具有降低的光反射的納米結構薄膜的制作方法

專利名稱：：具有降低的光反射的納米結構薄膜的制作方法
技術領域：
：本發明一般性涉及光學膜領域。更具體而言，本發明涉及一種具有抗反射性質的單一涂層及一種制造該涂層的方法。此類涂層一般顯示一納米結構表面。
背景技術：
：在光學膜領域中，光學透明的基材通常為平滑的，且如同所有其他平滑涂層，這會在涂層/空氣界面導致某種程度的光反射。這種性質在本
技術領域：
許多不同應用中已被視為一個問題。一實例為在顯示裝置前的玻璃的不想要的反射。此問題已大體上通過使用涂敷涂層來解決，在厚度及折射率方面調整該類涂層以便產生改進的抗反射效能，該改進的抗反射效能通過相對于基材的光的透射的增加來測量。如美國專利5,582,859所述，已知一作為形成涂層的多層體系的一部分的涂敷涂層可在光語的整個可見光區域內光透射的增加，該涂層的多層體系中各涂層均具有經精心選擇的厚度及折射率。該類涂層的基本原理可根據來自空氣-和膜界面的反射光與來自膜-基材界面的反射光的相消干涉來理解。例如，玻璃或塑料基材要求一具有約等于1.2的低有效折射率neff的抗反射膜。由于缺乏此類低折射率的材料，故使用均質單層涂層不能實現此要求，且因此已使用多層涂層。雖然一單層膜可有效降低極窄波長范圍內的光反射，但是更通常使用一包含相互重疊的數層透明層(一般以金屬氧化物為基體)的多層膜來降低寬波長區域內的反射(意即，寬頻帶反射控制)。對該結構而言，半波長層與四分之一波長層交替來改良效能。一多層抗反射膜可包含二、三、四或甚至更多層。形成該多層膜一般需要復雜的方法，其包括多個與層數相對應的氣相沉積程序或溶膠-凝膠涂覆，其中各層均具有預定的折射率及厚度。對這些干涉層而言，要求精確控制各層的厚度。合適的多層抗反射膜的設計已熟知于此專利
技術領域：
及技術資料中，以及描述于多種i果本及專利中，例如H.A.Macleod,"ThinFilmOpticalFilters,"AdamHilger,Ltd.,Bristol1985及JamesD.Rancourt,"OpticalThinFilmsUser'sHandbook",MacmillanPublishingCompany,1987及美國專利6,210,858，后者描述了一種包含含有無機細小粒子的低折射率層的抗反射多層膜。膜的折射率的降低主要通過填隙空氣空隙得到。多層膜涂層遭遇三類問題。第一是多層涂層的抗反射效能存在角度依賴性問題。這意味著透射將自法線角至斜角而有所不同。第二，該類具有精確控制的厚度及光學性質的多層涂層的再生加工是困難的，且因此成本高且耗時。第三，這是一極昂貴的方法。也已知包含一單層的抗反射層。此類單層一般僅在單一波長處(在較寬的450至650nm范圍內)提供低于1%的反射率值。一普遍使用的抗反射單層涂層包含一諸如氟化鎂(MgF2)的金屬氟化物層。該層可通過眾所周知的真空沉積技術或通過溶膠-凝膠技術來涂敷。該層一般在需要反射率最小值的波長處具有大約四分之一波長的光學厚度(光學厚度意即，該層的折射率乘以該層厚度的乘積)。共同轉讓的共同待審申請，2005年4月7日提交的USSN11/101,004公布了一種具有抗反射層的透明載體，該抗反射層在形狀上大體上與該子，該粒子的形狀是球形的且為納米級中空的以致具有大于50m々g的表面積。或者，可通過形成一具有經控制的表面結構的多孔膜來使單一涂層具有抗反射性。若孔尺寸小于四分之一波長，則該多孔膜將看似一具有有效折射率的連續膜，該有效折射率由該膜上的平均折射率確定。孔的體積分率越高，Ileff越低。基于此想法，已開發多種方法。參看例如，Steiner等人,Science,第283巻，第520-522頁(1999),Ibn-Elhaj等人，Nature,第410巻，第796-799頁(2001)及WO01/29148Al。后者公布了通過均勻混合至少兩種材料(其中一種材料是可交聯的而另一種是不可交聯的)，然后將該混合物涂敷至一基材上，接著(例如)通過使用溶劑將該材料的至少一者除去來形成一拓樸結構聚合物膜。此類基于經控制的表面結構的單一抗反射涂層，其光學性質顯示出較低的角度依賴性。