜式電話、電子記事本、筆記本PC、監視器、TV、各種顯示介質等中。[特性的評價方法]本發明中的特性的評價方法，使用以下所述的方法。測定裝置，只要是能夠得到與以下的評價方法同等或其以上的結果的測定裝置，則也可以使用其他的裝置。A.斷面，見察切取制作的偏振片，切取與線狀凹凸結構IO縱向垂直的斷面，蒸鍍柏-鈀后，用日本電子(林)制的場致發射掃描型電子顯微鏡"JSM-6700F"拍攝照片，以50000倍進行斷面觀察。由得到的斷面觀察像，測量構成線狀凹凸結構10的凸部11的尺寸(間距p(nm)、寬度w(nm)、高度h(nm))、線狀黑色層2的膜厚h2(nm)、線狀金屬層3的膜厚h3(nm)、透明層4的膜厚h4(nm)、線狀黑色層2的寬度w21(nm)、線狀金屬層3的寬度w31(nm)。另外，在線狀凹凸結構10上形成了線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的場合的膜厚h2，h3，在形成有線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的部位之中的凸部11上的任意的5處位置，求出沿基材1法線方向測量時的厚度，求出它們的平均值。另外，線狀黑色層2的寬度w21、線狀金屬層3的寬度w31，求出任意的5處位置的平均值。另外，在線狀金屬層3上形成有透明層4的場合的膜厚h4，在線狀金屬層3上的任意的5處位置，求出沿基材l法線方向測量時的厚度，求出它們的平均值。B.總光線透射率、總光線絕對反射率、總光線相對反射率對于制作的偏振片，使用裝載大型偏振光鏡ASSY，在受光器上具備安裝有10°傾斜間隔件的積分球的分光光度計UV-3150型(島津制作所(林)制)測定。關于透射率，在設置成光源與A面側(線狀金屬層3側)相對的場合，在設置成光源與B面側(本發明的偏振片(1)的場合為線狀黑色層2側，本發明的偏振片(2)的場合為透明層4側)相對的場合，對于上述各場合，求出在波長400800nm的范圍，以入射角0。入射光時的透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)TAmax、TBmax、與之垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)TAmin、TBmin。另外，對于設置成光源和A面側(線狀金屬層3側)相對的場合，求出在波長400~800nm的范圍，以入射角10。入射光時的透射率最大的偏振光成分的反射率(最大反射率)R，Amax、與之垂直的方向的偏振光成分的反射率(最小反射率)R"Amin。另外，使上述裝置裝載絕對反射率單元(unit)(5°反射)，以入射角5。入射光時，分別測定絕對反射率最大的偏振光成分的絕對反射率(最大絕對反射率)RAmax、RBmax、與之垂直的方向的偏振光成分的絕對反射率(最小絕對反射率)RAmin、RBmin。另外，在上述測定中，使用硫酸鋇作為標準白色板來實施測定。通過將得到的偏振光透射率TAmax、TBmax、TAmin,TBmin、總光線絕對反射率RAmax、RBmax、RAmin,RBmin應用于下述式(1)~(4)，求得A面側的總光線透射率Tat、總光線絕對反射率Rat、線狀金屬層3側的總光線透射率TBt、總光線絕對反射率RBt。A面側總光線透射率TAt(%)=(TAmax+TAmin)/2(1)B面側總光線透射率TBt(%)=(TBmax+TBmin)/2(2)A面側總光線絕對反射率RAt(%)=(RAmax+RAmin)/2(3)A面側總光線相對反射率R，At(%)=(R，Amax+R，Amin)/2(3，)B面側總光線絕對反射率RBt(%)=(RBmax+RBmin)/2(4)關于得到的光學特性，如以下那樣判定。另外，在比較例中，對兩面進行測定，將其反射率更低的面作為B面。1)A面側的特性1-1)總光線透射率TAt采用在波長550nm下的透射率，如以下那樣判定。40%以上50%以下時S35%以上且不到40%時A30%以上且不到35%時B不到30%時C大于50%時ES或A或B良好，S最優異。另夕卜，關于透射率的波長依賴性，比較在450nm、550nm、650nm下的透射率，使用這些透射率的最大值與最小值的差，如以下那樣判定。不到20%時A20%以上且不到30%時B30%以上時CA或B良好，A最優異。1-2)總光線絕對反射率RAt、總光線相對反射率R，At使用在波長550nm下的值如以下那樣判定。40%以上50%以下時S35。/。以上且不到40%時A30%以上且不到35%時B20。/。以上且不到30%時C不到20%時D大于50%時ES或A或B良好，S最優異。另外，關于線狀金屬層的絕對反射率的波長依賴性，比較在450nm、550nm、6S0nm下的絕對反射率，使用這些透射率的最大值和最小值的差，如以下那樣判定。且不到10%時A10%以上且不到20%時B大于20%時CA或B良好，A最優異。2)B面側的特性2-1)總光線透射率TBt使用在波長550nm下的透射率，如以下那樣判定。35%以上且不到40%時A30%以上且不到35%時B不到30%時C大于50%時ES或A或B良好，S最優異。另夕卜，關于透射率的波長依賴性，比較在450nm、550nm、650nm下的透射率，使用這些透射率的最大值和最小值的差，如以下那樣判定。不到20%時A20。/。以上且不到30%時B30%以上時CA或B良好，A最優異。2-2)總光線絕對反射率RBt使用在波長550nm下的值如以下那樣判定。10%以下時S10%以上且不到20%:A20%以上30%以下B大于30%且不到35%:C35%以上時DS或A或B良好，S最優異。另外，關于線狀黑色層的絕對反射率的波長依賴性，比較在450iim、550mn、6S0nm下的絕對反射率，使用這些透射率的最大值和最小值的差，如以下那樣判定。不到20%時A20%以上且不到30%時B30%以上時CA或B良妤，A最優異。C.偏振光度(偏光度)對于制作的偏振片，使用在受光器上具備積分球的分光光度計，以玻璃偏振光濾光器(工K乇乂K才7。于^夕7-卞八°乂(林)制)與B面(本發明的偏振片(1)的場合為線狀黑色層2側，本發明的偏振片(2)的場合為透明層4側)相對的方式(比較例的場合，與線狀金屬層3側相對)進行重疊，并設置成玻璃偏振光濾光器處于受光器側(光線出射側)，當入射無偏振狀態的光，在波長400800nm的范圍一邊改變偏振光鏡的角度一邊測定其透射率時，測定其透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)T，Amax、和與之垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)T，Amin，將得到的值應用于下述式(5),由此求得偏振光度P。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage86</formula>使用波長550nm下的偏振光度，如以下那樣判定。99.5%以上時S99.2%以上且不到99.5%時A99%以上且不到99.2%時B95%以上且不到99%時C不到95%時:DS或A或B良好，S最優異。另夕卜，關于偏振光度的波長依賴性，比較在450nm、550nm、650nm下的偏振光度，使用這些值的最大值與最小值的差，如以下那樣判定。不到2%時S2%以上且不到5%時A5%以上且不到10%時B10%以上時CS或A或B良好，S最優異。D.