專利名稱：：表面保護薄膜的制作方法表面保護薄膜技術區域本發明涉及一種具有剝離性的表面保護薄膜，特別是涉及一種適合用于在印制電路板制作工序等中對具有粘著性的光致抗蝕劑進行曝光時的原稿(光刻掩膜)的表面的表面保護薄膜。
背景技術：
：通常，印制電路布線板或樹脂凸版是通過向液狀光致抗蝕劑等具有粘著性的光致抗蝕劑粘附并曝光光刻掩膜(曝光用原稿)來制成的。因此，若在光刻掩膜表面不進行某些處理，則曝光完了后，在從光致抗蝕劑剝離光刻掩膜時，部份的光致抗蝕劑將會附著在光刻掩膜表面，即使擦拭，仍會殘留在光刻掩模上，將產生導致曝光精度不良的問題。因為上述原因，一直以來在光刻掩膜上的相對于光致抗蝕劑的一面，設置具有剝離性的表面保護膜，來防止光致抗蝕劑附著在光刻掩膜上的情形。作為這種光刻掩膜用的表面保護薄膜，已提出在塑料薄膜的一面具備具有剝離性的表面保護層，而在另一面具有粘著層的薄膜(專利文獻1)。作為構成表面保護層的材料，通常使用硅酮類樹脂等具有剝離性的、然而即使是在這種表面保護薄膜，也不能完全防止光致抗蝕劑附著在表面保護層，每當在表面保護層反覆進行曝光時，因每次都少量附著的光致抗蝕劑，導致曝光時的光被遮蔽或增加光散射性等問題，或者成為曝光時的阻礙。另外，附著的光致抗蝕劑的表面凹凸轉印到基板(抗蝕劑)上，成為因損傷而導致的不良。為了解決這樣的問題，也為了去除殘留在表面保護膜上的光致抗蝕劑和其他灰塵等等，需定期地使用清潔溶劑來清潔(擦拭操作)表面保護膜的表面。(專利文獻2)然而這種操作相當煩瑣，并且為了提高產量，希望減少清潔次數或者省去清潔工序。專利文獻l:特開平11-7121號公報(技術方案)專利文獻2:特開2003-96409號公報(發明欲解決的課題)
發明內容因此本發明的目的在于，提供一種相對于光致抗蝕劑可持續極高的剝離性的表面保護薄膜。為了實現所述課題，研究后發現，每當反覆曝光操作時，表面保護膜上都會附著少量光致抗蝕劑，從而表面保護膜的剝離性逐漸喪失。因此，本發明的發明者們，為了實現這樣的目的，潛心研究的結果，發現通過利用含有作為剝離性成分的JISR3257:1999中的與水的接觸角為100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂、和作為粘合劑成分的JISR3257:1999中的與水的接觸角為90度以下的縮合反應型樹脂來構成表面保護膜，即可以解決上述課題，以至完成本發明。也就是說，本發明的表面保護薄膜是在透明高分子薄膜的一面設置有表面保護層的表面保護薄膜，其特征在于，表面保護層含有作為剝離性成分的JISR3257:1999中的與水的接觸角為100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂，并含有作為粘合劑成分的JISR3257:1999中的與水的接觸角為90度以下的縮合反應型樹脂。另外，本發明的表面保護薄膜的特征為作為所述與水的接觸角為卯度以下的縮合反應型樹脂，含有縮合反應型硅酮類樹脂。另外，本發明的表面保護薄膜的特征為所述與水的接觸角為100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂的比例相對于所述粘合劑成分ioo重量份，為1重量份40重量份。在本發明的表面保護薄膜的一實施方式中，在透明高分子薄膜的另一面設置有粘著層。另外，本發明的表面保護層用組合物的特征為，含有JISR3257:1999中的與水的接觸角為100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂；和JISR3257:1999中的與水的接觸角為卯度以下的縮合反應型樹脂。另外，本發明的表面保護膜用組合物中，所述縮合反應型樹脂含有JISR3257:1999中的與水的接觸角為90度以下的縮合反應型硅酮類樹脂。