充電輥、電子照相處理盒和成像設備的制作方法

專利名稱：：充電輥、電子照相處理盒和成像設備的制作方法
技術領域：
：本發明涉及充電輥、電子照相處理盒和成像設備。
背景技術：
：由于采用電子照相方式的成像設備能夠進行高速高品質的打印，因此已經被用于復印機、激光打印機和其它機器等中。在采用電子照相方式的成像設備中，在電子照相感光體表面上形成均勻的電荷，并通過LED(發光二極管)或激光器等形成靜電潛像，然后利用帶電調色劑將該靜電潛像顯影為調色劑圖像。另外，通過中間轉印介質或直接使用靜電將該調色劑圖像轉印到諸如紙等記錄介質上，從而形成所需要的圖像。如上所述，采用電子照相方式的成像設備涉及用于在電子照相感光體表面上形成均勻的電荷的充電工序，其中利用非接觸式充電法或接觸式充電法對電子照相感光體進行充電。非接觸式充電法通常采用電暈管或柵網式電暈管(scorotron)，而常見的接觸式充電法則采用輥、刷或片等(見專利文獻1和2)，由于在接觸式充電法中所施加的電流通常較小，因此，與非接觸式充電法相比，它們產生的臭氧的量明顯較小。專利文獻1:特許第3026290號說明書專利文獻2:特開2001-350351號公報辦公室和家庭中所使用的打印機中，諸如電子照相感光體和調色劑等需要進行更換的耗材可以采用盒式以便于更換。考慮到近來的環境問題，這些易于更換的盒需要具有較長的壽命以減少更換頻率。為了延長裝有電子照相感光體的盒的壽命，需要延長電子照相感光體和該電子照相感光體中所包含的各裝置的壽命，所述裝置是例如對電子照相感光體進行充電的裝置、在電子照相感光體上形成靜電潛像的圖像輸入裝置、使用顯影劑將靜電潛像顯影為調色劑圖像的顯影裝置、將調色劑圖像轉印到被轉印體上的轉印裝置和轉印后除去殘留在電子照相感光體上的殘留顯影劑的清潔裝置。當使用只采用直流電流的充電裝置對電子照相感光體進行充電時，可以抑制對電子照相感光體的磨耗，因此可以長期使用電子照相感光體。為了防止滲出和起霜，充電裝置通常具有設置在電阻層表面的中間層和防止遷移層。電阻層通常研磨處理成精確的形狀，以確保充電裝置與電子照相感光體之間的均勻接觸。研磨處理通常采用磨石來進行。
發明內容本發明是鑒于上述情況而得以完成的，其提供了充電輥、電子照相處理盒和成像設備。本發明的第一方案提供了一種充電輥，該充電輥包括，支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；禾口表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2nm約10[im;而且在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％;并且在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量°/。。本發明的第二方案提供了電于照相處理盒，該電子照相處理盒包括:電子照相感光體；充電裝置，該充電裝置設置成與所述電子照相感光體接觸，并將該電子照相感光體充電至預定電位；和選自由靜電潛像形成裝置、顯影裝置和轉印裝置組成的組中的至少一種裝置，所述靜電潛像形成裝置在所述電子照相感光體的帶電表面上形成靜電潛像，所述顯影裝置將調色劑轉移到形成于所述電子照相感光體上的所述靜電潛像以使所述靜電潛像顯影為調色劑圖像，所述轉印裝置將所述調色劑圖像轉印到接受部件上；所述充電裝置具有充電輥，所述充電輥包括支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；和表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2,約10并且，在溫度為1(TC、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％;而在溫度為28'C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％。本發明的第三方案提供了一種成像設備，該成像設備包括電子照相感光體；充電裝置，該充電裝置設置成與所述電子照相感光體接觸，并將該電子照相感光體充電至預定電位；禾口靜電潛像形成裝置，該靜電潛像形成裝置在所述電子照相感光體的帶電表面上形成靜電潛像；顯影裝置，該顯影裝置將調色劑轉移到形成于所述電子照相感光體上的所述靜電潛像以使所述靜電潛像顯影為調色劑圖像；和轉印裝置，該轉印裝置將所述調色劑圖像轉印到接受部件上；所述充電裝置具有充電輥，所述充電輥包括支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；和表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2[im約10(im;并且，在溫度為1(TC、相對濕度為15°/。的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％;而在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％。將根據以下附圖對本發明的示例性實施方式進行詳細說明，其中圖1是根據本發明的一個實施方式的成像設備的示意圖。具體實施例方式本發明的目的是提供用于接觸充電方式的充電輥以及具有所述充電輥的電子照相處理盒和成像設備，所述充電輥即使在長期反復使用后也能夠提供良好的電學特性和高度穩定的圖像品質。<充電輥>根據本發明的一個實施方式的充電輥包括支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；和表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2pm約lOpm;其中，所述充電輥在溫度為l(TC、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％，并且在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％。所述充電輥還可以包括中間層、電阻調節層和將所述支持體與所述彈性層相粘合的粘合層。所述彈性層可以具有電阻調節層的功能。根據本發明的一個實施方式的具有上述結構的充電輥即使在長期反復使用后也能夠提供良好的電學特性和高度穩定的圖像品質。這是因為保持上述約2%重量約8重量％的水分含量，可以在周圍環境變化和長期使用時使電阻率維持穩定。另外，在根據本發明的一個實施方式的所述充電輥中，優選僅將直流電流施加于下述電子照相感光體，以減少對電子照相感光體的磨耗并延長其壽命。根據本發明的一個實施方式的充電輥的所述支持體由體積電阻率為小于或等于約104acm的導電性材料構成，所述導電性材料例如為鐵、銅、黃銅、不銹鋼、鋁、鎳或其中分散有導電性顆粒等的樹脂成型品。根據本發明的一個實施方式的充電輥中可以包含的所述粘合層可以由任何的已知材料構成，只要該材料能夠粘合金屬材料與橡膠材料即可，該材料優選是具有導電性或半導電性的材料。本發明中所述粘合層材料的例子包括含有電子導電劑的樹脂和導電性樹脂。根據本發明的一個實施方式的充電輥的所述彈性層由體積電阻率為小于或等于約10"acm的導電性材料或半導電性材料構成，所述材料例如是含有導電劑的橡膠材料。該橡膠材料的例子包括異戊二烯橡膠、氯丁橡膠、表氯醇橡膠、丁基橡膠、聚氨酯橡膠、硅橡膠、氟橡膠、苯乙烯-丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、丁腈橡膠、乙烯丙烯橡膠、表氯醇-環氧乙烷共聚物橡膠、表氯醇-環氧乙烷-丙烯酰基縮水甘油基醚共聚物橡膠、三元乙丙橡膠、丙烯腈-丁二烯共聚物橡膠和天然橡膠。這些橡膠可以兩種以上組合使用。其中，優選硅橡膠、乙烯丙烯橡膠、表氯醇-環氧乙垸共聚物橡膠、表氯醇-環氧乙烷-丙烯酰基縮水甘油基醚共聚物橡膠以及它們的組合。這些橡膠材料可以是發泡的或非發泡的。彈性層中使用的導電劑可以是電子導電性物質或離子導電性物質。所述電子導電性物質的例子包括諸如科琴黑和乙炔黑等炭黑；諸如熱解碳、石墨、鋅、鋁、銅、鐵、鎳、鉻和鈦等金屬；諸如ZnO-Al203、SnOrSb203、In203-Sn02、ZnO-Ti02、MgO-Al203、FeO-Ti02、Ti〇2、Sn02、Sb203、ln203、ZnO和MgO等金屬氧化物。離子導電性物質可以是諸如季銨鹽或者堿金屬或堿土金屬的高氯酸鹽等公知的離子導電性物質。這些導電劑可以單獨使用或者兩種以上組合使用。導電劑的含量可以在能夠提供所需性能的范圍內任意確定。如果導電劑是電子導電劑，相對于100重量份的橡膠材料，其含量優選在約1重量份約90重量份的范圍內，而如果是離子導電劑，相對于100重量份的橡膠材料，其含量優選在約0.01重量份約10重量份的范圍內，彈性層的體積電阻率優選為約10力(m約1012dcm，更優選為約1040《111約109acm，進一步優選為約105Q.cm約108acm。如果彈性層的體積電阻率小于約103Gcm，該層易于導致電擊穿而產生圖像品質缺陷，如果超過約l(^acm，該層具有的充電性能過低，以至于可能會產生圖像品質缺陷。在本發明中，體積電阻率是溫度為20'C時的體積電阻率。彈性層的體積電阻率的測定如下制備彈性層的片狀試樣，將電極(R12702A/B電阻槽(resistivitychamber),由AdvantestCorporation制造)貝占附在片狀試樣的兩面上，另外，按與上述電極同軸排列的方式，進一步將環形接地電極貼附在片狀試樣電極的一面上，并將高電阻測量儀(R8340A數字超高電阻/微電流測量儀，由AdvantestCorporation制造)與電極連接。將經調節使片狀試樣具有1000V/cm的電場(施加電壓/片狀試樣厚度)的電壓施加到電極上，測定充電30秒后的電流并通過下式(1)使用該電流值計算體積電阻率(Q'cm)。式(l)體積電阻率(dcm)二19.63X施加電壓(V)/電流(A)X片狀試樣厚度(cm)根據本發明的一個實施方式的充電輥的所述彈性層具有經研磨的外表面。通過對彈性層的外表面的研磨處理，根據本發明的一個實施方式的充電輥具有精確的形狀，從而確保在下述處理盒或成像設備中沿著該輥的長度方向與電子照相感光體均勻接觸。對研磨處理后的形狀不作特別限定，只要能夠提供所需的性能即可，并且其可以根據電子照相感光體的直徑和長度、充電輥的直徑和長度以及充電輥支持體的直徑和材料適當地確定。可以使用任何工具來對彈性層進行研磨處理，最優選使用的是砂輪。另外，經過研磨處理后的彈性層的表面粗糙度Rz優選為小于或等于約20(im。如果彈性層的表面粗糙度Rz超過約20pm，調色劑或灰塵等可能會積聚在充電輥的凹陷部而導致圖像缺陷。彈性層的表面粗糙度Rz更優選為小于或等于約10pm，進一步優選為小于或等于約8,。彈性層的表面粗糙度Rz利用SURFCOM1400A(由東京精密株式會社制造)測量，并根據JISB0601進行計算。形成根據本發明的一個實施方式的充電輥的表面層是為了防止調色劑或灰塵等的污染，該層的材料可以是在能夠提供所需性能范圍內的任何己知樹脂或橡膠等。其優選的例子包括聚烯烴樹脂，如丙烯酸類樹脂、氟改性丙烯酸類樹脂、硅酮改性丙烯酸類樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚氨酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚酰亞胺樹脂、環氧樹脂、硅樹脂、聚乙烯醇樹脂、纖維素、聚乙烯醇縮乙醛樹脂、乙烯四氟乙烯樹脂、三聚氰胺樹脂、聚乙烯樹脂、聚乙烯基類樹脂、聚芳酯樹脂、聚噻吩樹脂、PFA(全氟烷基乙烯基醚共聚物)、FEP(四氟乙烯-六氟丙烯共聚物)和PET(聚對苯二甲酸乙二酯)；苯乙烯丁二烯樹脂和氟橡膠等。其中，從防止污染的角度來看，優選聚偏二氟乙烯樹脂、四氟乙烯樹脂和聚酰胺樹脂。這些樹脂可以單獨使用或者兩種以上組合使用。表面層的體積電阻率(2(TC時)優選為約1(^acm約1012Q.cm，更優選為約1()4Q《m約109Clcm，進一步優選為約1050《111約108acm。如果表面層的體積電阻率小于約103flcm，該層易于導致電擊穿而產生圖像品質缺陷，如果超過約1012acm，該層具有的充電性能過低，以至于可能會產生圖像品質缺陷。表面層的體積電阻率的測定如下制備表面層的片狀試樣，將電極(R12702A/B電阻槽，由AdvantestCorporation制造)貼在片狀試樣的兩面上，另外，按與上述電極同軸排列的方式，進一步將環形接地電極貼在片狀試樣電極的一面上，并將高電阻測量儀(R8340A數字超高電阻/微電流測量儀，由AdvantestCorporation制造)與該電極連接。