光消失率Ll在本發明的偏振片(1)中，采用以下的方法求得光消失率L。在膜厚100nm鋁膜上(基材表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7))上形成黑色層，使用在受光器上具有積分球的分光光度計UV-3150型(島津制作所(抹)制)，測定在波長400~800nm的范圍從黑色層側以光的入射角5。入射無偏振狀態的入時的絕對反射率Rb。另外，同樣地測定黑色層形成前的鋁蒸鍍膜的絕對反射率Ra。作為使用得到的值由下述式(6)求出的光消失率的在波長400800nm下的平均值來求得。光消失率Ll(%)=(Ra-Rb)/Raxl00(6)對于得到的光消失率L，如以下那樣判定。60%以上時S50%以上且不到60%時A40%以上且不到50%時B不到40%時CS或A或B良好，S最優異。E.光吸收率A在本發明的偏振片(2)中，采用以下的方法求得光吸收率A。以表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7)為基材，在其表面形成透明層，使用在受光器上具有積分球的分光光度計UV-3150型(島津制作所(抹)制)，測定在波長400800nm的范圍從透明層側以入射角0。入射無偏振狀態的光時的總光線透射率Tp、從透明層側以光的入射角5。入射無偏振狀態的光時的絕對反射率RP。作為使用得到的值由下述式(7)求得的光吸收率的在波長400~800nm下的平均值來求得。光吸收率A(%)-100-(TP+Rp)(7)對于得到的光吸收率A,如以下那樣判定。不到5%時:S5%以上且不到10%時A10%以上且不到20%時B20%以上時CS或A或B良好，S最優異。F.濁度使用濁度儀NDH-5000(日本電色(抹)制)測定濁度Ht。另外，在測定中，采用從A面側入射而測定的值來作為濁度Ht。G.亮度、外部光的反射、顯示品質(1)面光源(1):為使用棱鏡片的構成的面光源的場合在1.5英寸的LED側光型背光源(LED2燈型，作為反射板裝載了"ESR，，(住友義Ii一工厶(林)制))的導光板上側，配置光擴散片"GM3"(奢t^(株)制)以及棱鏡片BEFIII(住友7y—工厶(林)制)，組裝出側光型面光源，在其上重疊在下側具有本發明的偏振片(設置成線狀黑色層處于液晶盒側)、在上側具有多輿型偏振片的液晶盒，在暗室內將LED以及、液晶盒立起。使液晶畫面全面為白色顯示，使用色彩亮度計BM-5A/FAST(卜7°〕乂(株)制)以視野角0.1。測定亮燈10分后的中心亮度BM。接著，使液晶全畫面為黑色顯示，測定此時的亮度B32。接著，使用相同的面光源，重疊在下側兩方具有碘型偏振片的液晶盒，同樣地測定畫面全面白色顯示時的中心亮度B21。(2)面光源(2):為不使用棱鏡片的構成，并且為側光型的面光源的場合在7英寸的CCFL側光型背光源(〕的字型CCFL，點印刷型，作為反射板裝載了"E6SL"(東麗(林)制))的導光板上側，配置2片光擴散片"CH28T"(SKC制)。接著，在光擴散片上重疊在下側具有本發明的偏振片B-4G殳置成線狀黑色層處于液晶盒側)、在上側具有碘型偏振片的液晶盒，在暗室內將CCFL、液晶盒立起。使液晶畫面全面為白色顯示，使用色彩亮度計BM-5A/FAST(卜:/〕乂(抹)制)以視野角0.1。測定亮燈10分后的中心亮度B31。接著，使液晶全畫面為黑色顯示，測定此時的亮度B32。接著，卸掉上述的液晶盒，重疊上側、下側兩方具有》典型偏振片的液晶盒，同樣地測定畫面全面白色顯示時的中心亮度B21。(3)面光源(3):為不使用棱鏡片的構成，并且為側光型的面光源的場合在20英寸的正下型背光源(CCFL10個，熒光管徑3mm，焚光管間隔2.5cm。作為乳白板裝載了RM401(住友化學(林)制)，作為反射板裝載了"E6SL"(東麗(林)制)。乳白板與熒光管的距離1.5cm)的乳白板上側，配置2片光擴散片"，<卜7、乂"7°"(注冊商標)GM3(年乇卜(林)制)。接著，在光擴散片上重疊在下側具有本發明的偏振片(設置成線狀黑色層處于液晶盒側)、上側具有碘型偏振片的液晶盒，在暗室內將CCFL、液晶盒立起。使液晶畫面全面為白色顯示，使用色彩亮度計BM-5A/FAST(卜7。〕乂(林)制)以視野角1。測定亮燈10分后的中心亮度B31。接著，使液晶全畫面為黑色顯示，測定此時的亮度B32。接著，卸掉上述的液晶盒，重疊在上側、下側兩方具有碘型偏振片的液晶盒，同樣地測定液晶畫面全面為白色顯示時的中心亮度B21。使用由上述測定得到的值，利用下述式(8)算出亮度提高率B，利用下述式(9)算出對比度C。亮度提高率B(%)=100x(B31-B21)/B21(8)對比度C(-)=B31/B32(9)另外，在熒光燈下進行畫面黑顯示時，對于外部光的照入進行肉眼觀察。關于得到的光學特性，如以下那樣判定。1)亮度提高率如以下那樣判定。25%以上時S20%以上且不到25%時A10%以上且不到20%時B0%以上且不到10%時C亮度降低時DS或A或B良好，S最優異。2)對比度如以下那樣判定。1000以上時S500以上且不到1000時A300以上且不到500時B100以上且不到300時C不到100時:DS或A或B良好，S最優異。3)外部光的照入用肉目M見察在明室(焚光燈下)中進行液晶畫面的黑色顯示時的情況，如以下那樣判定。深黑色，完全沒有感到白色A黑色，當靠近熒光燈時，稍感到白色，但在使用上沒有問題B強烈感到白色CA或B良好，A最優異。4)顯示品質從正面以及斜向肉眼觀察畫面白色顯示時的情況，對此時的情況如以下那樣判定。(1)面光源(1)的場合完全辨認不出千擾條紋、閃爍等A可極微弱地辨認出干擾條紋、閃爍等，但在使用上沒有問題B可辨認出較強的干擾條紋、閃爍CA或B良好，A最優異。(2)側光型面光源(2)的場合辨認不出導光板的點圖案A90可極微弱地辨認出的點圖案，但在使用上沒有問題B可明確地辨認出點圖案CA或B良好，A最優異。(3)正下(直下)型面光源(2)的場合完全辨認不出熒光管像A可極微弱地辨認出熒光管像，但在使用上沒有問題B可少許地辨認出熒光管像，但在使用上沒有問題C可明確地辨認出熒光管像DA或B或C良好，A最優異。實施例以下列舉實施例來說明本發明，但本發明未必限于這些實施例。(實施例1-1)將500im厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(cj)100mm)設置于電子束蒸鍍裝置中，揮發源使用純度99.999%的鋁，在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度lnm/秒、蒸鍍源-基材間距離25cm的條件下，從基材面的法線方向進行鋁的電子束蒸鍍，形成了膜厚100nm的金屬層。接著除了以0.5sccm向體系內導入氧氣以外，在同樣的條件下蒸鍍鋁，制作了在金屬層上具有膜厚lOOnm的由鋁氧化物構成的黑色層的疊層體。另外，以同樣的方法制作了只形成lOOrnn的鋁層的制品。對于金屬層、黑色層各自測定絕對反射率Ra、Rb,求出光消失率L。結果如表l所示。接著，作為基材，使用膜厚100nm的雙軸拉伸聚酯膜"》^，一"(注冊商標)U46(東麗(林)制)，釆用上述同樣的方法制作了在聚酯膜上順序形成了金屬層、黑色層的疊層體。接著，將得到的疊層體固定在玻璃板上，在黑色層上采用旋涂機涂布(lst500rpm10秒、2nd-2000rpm30秒用縫模涂布機涂布)聚曱基丙烯酸甲酯(、乂夕'77V^Ki;、7于(林)制、重量平均分子量96000)20重量份溶于環己酮/甲乙酮/曱苯=1/1/1溶液80重量份而成的溶液，在140。