在本發明的表面保護膜用組合物中，縮合反應型樹脂例如含有15重量％以上且70重量％以下的該縮合反應型硅酮類樹脂。根據本發明可防止光致抗蝕劑附著在表面保護膜，即使不進行清潔，也可以維持對光致抗蝕劑的極高度剝離性。具體實施例方式接著說明本發明的表面保護層用組合物與表面保護薄膜。本發明的表面保護層用組合物為含有與水的接觸角為100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂，以及與水的接觸角為90度以下的縮合反應型樹脂的組合物。本發明的表面保護層用組合物可用于形成在高分子薄膜等基材設置有表面保護層的表面保護薄膜的表面保護層，以及直接設置在應保護表面的材料(例如光刻掩膜)的表面上的表面保護膜。本發明的表面保護薄膜是在透明高分子薄膜的一面設置有表面保護層，另一面設置有粘著層的表面保護薄膜，表面保護薄膜由本發明的表面保護層用組合物所形成。以下，將說明有關本發明的表面保護薄膜的實施方式。作為透明高分子薄膜，只要為曝光時所使用的紫外線的穿透率高的薄膜既可，可使用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、三乙酰纖維素、丙烯酸、聚氯乙烯等透明性出色的高分子薄膜。尤其雙軸拉伸的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的機械強度、尺寸穩定性出色，因此特別適合使用。另外，在這些透明高分子薄膜上設置適宜的易粘接層等而成的薄膜也廣泛使用。透明高分子薄膜的厚度，因為會影響到析像度，所以越薄越好，但是考慮到操作性，厚度的下限為lnm以上，優選為2pm以上，進一步優選為4pm以上，其上限為100|Lim以下，優選為25nm以下，進而優選為12pm以下的范圍。設置在透明高分子薄膜的與設置有表面保護層的面相反面上的粘著層，可使用一般使用的丙烯酸類粘著劑、橡膠類粘著劑，氨基甲酸酯類粘著劑、硅酮類粘著劑等公知的透明粘合劑。本發明的表面保護薄膜，因為目的在于保護圖像等，因此粘合劑最好是透明的，并且其本身具有很高的耐候性。作為這種粘著劑，優選氨基甲酸酯交聯性或環氧交聯性的高分子量的丙烯酸類的粘著劑。另外，也可使用具備防靜電等性能的粘著劑。或者也可在設置有防靜電層的透明高分子薄膜的一面設置粘著層。為了不妨礙透明性(析像度)，并能獲得適度的粘著性，作為粘著層的厚度的下限為0.5pm以上，優選為lpm以上，更優選為2jam以上的范圍，其上限為3(Hmi以下，優選為15pm以下，進而優選為7pm以下的范圍。另外，為了不讓因其粘著性而使表面保護薄膜的操作性降低，也可以適宜地在粘著層貼合表面已實施剝離處理的剝離薄膜。設置在透明高分子薄膜的另一表面的表面保護層，由具有剝離性的表面保護層構成，并由剝離性成分與粘合劑成分構成。剝離性成分是賦予對于光致抗蝕劑的高剝離性的成分，主要由JisR3257:1999中的與水的接觸角為100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂(以下也稱高接觸角縮合反應型樹脂)構成。另外，粘合劑成分是賦予對于透明高分子薄膜的高的粘接性的成分，主要由JISR3257:1999中的與水的接觸角為90度以下的縮合反應型樹脂(以下也稱低接觸角縮合反應型樹脂)構成。使用含有這兩種縮合反應型樹脂的表面保護層用組合物，在基材上形成表面保護層時，在涂膜干燥的過程中，高接觸角縮合反應型樹脂會自律地偏在于表面側，而低接觸角縮合反應型樹脂則會偏在于基材側。在兩者的界面上剝離性成分與粘合劑成分進行縮合反應而結合。如此一來，通過使用上述兩種類的縮合反應型樹脂，在表面保護層表面，具備高剝離性的剝離性成分高濃度地存在，因此可得到高剝離性。