將經調節使片狀試樣具有1000V/cm的電場(施加電壓/片狀試樣厚度)的電壓施加到電極上，測定充電30秒后的電流并通過下式(l)使用該電流值計算體積電阻式(l)體積電阻率(D，cm"19.63X施加電壓(V)/電流值(A)X復合片材厚度(cm)表面層可以含有用于調節該層的體積電阻率的導電劑。導電劑的例子包括針對彈性層舉出的導電劑，例如炭黑、金屬和金屬氧化物。如果需要，表面層可以進一步含有諸如受阻酚和受阻胺等抗氧化劑、諸如粘土和高嶺土等填料以及諸如硅油等潤滑劑。上述中間層由體積電阻率為小于或等于約l(^Qcm的導電性高分子材料或半導電性高分子材料構成。所述高分子材料的例子包括橡膠材料，如SBR(苯乙烯丁二烯橡膠)、BR(聚丁二烯橡膠)、高密度苯乙烯橡膠(高密度苯乙烯樹脂母料)、IR(異戊二烯橡膠)、IIR(丁基橡膠)、鹵代丁基橡膠、NBR(丁腈橡膠)、氫化NBR(H-NBR)、EPDM(三元乙丙橡膠)、EPM(乙烯丙烯橡膠)、NBR/EPDM橡膠、CR(氯丁橡膠)、ACM(丙烯酸類橡膠)、CO(醇橡膠(hydrinrubber))、ECO(氯醚橡膠)、聚氯化乙烯、VAMAC(乙烯-丙烯酸類橡膠)、VMQ(硅橡膠)、AU(聚氨酯橡膠)、FKM(氟橡膠)、NR(天然橡膠)禾卩CSM(氯代磺酸化聚乙烯橡膠)；和樹脂材料，如PVC(聚氯乙烯)、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚酰亞胺、尼龍、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚芳酯、聚碳酸酯、Teflon(注冊商標)和硅酮。所述樹脂可以從混合物、共聚物和改性的衍生物中任意選擇。形成上述電阻調節層是為了將充電輥調節到預定的電阻值，電阻調節層由其中分散有上述導電性顆粒的薄樹脂膜構成。所用樹脂沒有特別限定，其優選的例子包括聚氨酯、聚酰胺、聚酯和丙烯酸類樹脂。作為導電劑，優選使用那些用于彈性層的樹脂。形成上述彈性層、表面層以及可能需要的粘合層、中間層和電阻調節層的方法的例子包括刮刀涂布法、邁耶繞線棒涂布法、噴涂法、浸涂法、線性涂布法(beadcoatingmethod)、氣刀涂布法和幕涂法。根據本發明的一個實施方式的充電輥在彈性層的表面具有通過研磨形成的凸部和凹部，并且表面層在凸部往往較薄。因此，表面層從彈性層的外表面起的厚度必須為等于或大于約2pm。另外，為了維持充電輥的電阻值，表面層從彈性層的外表面起的厚度必須為小于或等于約10pm。如果表面層從彈性層的外表面起的厚度為小于約2pm，表面層無法防止滲出或起霜的物質從彈性層遷移到表面層，如果超過約10pm，表面層往往具有較高的電阻值，因而容易在長期使用過程中造成充電性能劣化。表面層從彈性層的外表面起的厚度優選為約2pm約10pm，更優選為約3(im7|om。表面層從彈性層的外表面起的厚度測定如下用刀切開根據本發明的一個實施方式的充電部件，從而形成一個截面，并用激光顯微鏡測量表面層與所述彈性層的凸部和凹部接觸的區域的厚度。根據本發明的一個實施方式的充電輥的表面粗糙度Rz優選為小于或等于約10,，更優選為小于或等于約8,，進一步優選為小于或等于約6pm。如果表面粗糙度Rz超過約10pm,會發生充電性能的不均勻現象(irregularility)，從而導致無法對感光體進行均勻充電。表面粗糙度Rz利用SURFCOM1400A(東京精密株式會社制造)測量，并根據JISB0601進行計算。表面粗糙度可以但不限于例如通過聚集彈性層、表面層和其它層中所含的導電性顆粒或半導電性顆粒來調節，或者通過對彈性層、表面層和其它層進行研磨來調節。根據本發明的一個實施方式的充電輥在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中或者在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，在所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％，所述比率優選為約2%重量約6重量％。如果吸水率小于約2重量％，該輥的電阻會因長期使用過程中附著的調色劑、外部添加劑和放電生成物等而發生急劇變化；如果超過約8重量％，電阻會隨使用環境發生顯著變化，從而改變充電性能，這往往會導致圖像濃度異常。因此，當該輥在溫度為l(TC、相對濕度為15。/。的環境中或者在溫度為28'C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，具有約2%重量約8重量％的吸水率時，該輥即使在長期反復使用后也能夠提供良好的電學特性和高度穩定的圖像品質。吸水率的測定如下用刀切開彈性層和表面層，并將其在溫度為l(TC、相對濕度為15。/o的環境中或者在溫度為28。C、相對濕度為85%的環境中保存48小時，然后用卡爾-費歇爾(KarlFischer)水分測定法測量水分含量。采用卡爾-費歇爾水分測定法的水分含量測定按如下進行從芯材上剝下構成充電輥的各層，用蒸發儀蒸發所含的水，將所蒸發的水導入含有已利用卡爾-費歇爾試劑脫水的溶劑的滴定燒瓶，然后用卡爾-費歇爾試劑進行滴定。例如可以向構成充電輥的至少一個層中加入親水性化合物或親水性樹脂，或者以親水性化合物對包含在該層中的顆粒進行表面處理，使得充電輥在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中或者在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，上述吸水率為約2%重量約8重根據本發明的一個實施方式的充電輥的動態超顯微硬度(dynamicultra-microhardness)優選為小于或等于約0.5，更優選為小于或等于約0.4。動態超顯微硬度(下文可以縮寫為"DH")是通過式(2)計算的硬度DH=aXP/D2—(2)其中，P為測試荷重(mN)，D為壓頭以恒定壓入速度(mN/s)進入試樣時測量的壓入深度Oim)，而a為取決于壓頭形狀的常數。采用動態超顯微硬度測定儀DUH-W201S(島津制作所制造)來測量動態超顯微硬度。動態超顯微硬度利用軟質材料測定法來測定，其中，三角錐壓頭(頂角115°，a:3.8584)以約0.14mN/s的壓入速度進入充電輥，測試荷重為約1.0mN，并測量壓入深度D。<成像設備和電子照相處理盒>以下進一步描述包括根據本發明的一個實施方式的充電輥作為充電裝置的根據本發明的一個實施方式的成像設備和電子照相處理盒。根據本發明的一個實施方式的成像設備包括電子照相感光體；充電裝置，該充電裝置設置成與所述電子照相感光體接觸，并將該電子照相感光體充電至預定電位；靜電潛像形成裝置，該靜電潛像形成裝置在所述電子照相感光體的帶電表面上形成靜電潛像；顯影裝置，該顯影裝置將調色劑轉移到形成于所述電子照相感光體上的所述靜電潛像以使所述靜電潛像可視化為調色劑圖像；和轉印裝置，該轉印裝置將所述調色劑圖像轉印到接受部件上；其中，所述充電裝置具有根據本發明的一個實施方式的充電輥，并且優選通過僅將直流電流施加于所述充電輥而對所述電子照相感光體進行充電。圖1是根據本發明的一個實施方式的成像設備的示意圖。圖1中所示的成像設備包括電子照相感光體1、充電裝置(根據本發明的一個實施方式的充電輥)2、充電裝置用清潔裝置3、電源4、曝光裝置(靜電潛像形成單元)5、顯影裝置(顯影單元)6、轉印裝置(轉印單元)7、電子照相感光體用清潔裝置8、除電裝置9和定影裝置11。電子照相感光體用清潔裝置8和除電裝置9根據需要進行設置。感光體1包括設置在導電性基體外周面上的感光層。作為導電性基體，可以使用由鋁、銅、鐵、不銹鋼、鋅或鎳等制成的金屬鼓。或者，可以將諸如鋁、銅、金、銀、鉑、鈀、鈦、鎳-鉻合金、不銹鋼、銅或銦等金屬氣相沉積在片材、紙、塑料或玻璃上來制備基體。或者，可以將諸如氧化銦或氧化錫等導電性金屬化合物氣相沉積在片材、紙、塑料或玻璃上來制備基體。或者，可以將片材、紙、塑料或玻璃與金屬箔一起層壓來制備基體。或者，可以用包含粘合劑和選自炭黑、氧化銦、氧化錫、氧化銻粉末、金屬粉末和碘化銅等的導電性材料的分散液涂布在片材、紙、塑料或玻璃上來制備基體。導電性基體的形狀不限于鼓狀，其可以是片狀和板狀。當導電性基體為金屬管時，其表面可以未經處理，或者可以進行過諸如鏡面切削、蝕刻、陽極氧化、粗切削、無心研磨、噴砂和濕式珩磨等處理。如果需要，可以選擇在導電性基體和感光層之間設置底涂層。底涂層中包含的材料的例子包括有機金屬化合物。有機金屬化合物的具體例子包括有機鋯化合物，如鋯螯合物、烷醇鋯化合物和鋯偶聯劑；有機鈦化合物，如鈦螯合物、垸醇鈦化合物和鈦酸酯偶聯劑；和有機鋁化合物，如鋁螯合物和鋁偶聯劑；烷醇銻化合物；垸醇鍺化合物；烷醇銦化合物；銦螯合物；垸醇錳化合物；錳螯合物；烷醇錫化合物；錫螯合物；垸醇鋁硅化合物；烷醇鋁鈦化合物；和烷醇鋁鋯化合物。優選有機鋯化合物、有機鈦氧化合物和有機鋁化合物，這是因為包含這些化合物的感光體具有低殘余電勢和優異的電子照相特性。底涂層中包含的材料可以進一步包括諸如乙烯基三氯硅垸、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、，縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、Y-氨基丙基三乙氧基硅烷、Y-氯丙基三甲氧基硅烷、，2-氨基乙基氨基丙基三甲氧基硅烷、Y-巰基丙基三甲氧基硅烷、，脲基丙基三乙氧基硅烷或卩-3,4-環氧環己基三甲氧基硅垸等硅垸偶聯劑。另外，也可以使用己知的粘合劑樹脂，如曾用于底涂層的聚乙烯醇、聚乙烯基甲基醚、聚-N-乙烯基咪唑、聚氧化乙烯、乙基纖維素、甲基纖維素、乙烯-丙烯酸共聚物、聚酰胺、聚酰亞胺、酪蛋白、明膠、聚乙烯、聚酯、酚醛樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、環氧樹脂、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯基吡啶、聚氨酯、聚谷氨酸或聚丙烯酸等。可以根據需要適當設定它們的混合比。另外，在底涂層中，還可以以混合/分散狀態使用電子輸送性有機顏料。電子輸送性顏料的例子包括在日本特開昭47-30330號公報中描述的諸如二萘嵌苯顏料、二苯并咪唑二萘嵌苯顏料、多環醌顏料、靛藍顏料和喹吖啶酮顏料等有機顏料；以及具有諸如氰基、硝基、亞硝基和鹵素原子等吸電子性取代基的有機顏料，其例子包括雙偶氮顏料和酞菁顏料。在這些顏料中，從它們的高電子遷移性的觀點來看，優選的是二萘嵌苯顏料、二苯并咪唑二萘嵌苯顏料和多環醌顏料。出于控制分散性和電荷輸送性的目的，可以用上述偶聯劑或粘合劑對這些顏料進行表面處理。如果電子輸送性顏料的含量過大，則底涂層的強度會劣化，從而導致涂膜中的缺陷。因此，底涂層中的電子輸送性顏料的含量優選為小于或等于95重量％，更優選為小于或等于約90重量％。底涂層可以包含半導電性金屬氧化物細顆粒。用于本發明的半導電性金屬氧化物細顆粒的體積電阻率(2(TC時)優選為約102Ocm約1011Qxm。這是因為底涂層需要具有適當的電阻以獲得一定的耐漏電性。在眾多半導電性金屬氧化物顆粒中，優選使用諸如氧化鈦、氧化鋅、氧化錫或氧化鋯等粉末電阻為約10"Qxm約1011Q，cm的金屬氧化物細顆粒。特別優選的是氧化鋅。電阻低于上述范圍的下限的金屬氧化物細顆粒有時無法提供足夠高的耐漏電性，而電阻高于上述范圍的上限的那些金屬氧化物細顆粒有時會導致殘余電勢的上升。金屬氧化物細顆粒可以例如以表面處理不同或粒徑不同的兩種以上顆粒組合使用。另外，金屬氧化物細顆粒的比表面積優選為等于或大于約10m2/g。比表面積為小于或等于約10m2/g的顆粒存在易于導致靜電性能劣化從而難以獲得有利的電子照相性能的缺點。可以對金屬氧化物細顆粒進行表面處理。表面處理劑可以從已知的材料中選擇，所述材料例如是硅烷偶聯劑、鈦酸酯偶聯劑、鋁偶聯劑和表面活性劑，只要該材料能夠提供所需的性能即可。特別優選使用的是能夠提供有利的電子照相性能的硅垸偶聯劑。在底涂層中更優選使用的是含氨基的硅烷偶聯劑，這是因為其可以提供有利的阻擋性能。含氨基的硅烷偶聯劑不作特別限制，只要其能夠為感光體提供有利的性能即可，其典型例子包括但不限于Y-氨基丙基三乙氧基硅垸、N-(3-(氨基乙基)-y-氨基丙基三甲氧基硅垸、N-(3-(氨基乙基)-，氨基丙基甲基二甲氧基硅烷和N，N-二(p-羥基乙基)-Y-氨基丙基三乙氧基硅垸等。硅烷偶聯劑可以兩種以上組合使用。