專利名稱：偏光板結構的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種偏光板結構，特別涉及一種利用溶劑鑄膜技術制備的為聚甲 基丙烯酸甲酯光學膜的偏光板結構。
背景技術：
傳統偏光板結構是偏光基質上、下表面分別設置光學膜所構成，而這類光學
膜的基材一般是以三醋酸纖維(TAC: triacetate)、 PC(polycarbonate)、 COP為主。 而典型的TAC膜又可進一步作為光學膜的保護與支撐膜，所以一般的TAC膜除 了必須達到所要求的光學性質外，也必須具有一定的強度且具有耐高溫以及耐潮 濕的特性以達到光學膜的使用需求或是提供保護TAC膜所構成的光學膜的效果 (參考下述專禾U: JP4342202、 TW499573 、 JP2000-324055 、 JP2001-235625 、 JP2003-195048、 EP 1-285742、 EP 1-331245)。另外，美國第6，652，926B1號專利 中揭露加入0。04。/。 0.3。/。的硅土粒子(silica particle)于TAC中，其一方面增加了 TAC膜的靭性，另一方面亦使得TAC膜的厚度降低。
再者，有關于基板或是保護膜的產生，已揭示于美國公告第2004/0086721Al 號專利中，其揭露以20~40%的PVDF(聚偏二氟乙烯)、40~60%的聚甲基丙烯酸甲 酯以及5~18%的acrylic elastomer(聚丙烯彈性體)以熔融混摻的方式制成基板或是 保護膜。歐洲第EP1154005A1號專利揭露以PET膜中混摻小于5微米(um)的微粒 子以達到介于20 600納米(nm)中心粗度的PET薄膜。此外，日本特開平7-56017 號專利中提到，以PC80y。+聚甲基丙烯酸甲酉旨(Kuraray C-16) 20%鑄成80微米(um) 的薄膜，以及聚甲基丙烯酸甲酯(MMA97。/。+BA3。/。)材料75%混摻25% PEA所鑄 成的500微米(um)薄膜。
上述現有技術的缺點包括TAC薄膜的吸水及透濕性大，因此當于高溫、高 濕度的條件下使用時，會因外在環境導致薄膜變形或產生應力而造成光學膜的光 學特性受到影響，甚至造成光學膜無法使用。并且TAC的b值過高，在外觀上即 可看出，容易造成視覺上的阻礙。另外，COP薄膜(如Zeonor、 Arton)的吸水及
透濕性過小，附著性質差，并且具有材料太脆的問題。歐洲第EP1154005A1號專 利中的微粒子雖可以降低表面粗糙度，但其所使用PET的玻璃轉移溫度低(75'C)， 無法符合現有光學膜的耐熱性要求。日本特開平7-56017號專利中提到的聚甲基 丙烯酸甲酯(PMMA)/PC混摻的材料性質太脆，并且聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)/PEA混摻的材料厚度高達500微米(um)，相對于現有光學膜，其適用性 皆不足。
鑒于上述的缺點，并且為了避免因融熔摻混或熱塑性加工造成的材料不安定 現象，并且改善光學膜的耐熱性、耐濕性以及機械性質，而有效解決光學膜穩定 性問題，本發明提供了可以解決上述缺點的偏光板結構。
發明內容
本發明的目的在于提供一種偏光板結構，利用溶劑鑄膜技術混摻聚甲基丙烯 酸甲酯的偏光板結構，聚甲基丙烯酸甲酯可溶于不具毒性的溶劑如甲苯等的中， 其可避免TAC制程中大量使用二氯甲垸，所可能對人體及環境的傷害。
本發明的再一目的在于提供一種偏光板結構，具適中的吸水及透濕性并可有 效解決偏光板光學性質變異的問題。
本發明的又一目的在于提供一種耐熱性佳、機械性質適中、低光彈性系數且 具備良好光學性質，例如低霧度、低黃化指數、高阿貝數、在可見光范圍(波長 400-700納米)具有高的穿透度(>90%)以及具有均勻膜面性質(如厚度、表面粗糙度 等)的偏光板結構，以及避免因融熔摻混或熱塑性加工造成的材料不安定現象。
