曝光裝置的制作方法

專利名稱：曝光裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種曝光裝置，該曝光裝置在電子電路基板、液晶元件
用玻璃基板、PDP (Plasma Display Panel,等離子顯示器)用玻璃元件基 板等的表面上形成有光刻膠層的平面基板上曝光成像。
背景技術：
為了在電子電路基板(印刷電路基板)等基板上形成圖像而使用光 刻(photolithography)法。所謂光刻法是如下的方法在基板上的光刻 膠層的表面上形成光圖像，由此使光刻膠層選擇性地感光，并通過浸在 蝕刻處理液中使光刻膠層溶解，進而對由該部分所覆蓋的基板表面進行 蝕刻。在所述光刻法中，作為使基板曝光的方式之一，存在接觸曝光方 式，該接觸曝光方式使掩模與基板的曝光對象面重疊，并透過該掩模利 用光使涂敷在基板上的感光材料層曝光。本申請的發明與接觸曝光方式 的曝光裝置有關，但是，在不利用掩模的直接曝光裝置中也可以應用于 清潔曝光臺等。
在所述的接觸曝光方式的曝光裝置中，當在外部環境中被塵埃污染 了的基板被輸入時，附著在該基板的各面上的塵埃通過與該掩模接觸而 轉印在該掩模上造成污染。這樣，如果掩模被污染，則在對該被污染了 的基板進行曝光時附著在掩模的透光部上的塵埃遮蔽光，從而該塵埃的 影子映在基板的光刻膠層上，因此在顯影處理后，在圖像中會產生缺失 等缺陷。
因此，在各曝光部中，需要分別用于對掩模的表面(與基板接觸的 面)或者被導入的基板的曝光對象面(與掩模接觸的面)進行除塵的除 塵構件。現有的除塵構件具有在外周面上形成有粘著層的粘著輥和使粘 著力比該粘著輥的粘著層還強的粘著層朝向外側巻繞而成的轉印輥，通過使粘著輥在除塵對象面上旋轉，使塵埃附著在粘著輥的粘著層上，之 后使粘著輥與轉印輥的外周面相互接觸并使轉印輥從動旋轉，使塵埃進 一步轉印到轉印輥上從而將塵埃收集起來。在該方式中，通過剝去轉印 輥的粘著層一周的量，能夠簡單地將收集在轉印輥的粘著層上的塵埃廢 棄掉。
例如，在參考文獻1所記載的曝光裝置中，預先將除塵輥以能夠上 下擺動的方式設置在將基板搬運到載物臺上的搬運架的前端，伴隨著將 基板搬運到載物臺上的動作對原版的表面進行除塵，同時，伴隨著從載 物臺上退避的動作對基板的曝光對象面進行除塵，然后，將塵埃轉印到 轉印輥17上。
因此，當被搬運到曝光裝置中的基板是已被污染的，因為將基板牢 固地固定在載物臺表面上的固定工序中，光刻膠材料、基體材料片等不 可避免地從基板自身剝落。這樣，在載物臺上產生的塵埃附著在該基板 以及以后固定在該載物臺上的基板的背面。如果以塵埃附著在該背面上 的狀態將基板移動至下一個工序中，則會成為在形成基板圖像時引起重 大缺陷的原因，因此必須對載物臺的上表面也進行除塵。
在參考文獻1所記載的裝置中，在不將基板固定在載物臺上的狀態 下使搬運架和除塵輥動作，對掩模的表面和載物臺的表面進行除塵。
并且，參考文獻2示出了將除塵構件設置在曝光載物臺的正前方、 對基板的曝光對象面進行除塵的結構。如果將該除塵構件設置在第一面 用的曝光部和反轉裝置之間、或者設置在反轉構件和第二面用的曝光部 之間以用于對基板的第二面進行除塵，則能夠對上述的基板的第二面進 行除塵。
參考文獻1日本專利第3533380號公報
參考文獻2日本專利第2847808號公報 但是，由于專利文獻1所記載的裝置將一根粘著輥兼用于對存在于 上方的掩模表面進行除塵和對存在于下方的載物臺上表面進行除塵，因 此需要使這一根粘著輥在垂直方向擺動。因此，在專利文獻1所記載的 裝置中，無法始終使粘著輥與轉印輥接觸。因此，在該裝置中，將轉印輥設置在載物臺以外的固定位置上，并使粘著輥能夠獨立地移動，但是， 在這樣的結構中，存在附著于該粘著輥的粘著層上的塵埃蓄積，使得粘 著輥的除塵能力急劇降低的問題。

發明內容
因此，本發明提供一種如下的除塵構件在曝光裝置的曝光部中， 使直徑比粘著輥大的轉印輥始終與在除塵對象面上滾動的粘著輥接觸， 通過該作用將附著在粘著輥上的塵埃直接轉印到該轉印輥上，以此能夠 延長粘著輥的壽命，并能夠通過一個除塵裝置的一系列移動對掩模的表 面和載物臺的表面一起進行除塵。
為了解決上述課題而提出的本發明的曝光裝置的第一方式是使光圖 像透過掩模曝光在基板的表面上的曝光裝置，所述曝光裝置的特征在于， 該曝光裝置中設有用于保持所述掩模的掩模保持構件。在與保持在所述 掩模保持構件上的該掩模對置的一側，在框體內載置有載物臺，其具 有用于與該掩模平行地固定基板的固定面；和移動機構，其使由所述掩 模保持構件所保持的掩模與所述載物臺的固定面相對接近和離開。并且， 所述曝光裝置包括