可以與含氨基的硅烷偶聯劑一起使用的硅垸偶聯劑的例子包括但不限于乙烯基三甲氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰氧基丙基-三(P-甲氧基乙氧基)硅烷、|3-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基硅烷、Y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、Y-巰基丙基三甲氧基硅烷、？氨基丙基三乙氧基硅烷、N-P-(氨基乙基)卞氨基丙基三甲氧基硅烷、N-p-(氨基乙基)卞氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N，N-二((3-羥基乙基)個氨基丙基三乙氧基硅垸和Y-氯丙基三甲氧基硅垸等。作為表面處理方法，可以使用干法和濕法以及其它已知的方法。當釆用干法進行表面處理時，金屬氧化物細顆粒可以通過以下方法進行均勻處理在具有高剪切力的混合機中攪拌金屬氧化物顆粒，同時將硅烷偶聯劑直接加到該金屬氧化物顆粒上，或將在有機溶劑中溶解有硅烷偶聯劑的溶液加到該金屬氧化物顆粒上，然后與干燥空氣或氮氣流一起向金屬氧化物顆粒噴霧。在添加或噴霧的過程中，溫度優選保持在低于溶劑的沸點的溫度。在溶劑沸點以上的溫度進行噴霧時，有時會導致溶劑在硅烷偶聯劑均勻分布之前蒸發和硅垸偶聯劑的局部聚集，因此妨礙了均勻處理。可以在添加或噴霧之后，進一步在10(TC以上對金屬氧化物細顆粒進行烘焙。烘焙可以在任意條件下進行，只要溫度和時間適于獲得所需的電子照相性能即可。當采用濕法進行表面處理時，可以通過以下方法來對金屬氧化物細顆粒進行均勻處理采用攪拌器、超聲波儀、砂磨機、磨碎機或球磨機等將金屬氧化物細顆粒分散在溶劑中，向其中加入硅烷偶聯劑溶液，攪拌或分散所得的混合物并除去溶劑。溶劑通常采用過濾或蒸餾除去。可以在除去溶劑之后，進一步在IO(TC以上對金屬氧化物細顆粒進行烘焙。烘焙可以在任意條件下進行，只要溫度和時間適于獲得所需的電子照相性能即可。在濕法中，可以在添加表面處理劑之前，通過例如加熱并攪拌用于表面處理的溶劑中的顆粒或者與溶劑進行共沸蒸餾，除去金屬氧化物細顆粒中所包含的水。可以在能夠提供所需的電子照相性能的范圍內，任意確定底涂層中硅烷偶聯劑相對于金屬氧化物細顆粒的量。另外，底涂層中的金屬氧化物細顆粒可以具有電子接受體化合物。根據本發明，可以使用任何化合物作為電子接受體化合物，只要其具有可與金屬氧化物細顆粒反應從而可提供所需的性能的基團即可，特別優選的是具有羥基的化合物。尤其優選具有包含羥基的蒽醌結構的電子接受體化合物。具有包含羥基的蒽醌結構的電子接受體化合物的例子包括羥基蒽醌類化合物和氨基羥基蒽醌類化合物等，可以有利地使用任何化合物。電子接受體化合物的特別有利的例子包括茜素、醌茜、蒽絳酚、紅紫素、l-羥基蒽醌、2-氨基-3-羥基蒽醌和l-氨基-4-羥基蒽醌等。本發明使用的電子接受體化合物的含量可以在能夠提供所需性能的范圍內任意確定，但相對金屬氧化物細顆粒，該含量優選為約0.01重量％約20重量％，更優選為約0.05重量％約10重量％。電子接受體含量小于約0.01重量％的金屬氧化物細顆粒可能無法有效地提供防止底涂層中電荷累積的足夠的電子接受體性質，因此在反復使用時常常造成諸如殘余電勢增加等而使感光體的可維持性劣化。而含量大于約20重量％的電子接受體化合物可能導致金屬氧化物顆粒的聚集，從而在形成底涂層時妨礙金屬氧化物在底涂層中形成有利的導電通道，因此在反復使用過程中造成諸如殘余電勢增加而使可維持性惡化，并因此造成諸如黑斑等圖像品質缺陷。包含在底涂層中的粘合劑樹脂不作特別限定，只要其能夠提供有利的膜并且使該膜具有所需性能即可，其例子包括公知的高分子化合物，例如聚乙烯醇丁縮醛樹脂等縮醛樹脂、聚乙烯醇樹脂、酪蛋白、聚酰胺、纖維素樹脂、明膠、聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、甲基丙烯酸類樹脂、丙烯酸類樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐樹脂、硅樹脂、硅酮-醇酸樹脂、酚醛樹脂、苯酚-甲醛樹脂、三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂；具有電荷輸送性基團的電荷輸送性樹脂；諸如聚苯胺等導電性樹脂；等等。其中，優選不溶于上層用涂布溶劑的樹脂，其有利的例子包括酚醛樹脂、苯酚-甲醛樹脂、三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂和環氧樹脂等。用以提供底涂層的涂布液(底涂層形成用涂布液)中的金屬氧化物細顆粒與粘合劑樹脂的量的比率可以在能夠提供所需的電子照相性能的范圍內任意設定。底涂層形成用涂布液還可以包含各種添加劑，以改善電學特性、環境穩定性和/或圖像品質。所述添加劑的例子包括電子輸送性材料，包括例如氯醌和溴醌等醌類化合物、四氰基醌二甲垸類化合物、例如2，4,7-三硝基芴酮和2,4，5,7-四硝基-9-芴酮等芴酮類化合物、例如2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-l，3，4-噁二唑、2,5-二(4-萘基)-1，3，4-噁二唑和2,5-二(4-二乙基氨基苯基)-l，3,4-噁二唑等噁二唑類化合物、P占噸酮類化合物、噻吩類化合物和例如3,3',5,5'-四叔丁基聯苯醌等聯苯醌類化合物；電子輸送性顏料，例如多環縮合類顏料和偶氮顏料；以及公知的材料，例如鋯螯合物、鈦螯合物、鋁螯合物、垸醇鈦化合物、有機鈦化合物和硅烷偶聯劑；等等。硅烷偶聯劑用于金屬氧化物的表面處理，但是還可以作為涂布液中的添加劑使用。可用的硅烷偶聯劑的典型例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰氧基丙基-三(P-甲氧基乙氧基)硅烷、P-(3，4-環氧環己基)乙基三甲氧基硅垸、Y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅垸、乙烯基三乙酰氧基硅烷、Y-巰基丙基三甲氧基硅烷、Y-氨丙基三乙氧基硅烷、N-(3-(氨基乙基)-Y-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(3-(氨基乙基)個氨基丙基甲基二甲氧基硅垸、N,N-二(P-羥基乙基)-Y-氨基丙基三乙氧基硅垸和Y-氯丙基三甲氧基硅垸等。所述鋯螯合物的例子包括丁氧鋯、乙酰乙酸乙酯鋯、三乙醇胺鋯、乙酰丙酮酸丁氧鋯、乙酰乙酸乙酯丁氧鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、膦酸鋯、辛酸鋯、環垸酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸丁氧鋯(methacrylatozirconiumbutoxide)、硬脂酸丁氧鋯(stearatozirconiumbutoxide)禾n異硬月旨酸丁氧鋯(isostearatozirconiumbutoxide)等。所述鈦螯合物的例子包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚物、鈦酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮鈦、聚乙酰丙酮鈦、亞辛基乙醇酸鈦、乳酸鈦銨鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙酯、三乙醇胺化鈦和聚硬脂酸羥基鈦等。所述鋁螯合物的例子包括異丙醇鋁、二異丙醇單丁氧基鋁、丁醇鋁、乙酰乙酸乙酯二異丙醇鋁和三(乙酰乙酸乙酯)鋁等。這些化合物可以單獨使用，或作為多種化合物的混合物或縮聚物使用。用于制備底涂層形成用涂布液的溶劑可以從已知的有機溶劑中任意選擇例如醇類、芳香烴類、卣代烴類、酮類、酮醇類、醚類和酯類。例如可以使用常用的有機溶劑，如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲垸、氯仿、氯苯和甲苯。另外，上述用于分散的溶劑可以單獨使用，或作為兩種以上的混合物使用。作為用于所述混合物的溶劑，可以使用任何溶劑，只要該混合溶劑能夠溶解粘合劑樹脂即可。金屬氧化物細顆粒和具有可與該金屬氧化物細顆粒反應的基團的電子接受體化合物可采用包括輥磨機、球磨機、振動球磨機、磨碎機、砂磨機、膠體磨和涂料振蕩機的已知方法中的任一種方法混合。此外，底涂層可以采用本領域中通常采用的方法中的任一種方法形成，所述方法包括刮刀涂布、繞線棒涂布、噴涂、浸涂、線性涂布、氣刀涂布或幕涂等o在底涂層中，金屬氧化物細顆粒與具有可與該金屬氧化物細顆粒反應的基團的電子接受體化合物之間的反應可以在分散工序中或者為固化而對涂布層進行干燥的過程中發生，優選在用于均勻反應的分散液中發生。所得的底涂層形成用涂布液用于在導電性基體上形成底涂層。底涂層的維克斯強度優選為35以上。此外，底涂層的厚度可以在能夠提供所需性能的范圍內任意選擇，該厚度優選為等于或大于5,，并進一步優選為5pm50nm。如果底涂層的厚度小于5pm，則無法獲得足夠的耐漏電性，而如果超過50pm，長期使用后往往會保留有殘余電勢，從而導致圖像濃度異常。為了防止出現莫爾圖(moireimages),將底涂層的表面粗糙度調節為所用的曝光用激光的波長X的1/4n(n表示上層的折射率)至1/2。可以向底涂層中加入樹脂顆粒來調節表面粗糙度。可用的樹脂顆粒例如為硅樹脂顆粒或交聯PMMA樹脂顆粒等。作為選擇，可以對底涂層進行拋光來調節表面粗糙度。拋光方法包括磨光、噴砂、濕式珩磨和研磨處理等。此外，還可以在底涂層和感光層之間形成中間層，以改善電學特性、圖像品質、圖像品質維持性和感光層的粘合性。中間層含有高分子樹脂化合物，例如聚乙烯醇丁縮醛等縮醛樹脂、聚乙烯醇樹脂、酪蛋白、聚酰胺樹脂、纖維素樹脂、明膠、聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、丙烯酸類樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐樹脂、硅樹脂、硅酮-醇酸樹脂、苯酚-甲醛樹脂或三聚氰胺樹脂等；以及含有鋯、鈦、鋁、錳、硅或其它原子的有機金屬化合物。這些混合物可以單獨使用，或者作為多種化合物的混合物或縮聚物使用。其中，性能優異的是含有鋯、鈦或鋁的有機金屬化合物或硅烷偶聯劑，這是因為其具有較低的殘余電勢、電勢隨環境的波動較小，而且因反復使用造成的電勢的波動較小。硅垸偶聯劑的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰氧基丙基-三((3-甲氧基乙氧基)硅烷、(3-(3，4-環氧環己基)乙基三甲氧基硅烷、Y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅垸、乙烯基三乙酰氧基硅烷、Y-巰基丙基三甲氧基硅垸、Y-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(3-虔基乙基)個氨基丙基三甲氧基硅垸、N-(3-(氨基乙基)個氨基丙基甲基二甲氧基硅垸、N，N-二(P-羥基乙基)個氨基丙基三乙氧基硅烷和Y-氯丙基三甲氧基硅烷等。其中特別優選使用的所述硅垸化合物包括乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基硅垸、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、1^-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅垸等。所述有機鋯化合物的例子包括丁氧鋯、乙酰乙酸乙酯鋯、三乙醇胺鋯、乙酰丙酮酸丁氧鋯、乙酰乙酸乙酯丁氧鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、膦酸鋯、辛酸鋯、環烷酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸丁氧鋯、硬脂酸丁氧鋯和異硬脂酸丁氧鋯等。所述有機鈦化合物的例子包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚物、鈦酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮鈦、聚乙酰丙酮鈦、亞辛基乙醇酸鈦、乳酸鈦鉸鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙酯、三乙醇胺化鈦和聚硬脂酸羥基鈦等。