另一方面，此類涂層缺乏引人注目的機械堅固性。這對抗反射應用中所使用的膜尤其重要，因為這些膜通常極薄。EP1418448Al還公布了一種抗反射涂層體系，其可作為單一層應用，同時仍具有足夠的抗反射性質，但是其提供硬涂層具有的機械堅固性。EP1418448Al尤其揭示了一種單層抗反射硬涂層，其可由一包括如下步驟的方法制造(a)將混合物涂敷于基材上，該混合物包含不交聯的第一材料及交聯的第二材料，其進一步與納米粒子相組合，及任選的溶劑；(b)誘導涂敷于該基材上的混合物中的交聯；及(c)隨后除去至少部分第一材料。該基于經控制的表面結構的單一抗反射涂層，其光學性質顯示較小的角度依賴性，且還提供了引人注目的硬涂層性質。然而，上述單一抗反射涂層的不利之處在于為獲得合乎需要的表面結構，需要一兩步方法，第一步獲得涂層及第二步通過除去部分涂層材料實現結構表面及空氣空隙的形成。該兩步方法不僅經濟上為不切實際的，而且可導致與洗滌步驟相關的環境污染。
發明內容本發明致力于克服一或多個上述問題。簡言之，根據本發明的一個方面，一用于顯示器或其組件的多層光學膜包含具有一或多層功能層的基材，該一或多層功能層與該基材相鄰或不相鄰，其中該一或多層功能層的最上層是一包含形狀伸長的有機改性的二氧化硅粒子的抗反射層。該層中的此類粒子可有利地形成一包含納米級脊及槽(可由AFM或原子力顯微鏡觀察)的納米結構表面。該層也可由填隙空隙結構來表征，其中空氣空隙存在于二氧化硅粒子之間、納米粒子表面以下。在一優選實施方案中，該抗反射層是二氧化硅-聚合物納米復合物，其進一步包含聚合粘合劑材料。本發明的另一方面涉及一種形成該抗反射層的方法，該方法包括在一基材上涂布一涂料組合物，該組合物包含(a)形狀伸長的二氧化硅納米粒子的膠體溶液，(b)任選的聚合物、低聚物和/或單體，(c)任選的有才幾溶劑，該二氧化硅納米粒子按固體重量計以1至99重量％的量存在于該涂料組合物中；及(d)干燥該涂層以除去有機溶劑，從而形成抗反射聚合物，任選形成包含聚合物粘合劑的二氧化硅-聚合物納米復合膜。在一實施方案中，伸長的二氧化硅(Si〇2)納米粒子是與多官能有機單體或低聚物及聚合引發劑混合。當該組合物涂布于一基材上時，該組合物聚合，且該Sl02納米粒子形成一結構表面。因此，由于該結構表面的尖峰間的空氣，該膜是多孔的，該膜的平均折射率低于該膜的組份的折射率。在一優選實施方案中，由于二氧化硅的存在，該膜也可用作一硬涂層，且其硬度比其所涂布的基材更大，且其硬度比單獨的聚合物組份更大。在一特定的實施方案中，使用氟化的低聚物可進一步降低平均折射率，產生甚至更低的反射率。使用氟低聚物還可提供一表面能相對較低的膜，其具有良好的抗污染物滲透至該多孔膜的能力。抗反射膜或涂層在本文中定義為(當沉積于一基材上時)在至少部分可見光譜內，具有比基材的透射率更高的透射率的膜或涂層。該膜一般不具有或大體上不具有足夠大以致能散射可見光的結構特征，且因此此類膜本質上是光學透明的。抗反射層提供小于1%的平均鏡面反射率值(由一分光光度計測量且取450至650nm波長范圍內的平均值)。相反，一低反射層提供小于2%,但不小于1%的平均鏡面反射率。在本發明的框架中，術語"納米結構表面"指一顯示可隨機分布的納米級脊及槽的表面。更具體而言，脊的高度(h)及脊間的平均距離(入c)(平均而言)在微米至納米范圍內。在一適合抗反射應用的優選實施方案中，脊的高度(h)可在50-200nm范圍內，且脊間的橫向距離(入c)應比可見光的最短波長(Xllght)更短，例如小于400nm。如本文^^用的術語"納米級"指小于500nm、優選小于250nm、更優選小于100nm的平均尺寸。相似地，由于該層中的填隙空隙或孔隙結構，該層中的任何空氣空隙均為納米尺寸，優選在50至400nm之間。本發明的涂層具有多種應用，包括用于汽車及飛機風屏、諸如電視及電腦顯示器中使用的陰極射線管(CRT)、可變形的顯示器及眼鏡的中，包括CRT顯示器、等離子顯示器、、;晶顯示器及OLED顯示器。本發明的抗反射膜尤其適合用于諸如LC(液晶)顯示器的組件的偏光板中，作為用于改良偏光器耐久性及效能的增加值涂層。