專利名稱：取向膜摩擦工藝及設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及液晶顯示器件的加工工藝和設備，尤其涉及在制備液晶顯示器件過程
中對已涂敷好的薄膜進行摩擦的工藝，以及摩擦工藝所采用的設備。
背景技術：
液晶顯示器件的工作原理為通過改變施加在液晶上的電壓改變液晶分子的偏轉 角度，從而控制偏振光旋轉方向和偏振狀態，進而控制偏振光能夠透過偏振片或者不能透 過偏振片，以實現液晶顯示器件顯示狀態的改變。例如TFT(Thin Film Transistor,薄膜 場效應晶體管)液晶顯示面板主要包括彩色濾光片基板(CF)、TFT陣列基板、以及滴注在彩 色濾光片基板和TFT陣列基板之間的液晶，在通過TFT陣列基板上的TFT電路施加電壓后， 所述液晶分子發生偏轉，從而控制偏振光的旋轉方向與偏振狀態。 在一般情況下，液晶分子長軸方向的排列是隨機取向且分布是雜亂無章的，為了 使大部分液晶分子的長軸方向能夠沿著一個方向排列，需要在兩個基板上形成取向膜，該 取向膜上形成具有一定方向性的溝痕，使得液晶分子的長軸方向能夠沿著溝痕的方向有規 律地排列。對于TFT液晶顯示面板而言，需要在彩色濾光片基板和TFT陣列基板上形成取 向膜。 取向膜的形成包括涂敷工藝和摩擦工藝其中涂敷工藝是在清洗后的基板上通過 旋轉涂敷和印制方式制出用于形成取向膜的薄膜，其中薄膜的材料為聚酰亞胺；摩擦工藝 是對制出的薄膜進行摩擦取向。 現有技術中摩擦工藝為在圓輥上纏有布滿細小絨毛的摩擦布形成一個摩擦輥， 通過摩擦輥與涂敷有薄膜的基板之間的相對運動，使得摩擦輥上的絨毛對薄膜表面進行摩 擦，從而在薄膜上形成了具有一定方向的溝痕，這種具有溝痕的薄膜可稱為取向膜。
在實現上述摩擦工藝的過程中，發明人發現現有技術中至少存在如下問題
隨著液晶顯示器件基板的尺寸不斷增大，由于基板的尺寸較大，使得摩擦輥與基 板之間相對運動距離較長，這樣可能導致摩擦過程中，摩擦輥相對于基板的運動角度發生 變化，造成取向膜溝痕方向的均勻性難以保證；同時，由于摩擦輥運動的距離變長了，在不 改變摩擦輥相對于基板的運動速度的情況下，需要加長摩擦工藝的時間，造成了生產效率 的降低。
發明內容
本發明的實施例提供一種取向膜摩擦工藝及設備，以保證取向膜溝痕方向的均勻 性，并提高生產效率。 為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案
—種取向膜摩擦工藝，包括 在固定裝置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承載裝置上承載摩擦 布，所述基板與摩擦布表面之間為平行相對的狀態；
4
該工藝還包括 (1)在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對運動； (2)在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸； (3)分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。 —種取向膜摩擦設備，包括 承載裝置，用于承載摩擦布； 固定裝置，用于固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板與摩擦布表 面之間為平行相對的狀態； 動力系統，用于在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對運
動；該動力系統還用于在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸，并分離所述 薄膜與所述摩擦布的平整表面。 本發明實施例提供的取向膜摩擦工藝及設備，在進行摩擦時，基板上的薄膜與摩 擦布之間是面接觸，并且摩擦布的表面是平整的，這樣基板上的薄膜就可以一次性地被摩 擦出溝痕來，進而形成取向膜。這種薄膜與摩擦布之間采用面接觸的方式，可以確保在進行 摩擦的瞬間，基板上的薄膜所承受的摩擦的相對運動方向和速度是相同的；而上述摩擦布 的平整表面能夠保證薄膜的摩擦深度是相同的。由于在本發明實施例提供的摩擦工藝和設 備中，進行摩擦的相對運動方向和速度相同，并且摩擦深度相同，能夠較好地保證最后摩擦 出的溝痕方向和深度的均勻性。 同時，由于本發明實施例提供的取向膜摩擦工藝及設備，能夠在摩擦布和薄膜的 一次接觸中完成整個基板上薄膜的摩擦，相對于現有技術中需要摩擦輥運動較長的距離才 能完成一次摩擦而言，本發明實施例具有更高的摩擦效率，從而提高了生產效率。