所述有機鋁化合物的例子包括異丙醇鋁、二異丙醇單丁氧基鋁、丁醇鋁、乙酰乙酸乙酯二異丙醇鋁和三(乙酰乙酸乙酯)鋁等。中間層可以改善上層的涂布性，并且還可以起到電阻擋層的作用。然而，如果膜厚過大，該層會具有過強的電阻擋性能，從而導致減感或因反復使用引起的電勢上升。因此，當形成中間層時，膜厚優選設定為0.1|jm5pm。構成感光層的電荷產生層通過電荷產生物質的真空沉積來形成，或者通過將電荷產生物質與有機溶劑和粘合劑樹脂的一起分散并涂布來形成。當采用分散涂布來形成電荷產生層時，將電荷產生物質與有機溶劑、粘合劑樹脂和其它添加劑一起分散，并涂布所得的分散液來形成電荷產生層。在本發明中，電荷產生物質可以是任何已知的電荷產生物質。用于紅外光的電荷產生劑可以是酞菁顏料、方酸菁、雙偶氮、三偶氮、二萘嵌苯或二硫酮吡咯并吡咯(d池ioketopyrrolopyrrole)。用于可見光的電荷產生劑可以是稠合的多環顏料、雙偶氮、二萘嵌苯、三角硒(trigonalselen)或用染料敏化的金屬氧化物細顆粒。特別優選的是酞菁顏料或偶氮顏料，這是因為它們具有優異的特性。當使用酞菁顏料或偶氮顏料時，電子照相感光體在反復使用時具有高感光度和高穩定性。通常，酞菁顏料或偶氮顏料各自具有多種晶型，但是對晶型沒有限定，只要可以獲得適合使用的電子照相特性即可。所使用的電荷產生物質的優選例子包括氯鎵酞菁、二氯錫酞菁、羥基鎵酞菁、不含金屬的酞菁、鈦氧基酞菁和氯銦酞菁。可以在自動研缽、行星磨(planetarymill)、振動磨、CF磨、輥磨機、砂磨機或捏和機中，通過干式機械粉碎由已知方法制得的酞菁顏料來制備酞菁顏料晶型，或者另外于球磨機、研缽、砂磨機或捏和機中采用溶劑對干式粉碎后的該晶型進行濕式粉碎。上述處理中所用溶劑的例子包括芳香族化合物類(甲苯和氯苯等)、酰胺類(二甲基甲酰胺和N-甲基吡咯垸酮等)、脂肪醇類(甲醇、乙醇和丁醇等)、脂族多元醇類(乙二醇、丙三醇和聚乙二醇等)、芳香醇類(苯甲醇和苯乙醇等)、酯類(乙酸酯和乙酸丁酯等)、酮類(丙酮和甲基乙基酮等)、二甲亞砜、醚類(乙醚和四氫呋喃等)以及多種溶劑的混合物體系、這些溶劑和水的混合物體系。相對于100重量份的顏料晶體，所述溶劑的用量優選為約1重量份約200重量份，更優選為約10重量份約100重量份。處理溫度在約-2(TC至溶劑沸點的范圍內，更優選為約-l(TC約6(TC。在粉碎過程中，可以另外加入諸如氯化鈉或硫酸鈉等研磨助劑。所述研磨助劑的用量為所述顏料的約0.5倍約20倍，優選為約1倍約10倍。由已知方法制得的酞菁顏料晶體的晶態可以通過酸糊法(acidpasting)進行控制，或者結合酸糊法和上述濕式粉碎或干式粉碎進行控制。可有利用于酸糊法的酸是硫酸，其濃度優選為約70重量％約100重量％，更優選為約95重量％約100重量％，有利的溶解溫度為約-2(TC約10(TC，更優選為約-10'C約6(TC。濃硫酸溶液的量相對于酞菁顏料晶體的量為約1倍約100倍，優選為該量的約3倍約50倍。可以使用任意量的水或水與有機溶劑的混合物作為析出溶劑。析出溫度不作特別限定，但是顏料溶液優選例如采用冰進行冷卻以防止過熱。用于電荷產生層的粘合劑樹脂可以選自寬范圍的絕緣性樹脂和有機光導性聚合物，例如聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘和聚硅烷。粘合劑樹脂的優選實例包括但不限于絕緣性樹脂，例如聚乙烯醇縮乙醛樹脂、聚芳酯樹脂(例如，雙酚A和鄰苯二甲酸之間的縮聚物)、聚碳酸酯樹酯、聚酯樹脂、苯氧基樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺樹脂、丙烯酸類樹脂、聚丙烯酰胺樹脂、聚乙烯基吡啶樹脂、纖維素樹脂、聚氨酯樹脂、環氧樹脂、酪蛋白、聚乙烯醇樹脂和聚乙烯吡咯垸酮樹脂。這些粘合劑樹脂可以單獨使用或將兩種以上組合使用。其中特別優選使用的是聚乙烯醇縮乙醛樹脂。在電荷產生層形成用涂布液中，電荷產生物質與粘合劑樹脂的混合比(重量比)優選在約10:1至約1:10的范圍內。用于制備所述涂布液的溶劑可以從己知有機溶劑中任意選擇，所述有機溶劑例如醇類、芳香族化合物類、鹵代烴類、酮類、酮醇類、醚類和酯類等。例如可以使用常用的有機溶劑，如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁垸、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。用于分散電荷產生物質和粘合劑樹脂的溶劑可以單獨使用，或者兩種以上組合使用。任何溶劑都可以用于混合，只要其能夠溶解所述粘合劑樹脂即可。所用的分散方法包括例如采用輥磨機、球磨機、振動球磨機、磨碎機、砂磨機、膠體磨或涂料振蕩機等的分散方法。可以采用通常的方法例如刮刀涂布法、繞線棒涂布法、噴涂法、浸涂法、線性涂布法、氣刀涂布法和幕涂法中的任一種常規方法來涂布電荷產生層。將分散液中顆粒的直徑控制為小于或等于約0.5^m，優選小于或等于約0.3pm，更優選小于或等于約0.15pm，可以有效地改善感光度和穩定性。可以另外對電荷產生物質的表面進行處理以使電學特性穩定并防止圖像品質缺陷。表面處理劑包括但不限于偶聯劑。用于表面處理的偶聯劑的例子包括諸如乙烯基三甲氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰氧基丙基-三03-甲氧基乙氧基)硅烷、(3-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基硅烷、y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅垸、乙烯基三乙酰氧基硅烷、Y-巰基丙基三甲氧基硅垸、Y-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(3-(氨基乙基)卞氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(3-(氨基乙基)-丫-氨基丙基甲基二甲氧基硅垸、N，N-雙((3-羥基乙基)-7-氨基丙基三乙氧基硅烷和Y-氯丙基三甲氧基硅烷等硅烷偶聯劑。其中，特別優選使用的硅垸偶聯劑為乙烯基三乙氧基硅垸、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷和3-氯丙基三甲氧基硅烷。另外，也可以使用有機鋯化合物，其包括丁氧鋯、乙酰乙酸乙酯鋯、三乙醇胺鋯、乙酰丙酮酸丁氧鋯、乙酰乙酸乙酯丁氧鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、膦酸鋯、辛酸鋯、環烷酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸丁氧鋯、硬脂酸丁氧鋯和異硬脂酸丁氧鋯等。此外，也可以使用有機鈦化合物，其包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚物、鈦酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮鈦、聚乙酰丙酮鈦、亞辛基乙醇酸鈦、乳酸鈦銨鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙酯、三乙醇胺化鈦和聚硬脂酸羥基鈦等；以及有機鋁化合物，例如異丙醇鋁、二異丙醇單丁氧基鋁、丁醇鋁、乙酰乙酸乙酯二異丙醇鋁和三(乙酰乙酸乙酯)超牮話寺o可以向電荷產生層用涂布液中另外添加各種添加劑，以改善電學特性和圖像品質。所述添加劑的例子包括電子輸送性材料，該電子輸送性材料包括例如氯醌、溴醌和蒽醌等醌類化合物、四氰基醌二甲垸類化合物、例如2，4，7-三硝基芴酮和2，4,5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮類化合物、例如2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-l，3，4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1,3，4-噁二唑和2,5-二(4-二乙基氨基苯基)-l，3，4-噁二唑等噁二唑類化合物、。占噸酮類化合物、噻吩類化合物和例如3，3',5,5'-四叔丁基聯苯醌等聯苯醌類化合物；電子輸送性顏料，例如多環縮合類顏料和偶氮類顏料；以及公知的材料，例如鋯螯合物、鈦螯合物、鋁螯合物、烷醇鈦化合物、有機鈦化合物和硅烷偶聯劑；等等。硅垸偶聯劑的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰氧丙基-三(p-甲氧基乙氧基)硅烷、P-(3，4-環氧環己基)乙基三甲氧基硅垸、縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、y-巰基丙基三甲氧基硅烷、y-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-P-(氨基乙基)-y-氨基丙基三甲氧基硅垸、N-(3-(氨基乙基)個氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-二((3-羥基乙基)-Y-氨基丙基三乙氧基硅垸和Y-氯丙基三甲氧基硅垸等。所述鋯螯合物的例子包括丁氧鋯、乙酰乙酸乙酯鋯、三乙醇胺鋯、乙酰丙酮酸丁氧鋯、乙酰乙酸乙酯丁氧鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、膦酸鋯、辛酸鋯、環烷酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸丁氧鋯、硬脂酸丁氧鋯和異硬脂酸丁氧鋯等。所述鈦螯合物的例子包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚物、鈦酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮鈦、聚乙酰丙酮鈦、亞辛基乙醇酸鈦、乳酸鈦銨鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙酯、三乙醇胺化鈦和聚硬脂酸羥基鈦等。所述鋁螯合物的例子包括異丙醇鋁、二異丙醇單丁氧基鋁、丁醇鋁、乙酰乙酸乙酯二異丙醇鋁和三(乙酰乙酸乙酯)鋁等。這些化合物可以單獨使用，或作為多種化合物的混合物或縮聚物使用。電荷產生層可以采用本領域中通常采用的方法中的任一種方法形成，所述方法包括刮刀涂布法、繞線棒涂布法、噴涂法、浸涂法、線性涂布法、氣刀涂布法和幕涂法等。任何已知的電荷輸送性化合物都可以用作包含在電荷輸送層32中的電荷輸送性物質，其例子包括空穴輸送性材料，該空穴輸送性材料包括諸如2,5-雙(對二乙氨基苯基)-1,3，4-噁二唑等噁二唑衍生物；諸如1，3，5-三苯基吡唑啉和l-[吡啶基-(2)]-3-(對二乙氨基苯乙烯基)-5-(對二乙氨基苯乙烯基)吡唑啉等吡唑啉衍生物；諸如三苯胺、三(對甲基)苯胺、N,N'-雙(3，4-二甲基苯基)-聯苯基-4-胺、二芐基苯胺和9,9-二甲基-N，N'-二(對甲苯基)芴酮-2-胺等芳香族叔氨基化合物;諸如>^'-二苯基->^'-雙(3-甲基苯基HU'-聯苯基]-4,4'-二胺等芳香族叔二氨基化合物；諸如3-(4'-二甲基氨基苯基)-5,6-二(4-甲氧基苯基H,2，4-三嗪等1，2,4-三嗪衍生物；諸如4-二乙基氨基苯甲醛-l,l-二苯基腙、4-二苯基氨基苯甲醛-l，l-二苯基腙和[對(二乙基氨基)苯基]-(1-萘萄-苯基腙等腙衍生物；諸如2-苯基-4-苯乙烯基喹唑啉等喹唑啉衍生物；諸如6-羥基-2,3-二(對甲氧基苯基)苯并呋喃等苯并呋喃衍生物;諸如對(2，2-二苯基乙烯基)-N,N'-二苯基苯胺等oc-芪衍生物；烯胺衍生物；諸如N-乙基咔唑等咔唑衍生物和聚-N-乙烯基咔唑及其衍生物；和電子輸送性材料，該電子輸送性材料包括諸如氯醌、溴醌和蒽醌等醌類化合物、四氰基對苯醌二甲烷類化合物、諸如2,4,7-三硝基芴酮和2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物、諸如2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-l，3，4-噁二唑、2，5-雙(4-萘基)-1,3,4-噁二唑和2，5-雙(4-二乙氨基苯基)-l,3,4-噁二唑等噁二唑類化合物、咕噸酮類化合物、噻吩化合物和諸如3,3'，5,5'-四叔丁基聯苯醌等聯苯醌化合物；以及在主鏈或側鏈上具有由上述化合物構成的基團的聚合物等。