根據本發明的膜可用于提供可見光語內小于1%的反射率且任選地也可提供硬涂層的耐久性。根據本發明的抗反射涂層，與多層系統相比，顯示更低的抗反射性能的角度依賴性。任選地，本發明的抗反射涂層可有利地應用于任何光學系統，其中，例如，當可能要求周期性地清潔表面時該抗反射涂層有可能與某種機械力相接觸。當與下列的說明和附圖相結合時，本發明的上述和其他目的、特征和優點將變得更為明顯，其中在可能的情況下，使用相同的標記數字表示與附圖中相同的特征。圖1顯示一包含一根據本發明的抗反射膜的覆蓋片復合物的實施方案；圖2顯示一液晶元件的橫截面表示，根據本發明該元件的任一側均具有偏光板；圖3為根據以下比較例5的無任何涂層的棵TAC(三乙酸纖維素)膜的AFM(原子力顯微鏡)影像；圖4為根據以下比較例6的棵TAC膜上5微米的無任何納米粒子的丙烯酸聚合物膜的AFM影像；圖5為根據以下比較例7的棵TAC上5微米的具有30重量％球形Si02納米粒子的丙烯酸聚合物的AFM影像；及圖6為根據本發明的如以下實施例1描述的棵TAC上5微米的與30重量％伸長的Si02納米粒子混合的丙烯酸聚合物膜的AFM影像。具體實施方式在本發明的框架中，術語"納米粒子"定義為大部分具有小于l微米的直徑的粒子，其中直徑指納米粒子的"等效圓直徑"(ECD)。對本發明中使用的伸長的非球形形狀的納米粒子而言，自粒子的一側至相對側繪制的最長的直線可用作長度值，且垂直尺寸可用作該伸長的納米粒子的厚度或寬度值。在一優選實施方案中，大部分納米粒子具有小于500nm的直徑，更優選大部分粒子具有小于150nm的直徑。最優選，所有粒子具有小于50nm的直徑。該粒子應具有使其不顯著或過度影響最終涂層的透明度的直徑。用于測定粒子直徑的方法包括BET吸附、光學或掃描電子顯微鏡、或原子力顯微鏡(AFM)成像。本文使用的術語"等效圓直徑，，(ECD)意味具有與納米粒子相同的投影面積的圓的直徑。這可使用已知技術來測量。術語"縱橫比"被用于定義納米粒子ECD與納米粒子厚度的比率。或者，納米粒子可由Watanabe等人在美國專利5,597,512及5,221，497中描述的伸長度來表征。納米粒子的伸長度根據D"D2的尺寸比率來定義，其中D,是指由動態光散射方法(詳細解釋于JournalofChemicalPhysics,第57巻，第11期(1972年12月)，第4814頁中)測量的以nm為單位的粒子尺寸，其可通過使用用于動態光散射測量的市售設備來測定。粒子尺寸(D2nm)由公式D^2720/S(其中S是指由一常規BET方法(氮氣吸附方法)測量的粒子之比表面積(m2/g))來計算，且是指具有與伸長的膠體二氧化硅粒子相同之比表面積S(m2/g)的假定的球形膠體二氧化硅粒子的直徑。因此，由前述動態光散射方法測量的粒子尺寸(D!nm)與由BET方法測量的粒子尺寸(D2nm)的D"D2比率表示形狀伸長的膠體二氧化硅粒子的伸長度。本發明使用的伸長的二氧化硅粒子優選由5或5以上的縱橫比或伸長度(D"D2比率)來表征。用于制造本發明的涂層的溶膠或膠體溶液中的二氧化硅納米粒子，對大部此類納米粒子而言，僅在一個平面內具有伸長且沿著伸長方向上具有5至20nm的均勻厚度，優選具有由動態光散射方法測量或由TEM電子顯微術觀察的40至300nm的粒子尺寸D!。本發明使用的伸長的二氧化硅納米粒子通過將有機材料附著至納米粒子表面而有機改性。優選使用具有有機部分的烷氧基硅烷官能化合物來有機改性該納米粒子，其中烷氧基硅烷官能團被附著至該納米粒子上且有機部分自表面延伸以穩定納米粒子。烷氧基硅烷官能團還可包括被取代或未被取代的烷基。優選烷氧基硅烷官能化合物是曱基丙烯酰氧基丙基二甲基乙氧基硅烷，其可購自AldrichChemicalCo.(PA)。在一實施方案中，有機改性的納米粒子制備如下形成包含硅烷偶聯劑及第一有機溶劑的溶液，在第一有機溶劑(其具有相對較低的沸點)蒸餾出來的溫度下緩慢將該溶液添加至第二有機溶劑中的納米粒子分散液中，逐漸產生第二有機溶劑中的有機改性的納米粒子分散液。這種二氧化硅納米粒子的制備本身在本
技術領域：