為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現 有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本 發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可 以根據這些附圖獲得其他的附圖。 圖1為本發明實施例1中取向膜摩擦工藝的流程圖；
圖2為本發明實施例1中取向膜摩擦設備的原理圖；
圖3為本發明實施例1中調整裝置的截面圖；
圖4為本發明實施例2中取向膜摩擦工藝的流程圖；
圖5為本發明實施例2中取向膜摩擦設備的原理圖；
圖6為本發明實施例2中取向膜摩擦設備的動力原理圖；
圖7為本發明實施例2中另一種取向膜摩擦設備的原理圖。
具體實施例方式
本發明提供一種取向膜摩擦工藝，在摩擦布與薄膜發生摩擦之前，需要在承載裝 置上承載摩擦布，并且要將涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板固定成其薄膜與摩擦布表 面平行相對的狀態；在具體生產過程中，先要在摩擦布和基板之間形成沿基板表面方向的摩擦布的平整表面接觸后分 離薄膜和摩擦布的平整表面。 —般來說，上述移動薄膜與摩擦布的平整表面的接觸、以及分離薄膜和摩擦布的 平整表面都是一個迅速移動的過程。 本發明提供一種取向膜摩擦設備，該設備包括承載裝置、固定裝置和動力系統。
所述的承載裝置用于承載摩擦布，并且在摩擦布與薄膜發生摩擦之前，將摩擦布在承載裝
置上要形成表面平整的狀態，并且通過固定裝置將涂敷有薄膜的基板固定成其薄膜與摩擦
布的表面平行相對的狀態；在具體生產過程中，通過動力系統在摩擦布和基板之間形成沿
基板表面方向相對運動，然后通過動力系統讓薄膜與摩擦布的平整表面相接觸，在薄膜與
摩擦布的平整表面接觸后，通過動力系統分離薄膜和摩擦布的平整表面。 上述動力系統完成薄膜與摩擦布的平整表面相接觸、以及分離薄膜和摩擦布的平
整表面都是一個迅速移動的過程，使得摩擦布的平整表面與薄膜的接觸控制在一個較短的
時間范圍內。 下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于 本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他 實施例，都屬于本發明保護的范圍。
實施例1 : 本實施例中承載摩擦布的為第二基臺，并通過設有真空吸附結構的第一基臺將涂
敷有薄膜的基板固定好。如圖l所示，本發明實施例的取向膜摩擦工藝包括 101、將一整張摩擦布貼附在第二基臺的臺面上，并且貼附后的摩擦布表面是平整
的，形成了摩擦布的平整表面；由于第一基臺上設有真空吸附結構，所以可以通過真空吸附
的方式將涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板固定到第一基臺的臺面上，該第一基臺的臺
面與所述摩擦布表面平行相對，這樣就可以使得所述基板的薄膜與摩擦布表面處于平行相
對的狀態。 102、在實際進行摩擦工藝時通過預先設定第二基臺與第一基臺相對運動方向來 決定基板和摩擦布之間的相對運動方向，為了得到溝痕方向不同的取向膜，本實施例中還 需要調整所述基板的側邊與所述相對運動方向的夾角，一般通過調整第一基臺的角度即可 實現上述夾角的調整。 如果在一次摩擦工藝中，所要求的取向膜溝痕方向是與當前第一基臺角度相應 的，則可以不用調整基板的側邊與所述相對運動運動方向的夾角，就可以省去102過程。
103、并通過驅動所述第二基臺沿著基板表面的方向運動，以帶動所述摩擦布運 動，從而使得表面平整的摩擦布沿著基板表面的方向運動，以形成基板和摩擦布之間的相 對運動。 —般而言，上述運動的應該是一個勻速直線運動，以確保后續摩擦中得到均勻性 較好取向膜，并且該勻速直線運動的速率可以取8m/s左右。 104、為了提高摩擦質量，摩擦布的面積需要大于基板上薄膜的面積，當第二基臺 運動到摩擦布能夠完全覆蓋基板上的薄膜的位置時，迅速移動第一基臺，使得第一基臺上 移從而使所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸。
