具有對非軸對稱結構的高階補償的隱形眼鏡的制作方法

專利名稱：：具有對非軸對稱結構的高階補償的隱形眼鏡的制作方法
技術領域：
：本發明涉及結合有諸如棱鏡壓載的非對稱性結構特征的隱形眼鏡和其它眼科生物醫學設備，并且涉及補償相關的光學像差的對這種眼鏡和設備的光學修改。
背景技術：
：對諸如遠視和散光的狀況的光學校正涉及關于光學視軸的特定角度定向。用于治療遠視的堆疊聚焦段具有沿著公共垂直軸間隔的不同焦度。用于治療散光的柱面光學校正的特色在于相對于公共柱面軸定向的兩個正交方向。在關于公共柱面軸定向的兩個正交方向上的光學焦度。為了實現期望的光學校正，遠視校正的垂直軸和散光校正的柱面軸必須如預期定向成關于光學視軸具有角度。用于形成這種校正的隱形眼鏡通常上結合有一些類型的壓載，以便當安裝在佩帶者眼睛上時關于光學視軸維持眼鏡的優選的角度定向。眼鏡的一個或多個部分可以制作得比眼鏡的其它部分更厚或更薄，以提供壓載。例如，前表面可以相對于眼鏡的后表面向下偏心以實現厚度改變，其沿著垂直子午線(meridian)從眼鏡的上部向下部增加(即，下部比上部更厚)。所謂的"復曲面隱形眼鏡"包括復曲面光學區，其校正與散光相關的折射異常。這種眼鏡的處方典型地指定稱為焦度的二階球面校正，以及二階柱面校正和指定柱面軸與壓載的定向軸的角度偏移量的旋轉角。復曲面隱形眼鏡處方典型地在從0度至180度的范圍，指定5度或10度增量的焦度偏移。多焦隱形眼鏡也可以需要類似的壓載，其中眼鏡的不同聚焦部分在特定方向進行堆疊。例如，雙焦或漸進聚焦隱形眼鏡可以具有沿著眼鏡的垂直子午線在眼鏡的上部和下部之間改變的聚焦焦度，并且可以要求一些形式的壓載以在佩帶者眼睛上維持期望的垂直定向。為此目的，沿著相同的垂直子午線漸進地改變眼鏡厚度的壓載能夠用于此目的。定向的眼鏡的不同聚焦部分可以包括用于散光的各別的校正。沿著眼鏡的垂直子午線對厚度的漸進改變纟主往顯示通過光學區的所謂"棱鏡"效應，在焦點位置產生微小的移位。作為光學效應，該移位是微小的，并且通常能夠易于通過佩帶者的天生視覺系統調節。然而，除了焦點位置的微小移位，受控的厚度改變也往往產生較高階像差，尤其是垂直彗差(coma)，其是三階效果。這種高階像差會降低成像性能，尤其在較低光照狀況下。一般地，高階像差往往的重要性隨瞳孔大小增加。
發明內容本發明在其一個或多個優選實施例中補償了隱形眼鏡的受控厚度改變，諸如棱鏡壓載，或者補償了產生波前像差的隱形眼鏡的其它非軸對稱結構特征。波前修改器可以結合到眼鏡中，以至少部分地補償與非軸對稱性結構特征相關的波前像差。補償量優選基于一個或多個球形目標。例如，三階波前修改可以結合到隱形眼鏡中以抵消相關的非對稱結構特征的三階光學效應，目標在于眼鏡的凈零三階波前像差。可選地，可以結合不同幅度的三階波前修改，目標在于眼鏡的凈非零三階波前像差，這是為了諸如影響廣泛群體(population-wide)視覺特征的目的。雖然來自多個標識的群體的統計數據可以告知針對眼鏡的殘余波前像差的總體目標的選擇，該結構地補償波前修改可以結合到隱形眼鏡中，滿足獨立于由各個隱形眼鏡佩帶者的天然視覺系統所顯示的任何高階像差的一系列處方。因而，本發明預期的改進的隱形眼鏡可以結合三階波前修改，至少部分地補償它們的非軸對稱結構特征，而無需測量個體隱形眼鏡佩帶者的三階視覺性能。該波前修改優選移除非軸對稱結構特征的相反光學效果。然而，較高階校正也可以以用于高階效果的廣泛群體目標為目標，諸如補償由可界定的群體組所顯示的統計上顯著的高階像差。包括光學處方數據、眼睛匹配數據、年齡、性別或醫療史的一個或多個特征的組合可以界定這種組。作為一種制造隱形眼鏡的方法的本發明的一個版本，包括形成具有前表面和后表面的隱形眼鏡體，所述前表面和后表面沿著光軸對準用于產生球面或柱面校正。