再者，本發明的利用溶劑鑄膜技術混摻聚甲基丙烯酸甲酯所制備的偏光板具 有許多優點l.耐熱性佳、機械性質適中、低光彈性系數且具備良好光學性質， 例如高透明性、低霧度、低黃化指數、高阿貝數、在可見光范圍(波長400 700 納米)具有高的穿透度(>卯％)以及具有均勻膜面性質(如厚度、表面粗糙度等)的光 學膜；2.可以避免因融熔摻混或熱塑性加工造成的材料不安定現象；3.透濕性適中， 適中的吸水及透濕性并可有效解決光學膜光學性質變異的問題；4.制程簡易；5. 低光彈性系數；6.樹酯(Resin)來源充足，有效降低成本；7.有效降低高溫高濕的 PVA內縮。
本發明揭露的偏光板結構是具有偏光層、第一光學膜以及第二光學膜，且第 一光學膜是形成于所述偏光層上方，第二光學膜是形成于所述偏光層下方。其中，
所述第一光學膜與第二光學膜中至少一個光學膜是聚甲基丙烯酸甲酯光學膜。
再者，所述光學膜是透過所述混合溶液分布在基板上備制后，再貼合于所述 偏光膜并進行熱處理后所形成，或者是所述光學膜是透過所述混合溶液分布于所 述偏光膜表面并進行熱處理后所形成。其中，所述光學膜的制作是包括將至少 一種聚甲基丙烯酸甲酯、被取代官能基的聚甲基丙烯酸甲酯或聚甲基丙烯酸甲酯 混摻與溶劑混合，以形成均勻的混合溶液；將上述混合溶液均勻分布在基板上； 以及進行熱處理，以獲得均勻表面的光學膜。
上述官能基為甲基，而上述被取代官能基的聚甲基丙烯酸甲酯包括以乙基、 丙基、異丙基、正丁基、異丁基、新丁基、正已基、異已基、環己基等官能基取 代甲基的聚甲基丙烯酸甲酯。上述混摻包括至少一種高分子、小分子、可塑劑 (plasticizer)、 UV吸收劑、抗降解劑或納米級粒子混摻。上述溶劑包括至少一種芳 香族、環垸類、醚類、酯類或酮類。上述芳香族包括甲苯，鄰-、間-或對-二甲苯 (Xylene)，環烷類包括環己烷(Cyclohexane)，醚類包括二乙基醚(Diehtyl Ether)、 四氫氟喃(Tetrahydrofuran: THF)，酯類包括乙酸甲酯(Methyl acetate、 Ethyl acetate)，酮類包括丙酮(Acetone)、甲基乙基酮(methylethylketone: MEK)、 1畫甲基環戊酮(1 -methylpyrrolidone :NMP)。
上述混合溶液是利用一溶劑鑄膜的方式而均勻分布在上述基板上。上述溶劑 鑄膜的方式包括刮刀涂布、纏線棒涂布、逆或同向式滾筒涂布、氣簾式(air curtain) 涂布、輪式涂布、雕筒涂布、浸沾式涂布、旋轉涂布、狹縫式涂布、擠壓式涂布 或淋幕式涂布。上述基板包括玻璃基板、塑料基板、鏡面鋼板、鏡面鋼帶或表面 均勻性良好的合成高分子。上述合成高分子包括PET(polyethyleneterephthalate)、 PEN(polyethylenenaphthalate) 、 PES(polyethersulfone) 、 PI(polyimide)、 PAR(polyarylate) 、 PC(polycarbonate)、 或天然纖維如 CA(cellulose acid)、 DAC(cellulose diacetate)、 TAC(cellulose triacetate)等。上述混合溶液均勻分布在上 述基板上的厚度為150微米(/mi) 1200(/mi)微米。上述熱處理是利用UV光照射均 勻分布在上述基板上的混合溶液。
另外，本發明的光學膜中，可進一步添加由聚甲基丙烯酸甲酯及/或被取代官 能基的聚甲基丙烯酸甲酯及/或聚甲基丙烯酸甲酯混摻中包覆一橡膠彈性材質所 形成的聚甲基丙烯酸甲酯橡膠粒子，其中所述橡膠彈性材質是可選擇丙烯酸丁酯 (butyl acrylate)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl Methacrylate)、苯乙烯(styrene)以