C干燥30分鐘，制作了具有干燥膜厚3jim的樹脂層的疊層體。將得到的疊層體的樹脂層和下述模具l重疊，設置于真空室內，在到達50Pa以下的真空度后，在140。C進行1分鐘預熱，在壓制溫度140。C、壓制壓力15Mpa下進行5分鐘壓制后，冷卻到100。C后，釋放壓力，然后冷卻到3(TC后，將基材和模具脫模。r模具1J材質鎳間距150nm、凸部寬度80nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從才莫具脫模了的基材的形狀，已確認在黑色層上形成了具有大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹脂圖案的樹脂層。r黑色層上的樹脂圖案形狀J間距p:150nm、寬度w:70nm、高度h:198nm、凹部底部厚度IOO腿接著，采用^f吏用氧(o2)氣體的干式蝕刻法除去凹部底部的殘膜，采用使用四氯化碳(CC14)氣體的干式蝕刻法選擇性地除去在黑色層上形成樹脂圖案后在樹脂圖案間露出的黑色層。接著，采用使用四氯化碳(ccu)氣體的干式蝕刻法選擇性地除去露出的鋁層。最后采用使用氧(02)氣體的干式蝕刻法除去殘留的樹脂層，得到樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為如圖2(a)所示的形態，為表1所示的尺寸。從表1來看，線狀黑色層的寬度w21/間距p2為0.47，線狀金屬層的寬度W31/間距p3為0.47。得到的樣品以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-2)除了使用下述模具2作為模具以外，采用與實施例1同樣的方法在黑色層上形成了樹脂圖案。r模具2J材質鎳間距130nm、凸部寬度70nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀。觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認形成了具有如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹脂圖案的樹脂層。r黑色層上的樹脂圖案形狀J間距p:130nm、寬度w:60nm、高度h:198nm接著，采用與實施例1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖2(a)所示的形態，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表1所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-3)除了使用下述模具3作為模具以外，采用與實施例1同樣的方法在黑色層上形成了樹脂圖案。r模具3J材質鎳間距120nm、凸部寬度65nm、凸部高度120nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認形成了具有如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹脂圖案的樹脂層。r黑色層上的樹脂圖案形狀J間距p:120nm、寬度w:55nm、高度h:117nm接著，采用與實施例1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為如圖2(a)所示的形態，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表393所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-4)作為基材，使用500jim厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板((M00mm)，除此以外采用與實施例1同樣的方法得到樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖2(a)所示的形態，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表1所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-5)作為基材，使用500jim厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(cj)100mm)，在基材上形成黑色層后，形成金屬層，在疊層體的金屬層上成型出樹脂圖案，選擇性除去黑色層后，選擇性除去金屬層，除此以外與實施例l同樣地制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖2(b)所示的形態，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-6)將作為二羧酸成分的環己烷二羧酸、作為二醇成分的9，9，-雙(4-羥基乙氧基苯基)芴80mol%、乙二醇20moP/。共聚而成的聚酯在100。C真空干燥4小時后，在擠出機內在280。C使之熔融，從噴口擠出到20。C的流延鼓上進行冷卻，得到厚度400pm的片。將得到的片和下述才莫具4重疊，設置于真空室內，在到達50Pa以下的真空度后，在165。C下進行1分鐘預熱，在壓制溫度165°C、壓制壓力15MPa下進行5分鐘壓制后，冷卻到125。C后，釋放壓力，然后冷卻到30。C后，將基材和模具脫模。r模具4J材質鎳間距150nm、凸部寬度90nm、凸部高度130nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認形成了如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀凹凸結構(參照表2)。r基材表面的線狀凹凸結構J間距p:150nm、寬度w:58nm、高度h:128nm使用具有基材角度可變裝置、以及兩個蒸發源的電子束蒸鍍機，兩個蒸發源分別設置了純度99.999%的鋁、純度99.999%的鉻。接著，將500jim厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板((M00mm)設置于電子束蒸鍍裝置中，將系統內減壓。在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度0.2nm/秒、蒸鍍源-基材間距離25cm的條件下，從與線狀凹凸結構的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成45。的角度形成50nm的鋁。接著使基材旋轉，從與線狀凹凸結構的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成40。的角度，除了接著向系統內導入0.2sccm氧氣以外在同樣的條件下，電子束蒸鍍10nm的鉻，制作出在金屬層上具有膜厚20mn的由鉻氧化物構成的黑色層的疊層體。另外，采用同樣的方法制作了只形成鋁層100nm的樣品。關于金屬層、黑色層，各自測定絕對反射率Ra、Rb，求出光消失率L。結果如表l所示。接著，在上述電子束蒸鍍裝置中設置具有線狀凹凸結構的基材，將系統內減壓，在上述同樣的條件下，從與線狀凹凸結構的縱向垂直、且與基材面法線方向傾斜45。