光源，其透過保持在所述掩模保持構件上的掩模，朝保持在所述載 物臺的固定面上的基板照射光；
清潔單元，所述清潔單元具有框架、轉印輥、第一粘著輥和第二粘
著輥，其中，轉印輥通過與保持在所述掩模保持構件上的掩模的表面以 及所述固定面平行的旋轉軸樞軸支承在所述框架內，且在外周面形成有 粘著層，第一粘著輥以外周面與所述轉印輥的外周面彼此接觸的同時比 該轉印輥更接近所述掩模的方式通過與所述旋轉軸平行的旋轉軸樞軸支 承在所述框架內，并在所述外周面上形成有粘著層，第二粘著輥以外周 面與所述轉印輥的外周面彼此接觸的同時比該轉印輥更接近所述載物臺 的方式通過與所述各旋轉軸平行的旋轉軸樞軸支承在所述框架內，并在 所述外周面上形成有粘著層；以及
移動工作臺，其使所述清潔單元在與所述旋轉軸正交的平面內移動。并且，本發明的曝光裝置的第二方式是使光圖像透過掩模曝光在基 板的表面上的曝光裝置，其特征在于， 所述曝光裝置包括
掩模保持構件，其用于保持所述掩模；
載物臺，其在與保持在所述掩模保持構件上的掩模對置的一側，具 有用于與該掩模平行地固定基板的固定面；
移動機構，其使由所述掩模保持構件所保持的掩模和所述載物臺的 固定面相對接近和離開；
光源，其透過保持在所述掩模保持構件上的掩模，朝保持在所述載
物臺的固定面上的基板照射光；
清潔單元，所述清潔單元具有框架、轉印輥、第一粘著輥、中間
輥和第二粘著輥，其中，轉印輥通過與保持在所述掩模保持構件上的掩 模的表面以及所述固定面平行的旋轉軸樞軸支承在所述框架內，并在外 周面形成有粘著層，第一粘著輥以外周面與所述轉印輥的外周面彼此接 觸的同時比該轉印輥更接近所述掩模的方式通過與所述旋轉軸平行的旋 轉軸樞軸支承在所述框架內，并在所述外周面上形成有粘著層，中間輥 以外周面與所述轉印輥的外周面彼此接觸的方式通過與所述各旋轉軸平 行的旋轉軸樞軸支承在所述框架上，并在所述外周面上形成有粘著層， 第二粘著輥以外周面與所述中間輥的外周面彼此接觸的同時比該中間輥 更接近所述載物臺的方式通過與所述各旋轉軸平行的旋轉軸樞軸支承在
所述框架上，并在所述外周面上形成有粘著層；
移動工作臺，其使所述清潔單元在與所述旋轉軸正交的平面內移動；
以及
控制構件，其對所述移動機構和所述移動工作臺進行控制，在所述 第一粘著輥與保持在所述掩模保持構件上的掩模接觸、同時所述第二粘 著輥與所述載物臺的固定面接觸的狀態下，使所述清潔單元朝與所述掩 模的表面和所述固定面平行且與所述各旋轉軸正交的方向移動。
根據如上構成的本發明，掩模專用的第一粘著輥和載物臺的固定面 專用的第二粘著輥一起以外周面始終與轉印輥的外周面接觸的方式樞軸支承在清潔單元的框架上。因此，盡管以當第一粘著輥與掩模接觸時轉 印輥不與該掩模接觸的方式將該第一粘著輥的位置配置成比轉印輥的位 置更接近掩模，同時，以當第二粘著輥與載物臺的固定面接觸時轉印輥 不與該固定面接觸的方式將該第二粘著輥的位置配置成比轉印輥的位置 更接近載物臺，但是不需要復雜的機構，并且，由于能夠使轉印輥的外 徑比各粘著輥的外徑大，因此轉印輥的壽命比粘著輥的壽命長，即使塵 埃的量很大也能夠充分地進行除塵。
進一步，根據上述本發明的第二方式，能夠同時對掩模和載物臺的 固定面進行除塵，能夠縮短除塵所需的作業時間。
如上構成的本發明的曝光裝置不釆用復雜的結構就能夠使在除塵對 象面上滾動的粘著輥始終與直徑比該粘著輥大的轉印輥接觸，能夠通過 一個除塵構件的一系列移動有效地對掩模表面和載物臺表面進行除塵。


圖1是作為本發明的第一實施方式的曝光裝置的側面透視示意圖。 圖2是示出曝光裝置的控制系統的電路結構的框圖。 圖3是各曝光部的清潔單元的正面透視圖。
圖4是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。
圖5是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。
圖6是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。
圖7是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。
圖8是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。
圖9是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。