中為已知，且已描述于，例如，以上引用的美國專利5，221,497及5,597，512中。該材料可購自NissanChemicalIndustries,Ltd.(Tokyo,Japan)。在一些情況下,二氧化硅粒子可任選含有微量其他多價金屬的氧化物。此類任選的其他多價金屬的氧化物在用于形成粒子的二氧化硅溶膠中的濃度為，例如，其總和與Si02的重量比計1500至15000ppm。該其他多價金屬包括諸如鉤(Ca)、《美(Mg)、鍶、(Sr)、鋇(Ba)、4辛(Zn)、錫(Sn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、鐵(Fe)、鎳(Ni)、鈷(Co)及錳(Mn)的二價金屬；諸如鋁(Al)、鐵(Fe)、鉻(Cr)、釔(Y)及(Ti)的三價金屬；及諸如Ti、Zn及Sn的四價金屬。用于根據本發明的方法中的納米粒子通常以懸浮液的形式提供。本發明的抗反射層可通過涂布形狀伸長的二氧化硅粒子的膠體溶液來制備，其中二氧化硅粒子在該層中按固體重量計以1至99重量％的量存在，優選以5至95重量％,更優選以15至90重量％的量存在。在根據本發明的方法中，任選使用聚合物粘合劑材料，該聚合物可為交聯的或不可交聯的。原則上，廣泛種類的材料均適合用作粘合劑材i者，'替代或附力7于獨立的粘合劑材料，用于使聚合物經有^幾改性的納米粒子穩定劑可經交聯以向該層提供機械耐久性。聚合物可通過使用預形成的聚合物(包括可聚合的低聚物)或使用在涂料組合物中聚合的單體來獲得。在一優選實施方案中，粘合劑材料是與用于涂料組合物的納米粒子均勻混合的聚合物。最終聚合物，若為不交聯的，優選具有500至106、更優選IOOO至106的重均分子量。如上所說明的，廣泛種類的聚合物原則上均適合作為最終抗反射層中的粘合劑材料。這些聚合物包括所有經縮聚而制成的那些，諸如聚碳酸酯、聚酯、聚砜、聚氨酯基樹脂、酰胺聚合物及酰亞胺聚合物；及經加聚而制成的那些，諸如聚丙烯酸類、聚苯乙烯、聚烯烴、聚環烯及聚醚；以及天然衍生的聚合物，諸如乙酸纖維素。涂層中的聚合物優選滲透至下方基材中以促進抗反射層的粘著力。一般而言，更低分子量的聚合物提供更多的滲透。同時，更緩慢的涂布過程傾向于促進滲透。在涂布過程中，可選擇可擴散至基材中的溶劑，其使該基材膨脹至某種程度，允許或增強聚合物向該基材滲透。任選地，用于抗反射涂層的涂料組合物中的聚合物、低聚物或單體可為交聯的。任何交聯方法均適合用于根據本發明的方法中。引發交聯的合適的方法為，例如，電子束輻射、電磁輻射(紫外、可見及近紅外)、用熱的方法，且在水份可固化的化合物的情況下通過添加水份來開始交聯。在一優選實施方案中，聚合物粘合劑由紫外-輻射來交聯。紫外-交聯可通過自由基機制或通過陽離子機制或其組合來發生。在另一優選實施方案中，交聯通過用熱的方法實現。丙烯酸酯單體(反應性稀釋劑)及低聚物(反應性樹脂及漆)是基于自由基的配方的主要組份，其賦予固化的涂層的大部分物理特性。需要光引發劑吸收紫外光能、分解形成自由基且攻擊丙烯酸酯基團的C=C雙鍵以引發聚合。陽離子化學使用環脂族環氧樹脂及乙烯基醚單體作為主要組份。光引發劑吸收紫外光來形成路易斯酸(Lewisacid),其攻擊環氧環從而引發聚合。紫外-固化意味紫外線固化并涉及使用波長在280-420nm、優選320-410■的紫外輻射。可用于抗反射層的可紫外輻射固化樹脂及漆的實例包括自可光化聚合的單體及低聚物所衍生的那些，諸如多官能化合物的丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯低聚物(本文使用的術語"(甲基)丙烯酸酯"指丙烯酸酯及曱基丙烯酸酯)，所述多官能化合物為諸如多元醇以及具有(曱基)丙烯酸酯官能基團的多元醇衍生物，該衍生物是諸如乙氧基化三羥甲基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、三丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(曱基)丙烯酸酯或新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及其混合物；及由下列低分子量物質衍生的丙烯酸酯及曱基丙烯酸酯低聚物，所述低分子量物質包括聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、聚氨酯樹脂、酸醇樹脂、螺縮醛樹脂、環氧丙烯酸酯、聚丁二烯樹脂及聚硫醇-多烯樹脂，以及其類似物及其混合物；及含有相對大量的反應性稀釋劑的可電離輻射固化的樹脂。