專利名稱：一種顯影液供給管路的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體顯影工藝，特別是涉及一種顯影液供給管路。
背景技術(shù)：
如圖1所示，傳統(tǒng)的顯影液供給管路包括顯影液管路11、恒溫交換
系統(tǒng)6、溫度監(jiān)測器7、溫度控制器4、顯影液噴嘴等裝置。在傳統(tǒng)的顯 影單元中，由于E2/E3的噴嘴直徑(0.4mm)非常小，且顯影液與空氣 結(jié)合后容易產(chǎn)生碳酸鹽結(jié)晶，容易造成噴嘴阻塞，使得顯影液從噴嘴吐出 時無法均勻的分布在晶片上，從而導(dǎo)致晶片顯影不良或是噴嘴上的結(jié)晶物 掉到晶片上，造成產(chǎn)品報廢。
同時，由于傳統(tǒng)的顯影液供給管路沒有提供使管路清潔的裝置(參見 圖1),因此管路內(nèi)壁、管路接頭、管路閥件及顯影液噴嘴容易臟污。又 由于部分顯影液管路中途沒有設(shè)置恒溫裝置，加上管路內(nèi)壁污垢，顯影液 噴嘴的恒溫管外壁污垢，容易導(dǎo)致顯影液變質(zhì)，造成顯影能力不足。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)中顯影液噴嘴結(jié)晶堵塞的問題，本發(fā)明的目的是提出一 種顯影液供給管路，在原有顯影液供給管路的基礎(chǔ)上，增加用于清洗顯影 液噴嘴的去離子水管路，使存在于噴嘴內(nèi)的結(jié)晶物排出，及清潔管路內(nèi)的 沉積物，從而降低顯影不良的機會。
為了達(dá)到本發(fā)明的上述和其他目的，本發(fā)明提出一種顯影液供給管 路，包括顯影液管路、位于顯影液管路前端的顯影液噴嘴，以及與顯影液 管路相并聯(lián)的去離子水管路，該去離子水管路通過安裝到顯影液管路的控 制閥門連接到顯影液管路。作為優(yōu)選，該去離子水管路并聯(lián)到恒溫交換系統(tǒng)和過濾器之間的顯影 液供給管路上。
作為優(yōu)選，該控制閥門為手動三相閥，該手動三相閥可同時用于控制 去離子水和顯影液。
作為優(yōu)選，該顯影液噴嘴為E系列的噴嘴。
作為優(yōu)選，該顯影液供給管路還包括溫度控制器，該溫度控制器與機
臺的化學(xué)制劑輸入/輸出板(Chemical I/O board)連接，用于感測流向顯 影液噴嘴的顯影液的溫度。
本發(fā)明通過在原有的顯影液供給管路的基礎(chǔ)上增加去離子水管路，可 以通過提供去離子水管路的水壓將顯影液管路內(nèi)的臟污及顯影液噴嘴的 結(jié)晶物快速排出，以保持管路內(nèi)壁、管路接頭、管路閥件及顯影液噴嘴無 污垢；同時，由于保持了顯影液管路所有零配件的內(nèi)外部分潔凈，雖然部 分顯影液管路中途沒有恒溫裝置，但是定時的提供去離子水作清潔管路 用，不至于產(chǎn)生顯影液變質(zhì)或碳酸鹽沉積，因而避免了以上現(xiàn)象造成顯影 能力不足的問題。
圖1是傳統(tǒng)的顯影液供給管路示意圖； 圖2是本發(fā)明一種顯影液供給管路示意圖。 圖3是本發(fā)明所涉及的E2噴嘴示意圖； 圖4是本發(fā)明所涉及的E3噴嘴示意圖。
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作更詳細(xì)的描述。
參見圖2， 一種顯影液供給管路，包括顯影液管路ll、位于顯影液管 路前端的顯影液噴嘴12，以及與顯影液管路相并聯(lián)的去離子水管路21, 該去離子水管路21通過安裝到顯影液管路的控制閥門3連接到顯影液管路11。該顯影液管路一般具有緩沖罐(Buffer tank,用于顯影液的暫存)、 Teflon管路、過濾器(Filter,用于顯影液過濾)、通風(fēng)機(Fan flow,用 于偵測流量)、氣動閥(用于控制顯影液噴涂的開關(guān))、恒溫交換系統(tǒng)6、 溫度監(jiān)測器7、噴嘴12(用于把顯影液噴涂到晶片表面)等裝置，該去離子 水管路21通常由Teflon管路組成。
作為優(yōu)選，該去離子水管路21并聯(lián)到恒溫交換系統(tǒng)6和過濾器5之 間的顯影液供給管路ll上。
作為優(yōu)選，該控制閥門3為手動三相閥，該手動三相閥可同時用于控 制去離子水2和顯影液1。
作為優(yōu)選，該手動三相閥門用于定時切換去離子水2，利用機臺提供 的預(yù)噴機制，借著去離子水2的水壓，將存在顯影液噴嘴12內(nèi)的結(jié)晶物 (碳酸鹽)快速排出，以及清洗管路內(nèi)的沉積物。