及其共聚合物中的任一材質，且所述橡膠彈性材質的粒徑尺寸是小于IO微米甚至 可進-步為納米尺度，以增進光學膜的機械性質。
通過參考下列詳細敘述，上述觀點以及本發明的優點將可以更快地了解，并 且通過下面的描述以及附加圖示，可以容易了解本發明的精神。其中 圖1是本發明偏光板結構具體實施例的立體視圖； 圖2是本發明偏光板結構具體實施例的制作流程圖3是現有偏光板結構與本發明偏光板結構的單體透過率變化量比較圖； 圖4是現有偏光板結構與本發明偏光板結構的偏光度變化量比較圖； 圖5是現有偏光板結構與本發明偏光板結構的PVA內縮率比較圖。 附圖標記說明1偏光層；2第一光學膜；3第二光學膜；101、 102、 103、
104:步驟流程。
具體實施例方式
在此，本發明將詳細地敘述一些實施例。然而，值得注意的是除了這些明確 的敘述外，本發明可以實施在一廣泛范圍的其它實施例中，并且本發明的范圍不 受限于上述實施例，其當視權利要求而定。
圖1是本發明偏光板結構具體實施例的立體視圖。參考圖1所顯示，本發明
的偏光板結構是偏光層1的上表面以及下表面分別具有第一光學膜2以及第二光 學膜3，且所述第一光學膜2與第二光學膜3中，至少一個光學膜是聚甲基丙烯 酸甲酯(Polymethyl Methacrylate， PMMA)光學膜。
另外，上述的第一光學膜2與第二光學膜3中， 一個光學膜是聚甲基丙烯酸 甲酯光學膜，而另一個光學膜可選自三醋酸纖維(triacetate， TAC)、聚碳酸酯 (polycarbonate, PC)、聚環烯烴高分子(cycloolefin polymer, COP)等材質，并用以 支撐或保護所述偏光層1。
本發明揭露的聚甲基丙烯酸甲酯光學膜是選自聚甲基丙烯酸甲酯、被取代官 能基的聚甲基丙烯酸甲酯以及數種聚甲基丙烯酸甲酯混摻的材質所構成。
另外，本發明揭露的TAC是選自Konica公司型號KC8U產品以及Fuji公司 型號TDY-80產品。 圖2是本發明偏光板結構具體實施例的制作流程圖。請參考圖2，本發明偏 光板結構的制作方法，首先，于步驟101中選擇聚甲基丙烯酸甲酯高分子及溶劑， 亦即選擇一種或兩種以上的聚甲基丙烯酸甲酯或經過化學/物理方法改質的聚甲 基丙烯酸甲酯，依所需性質以任意比例均勻溶在溶劑中，而透過一溶劑混摻技術 形成溶液系統。在較佳的情形下，溶液中的聚甲基丙烯酸甲酯的固含量是介于 20~40%之間。舉例而言，上述化學方法包括利用官能基取代的聚甲基丙烯酸甲酯， 例如以乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、新丁基、正已基、異已基、環 己基等官能基取代甲基。舉例而言，上述物理方法包括聚甲基丙烯酸甲酯混摻， 上述混摻包括至少一種高分子、小分子、可塑劑(plasticizer)、 UV吸收劑、抗降解 劑或納米級粒子混摻。舉一實施例而言，上述溶劑包括至少一種芳香族、環垸類、 醚類、酯類、酮類或其混合物。舉例而言，上述芳香族包括甲苯，鄰-、間-或對 -二甲苯(Xylene)，環烷類包括環己垸(Cyclohexane)，醚類包括二乙基醚(Diehtyl Ether)、四氫氟喃(Tetrahydrofuran: THF)，酯類包括乙酸甲酯(Methyl acetate、 Ethyl acetate)，酮類包括丙酮(Acetone)、甲基乙基酮(methylethylketone: MEK)、 l-甲基環戊酮(l-methylpyrrolidone:NMP)。上述的溶劑選擇只是一實施例，并非用 以限定本發明。
舉一實施例而言，本發明提出四組溶劑鑄膜技術制備聚甲基丙烯酸甲酯光學 膜的配方、組成和溶劑，如下所述
1 、 Degussa 8N 100 part、 Toluene 200 part ;