圖IO是示出各清潔單元分別進行除塵的狀態的圖。
圖11是示出作為本發明的第二實施方式的曝光裝置的側面透視示意圖。
圖12是各曝光部的清潔單元的正面透視圖。 圖13是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。 圖14是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。圖15是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。
圖16是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。
圖17是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。 圖18是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。
圖19是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。 圖20是各曝光部的清潔單元的動作說明圖。 圖21是反轉裝置的后視圖。
圖22是示出各清潔單元分別進行除塵的狀態的圖。 圖23是反轉裝置以及清潔單元的動作說明圖。 圖24是反轉裝置以及清潔單元的動作說明圖。 圖25是反轉裝置以及清潔單元的動作說明圖。 圖26是反轉裝置以及清潔單元的動作說明圖。 圖27是反轉裝置以及清潔單元的動作說明圖。 圖28是反轉裝置以及清潔單元的動作說明圖。 圖29是反轉裝置以及清潔單元的動作說明圖。 圖30是反轉裝置以及清潔單元的動作說明圖。 標號說明 2:第一曝光部；
3:反轉部； 4:第二曝光部； 8:載物臺； 9:反轉裝置； 10:掩模； 14:光源； 21:清潔單元；
22:中間輥；
30:吸附基座；
34:旋轉驅動電動機；
37:旋轉電動機；40: Y—Z工作臺； 49:反轉部控制器； 60:反轉裝置； 64:固定載物臺； 65:驅動電動機； 66: Y載物臺。
具體實施例方式
以下，基于附圖對本發明的實施方式進行說明。 <曝光裝置的整體結構>
圖1是示出本實施方式的曝光裝置的概略結構的側面透視圖。如該 圖1所示，該曝光裝置通過在水平方向(從圖1的左側朝向右側)上配
置投入部l、第一曝光部2、反轉部3、第二曝光部4以及運出部5而構 成。并且本曝光裝置整體由圖2所示的控制系統進行控制。
投入部1具有載物臺la，該載物臺la用于使操作者或者未圖示的機 械手將未曝光的基板W拾取到第一輸送裝置(handler) 6上而進行載置 用。
第一輸送裝置6具有沿圖1的左右方向延伸的臂，在該臂的兩端分 別以能夠升降的方式具有裝卸自如地吸附基板W的襯墊。進而，通過利 用未圖示的直行部件(linear slide)使第一輸送裝置6整體沿著圖1的左 右方向移動，從而將由圖中左端的襯墊所吸附的基板W從投入部1輸送 至第一曝光部2并放置在載物臺8上，將由圖中右端的襯墊所吸附的基 板W從第一曝光部2輸送至反轉部3并載置在該反轉裝置9內以退避。
第一曝光部2是如下這樣的裝置使掩模10與從投入部1輸送來的 基板W的第一面重疊，并通過透過該掩模10照射使光刻膠層感光的紫 外光以將作為掩模10的透光部所描繪的圖像曝光在第一面上的光刻膠層 上。因此，該第一曝光部2由以下部件構成載置由第一輸送裝置6輸 送來的基板W的載物臺8;以使該基板W朝向掩模10接近并接觸和使 其離開的方式使載物臺8升降的上升機構55;作為保持掩模10的掩模保
10持構件的保持器11;以及發出用于使光刻膠層感光的光的光源14。
光源14例如能夠根據基板W的光刻膠層的反應條件從短弧燈等或 者高壓燈等各種UV燈、或者敷設在平面上的LED等中選擇。另外，也 可以具有將從光源14發出的光線高效地引導至基板的反射鏡、透鏡等。 并且，掩模10是在被保持于矩形的曬版架(框架)中的玻璃、丙烯等上 以將光應透過的部位作為透光部的方式貼附或者描繪遮光部件而形成 的。另外，載物臺8的上表面與由保持器11所保持的掩模10的表面平 行，且開設有與未圖示的抽吸泵連通的多個抽吸口。通過這些抽吸口抽 吸空氣，從而以與掩模10的表面平行的方式將基板W吸附固定在該載 物臺8的上表面上，即、以該上表面作為固定面發揮功能的方式進行固 定。另外，與上述相反，也可以通過上升機構55使保持掩模10的保持 器11下降而使其接近載物臺8。因此，該上升機構55相當于使由保持器 11所保持的掩模IO和載物臺8的固定面相對接近或者離開的移動機構。