的斜向，以膜厚50nm電子束蒸鍍鋁。接著使基材旋轉，從與線狀凹凸結構的縱向垂直的方向、且與基材面法線方向傾斜400的斜向，除了接著向系統內導入0.2sccm氧氣以外在上述同樣的條件下蒸鍍鉻20nm。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖28U)所示的形態，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-7)將作為二羧酸成分的環己烷二羧酸、作為二醇成分的9，9，-雙(4-羥基乙氧基苯基)芴80mol%、乙二醇20mol。/。共聚而成的聚酯溶解于35'C的環己酮/曱乙酮/甲苯=1.5/1.5/1溶液中，使得成為20重量％的濃度。將得到的溶液使用少夕/《一(#30)涂布于100nm厚的聚酯膜W《，一，(注冊商標)U46(東麗(林)制)上，在140。C干燥30分鐘，制作了具有干燥膜厚5pm的樹脂層的疊層體。除了將模具按壓在得到的疊層體的樹脂層側以外，采用與實施例1-6同樣的方法形成了線狀凹凸結構。觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認形成了如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀凹凸結構(參照表2)。r基材表面的線狀凹凸結構J間距p:150nm、寬度w:59nm、高度h:128nm接著用與實施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖28U)所示的形態，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-8)除了使用下述^f莫具5作為模具以外，采用與實施例1-6同樣的方法形成了線狀凹凸結構。r模具5J材質鎳間距130nm、凸部寬度80nm、凸部高度130nm96凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認得到了如以下那樣大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀凹凸結構(參照表2)。r基材表面的凹凸結構J間距p:130nm、寬度w:49nm、高度h:128nm接著用與實施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖28(a)所示的形態，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的殃型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-9)除了使用下述模具6作為模具以外，用與實施例1-6同樣的方法形成了線狀凹凸結構。r模具6J材質鎳間距120nm、凸部寬度75nm、凸部高度120nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從才莫具脫模了的基材的形狀，已確認得到了如以下那樣大致將才莫具形狀顛倒的斷面形狀的線狀凹凸結構(參照表l)。r基材表面的線狀凹凸結構J間距p:120nm、寬度w:43nm、高度h:117nm接著，除了〗吏鋁的蒸鍍膜厚為45nm以外，采用與實施例l-6同樣的方法形成了線狀金屬層、線狀黑色層(參照表2)。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖28(a)所示的形態，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-10)使用石墨作為黑色層的材料，在黑色層形成時不導入氧氣，將黑色層的膜厚設為20nm，除此以外與實施例1-6同樣地制作了疊層體、樣品。關于金屬層、黑色層各自測定絕對反射率Ra、Rb,求出光消失率L。結果如表2所示。另外，觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖28(a)所示的形態，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-11)在500nm厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(4>100mm)上，采用旋涂機涂布(lst500rpm10秒、2nd-2000rpm30秒用縫模涂布機涂布)將聚曱基丙烯酸曱酯(7夕、、77VPK!;、7于(林)制、重量平均分子量96000)20重量份溶解于環己酮/甲乙酮/曱苯=1/1/1溶液80重量份中而成的溶液，在140。C下干燥30分鐘，制作了具有干燥膜厚3^tm的樹脂層的疊層體。將得到的疊層體的樹脂層和下述模具l重疊，設置于真空室內，在到達50Pa以下的真空度后，在140。C進行1分鐘預熱，在壓制溫度140。C、壓制壓力15MPa下進行5分鐘壓制后，冷卻到100。C后，釋放壓力，然后冷卻到30'C后，將基材和模具脫模。r模具U材質鎳間距150nm、凸部寬度90nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認在玻璃基板上形成了大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹脂圖案。r玻璃基板表面的樹脂圖案的形狀J間距p:150nm、寬度w:60nm、高度h:199mn凹部底部厚度100nm接著，采用使用氧(02)氣體的干式蝕刻法除去凹部底部的殘膜，在黑色層上形成樹脂圖案后，通過使用四氟化碳(CF4)氣體的干式蝕刻法以深度150nm選擇性地除去樹脂圖案間露出的光學玻璃。接著通過使用氧(02)氣體的干式蝕刻法除去殘留的樹脂層，由此制作了在表面上具有線狀凹凸結構的基材。r玻璃表面的線狀的凹凸形狀J間距p:150nm、寬度w:55nm、高度h:150nm接著，用與實施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖28U)所示的形態，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-12)在具有線狀凹凸結構的基材上形成黑色層后，形成金屬層，并使黑色層的膜厚為20nm，除此以外與實施例11同樣地制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖28(b)所示的形態，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例1-13)使用具有基材角度可變裝置以及兩個蒸發源的電子束蒸鍍機，兩個蒸發源分別設置了純度99.999%的鋁、純度99.999%的鉻。接著，將500nm厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(d)100mm)設置于電子束蒸鍍裝置中，將系統內減壓。在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度0.2nm/秒、蒸鍍源-基材間距離25cm的條件下，從與基材面的法線方向成45。的角度以lnm/秒進行10秒鐘蒸鍍鋁后，一邊以15。/分鐘向基材面的法線方向側旋轉基材，一邊以lnm/秒蒸鍍鋁，形成了合計70nm厚。