另外，因為剝離性成分高濃度地存在的區域與粘合劑成分高濃度地存在的區域，會因為構成兩成分的樹脂的縮合反應而結合，因此剝離性成分不會從涂膜上剝落，可維持剝離性。另一方面，僅通過作為粘合劑成分的低接觸角縮合反應型樹脂是無法獲得剝離性的。另外，若只有作為剝離性成分的高接觸角縮合反應型樹脂，其與透明高分子薄膜間的粘接性不佳，另外機械性強度也差，與印制電路板接觸時的耐擦傷性也不足。此外，在將高接觸角縮合反應型硅酮類樹脂作為粘合劑成分與非縮合反應型樹脂的樹脂組合的情況下，或者在將低接觸角縮合反應型樹脂作為剝離性成分與非縮合反應型硅酮類樹脂的樹脂組合的情況下，因為剝離性成分與粘合劑成分無法結合，因此無法獲得持續的剝離性。縮合反應型硅酮類樹脂為具備如下式(O的硅氧垸主鏈的硅酮類樹脂，包括作為側鏈的有機官能團R以及/或者末端基，生成硅垸醇基的水解性基即水解后再生硅烷醇基(Si-OH)，進而脫水縮合而在主鏈間形成硅氧烷鍵的基團；和疏水性基。作為水解性基，可以舉出例如乙酸基、肟基、甲氧基、酰胺基、丙烯氧基等。另外，作為疏水性基，可以舉出如苯基、烷基、氟化垸基等。通過適宜選擇導入這些構成有機官能團R的水解性基與疏水性基，可以調整縮合反應型硅酮類樹脂的與水的接觸角。具體來說，疏水性基的比例越高越可以擴大接觸角。另外越是減少疏水性基的比例，增加水解性基，則越能縮小接觸角。[化l]<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage7</formula>作為高接觸角的縮合反應型硅酮類樹脂，可使用例如將二甲基聚硅氧烷作為基礎聚合物的側鏈以及/或者末端基具有苯基、烷基、氟化烷基的樹脂等，從縮合反應性的觀點來說，可以使用含有生成硅烷醇基的水解性基例如乙酸基、肟基、甲氧基、酰胺基、丙烯氧基等的樹脂。作為剝離性成分，在不妨礙涂膜的功能的范圍內，可以添加上述縮合反應型硅酮類樹脂以外的剝離性成分。作為其他剝離性成分，例如，可以舉出在側鏈或末端基不具有水解性的硅油(二甲基聚硅氧烷)等。在添加其他剝離性成分時，縮合反應型硅酮類樹脂在剝離性成分中所占的比例優選在90%以上。低接觸角縮合反應型樹脂是作為粘合劑成分來發揮作用，使用其與水的接觸角在90度以下，優選在85度以下的樹脂。關于低接觸角縮合反應型樹脂，也可以通過適當調整構成作為側鏈的有機官能團的水解性基以及疏水性基的比例來調整縮合反應型樹脂與水之間的接觸角。作為此類樹脂，可以使用縮合反應型硅酮類樹脂，縮合反應型醇酸樹脂，縮合反應型蜜胺樹脂，縮合反應型丙烯酸樹脂，縮合反應型聚酯樹脂等。尤其，縮合反應型硅酮類樹脂，因在溶液狀態下與剝離性成分的硅酮類樹脂的相溶性好，故優選，例如可以使用具有生成硅烷醇基的水解性基的樹脂。此外，在縮合反應型樹脂中含有的硅酮成分(硅酮類樹脂)的下限優選為15重量％以上，上限優選為70重量％左右。通過控制在這樣的范圍內，可以使作為粘合劑成分的其他縮合反應型樹脂與作為剝離性成分的高接觸角縮合反應型硅酮類樹脂間，隔著作為粘合劑成分的縮合反應型硅酮類樹脂而相互結合，因此能提高與透明性高分子薄膜的粘接性，進而向涂膜賦予充分的固化性或相對于光致抗蝕劑中含有的溶劑的充分的機械強度和耐擦傷性。另外在不妨礙涂膜的功能的范圍內，還可以添加作為粘合劑成分的縮合反應型樹脂以外的樹脂。作為縮合反應型樹脂以外的樹脂，可以舉出例如，熱塑性丙烯酸樹脂，熱塑性環氧樹脂等。對于在全部粘合劑成分中的縮合反應型樹脂的比例而言，作為下限為70重量％以上左右。作為剝離性成分的縮合反應型硅酮類樹脂，相對于粘合劑成分ioo重量份，其上限優選為40重量份以下，進而優選為20重量份以下，其下限優選為1重量份以上，進而優選為2重量份以上。