這些電荷輸送性物質可以單獨使用或兩種以上組合使用。電荷輸送層23的粘合劑樹脂可以是任何已知的樹脂，但優選為能夠形成電子絕緣膜的樹脂。例如，可以采用如下的絕緣性樹脂如聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚芳酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、聚乙酸乙烯酯樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐共聚物、硅樹脂、硅酮-醇酸樹脂、苯酚-甲醛樹脂、苯乙烯-醇酸樹脂、聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇縮甲醛、聚砜、酪蛋白、明膠、聚乙烯醇、乙基纖維素、酚醛樹脂、聚酰胺、聚丙烯酰胺、羧甲基纖維素、偏二氯乙烯類聚合物蠟或聚氨酯；或者高分子電荷輸送性材料，如聚乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘、聚硅烷或者在日本特開平8-176293號公報和特開平8-208820號公報公開的聚酯類高分子電荷輸送性材料。所述粘合劑樹脂可以單獨使用或者兩種以上組合使用。考慮到與所述電荷輸送性材料的互溶性、在所述溶劑中的溶解性和強度，可以單獨使用或者兩種以上組合使用的所述粘合劑樹脂特別優選為聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂或丙烯酸樹脂。所述粘合劑樹脂與電荷輸送性物質的混合比(重量比)可以在任何情況下任意選擇，但必須注意電學特性和膜強度的下降。還可以單獨使用高分子電荷輸送性材料。作為高分子電荷輸送性材料，可以使用具有電荷輸送能力的任何已知材料，例如聚-N-乙烯基咔唑或聚硅垸。具體地說，由于日本特開平8-176293號公報和特開平8-208820號公報中公開的聚酯類高分子電荷輸送性材料具有高電荷輸送性，所以是特別優選的。高分子電荷輸送性材料可以單獨用作電荷輸送層，但是其也可以與上述粘合劑樹脂混合成膜。如果電荷輸送層是電子照相感光體的表面層(即感光層中距離導電性基體最遠的一層)，其優選含有潤滑性顆粒(例如二氧化硅顆粒、氧化鋁顆粒、諸如聚四氟乙烯(PTFE)的氟樹脂顆粒或者硅樹脂顆粒)以提供潤滑性能，從而延緩對表面層的磨耗或者避免擦傷，并改善針對沉積在感光體表面的顯影劑的清潔性能。所述潤滑性顆粒可以兩種以上組合使用。特別優選采用的是氟樹脂顆粒。對于氟樹脂顆粒，優選的是選自四氟乙烯樹脂、三氟氯乙烯樹脂、六氟丙烯樹脂、氟乙烯樹脂、偏二氟乙烯樹脂、二氯二氟乙烯樹脂和它們的共聚物中的一種或兩種以上的，特別優選的是四氟乙烯樹脂或偏二氟乙稀樹月旨o前述氟樹脂的初始平均粒徑優選為約0.05(im約l,，更優選為約0.1jjin約0.5pm。小于約0.05[im的初始平均粒徑在分散操作時或分散操作后往往會造成聚集。大于約lpm的初始平均粒徑又往往產生圖像缺陷。在含有氟樹脂顆粒的電荷輸送層中，相對于電荷輸送層的總量，該電荷輸送層中氟樹脂的含量優選為約0.1重量％約40重量％，特別優選為約1重量％約30重量％。低于約0.1重量％的含量對于通過氟樹脂顆粒的分散進行改性的效果可能不足，而超過約40重量％的含量則可能會影響光透射性，并可能在反復使用時使殘余電勢增加。電荷輸送層可以通過涂布和干燥電荷輸送層形成用涂布液進行制備，所述涂布液通過將電荷輸送性材料、粘合劑樹脂和其它材料溶解在適當的溶劑中而制得。用于形成電荷輸送層的溶劑可以是芳香烴類溶劑，例如甲苯和氯苯；脂肪醇類溶劑，例如甲醇、乙醇或正丁醇；酮類溶劑，例如丙酮、環己酮或2-丁酮；鹵代脂肪烴類溶劑，例如二氯甲烷、氯仿或二氯乙垸；環狀或直鏈狀醚類溶劑，例如四氫呋喃、二噁烷、乙二醇和乙醚；或者這些溶劑的混合溶劑。電荷輸送性材料與粘合劑樹脂的混合比(電荷輸送性材料粘合劑樹脂；重量比)優選為約10:1至約1:5。在電荷輸送層形成用涂布液中，可以添加少量的諸如硅油等流平劑來改善涂布膜的平滑性。可以使用例如輥磨機、球磨機、振動球磨機、磨碎機、砂磨機、高壓均質器、超聲波分散器、膠體磨、碰撞式無介質分散器或貫通式無介質分散器，將氟樹脂分散在電荷輸送層中。可以通過例如如下方法來制備電荷輸送層形成用涂布液將粘合劑樹脂和電荷輸送性材料等溶解在溶劑中而制成溶液，然后將氟樹脂顆粒分散在該溶液中。在制備電荷輸送層形成用涂布液的過程中，優選將該涂布液控制在(TC5(TC的溫度范圍內。在涂布液制備工序中，為了將該涂布液的溫度控制在0°C50°C，可以采用水冷法、風冷法、冷卻劑冷卻法、對制備工序中的室溫進行調節的方法、用溫水溫熱的方法、用熱風溫熱的方法、用加熱器溫熱的方法、采用不易發熱的材料制造涂布液制備設備的方法、采用易散熱的材料制造涂布液制備設備的方法或采用易蓄熱的材料制造涂布液制備設備的方法。添加少量輔助性分散劑也可以有效地改善分散液的分散穩定性并防止涂膜形成時的聚集。輔助性分散劑可以是氟類表面活性劑、氟類聚合物、硅酮聚合物或硅油。同樣有效的是，預先在少量分散性溶劑中對氟樹脂和前述輔助性分散劑進行分散、攪拌和混合，然后將如此得到的分散液與通過將電荷輸送性材料、粘合劑樹脂和分散性溶劑混合溶解而形成的溶液進行攪拌混合，再使用前述方法制備分散液。形成電荷輸送層的涂布方法可以是例如浸涂法、噴擠涂布法(fountainextrusioncoatingmethod)、噴涂法、輥涂法、繞線棒涂布法、凹版印刷涂布法、線性涂布法、幕涂法、刮刀涂布法或氣刀涂布法。電荷輸送層的膜厚優選為約5pm約50pm，更優選為約10pm約45fim。另外，在本發明的電子照相感光體中，出于防止因光、熱或電子照相設備中產生的臭氧或氧化性氣體所造成的電子照相感光體的劣化的目的，可以在感光層中加入諸如抗氧化劑或光穩定劑等添加劑。抗氧化劑例如可以是受阻酚、受阻胺、對苯二胺、芳基烷烴、對苯二酚、螺色滿、螺二氫茚酮、上述化合物的衍生物、有機硫化合物和有機磷化合物。抗氧化劑的具體例子包括酚類抗氧化劑中的2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、苯乙烯化苯酚、正十八垸基-3-(3'，5'-二叔丁基-4'-羥基苯基)-丙酸酯、2，2'-亞甲基-雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2-叔丁基-6-(3'-叔丁基-5'-甲基-2'-羥基苯甲基)-4-甲基苯基丙烯酸酯、4,4'-丁叉基-雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4，4'-硫代-雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，3,5-三(4-叔丁基-3-羥基-2，6-二甲基苯甲基)異氰脲酸酯、四[亞甲基-3-(3',5'-二叔丁基-4'-羥基苯基)丙酸酯]甲烷和3,9-雙[2-[3-(3-叔丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酰氧基]-1,1-二甲基乙基]-2，4，8,10-四氧雜螺[5,5]H~—烷。那些受阻胺類化合物包括雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、雙(1,2,2,6，6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、1-[2-[3-(3，5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酰氧基]乙基]-4-[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酰氧蜀-2,2,6,6-四甲基呢啶、8-苯甲基-7,7，9,9-四甲基-3，辛基-l，3，8-三氮雜螺[4，5]""！^—垸-254-二酮、4-苯酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶、琥珀酸二甲酯-l-(2-羥基乙基)-4-羥基-2,2,6，6-四甲基哌啶縮聚物、聚[{6-(1，1,3,3-四甲基丁基)亞氨基-l，3，5-三嗪-2,4-二基}{(2,2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亞氨基}六亞甲基{(2，3,6，6-四甲基-4-哌啶基)亞氨基}]、2-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯甲基)-2-正丁基丙二酸雙(1，2,2，6,6-五甲基-4-哌啶基)禾卩N，N'-雙(3-氨基丙基)乙二胺-2，4-雙[N-丁基-^(1,2,2,6，6-五甲基-4-哌啶基)氨基]-6-氯-1，3，5-三嗪縮合物。有機含硫抗氧化劑的例子包括雙十二烷基-3,3'-硫代二丙酸酯、雙十四烷基-3，3'-硫代二丙酸酯、二硬脂基-3，3'-硫代二丙酸酯、季戊四醇-四((3-十二烷基-硫代丙酸酯)、雙十三烷基-3,3'-硫代二丙酸酯和2-巰基苯并咪唑。有機含磷抗氧化劑的例子包括亞磷酸三壬基苯基酯、亞磷酸三苯酯和三(2,4-二叔丁基苯基)亞磷酸酯。有機含硫抗氧化劑和有機含磷抗氧化劑被稱為二次抗氧化劑，當其與酚類或胺類等一次抗氧化劑組合使用時能夠獲得協同效應。光穩定劑可以是二苯甲酮、苯并三唑、二硫代氨基甲酸鹽和四甲基哌啶的衍生物。二苯甲酮類光穩定劑的例子包括2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-辛氧基二苯甲酮和2,2'-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮。苯并三唑類光穩定劑的例子包括2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2-[2'-羥基-3'-(3",4",5",6"-四氫鄰苯二甲酰亞氨基甲基)-5'-甲基苯基]苯并三唑、2-(2'-羥基-3'-叔丁基-5'-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(2'-羥基-3'，5'-二叔丁基苯基)苯并三唑、2-(2'-羥基-5'-叔辛基苯基)苯并三唑和2-(2'-羥基-3',5'-二叔戊基苯基)苯并三唑。其他化合物包括2，4-二叔丁基苯基-3',5'-二叔丁基-4'-羥基苯甲酸酯和二丁基-二硫代氨基甲酸鎳。此外，可以包含至少一種受電子性物質以改善感光度、減小殘余電勢以及減少反復使用時的疲勞等。所述受電子性物質可以是例如琥珀酸酐、馬來酸酐、二溴馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、四溴鄰苯二甲酸酐、四氰基乙烯、四氰基對苯醌二甲烷、鄰二硝基苯、間二硝基苯、氯醌、二硝基蒽醌、三硝基芴酮、苦味酸、鄰硝基苯甲酸、對硝基苯甲酸和鄰苯二甲酸。其中，特別優選芴酮類化合物和醌類化合物和具有諸如Cl、CN或N02等吸電子性取代基的苯衍生物。在本發明中，如果需要，可以在電荷輸送層上進一步形成保護層。在具有層積結構的電子照相感光體中，可采用保護層來防止電荷輸送層在充電時的化學變化以及改善感光層的機械強度。，._保護層可以形成為包含固化性樹脂和電荷輸送性化合物的樹脂固化膜，或者形成為通過在適當的粘合劑樹脂中包含導電性材料而構成的膜。固化性樹脂可以是己知的樹脂，例如酚醛樹脂、聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂或硅氧烷樹脂。電荷輸送性化合物可以是與用于電荷輸送層的電荷輸送性物質相同的電荷輸送性物質。導電性材料的例子包括但不限于金屬茂化合物，如二甲基二茂鐵；和金屬氧化物，如氧化銻、氧化錫、氧化鈦、氧化銦和ITO。保護層的體積電阻率(20。C時)優選為約10力，cm約1014。*cm。如果電阻超過約1014Q*cm，殘余電勢可能增加，而如果低于約109Q，cm，沿著表面泄漏的電荷將不可忽略，這將導致解像度的降低。保護層的膜厚優選為約0.1pm約20pim，更優選為約1pm約10nm，在形成保護層的情況中，如果需要，可以在感光層3和保護層之間形成阻擋層，以防止電荷從保護層向感光層3泄漏。