并且，在圖1中，描繪成輸送裝置6位于掩模10的正下方，但是， 掩模10也可以配置在相對于第一輸送裝置6在與紙面正交的方向上離開 的位置。在該情況下，載物臺8除了需要具有升降的功能以外，還需要 具有沿著與紙面正交的方向移動的功能。在所述結構中，當載物臺8升 降時不需要使第一輸送裝置6退避，并且，容易遮蔽來自光源14的漏光。 另外，對于用于對第一曝光部2的掩模10的下表面和載物臺8的上表面 進行除塵的清潔單元12在后面詳細說明。
反轉部3中內置有用于使利用第一輸送裝置6從第一曝光部2輸 送來的、第一面己曝光完畢的基板W反轉的反轉裝置9以及用于對利用 該反轉裝置9反轉后的基板W的第二面進行除塵的清潔單元13。
第二曝光部4具有與第一曝光部2相同的結構。因此，在圖1中， 對與第一曝光部2相同的第二曝光部4的部件賦予與第一曝光部2的部
件相同的標號，并省略說明。
第二輸送裝置7具有沿著圖1的左右方向延伸的臂，在該臂的兩端 分別以能夠升降的方式具有裝卸自如地吸附基板W的襯墊。進而，通過 利用未圖示的直行部件使第二輸送裝置7整體沿圖1的左右方向移動，將由圖中左端的襯墊所吸附的基板W從反轉部3輸送至第二曝光部4并 放置在其載物臺8上，將由圖中右端的襯墊所吸附的基板W從第二曝光 部4輸送至運出部5并放置在運出部5的載物臺5a上。這樣放置在運出 部5的載物臺5a上的曝光完畢的基板W被操作者或者未圖示的機械手 等取出，并移動至下一處理工序。另外，對于設置在第二曝光部4和運 出部5之間、用于對第二曝光部4的掩模10的下表面和載物臺8的上表 面進行除塵的清潔單元12在后面說明。 <各曝光部的清潔單元>
在各圖中，將各輸送裝置6、 7輸送基板W的方向稱為"z方向"， 將升降載物臺8的方向(鉛直方向)稱為"y方向"，將與"z方向"和 "y方向"分別正交的方向稱為"x方向"。
在圖4至圖9中示出了用于對搭載在第二曝光部4中的掩模10的下 表面和載物臺8的上表面進行除塵的清潔單元12的動作。運出部5由使 未圖示的Y—Z工作臺沿鉛直方向移動的移動構件和使該清潔單元朝曝 光部4方向移動的驅動部構成。該Y—Z工作臺的驅動構件能夠利用沿Y 方向和Z方向移動的導軌和分別內置的致動器使Y—Z工作臺移動。
各清潔單元12收納在箱形的框架12a中，該框架12a上游側(圖1 中的左側)的下邊緣和上邊緣被切口。圖3示出除去框架后的狀態。以 能夠以朝向x方向架設在框架12a內的各旋轉軸57a、 57a為中心旋轉的 方式樞軸支承著各粘著輥57、 57，各粘著輥57、 57的外周面的一部分分 別從由這些切口所形成的各開口突出。這些各粘著輥57、 57具有形成有 粘著層的外周面。
圖3是示出從上游側觀察各清潔單元12的狀態的透視圖，如該圖3 和上述的圖1所示，兩粘著輥57、 57的外周面與轉印輥58的外周面彼 此接觸，該轉印輥58經由與這兩粘著輥平行地架設在框架12a內的旋轉 軸58a旋轉自如地被樞軸支承，且其直徑比各粘著輥57、 57大很多。進 而，上側的粘著輥(第一粘著輥)57配置成比轉印輥58更接近掩模，下 側的粘著輥(第二粘著輥)57配置成比轉印輥58接近載物臺8。
粘著力比粘著輥57、 57的外周面的粘著層強的粘著帶以粘著面朝向外側的方式巻繞在轉印輥58的外周面上。進而，該轉印輥58被驅動電 動機53驅動進行旋轉，該驅動電動機53固定在框架12a的側面且與旋 轉軸58a直接連接。因此，轉印輥58借助該驅動電動機53進行旋轉， 由此，各粘著輥57、 57從動地旋轉，清潔單元12整體通過Y—Z工作臺 40朝與各粘著輥57、 57的旋轉方向相反的方向移動，從而在除塵對象面 上滾動，使附著在除塵對象面上的塵埃附著在粘著輥57的外周面上。這 樣，附著在粘著輥57的外周面上的塵埃通過被轉印至轉印輥58的表面 上而被收集在該轉印輥58上。這樣，被轉印輥58回收的塵埃在從轉印 輥58的外周面剝去粘著帶一圈的量之后被廢棄。
另外，驅動電動機53也可以不直接固定在轉印輥58的旋轉軸58a 上，例如，也可以形成為經由固定在其他位置上的皮帶等傳遞構件驅動 轉印輥58的結構。并且，驅動電動機53可以與任一個轉印輥58連接。
<各曝光部的控制>
如圖2所示，上述的各曝光部2、 4的載物臺8的上升機構55、抽 吸泵54、光源14、 Y—Z工作臺40以及驅動電動機53分別與作為控制 各曝光部2、 4整體動作的控制裝置的第一曝光部控制器56和第二曝光 部控制器51連接，從這些第一曝光部控制器56和第二曝光部控制器51 供給控制信號和驅動電力，按照預定的順序進行動作。另外，這些第一 曝光部控制器56以及第二曝光部控制器51自身與作為控制曝光裝置整 體動作的控制裝置的整體控制器50連接，通過該整體控制器50控制動 作時刻等。