2、 Degussa 8N 97,5 part、 Kuraray GR 2.5 part、 Acetone 200part ;
3、 Degussa 8N 80part、 Degussa zk 20 part、 Methyl acetate 200part ;
4、 Degussa 8N 50 part、 Kuraray GR50 part、 Toluene 200part。
上述的Kuraray GR是列是可以選擇GR04940、GR04970、GR00100、GR01240、 GR01270、 GR1000H24、 GR1000H42以及GR1000H60，且也可以用Degussa的 zk3BR、 zk4BR、 zk5BR、 zk6BR、 zk4HC、 zk5HC、 k6HC、 zk5HT、 zk6HT、 zkHF、 zk6HF、 zk20、 zk30、 zk40以及zk50中的任一材料所取代。
接下來，進行步驟102，將上述溶液以溶劑鑄膜的方式，將混合溶液均勻分 布在基板上，用以備制作為上述的第一光學膜2與第二光學膜3的光學膜。舉例 而言，上述基板包括但不限定于玻璃基板、塑料基板、鏡面鋼板、鏡面鋼帶或表 面均勻性良好的合成高分子，合成高分子包括PET(polyethyleneterephthalate)、
PEN(polyethyleneeenaphthalate) 、 PES(polyethersulfone) 、 PI(polyimide)、 PAR(polyarylate) 、 PC(polycarbonate)、 或天然纖維如 CA(cellulose acid)、 DAC(cellulose diacetate)、 TAC(cellulose triacetate)等。再者，步驟102是利用刮刀 涂布混合溶液于玻璃基板的上，舉例而言，刮刀之間隙(Gap)包括但不限定于550 微米(/xm)、 650微米(/mi)、 400微米(/mi)。另外，上述溶劑鑄膜的方式包括但不限 定于纏線棒涂布、逆或同向式滾筒涂布、氣簾式(air curtain)涂布、輪式涂布、雕 筒涂布、浸沾式涂布、旋轉涂布、狹縫式涂布、擠壓式涂布或淋幕式涂布；凡是 可以形成均勻光學薄膜的方式皆可以利用。
上述的溶劑鑄膜的方式中，除了各種涂布方法外，亦可透過鏡面模具的壓出 成型或射出成型，以制成光學膜，用以備制所述第一光學膜2與第二光學膜3。
在完成光學膜備制的后，進行步驟103，其是將由聚乙烯醇(PVA)偏光基質所 構成的偏光層1與上述步驟備制光學膜進行貼合。
由于涂布后所形成的含有溶劑的薄膜稱為濕膜，濕膜的厚度可以視需求的不 同而定。較佳的情形下，上述濕膜的厚度可為150微米(/mi) 1200微米(/mi)。因 此，在貼合步驟的后需進行步驟104，此步驟中透過烘箱以階段式或連續式升溫(例 如利用UV光照射)的方式，將上述方法制得的濕膜干燥。較佳的情形下，上述 干燥至溶劑殘留量不大于1%的階段，即可使得第一光學膜2與第二光學膜3以形 成具良好光學性質及均勻膜面的光學膜(相對于濕膜，稱為干膜)。其中上述第一 光學膜2與第二光學膜3的厚度可以由溶劑所占比例與加熱時間以及溫度來控制。 并且上述干膜經由表面化學處理，可以增進溶液中的分散性。其目的在于增進所 形成的膜的耐熱程度，且不影響干膜的光學均勻性。
上述步驟中的階段式升溫方式，實際可行的方式為例，其是將上述聚甲基丙 烯酸甲酯光學膜的配方、組成中溶劑加熱至9(TC，并劇烈攪拌。于此溫度下攪拌 一小時，待粒子完全溶解后移去加熱源并維持攪拌至室溫，接著，以35微米(um) 紗網過濾后靜置一段時間。此混合液傾倒于玻璃基板上，以550微米(/mi)間隙的 括刀刮除多余的涂布液。然后，置于烘箱中靜置IO分鐘后，加熱至8(TC并維持 20分鐘，以每次升溫2(TC并維持20分鐘的階段方式增溫，直至16(TC，并維持 30分鐘。最后，再加熱至18(TC并維持2小時。結果，得到的膜其溶劑殘余量為 0.1%，而膜的厚度為94微米(/xm)，并進行光學測試和機械強度測試，其中光學 測試可為穿透度、Haze、 b值等，機械強度可為延展率(％)、抗拉強度(MPa)、拉