通過關于光軸的非軸對稱厚度改變，以結合定向特征用于關于光軸定向隱形眼鏡體，將前表面和后表面關聯。標識與非軸對稱厚度改變相關的一個或多個光學缺陷。前表面和后表面中至少之一制作為波前修改器，其至少部分地補償與非軸對稱厚度改變相關的光學缺陷。優選地將光學缺陷標識為與厚度改變相關的非軸對^^波前像差。一般地，相關的光學缺陷包括三階波前像差。例如，一種形式的彗差，諸如垂直彗差，可以與厚度改變相關。波前修改器優選設置為至少部分補償與厚度改變相關的垂直彗差。該設置可以包括將波前修改器結合到隱形眼鏡體的前表面中。此外，厚度改變與球面或柱面校正組合，可以產生多個其它高階像差，并且波前修改器也可以設置為至少部分補償其它高階像差。作為一種制造隱形眼鏡的方法的本發明的另一版本，包括形成一種隱形眼鏡體，其具有用于關于光軸定向隱形眼鏡體的非軸對稱厚度改變。標識與非軸對稱厚度改變相關的光學像差，并且修改隱形眼鏡體的光學屬性以至少部分補償確定的與厚度改變相關的光學像差。可以標識光學像差為三階波前像差，諸如垂直彗差，由沿著光軸通過眼鏡體的透射顯示。修改隱形眼鏡體的光學屬性以至少部分補償三階波前像差。例如，眼鏡體優選包括前表面和后表面，并且前表面和后表面中至少之一可以被修改以至少部分補償與厚度改變相關的標識的光學像差。作為成形前表面和后表面的可選或附加，可以將折射率的改變結合到眼鏡體中以至少部分補償已標識的光學像差。折射率的改變優選地是折射率的非軸對稱改變。作為隱形眼鏡組的本發明的另一版本包括多個眼鏡體，其具有前表面和后表面，沿光軸對準用于產生球面或柱面校準。通過非軸對稱厚度改變以產生球面或柱面校正，將前表面和后表面關聯。結合到眼鏡體的前表面和后表面中至少之一中的波前修改器至少部分補償與非軸對稱厚度改變相關的波前像差，其通過將針對眼鏡體中的任何其余波前像差的公共值定為目標實現。波前像差可以包括三階波前像差，而眼鏡體中的公共目標值是預定量的三階波前像差。眼鏡體中的公共目標值的預定量可以是零量的三階波前像差。可選地，眼鏡體中的公共目標值可以是基于群體研究的量，以補償該群體所顯示的類似的三階像差。波前像差可以是彗差，且公共目標值可以是預定量的彗差。波前修改器作為非軸對稱表面形式結合到前表面和后表面中至少之一中，其至少部分補償與厚度改變相關的波前像差。作為多個隱形眼鏡的本發明的另一版本包括多個隱形眼鏡體，每一個所述隱形眼鏡體包括結構特征，其對傳播通過隱形眼鏡體的波前提供了三階波前像差。結合到每個隱形眼鏡體中的波前修改器，提供了補充三階波前像差，從而與由結構特征所提供的三階波前像差組合，在眼鏡體中任何殘余三階波前像差基本上是相同的。結合到眼鏡體中的結構特征可以提供不同量的三階波前像差，但是殘余三階波前像差的量優選地保持基本上相同。至少一些眼鏡體優選地顯示不同量的光焦度，但是也優選顯示基本上相同量的殘余三階波前像差。殘余三階波前像差可以基本上為零。結構特征可以用于將隱形眼鏡體定向在佩帶者眼睛上。例如，眼鏡體可以是棱鏡壓載的，用于將眼鏡體定向在佩帶者眼睛上，并且波前修改器至少部分補償與棱鏡壓載相關的光學像差。例如，波前修改器可以相對于佩帶者眼鏡的光軸提供非軸對稱像差。尤其，波前修改器可以補償與棱鏡壓載相關的垂直彗差。波前修改器可以形成在眼鏡體的前表面和后表面中，并且優選地形成在前表面中。作為一組眼科生物醫學光學器件的本發明的另一版本，包括多個聚焦光學器件，其具有適于與生物組織接觸的主體以及影響眼鏡體的光學透射的聚焦光學體的非軸對稱結構特征。波前修改器還影響聚焦光學體的光學透射。波前修改器呈現三階像差，其產生類似于聚焦光學體的成像性能的改進。