將下限設為1重量份以上，是因為若少于1重量份，則將很難獲得剝離效果。另外，將上限設為40重量份以下，是因為若多于40重量份，則對于包含在光致抗蝕劑中的溶劑將很難獲得充分的機械強度和耐擦傷性，與透明性高分子薄膜的粘接性變差，而且即使多添加也不能提高剝離性的效果。在本發明的表面保護層用組合物中，也可含有用于促進與上述高接觸角縮合反應型硅酮類樹脂以及低接觸角縮合反應型樹脂之間的縮合反應的催化劑。作為催化劑，可以使用金屬脂肪酸鹽，金屬醇鹽等公知的催化劑。具體而言，可使用錫化合物，鋯化合物，鈦系化合物等。本發明的表面保護薄膜，可通過縮合反應使各成分結合，由此可以提高機械強度、耐擦傷性，或者減少剝離性成分從涂膜上的脫落，也就是減少剝離性成分往印制電路板上的轉印，以及改善剝離持續性。在表面保護層中，為了在表面保護層形成凹凸，除這些樹脂以外，還可以添加無機顏料或樹脂粒等微粒等。作為這種微粒，可以使用碳酸鈣，碳酸鎂，硫酸鋇，硅石，氫氧化鋁，高嶺土，粘土，滑石等無機顏料，或丙烯酸樹脂粒子，聚苯乙烯樹脂粒子，聚氨酯樹脂粒子，聚乙烯樹脂粒子，苯鳥糞胺樹脂粒子，環氧樹脂粒子等樹脂粒。這些微粒的添加量，因微粒的種類，表面保護層的厚度而不同，無法一概而論，不過通常占構成表面保護層的全部固體成分中的0.05重量％9.5重量％左右。另外，這種微粒的平均粒徑，因表面保護層的厚度而異，無法一概而論，不過通常為0.1)am10^n左右，優選使用0.5nm5jmi的微粒。通過這樣形成凹凸，可以設置與光致抗蝕劑的適當的間隙，使粘附曝光時的除空能力良好，進而能防止粘附曝光時產生中性環。作為表面保護層的厚度，雖沒有特別限定，不過從不使曝光時光掩膜的析像度低下的觀點來看，優選厚度薄，另外，從表面保護層的表面硬度、反復進行粘附曝光而導致的表面保護層的削減，初期的剝離性以及剝離性的持續等觀點出發，具體而言厚度為0.2|am5|im，優選為0.4,2.5nm。就如上所述的表面保護層或粘著層而言，配合各構成成分或所需的其他成分，使其溶解或分散于適當的溶劑中而配制涂布液，并將該涂布液通過輥涂法，棒涂法，噴涂法，氣刀刮涂法等公知的方法涂敷在透明性高分子薄膜上，干燥后使用恰當必要的固化方法使其固化來形成。如上所述利用本實施方式，通過在欲保護的構件隔著粘著層貼合表面，可容易地形成表面保護膜。此外，在保持表面保護膜的膜表面硬度的同時，不使其沾上污漬，因此對于光致抗蝕劑能維持極高的剝離性。另外，作為表面保護薄膜，如以上的實施方式所說明般，通常為具有粘著層薄膜，不過在本發明的表面保護薄膜中，并非必需粘著層，沒有粘著層的薄膜也包含于本發明中。實施例以下通過實施例進一步說明本發明。另外，只要沒有特別注明，"份"、為重量基準。[實施例1]將下述組成的表面保護層用涂布液通過棒涂法涂布在厚度為6pm的透明高分子薄膜(REMIRROR:東麗公司)的一表面，在12(TC下加熱5分鐘使其固化，形成厚度約為liam的表面保護層。并且在另一面涂布下述組成的粘著層用涂布液，干燥后形成厚度約為2pm的粘著層，制作表面保護薄膜。在粘著層上為方便操作，貼合厚度為25nm的聚對苯二甲酸乙二醇酯剝離薄膜(MRB:三菱化學聚酯薄膜公司)。'<表面保護層用涂布液>縮合反應型硅酮類樹脂4份(KS705F:信越化學工業，接觸角108度固體成分30%)*縮合反應型硅酮類樹脂60份(有機硅烷縮合物蜜胺樹脂醇酸樹脂=10:3:7，接觸角80度固體成分30%)*錫系固化催化劑0.5份顏料0.1份(NipsilSS-15:東曹(東y—)'硅石)甲基乙基甲酮20份甲苯20份<粘著層用涂布液>丙烯酸酯共聚合物10份(AKONTACKSCL-200:固體成分40%、東亞合成化學)甲苯10份乙酸乙酯10份除了將實施例1的表面保護層涂布液更換成下述的表面保護層涂布液以外，釆用與實施例1相同的方法來制作表面保護薄膜。