105、在薄膜與摩擦布的平整表面接觸后，再次迅速移動第一基臺，分離所述薄膜 與所述摩擦布的平整表面。 在實際加工時，也可以先驅動第一基臺沿著基板表面的方向運動，從而使得基板 沿著基板表面的方向運動，以形成基板和摩擦布之間的相對運動；然后當第一基臺運動到 摩擦布能夠完全覆蓋基板上的薄膜的位置時，迅速移動第二基臺，使得第二基臺上的摩擦 布移動到所述摩擦布的平整表面與所述薄膜接觸的狀態；并且在薄膜與摩擦布的平整表面 接觸后，再次迅速移動第二基臺，分離所述摩擦布的平整表面與所述薄膜。
對應于上述取向膜摩擦工藝，本發明實施例還提供一種取向膜摩擦設備，如圖2 所示，該設備包括實現固定裝置功能的第一基臺21、調整裝置22、完成動力系統功能的第 一動力裝置23和第二動力裝置24、以及實現承載裝置功能的第二基臺25，本實施例提供的 取向膜摩擦設備使用方式如下 在按照摩擦工藝進行加工時，先要將一整張摩擦布1貼附在第二基臺25的臺面 上，并且貼附后的摩擦布1表面是平整的，得到摩擦布的平整表面，然后通過實現固定裝置 功能的第一基臺21固定涂敷有薄膜的基板2，并且該第一基臺的臺面與所述摩擦布的平整 表面平行相對，以保證薄膜與摩擦布的平整表面平行相對。本實施例中第一基臺21上可以 設置真空吸附結構，然后通過真空吸附的方式將所述涂敷有薄膜的基板2固定到第一基臺 21的臺面上。 為了得到溝痕方向不同的取向膜，本實施例中還需要調整所述基板2的側邊與所 述摩擦布1和基板之間相對運動方向的夾角，一般通過調整第一基臺21的角度即可實現上 述夾角的調整，本實施例中的調整裝置22就是用于調整所述基板的側邊與所述摩擦布運 動方向的夾角，并且調整裝置22是通過調整第一基臺的角度即可實現上述夾角調整的。具 體實現時，可以將支撐第一基臺21的支架設計成可旋轉的，所述調整裝置22的功能就可以 通過支架的旋轉結構來完成。 本實施例中的調整裝置22安裝在第二運動裝置中的連桿243上，并且調整裝置通 過一個圓柱桿實現，該圓柱桿與連桿243之間采用軸向連接的方式，具體如圖3所示，在實 現調整裝置22功能的圓柱桿31上設有一個固定孔32，并在連桿243上設有多個定位孔33， 定位孔32和固定孔33之間采用固定銷34連接，通過定位銷34穿過連桿243上不同的定 位孔33來改變圓柱桿31的旋轉角度，這樣就能改變固定在圓柱桿31上的第一基臺21的 旋轉角度，實現調整基板2的側邊與所述摩擦布1運動方向的夾角。 在做好上述準備工作以后，利用所述的第一動力裝置23驅動表面平整的摩擦布 沿著基板表面的方向運動，以形成摩擦布表面與基板之間的相對運動。由于本實施例中的 摩擦布貼附在第二基臺25的臺面上，所以，所述第一動力裝置23可以通過驅動所述第二基 臺25運動帶動所述摩擦布運動。當第二基臺運動到摩擦布能夠完全覆蓋基板上的薄膜的 位置時，通過第二動力裝置24迅速移動第一基臺21 ，使得第一基臺21上的基板移動到所述 薄膜與所述摩擦布的平整表面接觸的狀態。在薄膜與摩擦布接觸后，再次通過第二動力裝 置24迅速移動第一基臺，以便分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。
本發明實施例并不限定第一基臺和第二基臺具體的相對位置，一般而言，其相對 位置包括但不限于如下兩種第一基臺在上方、第二基臺在下方；或者第一基臺在下方、第 二基臺在上方。
如圖2所示本發明實施例中所采用的第一動力裝置23具體可以為但不限定于如下實現方式由電機231提供動力源，然后通過絲杠232將電機的圓周運動轉化成直線運動，將需要被驅動的第二基臺以螺紋方式通過連桿233連接到絲杠232，如此一來，電機231帶動絲杠232轉動時，絲杠232的轉動使得第二基臺沿著絲杠122做直線運動，完成上述實施例中第二基臺所需要的運動方式。 本發明實施例中所采用的第二動力裝置24都可以采用實現直線運動的設備，具體可以為但不限定于如下實現方式由電機241提供動力源，然后通過絲杠242將電機的圓周運動轉化成直線運動，將需要被驅動的第一基臺以螺紋方式通過連桿243連接到絲杠242，如此一來，電機帶動絲杠242轉動時，絲杠242的轉動使得第一基臺沿著絲杠做直線運動，完成上述實施例中第一基臺所需要的運動方式。 上述實現方式中均可以通過電機的正轉和反轉來改變第一基臺和第二基臺的運動方向。 本發明實施例提供的取向膜摩擦工藝及設備，在進行摩擦時，薄膜與摩擦布之間