非軸對稱結構特征可以提供三階像差，并且波前修改器至少部分補償定向特征的三階像差。波前修改器也優選地補償多個其它較高階的像差，以提高成像性能。例如，波前修改器可以提供對彗差和球差的校正。優選地，波前修改器形成在前表面和后表面中的一個中作為非軸對稱表面改變。然而，波前修改器也可以至少部分由聚焦光學體中的折射率改變而形成。圖1是示出影響眼鏡性能和橫截面形狀的不同區域的復曲面透鏡的前視圖2是沿著對應于壓載軸的垂直直徑取得的復曲面透鏡的側向橫截面視圖3是沿著壓載軸的透鏡的預期厚度改變的曲線圖；圖4A和4B比較了衍射限制的和異常的圖像，示出了垂直彗差的效果;圖5是示出在不同空間頻率處垂直彗差對對比度的影響的調制傳遞函數的曲線圖。具體實施例方式多焦點和復曲面隱形眼鏡屬于需要相關的角度定向以行使如所設計的功能的類型的隱形眼鏡。這種有角度的靈敏隱形眼鏡典型地形成為具有某種類型的壓載，以促成眼鏡在佩帶者眼睛上的特定方向。壓載設置眼鏡的中間角度方向；并且諸如用于適應散光的柱面軸的角度方向的角度靈敏的處方，是針對此方向的。典型地，眼鏡制作為沿著所謂的壓載軸具有厚度改變，所述壓載軸設置眼鏡的中間方向。如圖1和2中所示，典型復曲面隱形眼鏡10的厚度改變可以通過前眼鏡表面12相對于后眼鏡表面14的相對垂直偏移實現。該偏移影響了前眼鏡表面12和后眼鏡表面14的中心區16和18，以及它們相應的周邊區20和22，產生了眼鏡體24的方向厚度改變。這種復曲面隱形眼鏡的附加細節在共同轉讓的美國專利No.6113236中給出，所述文獻在此通過引入并入。圖3的曲線圖示出了沿著與預期壓載軸26對準的眼鏡的垂直子午線取得的典型厚度改變。雖然厚度輪廓受到其它因素的影響，所述因素包括球面和柱面校正，但是厚度輪廓往往在從眼鏡10的上部至下部的方向上漸變地增加。漸變厚度改變延伸通過預期的透鏡光學區，并且主要作為光學棱鏡效應影響通過眼鏡的光傳播，其可以作為針對垂直棱鏡的一階Zemike多項式項(即，Z「1)測量。相關的角度圖像位移相對較小，并且易于由佩帶者的天然視覺系統調整。然而，我們已經發現厚度改變也光學地表現為高階像差，尤其作為三階像差，諸如垂直彗差(即，Zemike項Z3")。可有助于傳統壓載的垂直彗差的幅度預期在6.0mm光學區上的近似0.1微米至0.3微米的范圍中。圖4A和4B對比了對向5弧分的字母"E"的衍射限制的模擬圖像與通過6.0毫米瞳孔的顯示0.1微米垂直彗差的字母"E"的類似尺寸的模擬圖像。字母"E"的圖像質量被垂直彗差降低了。在0度軸具有一3.00球面屈光度和一1.5柱面屈光度的處方的一個傳統復曲面眼鏡可以顯示6毫米光學區上的0.184微米的垂直彗差。與常規復曲面眼鏡的垂直彗差相關的成像性能的降低在圖5的曲線中是明顯的，其中光學傳遞函數的模數相對于在較低空間頻率處的理想的眼鏡顯著降低了。不考慮與垂直彗差相關的光學性能的可論證退化，垂直彗差對視覺靈敏度的效應較不明顯。傳統視覺靈敏度測試基于增加規模，其可能缺少合適的分辨率以測量小量垂直彗差的效應。眼鏡或佩帶者天然視覺系統中的其它更高階的像差也可以掩飾單個更高階項中的差異。但是，控制產生的與諸如棱鏡壓載的非軸對成結構特征相關的三階或其它更高階像差，降低了內在誤差，并且提高了成像性能，其對于最優化這種校正的眼鏡的能力都是重要的。為了控制與棱鏡壓載相關的測得的或者計算得的垂直彗差，隱形眼鏡10的前表面12和后表面14中至少之一形成為非軸對稱非球面。優選地，非球面形成在前表面12中以減少對裝配的影響。前表面的垂度函數由以下方程給出<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>其中R是以毫米為單位的表面的頂端半徑，K是表面的圓錐常數并且沒有單位，X是以毫米為單位的徑向位置，Z3"是以毫米為單位的用于垂直彗差的Zemike系數，NR是用于Zemike系數的標準化半徑，而Q是以度為單位的方位角位置。