以下，利用圖4至圖9對各曝光部控制器51、 56控制各曝光部2、 4的清潔單元12的順序進行說明。另外，第一曝光部控制器56所進行的 控制和第二曝光部控制器51所進行的控制，僅動作時刻以及清潔單元12 的退避位置(第一曝光部2的清潔單元12的退避位置在輸入部1內，第 二曝光部4的清潔單元12的退避位置在運出部5內)有所不同，除此之 外完全相同。因此，以第二曝光部4為例進行以下的說明。
圖4示出在第二曝光部4中，利用上升機構55使載物臺8上升，由 此使通過未圖示的抽吸泵54吸附在該載物臺8上的基板W與掩模10抵接的狀態。在該狀態下，第二曝光部控制器51通過使光源14發光而透 過掩模IO使基板W的第二面曝光，對描繪在掩模IO上的圖像進行曝光。 此時，清潔單元12通過由第二曝光部控制器51控制的Y—Z工作臺40 退避至運出部5內。
接下來，第二曝光部控制器51對上升機構55進行控制，由此使載 物臺8下降至其上表面與通道高度(pass level)共面，并使抽吸泵54停 止。在該狀態下輸送裝置7把持載物臺8上的工件W (參照圖5)并將 其移動至運出部5 (參照圖1)。
接下來，第二曝光部控制器51對Y—Z工作臺40進行控制，從而 將清潔單元12移動至圖6所示的初始位置、即第一粘著輥57與掩模10 的下表面的一端抵接的位置。另外，圖6中所描繪的虛線是為了對Y—Z 工作臺40進行控制而預先設定在第二曝光部控制器51中的清潔單元12 的移動軌跡(圖中示出了第一粘著輥57的中心的移動軌跡)。即，第二 曝光部控制器51以使清潔單元12沿著該虛線所示的移動軌跡移動的方 式對Y—Z工作臺40進行控制。清潔單元12首先從圖6所示的位置沿z 方向水平移動至圖7所示的位置。其間，第二曝光部控制器51使驅動電 動機53旋轉，從而使上側的粘著輥57以與清潔單元12自身的移動速度 相同的圓周速度沿圖中的順時針方向旋轉。由此，第一粘著輥57對掩模 10的下表面加壓并在掩模10的下表面上滾動，對掩模10的下表面(與 基板抵接的面)進行除塵。
接下來，載物臺8上升，清潔單元12從圖7所示的位置下降至圖8 所示的位置，使第二粘著輥57與載物臺8的上表面接觸。
進一步，清潔單元12從圖8所示的位置沿z方向水平移動至圖9所 示的位置。其間，由于驅動電動機53向相同的方向旋轉，因此第二粘著 輥57以與清潔單元12自身的移動速度相同的圓周速度沿圖中的順時針 方向旋轉。由此，第二粘著輥57在載物臺8的上表面上滾動，對載物臺 8的上表面進行除塵。
另外，圖10中示出了在第一曝光部2中對掩模10的下表面進行除 塵、在反轉部3中對基板W的第二面進行除塵、在第二曝光部4中對載物臺8的上表面進行除塵的狀態。
另外，在各曝光部2、 4中進行除塵的時刻只要是在載物臺8和掩模 10之間形成空間(即，能夠將該除塵構件12插入到載物臺8的上表面和 掩模10的下表面之間并使其沿掩模10的下表面移動的空間。)的時刻即 可，可以在預先恒定的曝光循環中開始除塵，也可以在任意的曝光結束 后、基板W被運出后的時刻開始除塵。
<本實施方式的優點>
在本實施例中，各曝光部2、 4的清潔單元12在上下具有粘著輥57、 57，且粘著輥57、 57分別與同一個轉印輥58接觸。根據本實施方式， 能夠使一臺清潔單元12沿z方向往復，并且能夠在載物臺8上往復一次 期間內對掩模10的下表面和載物臺8的上表面進行除塵。由于清潔單元 12預先具有用于對掩模下表面除塵且設置在比轉印輥58高的位置上的粘 著輥57、和用于對載物臺上表面除塵且設置在比轉印輥58低的位置上的 粘著輥57，因此不需要使粘著輥的直徑比轉印輥的直徑大，不需要使粘 著輥相對于轉印輥自由公轉，也不需要使粘著輥獨立于轉印輥地進行移 動。
第二實施方式
<曝光裝置的整體結構>
圖11是示出本發明的第二實施方式的曝光裝置的整體結構的側面透 視圖。如該圖ll所示，與上述的第一實施方式的曝光裝置相比，本發明 的第二實施方式僅在各曝光部2、 4中的清潔單元21的結構以及各曝光 部控制器51、 56對Y—Z工作臺40和上升機構55的控制內容方面有所 不同，其他的結構相同。因此，在圖11中，對與第一實施方式中的圖1 所示的結構相同的要素賦予與圖l相同的標號，并省略說明。
<各曝光部的清潔單元>
本實施方式的各曝光部2、 4的清潔單元21也由未圖示的Y—Z工 作臺進行支承，在Y—Z平面內以描繪預定軌跡的方式移動。