接著，除了使基材旋轉，從與基材面的法線方向成40。的角度以6。/分鐘的速度向基材面的法線方向側旋轉基材，并且向系統內導入0.2sccm氧氣體來進行實施以外，在同樣的條件下電子束蒸鍍出20nm的鉻，制作了在金屬層上具有膜厚20nm的由鉻氧化物構成的黑色層的疊層體。另外，采用同樣的方法制作了只形成了100nm的鋁層的樣品。對于金屬層、黑色層各自測定絕對反射率Ra、Rb，求出光消失率L。結果如表l所示。接著，在上述電子束蒸鍍裝置中設置具有與實施例1-9同樣的線狀凹凸結構的基材，將系統內減壓。從與線狀凹凸結構的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成45。的角度以lnm/秒進行10秒鐘蒸鍍鋁后，一邊以15。/分鐘的速度向與線狀凹凸結構的縱向垂直、并且基材面的法線方向側旋轉基材，一邊以lnm/秒蒸鍍鋁，形成了合計70nm厚，除此以外采用與實施例1-6同樣的方法形成了線狀金屬層。接著，使基材旋轉，從與線狀凹凸結構的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成40。的角度，以6。/分鐘的速度向與線狀凹凸結構的縱向垂直、并且基材面的法線方向側旋轉基材，并且向系統內導入0.2sccm氧氣體，除此以外在同樣的條件下電子束蒸鍍20nm厚的鉻，制作了在線狀金屬層上具有膜厚20nm的由鉻氧化物構成的線狀黑色層的疊層體。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層、線狀金屬層的形態為圖28(a)所示的形態，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-1)將500jim厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板((j)100mm)設置于電子束蒸鍍裝置中，揮發源使用純度99.999%的鋁，在真空度3.4xlO-5Pa、蒸鍍速度lnm/秒、蒸鍍源-基材間距離25cm的條件下，一邊以5sccm導入氧氣，一邊蒸鍍鋁，制作了具有膜厚100nm的由鋁氧化物構成的透明層的疊層體。關于得到的疊層體，測定從透明層側入射光時的總光線透射率Tp、Rp，求出光吸收率A。結果如表4所示。接著，將作為基材的、膜厚lOOfim的雙軸拉伸聚酯膜"》《，一"(注冊商標)U46(東麗(林)制)設置于電子束蒸鍍裝置中，揮發源使用純度99.999%的鋁，在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度lnm/秒、蒸鍍源-基材間距離25cm的條件下，從基材面的法線方向電子束蒸鍍鋁，形成了膜厚100nm的金屬層。接著，將得到的疊層體固定于玻璃板上，在金屬層上，采用4t涂機涂布(lst500rpm10秒、2nd-2000rpm30秒用縫模涂布機涂布)將聚曱基丙烯酸曱酯(、乂夕、、^7少Ky:y于(林)制、重量平均分子量96000)20重量份溶解于環己酮/曱乙酮/甲苯=1/1/1溶液80重量份中而成的溶液，在140'C下干燥30分鐘，制作了具有干燥膜厚3jim的樹脂層的疊層體。將得到的疊層體的樹脂層和下述模具l重疊，設置于真空室內，在到達50Pa以下的真空度后，在140。C進行1分鐘預熱，在壓制溫度140。C、壓制壓力15MPa下進行5分鐘的壓制后，冷卻到100。C后，釋放壓力，然后冷卻到30'C后，將基材和模具脫模。r模具U材質鎳間距150nm、凸部寬度80nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認在黑色層上形成了具有大致將^^莫具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹脂圖案的樹脂層。接著，采用使用氧(02)氣體的干式蝕刻法除去凹部底部的殘膜，通過使用四氯化碳(CCl4)氣體的干式蝕刻法，選擇性地除去在金屬層上形成樹脂圖案后在樹脂圖案間露出的金屬層。最后通過使用氧(02)氣體的干式蝕刻法，除去殘留的樹脂層，形成了線狀金屬層。101接著，設置于電子束蒸鍍裝置中，揮發源使用純度99.999%的鋁，在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度lnm/秒、蒸鍍源-基材間距離25cm的條件下，一邊以5sccm導入氧氣，一邊以蒸鍍角度70。蒸鍍鋁，在線狀金屬層上形成膜厚100nm的由鋁氧化物構成的透明層，得到了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖13(b)所示的形態，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-2)除了使用下述模具2作為模具以外，釆用與實施例2-l同樣的方法在金屬層上形成了樹脂圖案。r模具2J材質鎳間距130nm、凸部寬度70nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從^f莫具脫模了的基材的形狀，已確認形成了具有如以下那樣的大致將^^莫具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹脂圖案的樹脂層。r金屬層上的樹脂圖案形狀J間距p:130nm、寬度w:61nm、高度h:198nm接著，采用與實施例1-1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖13(b)所示的形態，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-3)除了使用下述模具2作為模具以外，采用與實施例2-1同樣的方法在金屬層上形成了樹脂圖案。r模具3J材質鎳間距120nm、凸部寬度65nm、凸部高度120nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從^=莫具脫模了的基材的形狀，已確認形成了如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹脂圖案。r金屬層上的樹脂圖案形狀J間距p:120nm、寬度w:54nm、高度h:119nm得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-4)除了使用500nm厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(cj)100mm)作為基材以外，采用與實施例2-l同樣的方法得到了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖13(b)所示的形態，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-5)除了將透明層的膜厚設為50nm以外，與實施例2-1同樣地制作了疊層體、樣品。關于得到的疊層體，測定從透明層側入射光時的總光線透射率Tp、Rp，求出光吸收率A。結果如表4所示。另夕卜，觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖13(c)所示的形態，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進^f亍黑色顯示。