采用面接觸的方式，可以確保在進行摩擦的瞬間，基板上的薄膜所承受的摩擦的相對運動
方向和速度是相同的；并且上述摩擦布的平整表面能夠保證薄膜的摩擦深度是相同的。由
于在本發明實施例提供的摩擦工藝和設備中，進行摩擦的相對運動方向和速度相同，并且
摩擦深度相同，能夠較好地保證最后摩擦出的溝痕方向和深度的均勻性。 除了保證取向膜的溝痕方向和深度的均勻性外，本發明實施例提供的取向膜摩擦
工藝及設備相對于現有技術還具有如下效果 第一、由于本發明實施例提供的取向膜摩擦工藝及設備，能夠在摩擦布和薄膜的一次接觸中完成整個基板上薄膜的摩擦，相對于現有技術中需要摩擦輥運動較長的距離才能完成一次整個基板上薄膜的摩擦而言，本發明實施例具有更高的摩擦效率，從而提高了生產效率。 第二、按照現有技術的摩擦工藝進行取向膜的摩擦時，根據不同的需要調節如下參數摩擦次數、摩擦深度、摩擦輥轉速、摩擦輥半徑和基板相對于摩擦輥軸心的移動速度；采用本發明提供的取向膜摩擦工藝和設備進行取向膜的摩擦時，需要調節如下參數摩擦次數、摩擦深度、摩擦布的運動速度；故而本發明需要調節的參數相對于現有技術要少，使得摩擦工藝的調節較為簡單。 第三、如果采用現有技術中的摩擦輥，在對較大尺寸基板的進行摩擦工藝時，每完
成一次摩擦，摩擦輥上的摩擦布需要與薄膜有多次接觸，造成摩擦布損耗較大，而本發明實
施例中的取向膜摩擦工藝和設備，每完成一次摩擦，摩擦布只需與薄膜接觸一次，減少了摩
擦布的損耗，這樣也可以減少更換摩擦布的次數，進一步減少摩擦工藝的調節時間。 作為一種可變換的實現方式，本發明實施例中取向膜摩擦設備中的動力系統還可
以通過第三動力裝置和第四動力裝置實現，取代現有的第一動力裝置和第二動力裝置。
具體的摩擦工藝為在第二基臺上貼附表面平整摩擦布；在第一基臺上固定涂敷
有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板與摩擦布表面之間為平行相對的狀態；然后通
過調整裝置調整所述基板的側邊與摩擦布和基板之間相對運動方向的夾角。在完成這些準
備工作以后，通過第三動力裝置驅動所述第一基臺使得基板沿基板表面的方向運動；當第
二基臺運動到摩擦布能夠完全覆蓋基板上的薄膜的位置時，通過第四動力裝置移動所述第
8二基臺使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸，在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸后，通過第四動力裝置移動所述第二基臺以分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。其中，第三動力裝置可以參考第二動力裝置的實現方式，第四動力裝置可以參考第一動力裝置的實現方式。 顯而易見的，為了現實工藝的需要，可以將第一動力裝置和第四動力裝置都和承載裝置相連，將第二動力裝置和第三動力裝置都和固定裝置相連，根據實際需要選擇動力裝置。
實施例2 : 由于本實施例主要采用了帶傳動的方式來實現摩擦工藝，為了有助于理解本實施例的技術方案，先簡單介紹一下帶傳動。帶傳動的系統由至少兩個帶輪(相當于下述實施例中的轉輥)和緊套在帶輪上的環形傳動帶組成，其中一個帶輪為主動輪(即動力施加在該帶輪上)，位于主動輪運動方向的相反方向的傳動帶的一邊被稱為緊邊(下述實施例中稱為繃緊平整邊)，實施例中提到的摩擦布的平整面為繃緊平整邊；位于主動輪運動方向的相同方向的傳動帶的一邊被稱為松邊。 本發明實施例提供一種取向膜摩擦工藝，如圖4所示，該工藝包括 401、將一整張摩擦布繞在兩個轉輥上，，本實施例中轉輥的直徑可以取為130mm ;
通過第一基臺上真空吸附結構將涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板固定到第一基臺的
臺面上，該第一基臺的臺面與摩擦布表面平行相對，這樣就可以使得所述基板的薄膜與摩
擦布表面處于平行相對的狀態。本過程中提到的摩擦布表面是指和基板平行的上下表面。 402、為了得到溝痕方向不同的取向膜，本實施例中還需要調整所述基板的側邊與