并且，各清潔單元21收納在箱形的框架21a中，該框架21a上游側 (圖ll中的左側)的下邊緣和上邊緣被切口。以能夠以朝向x方向架設在框架21a內的各旋轉軸57a、 57a為中心旋轉的方式樞軸支承著各粘著 輥57、 57，各粘著輥57、 57的外周面的一部分分別從由這些切口所形成 的各開口突出。這些粘著輥57、 57具有形成有粘著層的外周面。
圖12是示出從上游側觀察各清潔單元21的狀態的透視圖。
如該圖12和上述的圖11所示，上側的粘著輥(第一粘著輥)57的 外周面與經由平行于該粘著輥57地架設在框架21a內的旋轉軸58a轉動 自如地被樞軸支承的轉印輥58的外周面彼此直接接觸。該轉印輥58的 直徑比各粘著輥57、 57的直徑大，上側的粘著輥(第一粘著輥)57配置 成比該轉印輥58更接近掩模。
粘著力比粘著輥57、 57的外周面的粘著層強的粘著帶以粘著面朝向 外側的方式巻繞在轉印輥58的外周面上。進而，該轉印輥58通過固定 在框架21a的側面且與旋轉軸58a直接連接的驅動電動機53被驅動旋轉。 因此，轉印輥58借助該驅動電動機53進行旋轉，從而上側的粘著輥(第 一粘著輥)57從動地旋轉，清潔單元21整體通過Y—Z工作臺40朝與 上側的粘著輥57的旋轉方向相反的方向移動，由此在除塵對象面上滾動， 使附著在除塵對象面上的塵埃附著在上側的粘著輥57的外周面上。這樣 附著在粘著輥57的外周面上的塵埃通過被轉印至轉印輥58的表面上而 被收集在該轉印輥58上。
并且，下側的粘著輥57的外周面與中間輥22的外周面彼此接觸， 該中間輥22經由與該粘著輥57平行地架設在框架21a內的旋轉軸22a 轉動自如地被樞軸支承。該中間輥22的外周面還與轉印輥58的外周面 彼此接觸。進而，下側的粘著輥(第二粘著輥)57比該轉印輥58更接近 載物臺8。
上述中間輥22的外徑比粘著輥57的直徑大，并且比轉印輥58的直 徑小，形成在其外周面上的粘著層的粘著力比粘著輥57的粘著層的粘著 力強、并且比轉印輥58的粘著帶的粘著力弱。因此，當如上所述那樣利 用驅動電動機53驅動轉印輥58旋轉時，下側的粘著輥(第二粘著輥) 57經由中間輥22朝與上側的粘著輥57相反的方向旋轉。進而，清潔單 元21整體通過Y—Z工作臺40朝與上側的粘著輥57的旋轉方向相反的方向移動，從而下側的粘著輥57在除塵對象面上滾動，由此，附著在下
側的粘著輥57的表面上的塵埃被轉印至粘著力比該粘著輥57強的中間 輥22上，并進一步被轉印至粘著力更強的轉印輥58上。
如上所述那樣利用各粘著輥57、 57從各除塵對象面上清除下來的塵 埃都收集在轉印輥58上。進而，收集來的塵埃在從轉印輥58的外周面
剝去粘著帶一圈的量之后被廢棄掉。 <各曝光部的控制>
接下來，利用圖13至圖20對在第二實施方式中各曝光部控制器51、 56控制各曝光部2、 4的清潔單元21的步驟進行說明。在本第二實施方 式中，第一曝光部控制器56所進行的控制和第二曝光部控制器51所進 行的控制僅在動作時刻以及清潔單元21的退避位置(第一曝光部2的清 潔單元21的退避位置在輸入部1內，第二曝光部4的清潔單元21的退 避位置在運出部5內)有所不同，除此之外完全相同。因此，以第二曝 光部控制器51為例進行以下的說明。
圖13示出這樣的狀態在第二曝光部4中，利用上升機構55使載 物臺8上升，由此使通過抽吸泵54吸附在載物臺8上的基板W與掩模 10抵接。在該狀態下，第二曝光部控制器51通過使光源14發光而透過 掩模10使基板W的第二面曝光，對描繪在掩模10上的圖像進行曝光。 此時，清潔單元21通過由第二曝光部控制器51控制的Y—Z工作臺40 退避至運出部5內。
接下來，第二曝光部控制器51對上升機構55進行控制，由此使載 物臺8下降至其上表面與通道高度共面，并使抽吸泵54停止。在該狀態 下，輸送裝置7把持載物臺8上的工件W并將其移動至運出部5。參照 圖14。
接下來，第二曝光部控制器51對Y—Z工作臺40進行控制，由此 使清潔單元21進入掩模IO和載物臺8之間的空間(圖15)，并將其移動 至使上側的粘著輥(第一粘著輥)57處于掩模10的下表面中的一端的正 下方的位置。接著，第二曝光部控制器51對Y—Z工作臺40進行控制， 從而將清潔單元21移動至使上側的粘著輥57與掩模10的下表面中的一端抵接的位置并對掩模10施加輕微的壓力。并且，對應于清潔單元21
上側的粘著輥57與掩模10抵接的時刻，通過第二曝光部控制器51對上 升機構55進行控制使載物臺8上升，并使其上表面與清潔單元21下側 的粘著輥(第二粘著輥)57抵接，進而對該粘著輥57施加輕微的壓力(圖 16)。