可以選擇用于垂直彗差的Zemike系數Z3"以補償由棱鏡壓載所引起的垂直彗差，從而己補償的眼鏡的凈垂直彗差為零或非零，這取決于用于眼鏡的總體目標(globaltarget)值。零目標值需要非球面表面校正以抵消用于垂直彗差的測得或計算的值，從而組合的效應是從眼鏡移除垂直彗差。非零目標值余下相同或相反符號的所需量的垂直彗差以抵消廣泛群體的像差或其它使用情況。雖然研究已經顯示了在一般群體中發現了對于垂直彗差的微小總偏置，但是標識垂直彗差的測得量有利的更特定群體或使用狀況是可能的。標識的群體可以由多種標準以及由常規處方參數所界定，所述標準包括年齡、性別、體檢和歷史。隱形眼鏡典型地成批制造，并且組織成庫存單位(SKU),區分針對球面和柱面校正及裝配參數的光學處方的寬范圍。優選地，每個這種處方與用于垂直彗差的僅一個或可能地兩個目標值相關。即使目標值在這些處方中改變，用于每個處方的垂直彗差的單個目標值不增加SKU的數量，其必須維持以符合期望的傳統處方的范圍。用于每個處方的垂直彗差的第二可用目標值將使得SKU總數翻倍，其必須維持并且需要在可用處方中進一步選擇(即，在兩個目標值中的選擇)。對棱鏡壓載的期望補償也可以包括其它三階(例如，三葉形)或者更高階項以及更低階項，以維持所需的球面或柱面校正。對棱鏡壓載的補償也可以與用于其它結構特征的補償組合，所述其它結構特征貢獻波前像差，包括可以貢獻諸如球差(Z4Q)的像差的軸對稱結構特征。非零目標值也可以設置為補償其它像差，諸如球差，以符合偏斜的群體分布，用于像差或者用于在群體中識別的非球面裝配特性。用于波前像差的目標值可以匹配某些廣泛群體的目的。然而，本發明主要致力于補償眼鏡的非軸對稱結構特征，以符合用于相關波前像差的限定數量的目標值。其它波前像差或已定為目標的波前像差，包括其它的垂直彗差的源，可以容納在該眼鏡設計中。例如，球面像差和偏心的組合可以產生三階像差，諸如彗差。優選地，成形眼鏡10的前表面12和后表面14中的一個或兩者實現期望的補償。一旦通過諸如表面修改的相關Zernike項界定了表面修改，可以由多種傳統方法再成形眼鏡表面，所述常規方法包括車工、激光雕刻或者模制，所述模制對將期望的波前修改結合到眼鏡的批量制造中是優選的。折射率改變也可以結合到眼鏡體24中，以進一步影響補償非軸對稱結構特征所需的波前修改。例如，折射率改變可以沿著眼鏡上下部分之間的垂直子午線制作在眼鏡體24中。光敏光學材料可以結合到眼鏡體24中，并且被曝光以改變它們的折射率。眼鏡也可以形成為具有另外的光學界面，或者形成在多層中用于進一步再成形波前。結合波前修改器以補償非軸對稱結構特征的一組隱形眼鏡可以基于從Bausch和Lomb公司可獲得的商品名為PureVisionToric的持續佩帶復曲面棱鏡壓載的隱形眼鏡。使用聚丙烯模塑樹脂和balafilconA共聚物鑄型形成所考慮的眼鏡，并且其具有一3.00的屈光度的球焦度。針對用于產生垂直彗差的三個不同目標的眼鏡尺寸示出在下表中。<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>眼鏡的前表面的非球面改變并不預期產生任何集中、定向或舒適度問題。實現用于垂直彗差的期望的目標值時，也可能需要將其它更高階像差作為目標以確保垂直彗差校正的預期益處沒有被抵消或由其它更高階像差壓倒。雖然已經參考某些范例實施例描述了本發明，對于本領域技術人員而言，根據本發明的總體教導，其它修改將是非常明顯的。