本文可使用的反應性稀釋劑包括單官能單體，諸如(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、乙烯基曱苯及N-乙烯吡咯烷酮；及多官能單體，諸如三羥甲基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、己二醇(曱基)丙烯酸酯、三丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(曱基)丙烯酸酯或新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯。就本發明中的使用而言，適宜使用的可輻射固化的漆尤其包括胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物。其是通過使二異氰酸酯與低(聚)酯或低(聚)醚多元醇反應產生以異氰酸酯為端基的胺基甲酸酯來獲得。隨后，使羥基為端基的丙烯酸酯與端基異氰酸酯基團反應。該丙烯酸酯化提供低聚物的末端不飽和。丙烯酸胺基曱酸酯的脂族或芳族性質由二異氰酸酯的選擇性來決定。諸如二異氰酸曱苯酯的芳族二異氰酸酯將產生芳族丙烯酸胺基甲酸酯低聚物。脂族丙烯酸胺基甲酸酯將通過選擇諸如異佛爾酮二異氰酸酯或二異氰酸己基甲酯的脂族二異氰酸酯產生。多元醇通常分為酯、醚或該兩者的組合。多元醇的低聚物主鏈是以兩個或兩個以上丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯單元為端基，其作為自由基引發聚合的反應性位置。在開發丙烯酸胺基甲酸酯低聚物的過程中，可在大范圍內選擇異氰酸酯、多元醇及丙烯酸酯或曱基丙烯酸酯端基單元。此類低聚物是多官能的且含有多個反應性位置。由于反應性位置的數量增加，固化速率被改進且最終產物是經交聯的。低聚物的官能團可在2至6間變化。適宜使用的可輻射固化的樹脂尤其包括由多元醇及其衍生物衍生的多官能丙烯酸化合物，諸如季戊四醇的丙烯酸酯衍生物的混合物，諸如經季戊四醇四丙烯酸酯及季戊四醇三丙烯酸酯官能化的由異佛爾酮二異氰酸酯衍生的脂族胺基甲酸酯。一些可用于本發明的實踐中的市售丙烯酸胺基曱酸酯低聚物的實例包括購自SartomerCompany(Exton,PA)的低聚物。適宜在本發明的實踐中使用的樹脂的實例是購自SartomerCompany的CN968。引發劑可存在于涂料組合物中以引發交聯反應。光引發劑吸收光時就能引發交聯反應。因此，紫外光引發劑吸收光語紫外線區域的光。任何合適的已知紫外光引發劑可用于根據本發明的方法中。諸如苯乙酮化合物、二苯甲酮化合物、米其勒苯甲酰基苯甲酸酯(Michler，sbenzoylbenzoate)、a-戊基月虧(a-amyloxime)酉旨或p塞p屯酉同(thioxanthone)4匕合物的光聚合引發劑，及諸如正丁基胺，三乙胺，或三正丁基膦等光敏劑，或其混合物，可引入紫外線輻射固化組合物中。在本發明中，適宜使用的引發劑是1-羥基環己基苯基酮及2-曱基-1-[4-(曱硫基)苯基]-2-嗎啉基丙酮-1。涂布可紫外聚合單體及低聚物并使其干燥，且隨后將其暴露于紫外輻射中以形成一光學上透明的交聯層。優選紫外固化劑量在50-1000mJ/cm卩之間。引發劑的量可在廣泛的范圍內變化。光引發劑適合的量，例如，是在相對于參與交聯反應的化合物的總重量的大于0-20重量％之間。光引發劑的相對量將決定交聯步驟的動力學且從而可用于影響(納米)表面結構且從而影響抗反射效能。可紫外固化涂料組合物可，例如，如下制備。將溶劑中的可紫外固化單體或低聚物或聚合物放置于一攪拌裝置中。向該混合物中添加光引發劑。