摩擦布的平整面與基板的相對運動方向的夾角，一般通過調整第一基臺的角度即可實現上
述夾角的調整。 如果在一次摩擦工藝中，所要求的取向膜溝痕方向是與當前第一基臺角度相應的，則可以不用調整基板的側邊與所述繃緊平整邊摩擦布運動方向的夾角，就可以省去402過程。 本過程中繃緊平整邊摩擦布的運動方向為沿著基板表面的方向。 403、并通過驅動其中一個轉輥轉動以帶動所述摩擦布運動，從而使得繃緊平整邊
的摩擦布沿著基板表面的方向運動，在轉輥轉動起來后，摩擦布的繃緊平整邊就是一個平
整表面，形成了摩擦布的平整表面。 —般而言，上述繃緊平整邊的摩擦布的運動是勻速直線運動，以確保后續摩擦中得到均勻性較好取向膜。在本實施例中通過驅動轉輥以iooo轉每分鐘的速率勻速轉動，即可實現繃緊平整邊的摩擦布的勻速直線運動。 404、迅速移動第一基臺，使得第一基臺上的基板移動到所述薄膜與所述繃緊平整邊的摩擦布面接觸的狀態。 405、在薄膜與摩擦布接觸后，再次迅速移動第一基臺，使得第一基臺上的基板移動到所述薄膜與所述繃緊平整邊的摩擦布分開的狀態。 對應于上述取向膜摩擦工藝，本發明實施例還提供一種取向膜摩擦設備，如圖5和圖6所示，該設備包括實現固定裝置功能的第一基臺41、調整裝置42、實現動力系統功能的第一動力裝置43和第二動力裝置44、以及用于完成承載裝置功能的兩個轉輥45，本實
9施例提供的取向膜摩擦設備使用方式如下 在按照摩擦工藝進行加工時，先要將一整張摩擦布3繞在兩個轉輥45上，然后通過第一基臺41上的真空吸附結構在所述第一基臺41固定涂敷有薄膜的基板4，并且在預先設定了主動轉輥以及轉動方向后，可以得知轉輥轉動起來后摩擦布的繃緊平整邊，所以本實施例中基板的薄膜需要與摩擦布3的繃緊平整邊的表面平行相對。 為了得到溝痕方向不同的取向膜，本實施例中還需要調整所述基板的側邊與所述摩擦布3運動方向的夾角，一般通過調整第一基臺的角度即可實現上述夾角的調整，本實施例中的調整裝置42就是用于調整所述基板的側邊與所述摩擦布繃緊平整邊和基板相對運動方向的夾角，并且調整裝置42是通過調整第一基臺的角度即可實現上述夾角調整的。具體實現時，可以采用實施例1中圖3所表示的方式實現調整裝置42。
在做好上述準備工作以后，利用所述的第一動力裝置43驅動表面平整的摩擦布沿著基板表面的方向運動，由于本實施例中的摩擦布繞在兩個轉輥45上，所以，所述第一動力裝置43還可以通過驅動其中一個轉輥轉動以帶動所述摩擦布運動，從而使得繃緊平整邊的摩擦布沿著基板表面的方向運動。所述第二動力裝置44用于迅速移動第一基臺，使得第一基臺上的基板移動到所述薄膜與所述繃緊平整邊的摩擦布表面接觸的狀態。在薄膜與摩擦布接觸后，再次通過第二動力裝置44迅速移動第一基臺，使得第一基臺上的基板移動到所述薄膜與所述繃緊平整邊的摩擦布表面分開的狀態。 本發明實施例并不限定第一基臺和繃緊平整邊摩擦布具體的相對位置，一般而言，其相對位置包括但不限于如下兩種第一基臺在上方、繃緊平整邊摩擦布在下方；或者第一基臺在下方、繃緊平整邊摩擦布在上方。 為了使得與取向膜相對的繃緊平整邊的摩擦布表面更加平整，本實施例取向膜摩擦設備還包括抵觸板46，如圖5所示，該抵觸板46設置在在所述摩擦布的繃緊平整邊和松邊之間，并且該抵觸板46與所述摩擦布的繃緊平整邊相抵觸。這個抵觸板46可以只是與繃緊平整邊相抵觸，也可以同時與繃緊平整邊和松邊都相抵觸。 為了使得與取向膜相對的繃緊平整邊的摩擦布表面更加平整，本實施例還可以采
用另外的實現方式，如圖7所示，在所述摩擦布的繃緊平整邊和松邊之間還設置有至少一
個轉輥47，通過這些轉輥47來撐起繃緊平整邊的摩擦布，使其更加平整。 本實施例中的第一動力裝置43的可以采用但不限于如下實現方式通過電機轉
動直接帶動轉輥45的轉動，轉輥45的轉動可以直接形成摩擦布局部的直線運動。 本實施例中的第二動力裝置44的可以采用但不限于如下實現方式由電機441提
供動力源，然后通過絲杠442將電機441的圓周運動轉化成直線運動，將需要被驅動的第一
基臺以螺紋方式通過連桿443連接到絲杠，如此一來，電機帶動絲杠轉動時，絲杠的轉動使
得第一基臺沿著絲杠做直線運動，完成本實施例中第一基臺運動方式。 本發明實施例提供的取向膜摩擦工藝及設備，在進行摩擦時，薄膜與摩擦布之間
采用面接觸的方式，可以確保在進行摩擦的瞬間，基板上的薄膜所承受的摩擦的相對運動
方向和速度是相同的；并且上述摩擦布的平整表面能夠保證薄膜的摩擦深度是相同的，這