例如，雖然本發明主要致力于隱形眼鏡的改進，但是具有影響成像性能的非軸對稱結構特征的其它眼科生物醫學光學器件也可以從本發明中受益。權利要求1、一種制造隱形眼鏡的方法，包括如下步驟形成隱形眼鏡體，其前表面和后表面沿著光軸對準，用于產生球面或柱面校正；通過非軸對稱厚度改變，以結合定向特征用于關于所述光軸定向所述隱形眼鏡體，將所述前表面和后表面關聯；標識與所述定向特征的所述非軸對稱厚度改變相關的光學缺陷；以及將所述前表面和后表面中至少之一制作為波前修改器，其至少部分地補償與所述非軸對稱厚度改變相關的所述光學缺陷。2、如權利要求1所述的方法，其中所述標識步驟包括標識光學缺陷為與所述厚度改變相關的非軸對稱波前像差。3、如權利要求2所述的方法，其中所述標識步驟包括標識與所述厚度改變相關的彗差。4、如權利要求3所述的方法，其中所述制作步驟包括設置所述波前修改器以至少部分補償與所述厚度改變相關的所述彗差。5、如權利要求l所述的方法，其中所述標識步驟包括標識所述光學缺陷為包括三階波前像差。6、如權利要求5所述的方法，其中所述制作步驟包括設置所述波前修改器，以至少部分補償所述三階波前像差。7、如權利要求6所述的方法，其中所述制作步驟包括將所述波前修改器結合在所述隱形眼鏡體的所述前表面中。8、如權利要求1所述的方法，其中所述厚度改變與所述球面或柱面校正結合，產生多個更高階像差，并且所述標識和制作步驟包括標識所述更高階像差為缺陷，并且設置所述波前修改器以至少部分補償所述更高階像差。9、一種制造隱形眼鏡的方法，包括如下步驟形成隱形眼鏡體，其具有非軸對稱厚度改變用于關于光軸定向所述隱形眼鏡體；標識與所述非軸對稱厚度改變相關的光學像差；以及修改所述隱形眼鏡體的光學屬性，以至少部分補償標識的與所述厚度改變相關的光學像差。10、如權利要求9所述的方法，其中所述標識步驟包括標識所述光學像差為由沿所述光軸通過所述眼鏡體的透射所顯示的垂直彗差。11、如權利要求10所述的方法，其中所述修改步驟包括修改所述隱形眼鏡體的光學屬性，以至少部分補償與所述厚度改變相關的所述垂直彗差。12、如權利要求9所述的方法，其中所述標識步驟包括標識所述光學像差為包括三階波前像差。13、如權利要求12所述的方法，其中所述修改步驟包括修改所述隱形眼鏡體的光學屬性，以至少部分補償所述三階波前像差。14、如權利要求9所述的方法，其中所述形成步驟包括形成所述眼鏡體的前表面和后表面，并且所述修改步驟包括修改所述前表面和后表面中的至少一個以至少部分補償與所述厚度改變相關的所述標識的光學像差。15、如權利要求9所述的方法，其中所述修改步驟包括在所述眼鏡體的折射率中結合改變，以至少部分補償所述標識的光學像差。16、如權利要求15所述的方法，其中折射率中的所述改變是折射率中的非軸對稱改變。17、一種隱形眼鏡組，包括多個眼鏡體，具有沿著光軸對準的前表面和后表面，用于產生球面或柱面校正；所述前表面和后表面通過非軸對稱厚度改變而關聯，以關于所述光軸定向所述隱形眼鏡體；以及波前修改器，結合到所述眼鏡體的所述前表面和后表面中的至少一個中，并且至少部分補償與所述非軸對稱厚度改變相關的波前像差至用于所述眼鏡體中任何其余波前像差的公共目標值。18、如權利要求17所述的組，其中，與所述非軸對稱厚度改變相關的所述波前像差包括三階波前像差，并且所述眼鏡體中的所述公共目標值是預定量的所述三階波前像差。19、如權利要求18所述的組，其中，所述眼鏡體中所述預定量的所述公共目標值基本上是零量的所述三階波前像差。20、如權利要求18所述的組，其中，所述眼鏡體中的所述公共目標值是基于群體研究的量，以提供對由所述群體顯示的類似三階像差的目標補償。21、如權利要求18所述的組，其中，所述波前像差是彗差，且所述公共目標值是預定量的彗差。