在攪拌一定時間后，將分散于另一溶劑中的經有機改性的納米粒子逐滴添加至該混合物中。所得的混合物具有足夠低的粘度以致其可經微量泵輸送穿過一移動的X-漏斗并涂敷至一塑料膜基材上。然后，可使經涂布的基材干燥并暴露于紫外燈下以完成固化。經涂布的膜的厚度可受諸如溶劑、覆蓋率、濃度等諸多種制備參數控制。或者，可將非紫外固化聚合物用于抗反射層中。例如，在另一實施方案中，優選聚合物是具有小于1.48的折射率，優選具有1.35-1.40的折射率的含氟均聚物或共聚物。合適的含氟均聚物及共聚物包括氟烯烴(例如，氟乙烯、偏氟乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2,2-二曱基-1,3-間二氧雜環戊烯)，經部分或完全氟化的(曱基)丙烯酸的烷基酯衍生物，及經完全或部分氟化的乙烯醚，以氟乙烯和乙烯醚為基的共聚物及其類似物。優選聚合物粘合劑是諸如基于聚甲基丙烯酸樹脂的聚丙烯酸類，其可為交聯的或不交聯的，且可由單體混合物預形成或原位形成。諸如SANTOMER單體的曱基丙烯酸低聚物在上文中提及。其他優選粘合劑材料是諸如購自AsahiChemicalCo.(Tokyo,Ja叩an)的LUMIFLON的氟聚合物。又一優選粘合劑材料是諸如乙酸丁酯纖維素的天然衍生的乙酸纖維素。廣泛種類的基材可用作根據本發明的方法中的基材。合適的基材是，例如，平坦的或彎曲的，硬質的或可變形的基材。這些基材包括，例如，聚碳酸酯、聚酯、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯吡咯烷酮、聚氯乙烯、聚酰亞胺、聚萘二曱酸乙二酯、聚四氟乙烯、尼龍、聚降水片烯的膜，或非晶態固體，例如玻璃或諸如硅或砷化鎵的結晶材料。用于顯示應用的優選基材是，例如，玻璃、聚降冰片烯、聚醚砜、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亞胺、三乙酸纖維素、聚碳酸酯及聚萘二曱酸乙二酯。如上所述，本發明的另一方面涉及一種形成一抗反射層的方法，該方法包括在一基材上涂布一涂料組合物，該組合物包含(a)形狀伸長的有機改性的二氧化硅納米粒子的膠體溶液，(b)任選的聚合物材料，或其低聚的或單體的前體，(c)任選的有機溶劑(其可例如由單體代替)，二氧化硅納米粒子按固體重量計以1-99重量％、更優選按固體重量計15-90重量％的量存在于涂料組合物中；及(d)干燥該涂層以除去有機溶劑，從而形成抗反射層，優選二氧化硅-聚合物納米復合膜。因此可形成一具有一包含納米級的脊及槽的納米結構表面的抗反射層，其在納米結構表面下方還可進一步包含空氣空隙，由此該層由粒子間的空間所形成的填隙孔隙結構來表征。可通過本領域濕涂層沉積技術中已知的任何方法將該混合物涂敷于一基材上。合適方法的實例是旋涂、浸涂、噴涂、淋涂、彎月面涂法、毛細涂法及滾涂。原則上，在不使用溶劑的情況下，可通過例如使用納米粒子并將其與其他組份，例如液體單體的液體混合物混合來將涂層混合物涂敷于基材上。然而，聚合物或單體及納米粒子一般與至少一種溶劑混合以制備適合使用所選的涂敷方法涂敷至基材上的混合物。原則上，可使用廣泛種類的溶劑。然而，混合物中存在的溶劑與所有其他材料的組合應有利地產生均質混合物。一般以膠體懸浮液的形式將納米粒子添加至混合物中。可使用相同的溶劑來調整該混合物以使其具有合乎需要的性質。然而，也可使用其他溶劑。可為合適的溶劑的實例為1,4-二嗜烷、丙酮、乙腈、三氯曱烷、氯酚、環己烷、環己酮、環戊酮、二氯曱烷、乙酸二乙酯、二乙酮、碳酸二甲酯、二曱基曱酰胺、二曱基亞砜、乙醇、乙酸乙酯、間-甲酚、經單及二烷基取代的乙二醇、N,N-二曱基乙酰胺、對-氯酚、1,2-丙二醇、1-戊醇、l-丙醇、2-己酮、2-甲氧基乙醇、2-曱基-2-丙醇、2-辛酮、2畫丙醇、3-戊酮、4-甲基-2-戊酮、六氟異丙醇、甲醇、乙酸曱酯、乙酸正丙酯、乙酰乙酸曱酯、甲基乙基酮、曱基丙基酮、正曱基吡咯烷酮-2、乙酸正戊酯、苯酚、四氟正丙醇、四氟異丙醇、四氫呋喃、曱苯、二曱苯及水。雖然對高分子量醇而言丙烯酸酯的溶解度成為一個問題，但是亦可使用基于醇、酮及酯的溶劑。