阻擋層可以由用于保護層的任何已知材料構成。在保護層中，出于提供表面潤滑性能的目的，可以加入含氟原子的化合物。表面潤滑性能的提高可以降低與清潔部件之間的摩擦系數，并能夠改善耐磨性。而且還具有如下效果防止放電生成物、顯影劑和紙粉在電子照相感光體表面上沉積，從而延長電子照相感光體的使用壽命。作為含氟化合物的具體例子，可以直接添加諸如聚四氟乙烯等含氟原子的聚合物，或者可以添加該聚合物的細顆粒。含氟化合物在保護層中的添加量優選小于或等于約20重量％。過大的量會導致交聯固化膜的成膜性能缺陷。上述保護層具有足夠的抗氧化性，然而，可以添加抗氧化劑以提供更強的抗氧化性。抗氧化劑優選是受阻酚或受阻胺類抗氧化劑，但是還可以使用諸如有機硫類抗氧化劑、亞磷酸酯類抗氧化劑、二硫代氨基甲酸鹽類抗氧化劑、硫脲類抗氧化劑和苯并咪唑類抗氧化劑等已知抗氧化劑。抗氧化劑在保護層中的添加量優選小于或等于約15重量％，更優選小于或等于約10重量％。受阻酚類抗氧化劑的例子包括2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2,5-二叔丁基對苯二酚、N，N'-六亞甲基雙(3,5-二叔丁基-4-羥基肉桂酰胺)、3，5-二叔丁基-4-羥基苯甲基膦酸二乙酯、2，4-雙[(辛基硫代)甲基]-鄰甲酚、2,6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4,4'-丁叉基雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,5-二叔戊基對苯二酚、2-叔丁基-6-(3-丁基-2-羥基-5-甲基苯甲基)-4-甲基苯基丙烯酸酯和4,4'-丁叉基雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)。在保護層中，可以加入諸如流平劑、紫外線吸收劑、光穩定劑和表面活性劑等用于成膜的其他已知的添加劑。保護層可以通過在感光層上涂布前述材料和其它添加劑的混合物再進行加熱來形成。在該方式中，通過引發三維交聯固化反應來形成結實的固化膜。加熱可以在不影響下面的感光層的任意溫度下進行，但是優選在室溫至約20(TC的溫度，特別是約10(TC約16(TC的溫度下進行。在形成保護層時，可以在不使用催化劑或使用適當的催化劑的情況下進行交聯固化反應。催化劑可以是諸如鹽酸、硫酸、磷酸、甲酸、乙酸、三氟乙酸等酸催化劑；諸如氨水和三乙胺等堿類；諸如二乙酸二丁基錫、二辛酸二丁基錫、辛酸亞錫等有機錫化合物；和諸如鈦酸四正丁酯、鈦酸四異丙酯等有機鈦化合物；以及有機羧酸的鐵鹽、錳鹽、鈷鹽、鋅鹽、鋯鹽或鋁螯合物。在保護層中，為了有助于涂布，可以加入溶劑。更具體地說，可以使用水或普通有機溶劑，例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、二甲醚或二丁醚。這些溶劑可以單獨使用或兩種以上組合使用。在形成保護層時，可以采用如下常見的涂布方法進行涂布刮刀涂布法、繞線棒涂布法、噴涂法、浸涂法、線性涂布法、氣刀涂布法或幕涂法。保護層的厚度優選為約0.5pm約20pm，更優選為約2(am約10jim。如圖1所示，成像設備和根據本發明的一個實施方式的下述電子照相處理盒優選包括充電裝置用清潔裝置(清潔部件)3，該裝置用于清潔根據本發明的一個實施方式的上述充電輥的表面，以除去充電輥表面上附著的調色劑、灰塵和調色劑中包含的外部添加劑等，防止由于充電性能的劣化和充電不均而出現圖像品質缺陷。充電裝置用清潔裝置3為例如由形成在芯材上的彈性層構成的輥狀、由單個彈性層或兩層以上的彈性層構成的刮刀狀或者由很多纖維構成的刷狀。從清潔性能的角度來看，清潔裝置優選為輥狀。在充電裝置用清潔裝置3包括輥狀清潔部件的情況中，該清潔部件的芯材可以由例如鐵、銅、黃銅、不銹鋼、鋁或鎳等金屬或樹脂成型品構成。該材料優選具有足夠的抗彎曲強度以實現與充電裝置的均勻接觸，從而提供所需的性能。另外，芯材優選具有導致較小彎曲的直徑，以實現與充電裝置的均勻接觸而提供所需的性能。為了對充電裝置2發揮更高的清潔效果，充電裝置用清潔裝置3的彈性層優選包含多孔性泡沫或布料而構成，更優選為多孔性泡沫，進一步優選為由選自以下材料的一種或一種以上的材料構成的多孔性泡沫聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、丙烯酸類樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚乙烯樹脂、聚酯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂和硅樹脂。另外，多孔性泡沬可以通過浸漬在樹脂溶液或含有導電性物質的樹脂溶液中進行加強。曝光裝置5對帶電的電子照相感光體1進行曝光以形成靜電潛像。曝光裝置5的光源優選為多光束式面發射激光器。轉印裝置7將電子照相感光體1上的調色劑圖像轉印到接受部件(包括中間轉印介質)上，并且可以是例如常規的輥狀轉印裝置。本發明的接受部件不作特別限定，只要是能夠接受電子照相感光體1上形成的調色劑圖像的介質即可。例如，在將調色劑圖像從電子照相感光體1直接轉印到紙張等上的情況中，紙張等即用作接受介質，而在使用中間轉印介質的情況中，該中間轉印介質即用作接受部件。顯影裝置6將電子照相感光體1上的靜電潛像顯影為調色劑圖像。以下進一步描述在顯影裝置6中使用的調色劑。調色劑的平均形狀系數(ML々AX兀/4X100，其中ML表示調色劑顆粒的最大長度，A表示調色劑顆粒的投影面積)優選為約100約150，更優選為約100約140。此外，調色劑的體積平均粒徑優選為約2pm約12pm，更優選為約3pm約12pm，進一步優選為約3pm約9pm。通過使用具有上述范圍內的平均形狀系數和體積平均粒徑的調色劑，可以產生具有高顯影性能、高轉印性能和高圖像品質的圖像。電子照相感光體用清潔裝置8可除去殘留在轉印后的電子照相感光體1上的殘留調色劑。電子照相感光體用清潔裝置8優選具有以約10g/cm約150g/cm的線性壓力與電子照相感光體1接觸的刮刀部件。除電裝置9可將殘余電荷從電子照相感光體1上除去。如圖1所示的成像設備進一步包括對轉印到接受介質的調色劑圖像進行定影的定影裝置ll。根據本發明的一個實施方式的電子照相處理盒包括電子照相感光體1、充電裝置2和選自由曝光裝置5、顯影裝置6和轉印裝置7組成的組中的至少一個裝置。該電子照相處理盒可以從成像設備的主體上自由拆卸，并和成像設備的主體一起構成該成像設備。根據本發明的一個實施方式的電子照相處理盒具有與根據本發明的一個實施方式的成像設備相同的結構，不同之處在于，充電裝置2和選自由曝光裝置5、顯影裝置6和轉印裝置7組成的組中的至少一個裝置均裝在盒中。根據本發明的一個實施方式的充電輥優選在直到將電子照相處理盒設置在電子照相裝置上之前不與下述電子照相感光體1接觸。當處理盒包括用于隔開充電輥的機構時，該輥具有優異的保存穩定性和耐振動性，并且即使在長期保存或強烈振動應力下也不會導致電學特性不均或者圖像品質缺陷的發生。用于隔開充電輥的機構優選設置在充電部件的圖像有效區的外部。例如，在電子照相處理盒中，將楔狀部件配置在充電輥支持體的軸的電子照相感光體側，以使充電部件浮起而將其與電子照相感光體隔開，并在電子照相處理盒就要裝到電子照相裝置上之前將楔狀部件拉出。在根據本發明的一個實施方式'的成像設備和電子照相處理盒中，使用電壓供電的上述充電裝置2對電子照相感光體1進行充電，并且施加電壓優選為直流電壓。根據感光體的預期電位，直流電壓的范圍為士約50V士約2000V，最優選為士約100V士約1500V。實施例根據如下實施例和比較例對本發明進行進一步的描述，但是本發明并不限于此。(充電輥l的制造)-彈性層A的形成-將100重量份的丙烯腈丁二烯橡膠(N230SV，由JSRCorporation制造)、60重量份炭黑(Asahi#60，由AsahiCarbonCo.，Ltd.制造)、10重量份炭黑(科琴黑EC，由LionCorp.制造)、20重量份鄰苯二甲酸二辛酯(由DainipponInkAndChemicals,Inc.制造)、1重量份硫(200目，由鶴見化學工業社制造)、l重量份硫化促進劑(NOCCELERDM，由大內新興化學工業社制造)和1重量份硫化促進劑(NOCCELERTT，由大內新興化學工業社制造)混合并用開放式輥磨機捏和。然后，以3mm的厚度將該混合物旋涂在由SUM-Ni構成的、直徑為8mm的支持體的表面上，并且將經涂布的支持體放入內徑為14.5mm的圓筒狀模具中并在175"的溫度硫化20分鐘。從模具中取出該經涂布的支持體，然后用砂輪將其打磨成直徑為14.0mm、壁厚為3.0mm、表面粗糙度Rz為5pm的支持體，從而形成圓筒狀彈性層A。-表面層A的形成-在加熱的同時，將100重量份共聚物尼龍(AMILANCM8000,由TorayIndustries,Inc.制造)溶解在500重量份的甲醇中，然后向該溶液中加入250重量份正丁醇和50重量份蒸餾水，并攪拌該混合物而獲得樹脂溶液。向該樹脂溶液中加入50重量份摻銻氧化錫(S1，由MitsubishiMaterialsCorporation制造)并用砂磨機將摻銻氧化錫分散在其中，用100重量份甲醇稀釋所得的分散液，獲得表面層涂布液A。通過浸漬法將該表面層涂布液涂布在彈性層A上，并在150。C的溫度加熱干燥10分鐘，形成厚度為5pm的表面層A，從而獲得充電輥l。表面層的厚度測量如下用刀切開充電輥而形成截面，用激光顯微鏡測量彈性層凸部區域的表面層厚度。另外，用刀切開充電輥1的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為2.6%重量，而在溫度為28t:、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，水分含量為5.2重量％。表面層在2(TC時的體積電阻率為8X109^cm。(充電輥2的制造)-彈性層B的形成-將100重量份的丙烯腈丁二烯橡膠(N230SV，由JSRCorporation制造)、50重量份炭黑(Asahi#60，由AsahiCarbonCo.,Ltd.制造)、10重量份炭黑(科琴黑EC，由LionCorp.制造)、30重量份鄰苯二甲酸二辛酯(由DainipponInkAndChemicals,Inc.制造)、1重量份硫(200目，由鶴見化學工業社制造)、l重量份硫化促進劑(NOCCELERDM，由大內新興化學工業社制造)和1重量份硫化促進劑(NOCCELERTT，由大內新興化學工業社制造)混合并用開放式輥磨機捏和。然后，以3mm的厚度將該混合物旋涂在由SUM-Ni構成的、直徑為8mm的支持體的表面上，并且將經涂布的支持體放入內徑為14.5mm的圓筒狀模具中，在175'C的溫度硫化20分鐘。從模具中取出該經涂布的支持體，然后用砂輪將其打磨成直徑為14.0mm、壁厚為3.0mm、表面粗糙度Rz為5pn的支持體，從而形成圓筒狀彈性層B。-表面層B的形成-將80重量份封端異氰酸酯(SUMIDUR3175，由SumitomoBayerUrethaneCo.,Ltd.制造)溶解在500重量份甲基乙基酮中，然后加入0.005重量份作為催化劑的二月桂酸二辛基錫，并溶解獲得表面層涂布液B。通過浸漬法將該表面層涂布液B涂布在彈性層B上，并在15(TC的溫度加熱千燥10分鐘，形成厚度為2.5)am的表面層B，從而獲得充電輥2。表面層的厚度測量如下用刀切開充電輥而形成截面，用激光顯微鏡測量彈性層凸部區域的表面層厚度。另外，用刀切幵充電輥2的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為2.8%重量，而在溫度為28'C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，水分含量為4.4重量％。表面層在2(TC時的體積電阻率為5X101QQ'Cm。(充電輥3的制造)-彈性層C的形成-采用與充電輥2的彈性層B相同的方式形成彈性層C。-表面層C的形成-將80重量份封端異氰酸酯(SUMIDUR3175，由SumitomoBayerUrethaneCo.,Ltd.制造)溶解在500重量份甲基乙基酮中，然后加入20重量份氟改性的丙烯酸類樹脂(MODIPERF200，由NofCorporation制造)和0.005重量份作為催化劑的二月桂酸二辛基錫，并溶解獲得樹脂溶液。向所得樹脂溶液中加入50重量份摻銻氧化錫(S1，由MitsubishiMaterialsCorporation制造)并用砂磨機進行分散，用100重量份MEK稀釋該分散液，獲得表面層涂布液C。