22、如權利要求17所述的組，其中，波前修改器作為非軸對稱表面形式被結合到所述前表面和后表面中的至少一個中，其至少部分補償與所述厚度改變相關的所述波前像差。23、多個隱形眼鏡，包括多個隱形眼鏡體，每個結合結構特征，其對通過所述隱形眼鏡體的波前傳播貢獻三階波前像差；以及波前修改器，結合到每個所述隱形眼鏡體中，其貢獻補充的三階波前像差，使得與由所述結構特征貢獻的所述三階波前組合，任何殘余三階波前像差在所述眼鏡體中基本相同。24、如權利要求23所述的隱形眼鏡，其中結合到所述眼鏡體中的所述結構特征貢獻不同量的所述三階波前像差，但是所述殘余三階波前像差的量保持基本相同。25、如權利要求23所述的隱形眼鏡，其中至少一些所述眼鏡體顯示了不同量的光焦度，但是顯示了基本相同量的所述殘余三階波前像差。26、如權利要求23所述的隱形眼鏡，其中所述殘余三階波前像差基本為零。27、如權利要求23所述的隱形眼鏡，其中所述波前修改器貢獻不同量的彗差。28、如權利要求23所述的隱形眼鏡，其中所述結構特征備于將所述隱形眼鏡體定向在佩帶者眼睛上。29、如權利要求28所述的隱形眼鏡，其中所述眼鏡體是棱鏡壓載的，用于將所述眼鏡體定向在所述佩帶者眼睛上，并且所述波前修改器至少部分補償與所述棱鏡壓載相關的光學像差。30、如權利要求29所述的隱形眼鏡，其中所述波前修改器相對于所述佩帶者眼睛的光軸貢獻非軸對稱像差。31、如權利要求30所述的隱形眼鏡，其中所述波前修改器補償與所述棱鏡壓載相關的垂直彗差。32、如權利要求29所述的隱形眼鏡，其中，所述眼鏡體包括前表面和后表面，并且所述波前修改器形成在所述前表面和后表面中的一個中。33、如權利要求32所述的隱形眼鏡，其中，所述波前修改器形成在所述前表面中。34、根據權利要求29所述的隱形眼鏡，其中，所述波前修改器貢獻多個更高階的像差。35、如權利要求34所述的隱形眼鏡，其中，由所述波前修改器貢獻的所述更高階像差中的至少一個是彗差。36、一組眼科生物醫學光學器件，包括多個聚焦光學器件，具有適用于與生物組織接觸的主體；所述聚焦光學器件體的非軸對稱結構特征，其影響所述眼鏡體的光學透射；波前修改器，其進一步影響所述聚焦光學器件體的光學透射；以及所述波前修改器顯示了三階像差，其對所述聚焦光學器件體的成像性能進行了類似的改進。37、如權利要求36所述的光學器件，其中，所述非軸對稱結構特征貢獻三階像差，并且所述波前修改器至少部分補償所述定向特征的所述三階像差。38、如權利要求37所述的光學器件，其中，所述波前修改器補償多個三階或其它更高階像差，以提高成像性能。39、如權利要求38所述的光學器件，其中，所述波前修改器提供校正用于彗差和球差。40、如權利要求36所述的光學器件，其中，所述聚焦光學器件體包括前表面和后表面，并且所述波前修改器形成在所述前表面和后表面中的一個中。41、如權利要求40所述的光學器件，其中，所述波前修改器至少部分作為非軸對稱表面形成。42、如權利要求36所述的光學器件，其中所述波前修改器至少部分通過聚焦光學器件體中的折射率改變形成。全文摘要具有通過非軸對稱厚度改變而關聯的前表面和后表面的隱形眼鏡，諸如棱鏡壓載的復曲面眼鏡，可以顯示三階像差，尤其是垂直彗差。諸如非球面修改的波前修改器結合到眼鏡中，以至少部分補償與非軸對稱厚度改變相關的波前像差。修改的幅度可以調整以基于廣泛群體目標而設置用于眼鏡的任何其余波前像差的目標值。文檔編號G02C7/04GK101322064SQ200680045575公開日2008年12月10日申請日期2006年12月8日優先權日2005年12月9日發明者G·E·阿爾特曼,I·G·考克斯,T·格林,W·T·賴因德爾申請人:博士倫公司