卣化的溶劑(諸如二氯甲烷及三氯曱烷)及烴(諸如己烷及環己烷)也能是合適的。為增強低反射層與基材間的粘著力，通常可選擇用于特殊基材的溶劑來增強粘著力。例如，當使用乙酸纖維素基材時，乙酸正丙酯是優選溶劑。其他合適的添加劑也可添加至根據本發明的膜或涂層中。然而，混合物在涂布之前為均質的仍是有利的。在涂敷涂料組合物后，為獲得孔隙，清洗不是必需的。因此，納米結構表面可由一步涂布法獲得。在不希望受理論限制的條件下，相信當涂層干燥后，伸長的二氧化硅納米粒子各向異性地聚集于涂層中，以致在抗反射層中形成脊及槽的過程中粒子變得在某種程度上垂直排列。另夕卜，在自納米粒子蒸發有機溶劑和/或其滲透至下方基材的過程中可形成孑L。抗反射層的厚度通常為50納米-10樣i米、優選100-800納米、更優選100-200納米。抗反射層優選是無色的，但尤其希望出于顏色修正的目的或特殊作用，該層可具有一定的顏色，只要其并非不利地影響顯示器的形成或透過該外罩層觀察顯示器。因此，可將用于給予顏色的染料引入用于抗反射層的涂料組合物中。另外，可在聚合物引入添加劑，這將使該層具有合乎需要的性質。其他化合物包括表面活性劑、乳化劑、涂層助劑、潤滑劑、消光粒子、流變改性劑、交聯劑、防霧劑、諸如導電及不導電金屬氧化物粒子等無機填充劑、顏料、磁性粒子、殺生物劑及其類似物。來改進,一此類粒子;誘導涂層內的填隙空氣空隙。此技術5進々:步描述于美國專利6，210，858及美國專利5,919,555。如2003年11月18日提交的共同轉讓的美國專利申請第10/715,655號所描述的，低反射層的有效性的進一步改良可用具有降低涂層濁度損失(penalty)的亞微米尺寸聚合物粒子的內部粒子空間中的空氣空隙來實現。用于抗反射層的涂料組合物的組成，以及包括多個步驟的所選"t奪的方法及該方法中的步驟的精確的加工條件將共同決定所獲得的抗反射膜或涂層的表面結構。表面結構(意即，槽的深度及脊間距離)，例如，受溫度、納米粒子加載量、納米粒子及有機粘合劑的特性、溶劑、紫外固化方法等影響。例如，更精細的納米結構(空隙及脊足夠小)及更低的涂層密度傾向于產生更低的反射或更低的散射。同時，更緩慢的涂布方法傾向于產生更薄且更精細的結構。折射率"n"是由空隙密度來控制且抗反射性質由層的有效折射率與有效厚度來控制。膜或涂層的機械性能也可受所選擇的方法及條件影響。例如，任何交聯的交聯密度可在交聯過程中或交聯后通過加熱膜或涂層來增加。通過增加膜的交聯密度，可增加所得的膜或涂層的硬度、模量及Tg。根據本發明的涂層視層的孔隙率或空氣空隙度而定，基于反射率計算通常具有1.1-1.4,優選1.2-1.3的折射率值。在本發明的一優選實施方案中，依據應用的情況，根據本發明的抗反射膜包含大多數小于300nm、優選小于150nm的脊。表征表面結構的有用的方法是通過使用AFM(原子力顯微鏡)成像及TEM(透射電子顯微鏡)。在本發明的一實施方案中，抗反射膜的RMS表面粗糙度為2-15，優選5-10。在一優選實施方案中，根據本發明的納米結構膜或涂層并不降低存在該膜或涂層的基材在電磁波語的可見光波長內的光學透射特性。在另一優選實施方案中，根據本發明的納米結構膜或涂層增加存在該膜或涂層的基材在電磁波語的可見波長光內的光學透射。根據本發明的多層光學膜適合用作制造用于液晶顯示器的偏光板中所使用的覆蓋片。除抗反射膜外，用于本發明的多層膜的合適的輔助功能層包括，例如，耐磨硬涂層、防眩光層、防污染層(anti-smudgelayer)、防污漬層(stain-resistantlayer)、低反射層、防靜電層、—見角補償層及防潮層。任選地，用于本發明的該覆蓋片復合物還可在該覆蓋片的最上層包括一可剝離的保護層。在一實施方案中，該覆蓋片，例如，可包括一復合片，該復合片包括一任選的載體基材、一低雙折射率聚合物膜、一促進粘著至PVA的層，且除抗反射膜外，在所述載體基材的與該低雙折射率聚合物膜相同的一側包括至少一層輔助(功能)層。適合用于覆蓋片的低雙折射率聚合物膜包含形成具有高光透射(意即，>85%)的高透明度膜的具有低本征雙折射率Anmt的聚合材料。