通過浸漬法將該表面層涂布液C涂布在彈性層C上，并在15(TC的溫度加熱干燥10分鐘，形成厚度為5(im的表面層C，從而獲得充電輥3。表面層的厚度測量如下用刀切開充電輥而形成截面，用激光顯微鏡測量彈性層凸部區域的表面層厚度。另外，用刀切開充電輥3的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為2.7%重量，而在溫度為28t:、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，水分含量為5.9重量％。表面層在2(TC時的體積電阻率為2Xl(^Q，cm。(充電輥4的制造)-彈性層D的形成-采用與充電輥1的彈性層A相同的方式形成彈性層D。-表面層D的形成-通過浸漬法將制備用于充電輥1的表面層涂布液A涂布在彈性層D上，并在15(TC的溫度干燥10分鐘，形成厚度為9pm的表面層D，從而獲得充電輥4。表面層的厚度測量如下用刀切開充電輥而形成截面，用激光顯微鏡測量彈性層凸部區域的表面層厚度。另外，用刀切開充電輥4的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為3.0%重量，而在溫度為28。C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，水分含量為7.2重量％。表面層在20。C時的體積電阻率為1X101Q^cm。(充電輥5的制造)-彈性層E的形成-采用與充電輥1的彈性層A相同的方式形成彈性層E。-表面層E的形成-將100重量份垸基縮醛化聚乙烯醇(S-LecKX-1)溶解在200重量份異丙醇和300重量份水的混合物中，從而獲得樹脂溶液。向該樹脂溶液中加入50重量份摻銻氧化錫(S1，由MitsubishiMaterialsCorporation制造)并用砂磨機進行分散，用100重量份甲醇稀釋該分散液，獲得表面層涂布液E。通過浸漬法將該表面層涂布液涂布在彈性層E上，并在15(TC的溫度加熱干燥10分鐘，形成厚度為5pm的表面層E，從而獲得充電輥5。表面層的厚度測量如下用刀切開充電輥而形成截面，用激光顯微鏡測量彈性層凸部區域的表面層厚度。另外，用刀切開充電輥5的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為8%重量，而在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，水分含量為10重量％。表面層在2(TC時的體積電阻率為4X10SQ，cm。(充電輥6的制造)-彈性層F的形成-采用與充電輥1的彈性層A相同的方式形成彈性層F，不同之處在于沒有采用砂輪進行打磨。-表面層F的形成-采用與充電輥l的表面層A相同的方式形成厚度為5pm的表面層F，從而獲得充電輥6。表面層的厚度測量如下用刀切開充電輥而形成截面，用激光顯微鏡測量彈性層凸部區域的表面層厚度。另外，用刀切開充電輥6的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為2.6%重量，而在溫度為28'C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，水分含量為5.2重量％。表面層在2(TC時的體積電阻率為8X109^cm。(充電裝置用清潔輥)將熱熔融粘合劑(BR4301，由日進化學制造)涂布在由SUS416構成的直徑為6mm的圓筒狀芯材上。用穿透鉆貫通聚醚多元醇發泡的聚氨酯海綿(EP70，由InoacCorporation制造)使其為中空狀，牽拉涂布有熱熔融粘合劑的圓筒狀芯材穿過該海綿片，然后在90。C的烘箱中使該芯材熔融粘合。隨后，用打磨機對經粘合的聚氨酯海綿的外周進行打磨，使其直徑為12mm且壁厚為3mm，從而獲得充電裝置用清潔輥(清潔部件)。(電子照相感光體的制造)將100重量份氧化鋅(平均粒徑為70nm，由TaycaCorporation制造，比表面積值為15mVg)和500重量份四氫呋喃一起攪拌，向該混合物中加入1.25重量份硅垸偶聯劑(KBM603，由信越化學社制造)并攪拌2小時。然后，通過減壓蒸餾除去四氫呋喃，并在12(TC的溫度對該混合物進行3小時的烘焙，從而獲得經硅烷偶聯劑表面處理的氧化鋅細顆粒。將38重量份以下溶液與25重量份甲基乙基酮混合，并用含有直徑為lmm的玻璃珠的砂磨機對該混合物分散4小時，由此獲得分散液，所述溶液由60重量份所述經硅垸偶聯劑表面處理的氧化鋅細顆粒、0.6重量份茜素、13.5重量份作為固化劑的封端異氰酸酯(SUMDUR3175，由SumitomoBayerUrethaneCo.，Ltd.制造)和15重量份丁縮醛樹脂(BM-1，由積水化學社制造)溶解在85重量份甲基乙基酮中而構成。向所得分散液中加入0.005重量份作為催化劑的二月桂酸二辛基錫和4.0重量份硅樹脂顆粒(TOSPAL145，由GEToshibaSiliconeCo.，Ltd.制造)，由此獲得底涂層涂布液。通過浸漬法將該涂布液涂布在直徑為30mm、長度為340mm且壁厚為1mm的經鏡面處理的鋁基材上，并在18(TC的溫度加熱固化40分鐘，形成厚度為25的底涂層。隨后，使用包含直徑為1mm的玻璃珠的砂磨機對以下混合物進行4小時的分散，所述混合物由15重量份作為電荷產生物質的羥基鎵酞菁(該羥基鎵酞菁至少在使用CuK(x特性X射線的X射線衍射光譜中的7.3°、16.0°、24.9°和28.0。的布拉格角(2e士0.2。)處具有衍射峰)、10重量份作為粘合劑樹脂的氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂(VMCH，由NipponUnicarCo.，Ltd.制造)禾卩200重量份乙酸正丁酯組成。向所得分散液中加入175重量份乙酸正丁酯和180重量份甲基乙基酮并攪拌，由此獲得電荷產生層涂布液。通過浸漬法將該電荷產生層涂布液涂布在底涂層上，并在常溫干燥而形成厚度為0.2的電荷產生層。隨后，將1重量份四氟乙烯樹脂顆粒(平均粒徑為0.2pm)、0.02重量份的氟類接枝聚合物和5重量份四氫呋喃與2重量份的甲苯一起進行充分攪拌，從而獲得四氟乙烯樹脂顆粒的懸浮液。接著，將4重量份作為電荷輸送性物質的^^-二苯基-^^'-二(3-甲基苯基)-[1,1']聯苯基-4，4，-二胺、6重量份雙酚Z類聚碳酸酯樹脂(粘均分子量為40,000)、23重量份四氫呋喃和10重量份甲苯混合并溶解。向該溶液中加入如上制備的四氟乙烯樹脂顆粒的懸浮液并通過攪拌進行混合，然后采用配有帶微流道的流通槽的高壓均化器(商品名為LA-33S，由NanomizerCo.,Ltd.制造)在最高400kgf/cn^的高壓下對該混合物進行6次分散。向該分散液中混入0.2重量份2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚，由此得到電荷輸送層形成用涂布液。將該涂布液涂布在電荷產生層上并在115"C干燥40分鐘，從而形成膜厚為30iam的電荷輸送層，由此得到預期的電子照相感光體。實施例1將充電輥1、充電裝置用清潔輥和電子照相感光體裝到用于全色打印機(DocuCentreColorf450，由富士施樂株式會社制造)的經改造的處理盒上，并將該處理盒裝到改造型全色打印機(DocuCentreColorf450，由富士施樂株式會社制造)上。在高溫高濕環境(28'C/85。/。)中向充電輥施加-40^A的直流電流，并打印30,000張。在保存一周之后，在高溫高濕環境(28°。/85%)中向充電輥再次施加-40j^A的直流電流，打印全頁半色調圖像，并對圖像品質進行評價(是否存在圖像濃度的不均、白色條紋和/或彩色條紋)。結果列于表1中。配有所述處理盒的改造型DocuCentreColorf450(由富士施樂株式會社制造)包括電子照相感光體、充電裝置、靜電潛像形成裝置、顯影裝置和轉印裝置。(比較例1)采用與實施例1相同的方式制造處理盒并進行評價，不同之處在于，將實施例1所用的充電輥1的表面層厚度改為1pm。結果列于表1中。另外，用刀切開比較例1中所用的充電輥的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為l(TC、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為1.5%重量，而在溫度為28°C、相對濕度為85°/。的環境中保存48小時后，水分含量為4.2重量％。(實施例2)采用與實施例1相同的方法制造處理盒，不同之處在于，采用充電輥2來代替充電輥1。結果列于表1中。(比較例2)采用與實施例1相同的方式制造處理盒并進行評價，不同之處在于，將實施例2所用的充電輥2的表面層厚度改為1.5pm。結果列于表l中。另外，用刀切開比較例2中所用的充電輥的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為l(TC、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為0.9%重量，而在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，水分含量為1.9重量％。(實施例3)采用與實施例1相同的方法制造處理盒，不同之處在于，采用充電輥3來代替充電輥1。結果列于表l中。(比較例3)采用與實施例1相同的方式制造處理盒并進行評價，不同之處在于，將實施例3所用的充電輥3的表面層厚度改為0.5拜。結果列于表1中。另外，用刀切開比較例3中所用的充電輥的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為0.3%重量，而在溫度為28°C、相對濕度為85°/。的環境中保存48小時后，水分含量為1.3重量％。C實施例4)采用與實施例1相同的方法制造處理盒，不同之處在于，采用充電輥4來代替充電輥1。結果列于表l中。(比較例4)采用與實施例1相同的方式制造處理盒并進行評價，不同之處在于，將實施例4所用的充電輥4的表面層厚度改為12pm。結果列于表l中。另外，用刀切開比較例4中所用的充電輥的包含彈性層和表面層的部分，通過卡爾-費歇爾水分測定法測量其水分含量。在溫度為1(TC、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，水分含量為3.5%重量，而在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，水分含量為8.6重量％。(比較例5)采用與實施例1相同的方法制造處理盒，不同之處在于，采用充電輥5來代替充電輥1。結果列于表l中。(比較例6)采用與實施例1相同的方法制造處理盒，不同之處在于，采用充電輥6來代替充電輥1。結果列于表l中。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table>表1所列的結果表明，實施例1至4中可以實現良好的充電并獲得良好的圖像。本發明提供了一種充電輥以及配備所述充電輥的電子照相處理盒和成像設備，所述充電輥即使在長期反復使用后也能夠提供良好的電學特性和髙度穩定的圖像品質。更具體地說，根據本發明的實施方式，提供了<1>一種充電輥，該充電輥包括支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；禾口表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2pm約10而且在溫度為10°C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％;并且在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％。<2>如<1>所述的充電輥，其中所述表面層包含選自由鹵化樹脂、聚酰胺樹脂和聚氨酯樹脂組成的組中的一種或一種以上的樹脂。<3>如<1>所述的充電輥，其中所述表面層在2(TC的溫度時的體積電阻率為約1()3fi'cm約1012Q'cm。