樣能夠較好地保證最后摩擦出的溝痕方向和深度的均勻性。 除了保證取向膜的溝痕方向和深度的均勻性外，本發明實施例提供的取向膜摩擦工藝及設備相對于現有技術還具有如下效果
第一、由于本發明實施例提供的取向膜摩擦工藝及設備，在摩擦布和薄膜的一次接觸中完成整個基板上薄膜的摩擦，相對于現有技術中需要摩擦輥運動較長的距離才能完成一次整個基板上薄膜的摩擦而言，本發明實施例具有更高的摩擦效率，從而提高了生產效率。 第二、按照現有技術的摩擦工藝進行取向膜的摩擦時，根據不同的需要調節如下參數摩擦次數、摩擦深度、摩擦輥轉速、摩擦輥半徑和基板相對于摩擦輥軸心的移動速度；采用本發明提供的取向膜摩擦工藝和設備進行取向膜的摩擦時，需要調節如下參數摩擦次數、摩擦深度、摩擦布的運動速度(即轉輥的轉動速率)；故而本發明需要調節的參數相對于現有技術要少，使得摩擦工藝的調節較為簡單。 第三、如果采用現有技術中的摩擦輥，在對較大尺寸基板的進行摩擦工藝時，每完
成一次摩擦，摩擦輥上的摩擦布需要與薄膜有多次接觸，造成摩擦布損耗較大，而本發明實
施例中的取向膜摩擦工藝和設備，每完成一次摩擦，摩擦布只需與薄膜接觸一次，減少了摩
擦布的損耗，這樣也可以減少更換摩擦布的次數，進一步減少摩擦工藝的調節時間。 本發明實施例主要用于在液晶顯示器件加工過程中，對薄膜進行摩擦得到取向膜
的工藝中，例如在彩色濾光片基板和TFT陣列基板形成取向膜的工藝。 以上所述，僅為本發明的具體實施方式
，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。因此，本發明的保護范圍應所述以權利要求的保護范圍為準。
權利要求
一種取向膜摩擦工藝，其特征在于，包括在固定裝置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承載裝置上承載摩擦布，所述基板與摩擦布表面之間為平行相對的狀態；該工藝還包括(1)在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對運動；(2)在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸；(3)分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。
2. 根據權利要求1所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，在(2)之前，該工藝還包括 調整所述基板的側邊與所述相對運動方向的夾角。
3. 根據權利要求l所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，所述(1)為驅動所述承載裝置使得摩擦布沿基板表面的方向運動；所述(2)為移動所述固定裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸；所述(3)為移動所述固定裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相分離；或者所述(1)為驅動所述固定裝置使得基板沿基板表面的方向運動；所述(2)為移動所述承載裝置使得所述摩擦布的平整表面與所述薄膜相接觸；所述(3)為移動所述承載裝置使得所述摩擦布的平整表面與所述薄膜相分離。
4. 根據權利要求1所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，所述在固定裝置上固定涂敷 有用于形成取向膜的薄膜的基板為在設有真空吸附結構的第一基臺上固定涂敷有用于形 成取向膜的薄膜的基板。
5. 根據權利要求1所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，在承載裝置上承載摩擦布為 在第二基臺的臺面上貼附表面平整的摩擦布。
6. 根據權利要求1所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，在承載裝置上承載摩擦布為 在兩個轉輥上纏繞摩擦布；所述(1)為驅動其中一個轉輥轉動帶動所述摩擦布運動使得 摩擦布形成繃緊平整邊和松邊，所述摩擦布的平整表面為所述繃緊平整邊。