伸模數(MPa)等。
再者，上述的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜亦可經由加熱延伸，涂上盤狀液晶等材
料，并經由滾筒磨擦或uv曝光等方式進行配向，以得到具有位相差的位相差膜。
另外，利用上述方法所制得的光學薄膜(干膜)，由于具有良好的光學性質，
例如低霧度、低黃化指數、于可見光范圍(波長400~700納米)具有高的光線穿 透度(〉90%)以及高阿貝數(即低的波長依存性)。
圖3是現有偏光板結構與本發明偏光板結構的單體透過率變化量比較圖；圖 4是現有偏光板結構與本發明偏光板結構的偏光度變化量比較圖；圖5是現有偏 光板結構與本發明偏光板結構的PVA內縮率比較圖。其中，圖中的TAC是選自 Konica公司型號KC8U產品以及Fuji公司型號TDY-80產品。上述本發明的第一 光學膜2與第二光學膜3中，可進一步添加由聚甲基丙烯酸甲酯及/或被取代官能 基的聚甲基丙烯酸甲酯及/或聚甲基丙烯酸甲酯混摻中包覆一橡膠彈性材質所形 成的聚甲基丙烯酸甲酯橡膠粒子，其中所述橡膠彈性材質是可選擇丙烯酸丁酯 (butyl acrylate)、聚甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate)、苯乙烯(styrene)以及其 共聚合物中的任一材質，且所述橡膠彈性材質的粒徑尺寸是小于IO微米甚至可進 一步為納米尺度。另外，所述聚甲基丙烯酸甲酯橡膠粒子的添加量是2.5~50%。 因此，關于所述些光學膜的單體透過率變化量、偏光度變化量以及PVA內縮率分 別在80。C、 60。C且90。/。RH、 400W、 -30°C、以及-30。C 8(TC的冷熱沖擊的各種條 件下會獲得較好的光學膜機械性質，包括提升延伸性等性質，如圖3、圖4以及 圖5的比較結果。
再者，基于上述的所述些光學膜的混摻技術，可選擇使得所述些光學膜的 PVA內縮變化率小于2%，且其最佳的PVA內縮變化率為小于1.2%。
另外，上述本發明的第一光學膜2與第二光學膜3中，可再進一步添加硅土 (silka)，且硅土可在光學膜備制的制程中加入，而比較方便的方式是將上述的溶 劑與硅土先行混合，再進行后續的聚甲基丙烯酸甲酯混摻程序。另外，關于硅土 加入的程序，也可以在聚甲基丙烯酸甲酯粒子混摻程序中，將硅土與聚甲基丙烯 酸甲酯一起加入。再者，也可在聚甲基丙烯酸甲酯混摻程序后，再行混入上述的 硅土。而上述添加的硅土占光學膜的重量百分比可為0.5%至15%的較佳范圍。
上述光學膜備制步驟與光學膜進行貼合步驟中，可將偏光層1直接作為第一 光學膜2與第二光學膜3的基板，直接將含有聚甲基丙烯酸甲酯混摻的溶液涂布于偏光層1表面，再施以濕膜干燥步驟，即完成在偏光層1表面形成第一光學膜 2與第二光學膜3的結構。
本發明以較佳實施例說明如上，然其并非用以限定本發明所主張的權利要求 的范圍。其專利保護范圍當視權利要求的范圍及其等同領域而定。凡本領域技術 人員，在不脫離本專利精神或范圍內，所作的更動或潤飾，均屬于本發明所揭示 精神下所完成的等效改變或設計，且應包括在權利要求范圍內。
權利要求
1、一種偏光板結構，包括偏光層；第一光學膜，其是形成于所述偏光層上方；及第二光學膜，其是形成于所述偏光層下方；其中所述第一光學膜與第二光學膜中至少一個光學膜是聚甲基丙烯酸甲酯光學膜。