(實施例2-6)釆用與實施例1-6同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結構10的基材。使用具有基材角度可變裝置的電子束蒸鍍機，兩個蒸發源設置了純度99.999%的鋁。接著，將500nm厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板((J)100mm)設置于電子束蒸鍍裝置中，將系統內減壓。在真空度3.4xl0—spa、蒸鍍速度0.2nm/秒、蒸鍍源-基材間距離25cm的條件下下，從與線狀凹凸結構的縱向垂直的方向且與基材面法線方向成45。的角度形成了50nm厚的鋁。接著，一邊使基材旋轉、并向系統內以5sccm導入氧氣，一邊以蒸鍍角度700蒸鍍鋁，除此以外在相同的條件下在線狀金屬層上形成膜厚100nm的由鋁氧化物構成的透明層，得到了樣品。另夕卜，觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖28(c)所示的形態，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-7)采用與實施例1-7同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結構10的基材。除了使用得到的基材以外，采用與實施例2-6同樣的方法得到了樣另夕卜，觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖28(c)所示的形態，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-8)采用與實施例1-8同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結構10的基材。除了使用得到的基材以外，采用與實施例2-6同樣的方法得到了樣口口o另夕卜，觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖28(c)所示的形態，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-9)采用與實施例l-9同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結構10的基材。除了使用得到的基材以外，采用與實施例2-6同樣的方法得到了樣口口。另夕卜，觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖28(c)所示的形態，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-10)采用與實施例1-11同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結構10的基材。除了使用得到的基材以外，采用與實施例2-6同樣的方法得到了樣品。另夕卜，觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖28(c)所示的形態，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-11)除了將透明層的膜厚設為50nm以外，與實施例2-6同樣地制作了疊層體、樣品。關于得到的疊層體，測定從透明層側入射光時的總光線透射率Tp、RP，求出光吸收率A。結果如表5所示。采用與實施例1-11同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結構10的基材。使用得到的基材，并將透明層的膜厚設為50nm，除此以外采用與實施例2-6同樣的方法得到了樣品。另夕卜，觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖28(d)所示的形態，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例2-12)除了將透明層的膜厚設為50nm以外，與實施例2-6同樣地制作了疊層體、樣品。關于得到的疊層體，測定從透明層側入射光時的總光線透射率TP、Rp,求出光吸收率A。結果如表5所示。接著，采用與實施例l-9同樣的方法，制作了在表面上具有線狀凹凸結構10的基材。使用得到的基材，從與線狀凹凸結構的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成45。的角度，以0.2nm/秒進行60秒鐘蒸鍍鋁后，以3。/分鐘的速度與線狀凹凸結構的縱向垂直、并且向基材面的法線方向側旋轉基材，以0,2mn/秒蒸鍍鋁，形成了合計70nm厚，除此以外采用與實施例2-6同樣的方法得到了樣品。另夕卜，觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層、透明層的形態為圖28(d)所示的形態，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。(實施例3-1~3國3)將作為粘合劑樹脂的"7口二、;/夕7"(注冊商標)M6050(東亞合成制)90重量份、"7口二，夕7"(注冊商標)M5700(東亞合成制)10重量份、作為微粒子的"亇$7乂一"(注冊商標)SX-130H(綜研化學(株)制)5重量份、作為分散劑的"7U7y厶，，(注冊商標)AKM-0531(日本油脂(林)制)0.5重量份、作為熱聚合引發劑的"力卞工7亍少"(注冊商標)AN(化藥7夕乂(林)制)0.5重量份、作為溶劑的環己酮/甲乙酮=1/1溶液200重量份進行混合、攪拌、分散，制作出涂劑。將該涂劑采用^夕/《一(#15(實施例3-1)、#20(實施例3-2)、#30(實施例3-3))涂布于在實施例1-13中得到的偏振片的沒有形成線狀金屬層的側的面上，涂布后在12(TC進行30秒鐘干燥，在20(TC進行10秒鐘熱處理，制作了在沒有形成線狀金屬層、線狀黑色層的側具有光擴散層的偏振片。使用得到的樣品的評價結果如表7所示。將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表8所示。可知與以往的碘型偏振片相比，均呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。特別是在實施例3-1中，可知能夠兼備最高的亮度和最高的顯示品質。將得到的樣品用于面光源(2)的評價結果如表8所示。可知與以往的碘型偏振片相比，均呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。特別是在實施例3-2中，可知能夠兼備最高的亮度和最高的顯示品質。將得到的樣品用于面光源(3)的評價結果如表8所示。可知與以往的碘型偏振片相比，均呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。特別是在實施例3-3中，可知能夠兼備最高的亮度和最高的顯示品質。(實施例3-4~3-6)除了使用在實施例2-12中得到的偏振片以外，采用分別與實施例3-1~3-3同樣的方法制作了在沒有形成線狀金屬層、線狀黑色層的側具有光擴散層的偏振片。得到的樣品的評價結果如表7所示。