進一步，當第二曝光部控制器51通過對驅動電動機53進行驅動而 使轉印輥58朝圖中的順時針方向旋轉時，上側的粘著輥57朝圖中逆時 針方向旋轉，下側的粘著輥57通過夾設中間輥22以與上側的粘著輥57 相同的旋轉速度朝圖中的順時針方向旋轉。因此，通過第二曝光部控制 器51對Y—Z工作臺40進行控制，使清潔單元21以與各粘著輥57的圓 周速度同步的速度從圖16所示的位置沿z方向移動至圖17所示的位置。 在該移動過程中，上側的粘著輥57 —邊與掩模10的下表面接觸一邊滾 動，對掩模10的下表面進行除塵，同時，下側的粘著輥57—邊與載物 臺8的上表面接觸一邊滾動，對載物臺8的上表面進行除塵。即，通過 使清潔單元21朝一個方向移動來完成對上述兩個面的除塵。
最后，當第二曝光部控制器51根據來自未圖示的傳感器的輸出確認 了清潔單元21已經到達載物臺8的另一端的情況時，通過對上升機構55 進行控制使載物臺8下降至其上表面與通道高度共面(圖18)，進一步， 通過對Y—Z工作臺40進行控制使清潔單元21下降若干量，使其朝釋放 對掩模10的壓力的方向退避(參照圖19)。進而，通過第二曝光部控制 器51對Y—Z工作臺40進行控制，使清潔單元21以與除塵時的移動速 度不同的高速度沿z方向移動并回收至運出部5中。
另外，圖10示出在第一曝光部2中對掩模10以及載物臺8的除塵 結束(圖17的階段)、在第二曝光部4中即將進行除塵之前的狀態。
<本實施方式的優點>
根據如上所述構成的本實施方式的曝光裝置，除了能夠得到上述的 第一實施方式的所有優點之外，能夠同時完成對掩模10的下表面的除塵 和對載物臺8的上表面的除塵，由于使上側的粘著輥57對掩模10加壓、 同時使載物臺對下側的粘著輥57加壓的壓力都能夠通過載物臺8的上升機構55賦予，因此不用增加新的機構就能夠使清潔單元21從投入部1 或者運出部5出發并完成一系列的除塵之后再次復位至投入部1或者運
出部5的時間、即曝光步驟以外的停機時間(downtime)抑制在最小限 度。
<反轉部的清潔單元>
圖22示出曝光裝置的整個外觀，并示出在第一曝光部中清潔單元 12對掩模表面進行清潔、在第二曝光部中清潔單元12對曝光工作臺面進 行清潔、在反轉部中清潔單元13對基板W的第二面進行清潔的狀態。
清潔單元13收納在箱形的殼體內，該殼體的上游側(圖22中的左 側)的下邊緣被切口，在由此形成的開口中旋轉自如地安裝有旋轉軸朝 向x方向的粘著輥46。該清潔單元13的粘著輥46與經由平行于該粘著 輥46的旋轉軸轉動自如地被保持的轉印輥47接觸，并隨著該轉印輥47 旋轉而從動地旋轉，并在除塵對象面上滾動，使附著在除塵對象面上的 塵埃粘在該粘著輥46上，并將該塵埃轉印至具有更強的粘著力的轉印輥 47的表面上。
<反轉部的控制系統〉
接下來，利用圖22至圖30對反轉部控制器49、第一曝光部控制器 56以及整體控制器50控制反轉裝置60、反轉部3的清潔單元13以及第 一曝光部2的載物臺8的上升機構55的步驟進行說明。
上升機構55使曝光保持面64a上升(圖24)，靜止的反轉部控制器 49 (圖23)對驅動電動機65進行控制，由此使固定載物臺64 (朝圖24 中的順時針方向)旋轉，直至保持面64a從水平方向朝下游側傾斜45度 (圖25)。當完成使保持面64a這樣傾斜時，通過反轉部控制器49對Y 一Z工作臺40進行控制，從而使清潔單元13在Y—Z平面內移動，接著 使其粘著輥46在固定于保持面64a上的工件W的第二面上滾動。具體 而言，使清潔單元13的粘著輥46的外周面與工件W的上游側的端緣進 行線接觸(圖26)，接著， 一邊借助驅動電動機48使粘著輥46 (朝圖26 中的順時針方向)經由轉印輥47并與其同步旋轉， 一邊使粘著輥46以 與保持面64a平行地朝向下游側傾斜下降的方式移動。在該移動的中途，粘著輥46 —邊對工件W的第二面加壓一邊在該第二面上滾動，以此對 該第二面進行除塵(圖27)。進而，當粘著輥46到達工件W的下游側的 端緣時，清潔單元13使粘著輥46從工件W的第二面離開，并復位至初 始位置(圖2S)。
接下來，反轉部控制器49使驅動電動機65反轉，使固定載物臺64 復位至保持面64a為水平的旋轉位置(參照圖29)。此時，固定載物臺 64的保持面64a被加工成與通道高度共面。因此，反轉部控制器49使抽 吸泵44的抽吸停止，在整體控制器50的控制下，上述的第二輸送裝置7 拾取工件W并將其移動至第二曝光部4 (參照圖30)。
<本實施方式的優點>