2、 如權利要求l所述的偏光板結構，其特征在于所述第一光學膜是聚甲基 丙烯酸甲酯光學膜，所述第二光學膜是選自三醋酸纖維、聚碳酸酯以及聚環烯烴高分子中的任一材質；其中光學膜所采用的聚甲基丙烯酸甲酯光學膜，包括至少選擇一種聚甲基丙烯酸甲酯、被取代官能基的聚甲基丙烯酸甲酯以及聚 甲基丙烯酸甲酯混摻中的任一材質；以及溶劑，對應所選擇的所述聚甲基丙烯酸甲酯、所述被取代官能基的聚甲基丙 烯酸甲酯以及所述聚甲基丙烯酸甲酯混摻中的任一材質，依所需性質以任意比例 均勻混合在所述溶劑中以形成混合溶液，所述混合溶液經過熱處理后形成光學膜。
3、 如權利要求2所述的偏光板結構，其特征在于聚甲基丙烯酸甲酯、被取 代官能基的聚甲基丙烯酸甲酯以及聚甲基丙烯酸甲酯混摻中的任一材質是以20 至40的重量百分比混摻所述溶劑。
4、 如權利要求2所述的偏光板結構，其特征在于所述官能基為甲基；以及 所述被取代官能基的聚甲基丙烯酸甲酯是選擇以乙基、丙基、異丙基、正丁基、 異丁基、新丁基、正已基、異已基、環己基以及數種上述的官能基取代聚甲基丙 烯酸甲酯的甲基。
5、 如權利要求2所述的偏光板結構，其特征在于所述溶劑是選擇甲苯、丙 酮、乙酸甲酯、芳香族、環烷類、醚類、酯類以及酮類中的任一溶劑；其中所述芳香族是選擇甲苯，鄰-、間-以及對-二甲苯中的任一型態；所述環 垸類包括環己垸；所述醚類是選擇二乙基醚以及四氫呋喃中的任一醚類；所述酯 類是選擇乙酸甲酯以及乙酸乙酯中的任一酯類；以及所述酮類是選擇丙酮、甲基 乙基酮以及1-甲基環戊酮中的任一酮類。
6、 如權利要求2所述的偏光板結構，其特征在于所述光學膜進一步于制程 中添加硅土，且所述硅土的添加量是選擇占光學膜重量百分比的0.5%至15%中 的任一比例。
7、 如權利要求2所述的偏光板結構，其特征在于所述光學膜是透過所述混合溶液分布在基板上備制后，再貼合于所述偏光膜并進行熱處理后所形成； 所述混合溶液是利用溶劑鑄膜的方式而分布在所述基板上；所述基板是選擇玻璃基板、塑料基板、鏡面鋼板、鏡面鋼帶以及表面均勻性 良好的合成高分子中的任一材質；以及所述合成高分子是選擇PET、 PEN、 PES、 PI、 PAR、 PC以及天然纖維中的 任一材質，且所述天然纖維是選擇CA、 DAC以及TAC中的任一材質。
8、 如權利要求7所述的偏光板結構，其特征在于所述熱處理是利用UV光 照射所述基板上的所述混合溶液。
9、 如權利要求l所述的偏光板結構，其特征在于所述光學膜進一步選擇添 加包括聚甲基丙烯酸甲酯材質、包括被取代官能基的聚甲基丙烯酸甲酯材質以及 包括上述各種聚甲基丙烯酸甲酯混摻材質中包覆一橡膠彈性材質所形成的粒子；其中所述光學膜的制作方法進一步包括所述橡膠彈性材質是選擇丙烯酸丁酯、聚甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯以及其共 聚合物中的任一材質；以及以2.5 wt。/。 50wt。/。的添加量，選擇聚甲基丙烯酸甲酯、 被取代官能基的聚甲基丙烯酸甲酯以及各種聚甲基丙烯酸甲酯混摻中的任一材質 包覆所述橡膠彈性材質。
10、 如權利要求l所述的偏光板結構，其特征在于所述光學膜的PVA內縮 變化率小于2%。
全文摘要
本發明涉及一種偏光板結構，其是具有偏光層、第一光學膜以及第二光學膜，且第一光學膜是形成于所述偏光層上方，第二光學膜是形成于所述偏光層下方。其中，所述第一光學膜與第二光學膜中至少一個光學膜是聚甲基丙烯酸甲酯光學膜。再者，所述光學膜是透過所述混合溶液分布在基板上備制后，再貼合于所述偏光膜并進行熱處理后所形成，或者是所述光學膜是透過所述混合溶液分布于所述偏光膜表面并進行熱處理后所形成。
文檔編號G02B1/04GK101097269SQ200710112428
公開日2008年1月2日 申請日期2007年6月21日 優先權日2006年6月26日
發明者莊毓蕙, 曾盈達, 李光榮, 林宜貞, 王丹青 申請人:力特光電科技股份有限公司