<表面保護層用涂布液>醇酸樹脂=10:3:7，接觸角80度固縮合反應型硅酮類樹脂12份(KS705F:信越化學工業，接觸角108度固體成分30%)縮合反應型硅酮類樹脂60份(有機硅烷縮合物蜜胺樹脂體成分30%)，錫系固化催化劑*顏料(NipsilSS-15:東曹硅石)甲基乙基甲酮甲苯除了將實施例1的表面保護層涂布液更換成下述的表面保護層涂布液以外，采用與實施例1相同的方法來制作表面保護薄膜。<表面保護層用涂布液>縮合反應型硅酮類樹脂(KS705F:0.5份0.1份16份16份su^坐庇閉矢們;j目21傷、信越化學工業，接觸角108度固體成分30%)縮合反應型硅酮類樹脂60份(有機硅烷縮合物蜜胺樹脂醇酸樹脂=10:3:7，接觸角80度固體成分30%)，錫系固化催化劑顏料(NipsilSS-15:東曹硅石)甲基乙基甲酮甲苯除了將實施例1的表面保護層涂布液更換成下述的表面保護層涂布液以外，采用與實施例1相同的方法來制作表面保護薄膜。<表面保護層用涂布液>*加聚型硅酮類樹脂30份(LTC750A:東麗道康寧硅(東k夕'々0.5份0.1份12份12份.y夕、、、乂!i〕一乂)，接觸角IOO度以上固體成分30%)*鉑系固化催化劑0.3份顏料0.05份(NipsilSS-15:東曹硅石)甲苯70份'[比較例2]除了將實施例1的表面保護層涂布液更換成下述的表面保護層涂布液以外，采用與實施例1相同的方法來制作表面保護薄膜。<表面保護層用涂布液〉縮合反應型硅酮類樹脂30份(KS705F:信越化學工業，接觸角IOO度以上)*錫系固化催化劑0.6份顏料0.05份(NipsilSS-15:東曹硅石)甲苯70份對于實施例13，以及比較例12中獲得的表面保護薄膜，通過以下試驗而迸行了評價，即，通過反覆曝光來確認能否使表面保護層持續具有高的剝離性。此外，對其是否不受光致抗蝕劑中所含有的多元醇等溶劑的侵犯而對光致抗蝕劑保持高的剝離性進行評價。此外，就表面保護層的耐擦傷性也進行評價，評價結果如表1所示。<初期剝離性的評價>在具有實施例13以及比較例12的表面保護薄膜的表面保護層的一面，貼合寬18mm的粘著帶(NICHIBANcellotapeNo.405:NICHIBAN公司)，用拉伸試驗機(TENSILONHTM-100:東洋Baldwin公司)測定在300mm/min的剝離速度下的180。剝離力。將測定結果不到50g/18mm的表示為"◎"，50g/18mm不到200g/18mm的表示為"〇"，200g/18mm以上的表示為"X"。<反覆曝光時的剝離性的評價>作為光致抗蝕劑(感光性樹脂)，使用乙氧基化雙酚A二丙烯酸酯(A-BPE4:新中村化學)，向其中再添加3重量o^作為光聚合引發劑的苯乙酮系光自由基聚合引發劑(Irgacurel84:CibaSpecialtyChemicals公司)，然后用棒涂機在聚酯薄膜上涂布所述得到的物質，以使涂布厚度成為lOjAni，從而制作試驗片A。使該試驗片A的感光性樹脂涂布面，與具有實施例13以及比較例12的表面保護薄膜的表面保護層的一面粘附在一起，從具有表面保護層的一面的背面，使用金屬鹵化物燈進行200mJ7cr^的紫外線曝光后，剝離試驗片A。同樣的操作進行100回后，在表面保護薄膜的具有表面保護層的一面，貼合寬18mm的粘著帶(NICHIBANcellotapeNo,405:NICfflBAN公司)，用拉伸試驗機(TENSILONHTM-100:東洋BALDWIN公司)測定在300mm/min的剝離速度下的180。剝離力。測定結果不到50g/18mm的表示為"◎"，50g/18mm不到200g/18mm的表示為"〇"，200g/18mm以上的表示為"X"。