對工件W的第二面進行除塵的清潔單元13在反轉部3中設置在反 轉裝置9的上方。因此，不需要在反轉裝置9和第二曝光部4之間確保 除塵裝置的設置空間，能夠將曝光裝置整體在z方向(工件W移動的方 向)抑制為較短。并且，在對工件W的第二面進行除塵時，在固定工件 W的吸附基座30相對于水平方向傾斜的狀態下進行除塵。因此，清潔單 元13在z方向的移動寬度是相對于工件寬度的傾斜角的余弦即可。艮口， 與使吸附基座30朝向水平方向進行除塵的情況相比，能夠減少清潔單元 13在z方向上的移動空間，進一步，能夠抑制反轉部3的z方向上的寬 度增大。另外，雖然吸附基座30的傾斜角越大上述效果越好，但是即使 清潔單元13的移動空間比使吸附基座30朝向水平方向時反轉裝置9整 體所占的z方向的區域還狹窄，也無法使反轉部3在z方向上的寬度更 加狹窄。并且，當傾斜角變大時，使除塵后的吸附基座30復位至水平方 向所需的時間增加。因此，優選該傾斜角為30度以內的角度。
另外，上述效果是通過使吸附基座30從水平方向傾斜而得到的，因 此使吸附基座30從初始狀態旋轉180度而到達水平方向之前停止并進行 除塵的情況也包含在本發明的范圍內。
權利要求
1、一種曝光裝置，所述曝光裝置在對基板的第一面進行曝光的第一曝光部和對第二面進行曝光的第二曝光部之間具有基板的反轉構件，其特征在于，在所述第一曝光部中設有掩模；用于固定基板的載物臺；載物臺移動構件，其使所述掩模和所述載物臺相對接近，進一步使二者接觸；光源，其透過所述掩模對所述基板照射光；除塵構件，其對所述掩模的與所述基板接觸的面以及所述載物臺的與基板接觸的面進行除塵；以及輸送構件，其將所述基板從投入部經由第一曝光部輸送至反轉部，在所述第二曝光部中設有掩模；用于固定基板的載物臺；載物臺移動構件，其使所述掩模和所述載物臺相對接近，進一步使二者接觸；光源，其透過所述掩模對所述基板照射光；除塵構件，其對所述掩模的與所述基板接觸的面以及所述載物臺的與基板接觸的面進行除塵；以及輸送構件，其將所述基板從反轉部經由第二曝光部輸送至運出部，所述曝光裝置具有對第一曝光部的掩模和載物臺進行除塵的第一除塵構件；對第二曝光部的掩模和載物臺進行除塵的第二除塵構件；以及在位于第一曝光部和第二曝光部的中間的反轉部，對所述基板的第二面進行除塵的第三除塵構件，所述反轉構件使第一面被所述第一曝光部曝光后的基板反轉。
2、 根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于， 所述第一除塵構件是與所述掩模表面接觸并一邊旋轉一邊移動以對掩模表面進行除塵的第一粘著輥，所述第二除塵構件是與所述載物臺接 觸并一邊旋轉一邊移動以對載物臺表面進行除塵的第二粘著輥，所述第三除塵構件是與基板的第二面接觸并一邊旋轉一邊移動以對 基板的第二面進行除塵的第三粘著輥。
3、 根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于， 所述除塵構件將外周面形成有粘著層的第一粘著輥、第二粘著輥以及第三粘著輥與在外周面形成有粘著層的轉印輥組合起來，將塵埃轉印 至該轉印輥上進行除塵。
4、根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，通過所述反轉構件對所述基板進行如下控制相對于水平方向傾斜 所述基板使所述基板的第二面被除塵，之后使除塵后的所述基板復位至 水平方向，并使所述基板能夠在水平面內移動。
全文摘要
本發明提供一種不需要復雜的結構就能夠一邊使粘著輥與轉印輥接觸一邊對掩模表面和載物臺表面或者工件表面同時進行除塵的曝光裝置。對于各曝光部(2、4)內的清潔單元(12)，使粘著輥(57、57)突出并旋轉自如地樞軸支承在分別與掩模(10)和載物臺(8)對置的一側。這兩個粘著輥(57、57)的外周面和平行于該粘著輥地樞軸支承的大徑轉印輥(58)的外周面彼此接觸。進而，Y-Z載物臺(40)使粘著輥(57)與掩模(10)接觸并對該掩模(10)的表面進行除塵，使粘著輥(57)與載物臺(8)的上表面接觸并對該載物臺(8)的上表面進行除塵。另外，反轉裝置(9)使吸附基座(30)以旋轉軸為中心進行旋轉，吸附基座(30)越過水平方向停止在傾斜的位置，在利用清潔單元(13)對工件(W)的表面進行除塵之后，使所述吸附基座(30)朝向水平方向。
文檔編號G03F7/20GK101470357SQ20081018529
公開日2009年7月1日 申請日期2008年12月25日 優先權日2007年12月27日
發明者屋木康彥, 松田政昭, 水口信一郎, 石田肇 申請人:株式會社Orc制作所