作為優(yōu)選，該顯影液噴嘴12為E系列的噴嘴，最好是E2或E3噴嘴。 參見圖3， E2噴嘴具有104個直徑為0.4mm的小孔，去離子水2通過管 路進(jìn)出該顯影液噴嘴，在該顯影液噴嘴內(nèi)構(gòu)成環(huán)路后排出，從而清洗管路 和噴嘴內(nèi)的沉積物。參見圖4， E3噴嘴具有102個小孔，中間部分122 的各小孔的直徑小于外側(cè)部分121的各小孔的直徑，在圖4所示的E3噴 嘴中，中間部分122的小孔81的直徑為0.15mm，?。縇 82的直徑為 0.20mm，小孔83的直徑為0.25mm，小孔84的直徑為0.30mm，小孔85 的直徑為0.32mm，小孔86的直徑為0.34mm，小孔87的直徑為0.36mm， 小孔88的直徑為0.38mm;外側(cè)部分121的小孔90的直徑均為0.40mm。 去離子水2通過管路進(jìn)出該顯影液噴嘴，在該顯影液噴嘴內(nèi)構(gòu)成環(huán)路后排 出，從而清洗管路和噴嘴內(nèi)的沉積物。這兩種噴嘴在接入顯影液時均可以 在晶片表面均勻地噴涂顯影液。
作為優(yōu)選，該顯影液供給管路還包括溫度控制器4，該溫度控制器4 位于顯影液管路11的前端靠近顯影液噴嘴12的部位，與機臺的化學(xué)制劑 輸入/輸出板(Chemical I/O board)連接，用于感測流向顯影液噴嘴12的 顯影液1的溫度。與現(xiàn)有的顯影液供給管路相比，本發(fā)明增加了去離子水管路21，利 用提供于去離子水管路21的水壓，可將顯影液管路11內(nèi)的臟污及顯影液 噴嘴12的結(jié)晶物快速排出，從而保持管路內(nèi)壁、管路接頭、管路閥件及 顯影噴嘴無污垢；同時，由于保持了顯影液管路ll所有零配件的內(nèi)外部 分潔凈，雖然部分顯影液管路中途并無恒溫裝置，但是通過定時提供去離 子水2用于清潔管路，使顯影液變質(zhì)或碳酸鹽沉積現(xiàn)象得到避免，從而克 服了傳統(tǒng)的顯影液供給管路所引發(fā)的顯影能力不足的問題，提高了產(chǎn)品的 合格率。
以上描述了本發(fā)明的較佳實施例及其效果，當(dāng)然，本發(fā)明還可有其他 實施例，在不背離本發(fā)明之精神及實質(zhì)的情況下，所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人 員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形 都應(yīng)屬于本發(fā)明的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種顯影液供給管路，包括顯影液管路、位于顯影液管路前端的顯影液噴嘴，其特征在于，還包括與顯影液管路相并聯(lián)的去離子水管路，該去離子水管路通過安裝到顯影液管路的控制閥門連接到顯影液管路。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種顯影液供給管路，其特征在于，該去離子水管路并聯(lián)到恒溫交換系統(tǒng)和過濾器之間的顯影液供給管路上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種顯影液供給管路，其特征在于，該控制閥門為手動三相閥，該手動三相閥可同時用于控制去離子水和顯影液。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種顯影液供給管路，其特征在于，該顯影液噴嘴為E系列的噴嘴。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種顯影液供給管路，其特征在于，該顯影液供給管路還包括溫度控制器，該溫度控制器與機臺的化學(xué)制劑輸入/輸出板相連接，用于感測流向顯影液噴嘴的顯影液的溫度。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種顯影液供給管路，包括顯影液管路、位于顯影液管路前端的顯影液噴嘴，以及與顯影液管路相并聯(lián)的去離子水管路，該去離子水管路通過安裝到顯影液管路的控制閥門連接到顯影液管路。采用本發(fā)明的結(jié)構(gòu)可以使存在于噴嘴內(nèi)的結(jié)晶物排出，及清潔管路內(nèi)的沉積物，從而降低顯影不良的機會。
文檔編號G03F7/32GK101639633SQ20081014441
公開日2010年2月3日 申請日期2008年7月29日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月29日
發(fā)明者胡清強, 陳曉琪, 魯旭光 申請人:和艦科技(蘇州)有限公司