<4>一種電子照相處理盒，該電子照相處理盒包括-電子照相感光體；充電裝置，該充電裝置設置成與所述電子照相感光體接觸，并將該電子照相感光體充電至預定電位；和選自由靜電潛像形成裝置、顯影裝置和轉印裝置組成的組中的至少一個裝置，所述靜電潛像形成裝置在所述電子照相感光體的帶電表面上形成靜電潛像，所述顯影裝置將調色劑轉移到形成于所述電子照相感光體上的所述靜電潛像以使所述靜電潛像顯影為調色劑圖像，所述轉印裝置將所述調色劑圖像轉印到接受部件上；所述充電裝置具有充電輥，所述充電輥包括支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；和表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2,約10|im;并且，在溫度為1(TC、相對濕度為15°/。的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％;而在溫度為28'C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％。<5>如<4>所述的電子照相處理盒，其中，通過僅將直流電流施加于所述充電輥來對所述電子照相感光體進行充電。<6>如<4>所述的電子照相處理盒，其中，一直到所述處理盒安裝在電子照相裝置上之前，所述電子照相感光體與所述充電輥彼此不接觸。<7>如<4>所述的電子照相處理盒，其中，所述表面層在2(TC的溫度時的體積電阻率為約1()30cm約1012Q，cm。<8>如<4>所述的電子照相處理盒，該電子照相處理盒包括設置成與所述充電輥接觸并對所述充電輥的表面進行清潔的清潔部件。<9>如<4>所述的電子照相處理盒，其中，所述表面層包含選自由鹵化樹脂、聚酰胺樹脂和聚氨酯樹脂組成的組中的一種或一種以上的樹脂。<10>如<8>所述的電子照相處理盒，其中，所述清潔部件具有芯材和彈性層，該彈性層包含多孔性泡沫或布料。<11>如<9〉所述的電子照相處理盒，該電子照相處理盒包括設置成與所述充電輥接觸并對所述充電輥表面進行清潔的清潔部件。<12>如<10>所述的電子照相處理盒，其中，所述多孔性泡沬由選自以下材料的至少一種材料構成聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、丙烯酸類樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚乙烯樹脂、聚酯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂和硅樹脂。<13>如<11>所述的電子照相處理盒，其中，所述清潔部件具有芯材和彈性層，該彈性層包含多孔性泡沬或布料。<14>如<11>所述的電子照相處理盒，其中，一直到所述處理盒安裝在電子照相裝置上之前，所述電子照相感光體與所述充電輥彼此不接觸。<15>如<12>所述的電子照相處理盒，其中，一直到所述處理盒安裝到電子照相裝置上之前，所述電子照相感光體與所述充電輥彼此不接觸。<16>—種成像設備，該成像設備包括電子照相感光體；充電裝置，該充電裝置設置成與所述電子照相感光體接觸，并將該電子照相感光體充電至預定電位；和靜電潛像形成裝置，該靜電潛像形成裝置在所述電子照相感光體的帶電表面上形成靜電潛像；顯影裝置，該顯影裝置將調色劑轉移到形成于所述電子照相感光體上的所述靜電潛像以使所述靜電潛像顯影為調色劑圖像；和轉印裝置，該轉印裝置將所述調色劑圖像轉印到接受部件上；所述充電裝置具有充電輥，所述充電輥包括支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；和表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2pm約10pm;并且，在溫度為l(TC、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量°/。；而在溫度為28°C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％。<17>如<16>所述的成像設備，其中，通過僅將直流電流施加于充電輥來對所述電子照相感光體進行充電。<18>如<16>所述的成像設備，其中，所述表面層在20。C的溫度時的體積電阻率為約1()3Q'cm約1012Qxm。<19>如<16>所述的成像設備，該成像設備包括設置成與所述充電輥接觸并對所述充電輥的表面進行清潔的清潔部件。<20>如<16>所述的成像設備，其中，所述表面層包含選自由鹵化樹脂、聚酰胺樹脂和聚氨酯樹脂組成的組中的一種或一種以上的樹脂。<21>如<19〉所述的成像設備，其中，所述清潔部件具有芯材和彈性層，該彈性層包含多孔性泡沬或布料。<22>如<21>所述的成像設備，其中，所述多孔性泡沫由選自以下材料的至少一種材料構成聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、丙烯酸類樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚乙烯樹脂、聚酯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂和硅樹脂。<23>如<21>所述的成像設備，其中，一直到所述處理盒安裝到電子照相裝置上之前，所述電子照相感光體與所述充電輥彼此不接觸。提供對本發明的示例性實施方式的前述描述是為了說明和描述的目的。并非試圖窮盡本發明所披露的精確形式或將本發明限制于所披露的精確形式。顯然，許多改進和變化對于本領域技術人員是顯而易見的。選擇并描述所述示例性實施方式是為了能夠最好地解釋本發明的原理及其實際用途，由此使得本領域的其他技術人員能夠理解適用于預計的特定用途的本發明的各種實施方式和各種改進方案。本發明的范圍由下述權利要求及其等同物所限定。權利要求1.一種充電輥，該充電輥包括支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；和表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2μm～約10μm；和在溫度為10℃、相對濕度為15％的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2％重量～約8重量％；并且，在溫度為28℃、相對濕度為85％的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2％重量～約8重量％。2.如權利要求l所述的充電輥，其中，所述表面層包含選自由鹵化樹脂、聚酰胺樹脂和聚氨酯樹脂組成的組中的一種或一種以上的樹脂。3.—種電子照相處理盒，該電子照相處理盒包括電子照相感光體；充電裝置，該充電裝置設置成與所述電子照相感光體接觸，并將該電子照相感光體充電至預定電位；和選自由靜電潛像形成裝置、顯影裝置和轉印裝置中的至少一個裝置，所述靜電潛像形成裝置在所述電子照相感光體的帶電表面上形成靜電潛像，所述顯影裝置將調色劑轉移到形成于所述電子照相感光體上的所述靜電潛像以使所述靜電潛像顯影為調色劑圖像，所述轉印裝置將所述諷色劑圖像轉印到接受部件上；所述充電裝置具有充電輥，所述充電輥包括支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；和表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2pm約10并且，在溫度為10。C、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％;而在溫度為28'C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％。4.如權利要求3所述的電子照相處理盒，其中，通過僅將直流電流施加于所述充電輥來對所述電子照相感光體進行充電。5.如權利要求3所述的電子照相處理盒，其中，一直到所述處理盒安裝到電子照相裝置上之前，所述電子照相感光體與所述充電輥彼此不接觸。6.如權利要求3所述的電子照相處理盒，該電子照相處理盒包括設置成與所述充電輥接觸并對所述充電輥的表面進行清潔的清潔部件。7.如權利要求3所述的電子照相處理盒，其中，所述表面層包含選自由鹵化樹脂、聚酰胺樹脂和聚氨酯樹脂組成的組中的一種或一種以上的樹脂。8.如權利要求6所述的電子照相處理盒，其中，所述清潔部件具有芯材和彈性層，該彈性層包含多孔性泡沫或布料。9.如權利要求7所述的電子照相處理盒，該電子照相處理盒包括設置成與所述充電輥接觸并對所述充電輥的表面進行清潔的清潔部件。10.如權利要求8所述的電子照相處理盒，其中，所述多孔性泡沫由選自以下材料的至少一種材料構成聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、丙烯酸類樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚乙烯樹脂、聚酯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂和硅樹脂。11.如權利要求9所述的電子照相處理盒，其中，所述清潔部件具有芯材和彈性層，該彈性層包含多孔性泡沫或布料。12.如權利要求9所述的電子照相處理盒，其中，一直到所述處理盒安裝到電子照相裝置上之前，所述電子照相感光體與所述充電輥彼此不接觸。13.如權利要求10所述的電子照相處理盒，其中，一直到所述處理盒安裝到電子照相裝置上之前，所述電子照相感光體與所述充電輥彼此不接觸。14.一種成像設備，該成像設備包括電子照相感光體；充電裝置，該充電裝置設置成與所述電子照相感光體接觸，并將該電子照相感光體充電至預定電位；和靜電潛像形成裝置，該靜電潛像形成裝置在所述電子照相感光體的帶電表面上形成靜電潛像；顯影裝置，該顯影裝置將調色劑轉移到形成于所述電子照相感光體上的所述靜電潛像以使所述靜電潛像顯影為調色劑圖像；和轉印裝置，該轉印裝置將所述調色劑圖像轉印到接受部件上；所述充電裝置具有充電輥，所述充電輥包括支持體；彈性層，該彈性層設置在所述支持體的外周面上，并具有經研磨處理的外周面；和表面層，該表面層覆蓋所述彈性層的外周面而形成，并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2pm約10并且，在溫度為1(TC、相對濕度為15%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％;而在溫度為28'C、相對濕度為85%的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2%重量約8重量％。15.如權利要求14所述的成像設備，其中，通過僅將直流電流施加于充電輥來對所述電子照相感光體進行充電。16.如權利要求14所述的成像設備，該成像設備包括設置成與所述充電輥接觸并對所述充電輥表面進行清潔的清潔部件。17.如權利要求14所述的成像設備，其中，所述表面層包含選自由鹵化樹脂、聚酰胺樹脂和聚氨酯樹脂組成的組中的一種或一種以上的樹脂。18.如權利要求16所述的成像設備，其中，所述清潔部件具有芯材和彈性層，該彈性層包含多孔性泡沫或布料。19.如權利要求18所述的成像設備，其中，所述多孔性泡沫由選自以下材料的至少一種材料構成聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、丙烯酸類樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚乙烯樹脂、聚酯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂和硅樹脂。20.如權利要求18所述的成像設備，其中，一直到所述處理盒安裝在電子照相裝置上之前，所述電子照相感光體與所述充電輥彼此不接觸。全文摘要本發明提供了一種充電輥、電子照相處理盒和成像設備，所述電子照相處理盒和成像設備配備了所述充電輥。所述充電輥為接觸充電方式的充電輥，即使在長期反復使用后，該充電輥也能夠提供良好的電學特性和高度穩定的圖像品質。所述充電輥包括支持體；設置在所述支持體的外周面上并具有經研磨處理的外周面的彈性層；覆蓋所述彈性層的外周面而形成并且從所述彈性層的外周面起的厚度為約2μm～約10μm的表面層。并且，在溫度為10℃、相對濕度為15％的環境中保存48小時后以及在溫度為28℃、相對濕度為85％的環境中保存48小時后，所述彈性層和所述表面層的總吸水率為約2％重量～約8重量％。文檔編號G03G15/02GK101174118SQ200710126479公開日2008年5月7日申請日期2007年6月18日優先權日2006年11月2日發明者坂東浩二,橋場成人,竹本誠,鈴木貴弘,額田秀美申請人:富士施樂株式會社