<耐擦傷性評價>對于具有實施例l3以及比較例12的表面保護薄膜的表面保護層的面，用滲含有丙二醇一甲醚的紗布，邊施加100g/cr^的載荷，邊進行往復20回的摩擦，然后對具有表面保護層的面進行觀察。沒有表面:保護層的變化的表示為"◎"，有擦拭痕跡但表面保護層沒有脫落的表示為"〇"，表面保護層若干脫落的表示為"△"，表面保護層有明顯脫落的表示為"x"。<table>complextableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>由于實施例12中，剝離性成分、粘合劑成分均用縮合反應型硅酮類樹脂來形成表面保護層，因此在初期的剝離性，根據反覆曝光的剝離性、耐擦傷性中的任一評價中，都顯示了作為表面保護薄膜所具有足夠的性能。實施例3中，初期的剝離性、根據反覆曝光的剝離性與其他實施例相同地具有良好的結果，但由于與其他實施例相比含有較多的剝離性成分，因此其耐擦傷性稍微弱。在比較例1中，由于使用了在以往的表面保護薄膜中所使用的加聚型硅酮類樹脂，因此在進行根據反覆曝光的剝離性的評價時，其性能明顯下降。在比較例2中，因只使用作為剝離性成分的縮合反應型硅酮類樹脂來形成表面保護膜，所以表面保護層的耐擦傷性明顯差，表面保護層容易受損，因此容易引起因傷痕的曝光阻礙，不耐用。權利要求1.一種表面保護薄膜，其是在透明高分子薄膜的一面設置有表面保護層的表面保護薄膜，其特征在于，表面保護層含有作為剝離性成分的JISR32571999中的與水的接觸角為100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂；作為粘合劑成分的JISR32571999中的與水的接觸角為90度以下的縮合反應型樹脂。2.根據權利要求1所述的表面保護薄膜，其特征在于，作為所述與水的接觸角為90度以下的縮合反應型樹脂，含有縮合反應型硅酮類樹脂。3.根據權利要求1所述的表面保護薄膜，其特征在于，相對于所述粘合劑成分100重量份，所述與水的接觸角為100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂的比例為1重量份40重量份。4.根據權利要求13中任意一項所述的表面保護薄膜，其特征在于，在所述透明高分子薄膜的另一面設置有粘著層。5.—種表面保護膜用之組合物，其特征在于，含有JISR3257:1999中的與水的接觸角為100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂；和JISR3257:1999中的與水的接觸角為90度以下的縮合反應型樹脂。6.根據權利要求5所述的表面保護膜用組合物，其特征在于，所述縮合反應型樹脂含有JISR3257:1999中的與水的接觸角為90度以下的縮合反應型硅酮類樹脂。7.根據權利要求6所述的表面保護膜用組合物，其特征在于，含有所述縮合反應型樹脂的15重量％以上且70重量％以下的JISR3257:1999中的與水的接觸角為90度以下的縮合反應型硅酮類樹脂。全文摘要本發明的表面保護薄膜，在透明高分子薄膜的一面設置有粘著層，在另一面設置有表面保護層，該表面保護層含有作為剝離性成分的JISR32571999中的與水的接觸角在100度以上的縮合反應型硅酮類樹脂，且由作為粘合劑成分的JISR32571999中的與水的接觸角在90度以下的縮合反應型樹脂形成。所述JISR32571999中的與水的接觸角在90度以下的縮合反應型樹脂，優選含有縮合反應型硅酮類樹脂。該表面保護薄膜可對于光致抗蝕劑持續具有極高的剝離性。文檔編號G03F1/48GK101346665SQ20068004939公開日2009年1月14日申請日期2006年12月25日優先權日2005年12月26日發明者今村順一,梶谷邦人申請人:木本股份有限公司