將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表8所示。可知與以往的碘型偏振片相比，均呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。特別是在實施例3-4中，可知能夠兼備最高的亮度和最高的顯示品質。將得到的樣品用于面光源(2)的評價結果如表8所示。可知與以往的碘型偏振片相比，均呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。特別是在實施例3-5中，可知能夠兼備最高的亮度和最高的顯示品質。將得到的樣品用于面光源(3)的評價結果如表8所示。可知與以往的碘型偏振片相比，均呈現高的亮度提高效果，并且沒有外部光的照入，可良好地進行黑色顯示。特別是在實施例3-6中，可知能夠兼備最高的亮度和最高的顯示品質。(比較例1-1)除了不形成線狀黑色層以外，采用與實施例1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層的形態為圖2(h)所示的形態，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知雖然得到了亮度提高效果，但在黑色顯示時強烈感到白色，顯示不鮮明。(比較例1-2)除了不形成線狀金屬層以外，采用與實施例1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層的形態為圖2(b)所示的形態，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示，可知得不到亮度提高效果，并且對比度低，在黑色顯示時發生漏光，顯示不鮮明。(比較例1-3)除了不形成線狀黑色層以外，采用與實施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層的形態為圖9(j)所示的形態，108為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知雖然得到了亮度提高效果，但在黑色顯示時強烈感到白色，顯示不鮮明。(比較例1-4)除了不形成線狀金屬層以外，采用與實施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀黑色層的形態為圖9(e)所示的形態，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表3所示。可知得不到亮度提高效果，并且對比度低，在黑色顯示時發生漏光，顯示不鮮明。(比較例2-1)除了不形成透明層以外，采用與實施例2-l同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層的形態為圖12U)所示的形態，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知雖然得到了亮度提高效果，但在黑色顯示時強烈感到白色，顯示不鮮明。(比較例2-2)除了不形成線狀金屬層以外，釆用與實施例2-l同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，透明層的形態為圖26(e)所示的形態，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。沒有作為偏振片發揮功能，不能進行顯示。(比較例2-3)除了不形成透明層以外，采用與實施例2-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，線狀金屬層的形態為圖15(f)所示的形態，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。可知雖然得到了亮度提高效果，但在黑色顯示時強烈感到白色，顯示不鮮明。(比較例2-4)除了不形成線狀金屬層以外，采用與實施例2-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態，透明層的形態為圖28(f)所示的形態，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評價結果如表6所示。沒有作為偏振片發揮功能，不能進行顯示。表1是表示實施例1-1~1-5的線狀黑色層和線狀金屬層的形狀、比較例1-1的線狀金屬層和比較例1-2的線狀黑色層的形狀的表。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage110</column></row><table>表2是表示在基材表面形成了凹凸結構的實施例1-6~1-13、比較例1-3、1-4的凹凸結構的形狀、實施例1-6~1-13的線狀黑色層和線狀金屬層的形狀、比較例1-3的線狀金屬層、和比較例1-4的線狀黑色層的形狀的表。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage111</column></row><table>表3是表示評價實施例1-1~1-13、比較例1-1~1-4的偏振片的從A面側入射光時的總光線透射率和總光線絕對反射率、偏振光度、從B面側入射光時的總光線透射率和總光線絕對反射率、亮度提高率、對比度、外部光的反射的結果的表。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage113</column></row><table>光線透射率(評價S以及A)、總光線絕對反射率(評價S、A、B)優異。該結果可知是亮度提高率優異的偏振片。另外可知從B面入射光時的總光線透射率優異(評價S以及A)、總光線絕對反射率低(評價S、A、B)。該結果可知對比度優異(評價S、A、B)、外部光的反射少(評價S、A、B)。由此可知，實施例1-1~1-13的偏振片可進行高亮度和黑色顯示。另一方面可知，沒有形成線狀黑色層的比較例1-1、l-3的偏振片，從B面入射光時的總光線絕對反射率(評價D)高。由此可知，比較例l-l、l-3的偏振片將外部光反射(評價C),不能進行黑色顯示。另外，比較例1-1、1-3的亮度提高率、對比度良好(評價比較例1-1:均為S、比較例1-3:均為B)另外可知，沒有形成線狀金屬層的比較例1-2、l-4的偏振片，從A面入射光時的總光線絕對反射率低(評價D)。由此可知，比較例l-2、1-4的偏振片，將入射光吸收，亮度提高率、對比度差(評價均為D)。表4是表示實施例2-1~2-5的線狀黑色層和線狀金屬層的形狀、比較例2-1的線狀金屬層和比較例2-2的線狀黑色層的形狀的表。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage114</column></row><table>表5是表示在基材表面形成了凹凸結構的實施例2-5~1-12、比較例2-3、2-4的凹凸結構的形狀、實施例2-5~2-12的線狀黑色層和線狀金屬層的形狀、比較例2-3的線狀金屬層以及比較例2-4的線狀黑色層的形狀的表。<table>tableseeoriginaldocumentpage116</column></row><table>表6是表示評價實施例2-1~2-12、比較例2-1~2-4的偏振片的從A面側入射光時的總光線透射率和總光線絕對反射率、偏振光度、從B面側入射光時的總光線透射率和總光線絕對反射率、亮度提高率、對比度、外部光的反射的結果的表。