7. 根據權利要求6所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，該工藝還包括在所述繃緊平 整邊和松邊之間設置抵觸板，并且所述抵觸板抵觸到所述繃緊平整邊。
8. 根據權利要求6所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，該工藝還包括在所述繃緊平 整邊和松邊之間還設置至少一個轉輥，并且所述至少一個轉輥抵觸到所述繃緊平整邊和松 邊。
9. 一種取向膜摩擦設備，其特征在于，包括 承載裝置，用于承載摩擦布；固定裝置，用于固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板與摩擦布表面之 間為平行相對的狀態；動力系統，用于在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對運動；該 動力系統還用于在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸，并分離所述薄膜與 所述摩擦布的平整表面。
10. 根據權利要求9所述的取向膜摩擦設備，其特征在于，該設備還包括 調整裝置，用于調整所述基板的側邊與所述相對運動方向的夾角。
11. 根據權利要求9所述的取向膜摩擦設備，其特征在于，所述動力系統包括第一動力裝置，用于驅動所述承載裝置使得摩擦布沿基板表面的方向運動；第二動力 裝置，用于移動所述固定裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸；該第二動力 裝置還用于移動所述固定裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相分離；或者 第三動力裝置，用于驅動所述固定裝置使得基板沿基板表面的方向運動； 第四動力裝置，用于移動所述承載裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接 觸；該第四動力裝置還用于移動所述承載裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相分 離。
12. 根據權利要求9所述的取向膜摩擦設備，其特征在于，所述固定裝置為設有真空吸 附結構的第一基臺。
13. 根據權利要求9所述的取向膜摩擦設備，其特征在于，所述承載裝置為第二基臺， 所述摩擦布貼附在第二基臺的臺面上形成摩擦布的平整表面。
14. 根據權利要求11所述的取向膜摩擦設備，其特征在于，所述承載裝置包括兩個轉 輥，所述摩擦布纏繞在所述兩個轉輥上，所述第一動力裝置通過驅動其中一個轉輥轉動帶 動所述摩擦布運動使得摩擦布形成繃緊平整邊和松邊，所述摩擦布的平整表面為所述繃緊 平整邊。
15. 根據權利要求14所述的取向膜摩擦設備，其特征在于，所述繃緊平整邊和松邊之 間還設置有抵觸板，并且所述抵觸板抵觸到所述繃緊平整邊。
16. 根據權利要求14所述的取向膜摩擦設備，其特征在于，所述繃緊平整邊和松邊之 間還設置有至少一個轉輥，并且所述至少一個轉輥抵觸到所述繃緊平整邊和松邊。
全文摘要
本發明公開了一種取向膜摩擦工藝及設備，涉及液晶顯示器件的加工工藝和設備，解決了現有取向膜摩擦工藝中會出現取向膜溝痕不均勻、生產效率低的情況。本發明實施例包括在固定裝置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承載裝置上承載摩擦布，所述基板與摩擦布表面之間為平行相對的狀態；然后在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對運動；并且在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸；最后分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。本發明實例主要用于液晶顯示器件加工過程中，對薄膜進行摩擦得到取向膜的工藝中，例如在彩色濾光片基板和TFT陣列基板形成取向膜的工藝。
文檔編號G02F1/1337GK101770115SQ20081024754
公開日2010年7月7日 申請日期2008年12月30日 優先權日2008年12月30日
發明者車春城 申請人:北京京東方光電科技有限公司