表6<table>tableseeoriginaldocumentpage118</column></row><table>從表6來看，形成了透明層的實施例2-1~1-2-12的偏振片，從A面入射光時的總光線透射率(評價S、A)、總光線絕對反射率(評價S、A)優異。該結果可知是亮度提高率優異(評價S、A、B)的偏振片。另外可知，從B面入射光時的總光線透射率優異(評價S、A)，總光線絕對反射率低(評價S、A、B)。該結果可知對比度優異(評價S、A、B),外部光的反射少(評價S、A、B)。由此可知實施例2-1~2-12的偏振片能夠進行高亮度和黑色顯示。另一方面可知，沒有形成透明層的比較例2-l、2-3的偏振片，從B面入射光時的總光線絕對反射率高(評價D)。由此可知，比較例2-l、2-3的偏振片將外部光反射(評價C),不能進行黑色顯示。另一方面可知，由于在A面側形成了線狀金屬層，因此亮度提高率(評價S、B)、對比度(評價S、B)優異。另外可知，沒有形成線狀金屬層的比較例2-2、2-4的偏振片，從A面入射光時的總光線絕對反射率低(評價D)。由此可知，比較例2-2、2-4的偏振片，將入射光吸收，亮度提高率(評價D)、對比度差(評價D)。表7是表示實施例1-13、3-1~3-3、2-12、3-4~3-6的偏振片的特性評價的結果的表。<table>tableseeoriginaldocumentpage120</column></row><table>由表7可知，在沒有形成線狀金屬層、線狀黑色層的面上設有光擴散層的實施例3-1~3-6的偏振片，具有與沒有設置光擴散層的實施例1-3、2-13同等的總光線透射率、總光線相對反射率、偏振光度、總光線透射率、總光線絕對反射率。表8是表示使用了實施例1-13、3-1~3-3、2-12、3-4~3-6的偏振片的液晶顯示裝置的特性評價的結果的表。<table>tableseeoriginaldocumentpage122</column></row><table>由表8可知，使用了沒有設置光擴散層的實施例1-3、2-13的液晶顯示裝置，可辨認出干擾條紋、閃爍等，顯示品質降低(評價C)。另一方面，使用了濁度為47%的實施例3-2、3-5、濁度為80%的實施例3-3、3-6的液晶顯示裝置，顯示品質提高(評價B)。另外，由實施例3-1~3-3、實施例3-4~3-6可知，濁度值越增加，顯示品質越提高。產業上的利用可能性本發明的偏振片適合作為在各種顯示裝置中提高液晶顯示裝置的亮度的光學構件。另外，安裝有本發明的偏振片的液晶顯示裝置，可制成與以往的液晶顯示裝置相比亮度更高的液晶顯示裝置，可很好地用于便攜式電話、電子記事本、筆記本PC、監視器、TV、各種顯示介質等中。本發明中表示數值范圍的"以上，，和"以下，，均包括本數。權利要求1、一種偏振片，是具有基材、以設定的間隔配置的多個線狀的金屬層、和以設定的間隔配置的多個線狀的黑色層的偏振片，所述多個線狀的金屬層和所述多個線狀的黑色層之中的至少任一方的層設置于所述基材上。2、根據權利要求1所述的偏振片，所述線狀的黑色層其膜厚h2為1~200nm，寬度w21為20~380nm，相鄰的黑色層間的間距p2為50~400nm。3、根據權利要求1或2所述的偏振片，所述線狀的金屬層和所述線狀的黑色層形成于基材的同一面上。4、根據權利要求3所述的偏振片，所述線狀的金屬層和所述線狀的黑色層接觸。5、根據權利要求3或4所述的偏振片，具有形成于所述基材上的所述線狀的金屬層、和形成于該線狀的金屬層上的所述線狀的黑色層。6、根據權利要求3或4所述的偏振片，具有形成于所述基材上的所述線狀的黑色層、和形成于該線狀的黑色層上的所述線狀的金屬層。7、根據權利要求1~6的任一項所述的偏振片，所述基材在至少一個的表面上具有平4亍的線狀的凹凸結構，在所述線狀的凹凸結構的凸部上，設置有所述線狀的金屬層和/或所述線狀的黑色層。8、一種液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，所述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面側的偏振片(A)和面光源側的偏振片(B)，所述偏振片(B)是權利要求1~7的任一項所述的偏振片，并且該偏振片以滿足下述(i)~(iii)的條件的方式設置，(i)在所迷線狀的金屬層和所述線狀的黑色層形成于基材的不同的面上的偏振片中，i殳置有所述線狀的金屬層的面與面光源相對；(ii)在所述線狀的金屬層和所述線狀的黑色層形成于基材的同一面上的偏振片中，相比于與基材面平行的所述線狀的金屬層和所迷線狀的黑色層的界面，所述線狀的金屬層位于更接近于面光源的側；(iii)在與所述(i)或(ii)的任一情況均不符合的情況下，所述偏振片兩面之中的反射率更高的面與面光源相對。9、一種偏振片，具有基材；在所述基材表面以設定的間隔排列的多個線狀的金屬層；和與所述線狀的金屬層接觸，并將所述多個線狀的金屬層被覆的透明層。10、根據權利要求9所述的偏振片，所述透明層的膜厚h2為1~200nm。11、根據權利要求9或10所迷的偏振片，所述透明層只被覆所述金屬層的上部。12、根據權利要求9~11的任一項所迷的偏振片，所述基材在至少一個的表面上具有平行的線狀的凹凸結構，在所述線狀的凹凸結構的凸部上設置有所述線狀的金屬層。13、一種液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，所述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面側的偏振片(A)和面光源側的偏振片(B),所述偏振片(B)是權利要求9~12的任一項所述的偏振片，并且該偏振片以滿足下述(i)或(ii)的條件的方式設置，(i)相比于與所述基材面平行的所述線狀的金屬層和所迷透明層的界面，所述線狀的金屬層配置于更接近于面光源的側；(ii)在與所述(i)不符合的情況下，所述偏振片兩面之中的反射率更高的面與面光源相對。14、一種偏振片，從一面(A面)側入射光時的總光線透射率為30~50%,總光線絕對反射率或總光線相對反射率的至少一方為30~50%,透射光的偏振光度為99%以上，從另一面(B面)側入射光時的總光線透射率為30~50%,總光線絕對反射率為0~30%。15、根據權利要求14所述的偏振片，偏振片的總膜厚為150fim。16、根據權利要求14或15所述的偏振片，至少為線柵型。17、一種液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，所述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面側的偏振片(A)和面光源側的偏振片(B)，所述偏振片(B)是權利要求14~16的任一項所述的偏振片，并且配置成所迷A面與面光源相對。全文摘要本發明是具有基材、隔開間隔而形成的多個線狀的金屬層、隔開間隔而形成的多個線狀的黑色層的振片。根據本發明，能夠提供可與構成液晶盒的2片偏振片之中的至少一個偏振片置換，并且能夠以高亮度進行鮮明的顯示的偏振片、以及使用該偏振片呈現較高的亮度提高效果的液晶顯示裝置。文檔編號G02B5/30GK101622557SQ20088000652公開日2010年1月6日申請日期2008年1月11日優先權日2007年1月12日發明者坂本桂太郎,島津綾子,青山滋,高橋宏光,高橋弘造申請人:東麗株式會社