該低雙折射率聚合物膜優選具有小于lxl(T4的平面內雙折射率Aiv,及0.005至-0.005的平面外雙折射率Anth。用于本發明的低雙折射率聚合物膜的例示性聚合材料尤其包括纖維素酯(包括三乙酰基纖維素(TAC)、二乙酸纖維素、乙酸纖維素丁酸酯、乙酸纖維素丙酸酯)，聚碳酸酯(諸如獲自GeneralElectricCorp.的LEXAN),聚砜(諸如獲自AmocoPerformanceProductsInc.的UDEL)，聚丙烯酸酯及環烯烴聚合物(諸如獲自JSRCorp.的ARTON、獲自NipponZeon的ZEONEX及ZEONOR、由Ticona供應的TOPAS)。低雙折射率聚合物膜(多層光學膜中的基材)優選包含TAC、聚碳酸酯或環烯烴聚合物，由于其商業可獲得性及優異的光學特性。低雙折射率聚合物膜可具有5-100微米、優選5-50微米及最優選10-40微米的厚度。液晶顯示器一般使用兩個偏光板，各位于該液晶元件的各側。各偏光板依次使用兩個覆蓋片，各位于PVA二向色膜的各側。各覆蓋片可具有多種輔助層，該輔助層對改進液晶顯示器的效能是必需的。覆蓋片中所使用的有用的輔助層包括以上提及的那些。最靠近觀察者的覆蓋片一般含有下列輔助層的一個或多個耐磨層、防污染或防污漬層、抗反射層和防眩光層。最靠近液晶元件的該覆蓋片的一者或兩者一般含有一視角補償層。LCD中使用的四個該覆蓋片的任何或所有者任選地可含有一抗靜電層及一防潮層。在一特定實施方案中，除抗反射層外，覆蓋片復合物含有一防眩光層。防眩光層及抗反射層優選位于與偏光板中的偏光膜相對的低雙折射率聚合物膜的前面。防眩光涂層提供一用于降低鏡面反射的粗化表面或質構表面。雖然所有不希望的反射光仍存在，但其是被散射的而非鏡面反射的。在本發明的另一實施方案中，一根據本發明的抗反射層被用于與一耐磨硬涂層和/或防眩光層組合。抗反射涂層涂敷于防眩光層或耐磨層或兩者的上面。舉例而言，圖l顯示一覆蓋片復合物5的一實施方案，其包括覆蓋片25,該覆蓋片25由下列層組成一最靠近一載體基材20的最下層12、三層中間功能層14、15及16及一最上層18,在偏光板的制造中，在粘附至一偏光膜之前，該覆蓋片25自載體基材20剝離。在此圖中，層12為一促進粘著至含聚(乙烯醇)的偏光膜的層，層14為一低雙折射率保護聚合物膜，層15為一防潮層，層16為一防眩光層及層18是一根據本發明的抗反射層。輔助層可通過多種已知的任何液體涂布技術涂敷，諸如浸涂、棒涂、刮刀涂布、氣刀涂布、凹板印刷式涂布、微凹板印刷式布(microgmvurecoating)、逆轉輥涂(reverserollcoating)、狹縫涂布、擠出涂布、滑涂(slidecoating)、簾式涂布等，或通過真空沉積技術涂敷。在液體涂布的情況下，濕層通常通過可由諸如對流加熱的已知技術加速的簡單蒸發來干燥。輔助層可與諸如底層涂布層及低雙折射率聚合物膜等其他層同時涂敷。數種不同輔助層可使用滑涂同時涂布，例如一抗靜電層可與一防潮層同時涂布或一防潮層可與一視角補償同時涂布。已知的涂布及干燥方法進一步詳細描述于ResearchDisclosure308119,1989年12月出版，第1007至1008頁。本發明的多層光學膜適合用作廣泛種類的LCD顯示模式條件下的覆蓋片，例如，扭轉向列(TN)、超級扭轉向列(STN)、光學補償彎曲型(OCB)、共平面切換型(IPS)或垂直排列型(VA)液晶顯示器。這些各種液晶顯示器技術已于美國專利5,619,352(Koch等人)、5,410,422(Bos)及4,701,028(Clerc等人)中加以綜述。基于前述詳細描述顯而易見，可制備廣泛種類的具有多種類型及排布的輔助層的防護覆蓋片復合物。一些根據本發明的可能的構型在2005年l月3日申請的USSN11/028,036得以說明。后一申請還公開了一種由防護覆蓋片復合物制造偏光板的方法，其中該覆蓋片層合至PVA二向色偏光膜上以致該促進粘著至PVA的層位于覆蓋片的與PVA二向色膜相接觸的一側。膠液可用于使該覆蓋膜與PVA二向色膜層合。圖2表示一顯示一于任一側均安置偏光板2及4的液晶元件10的橫截面圖。偏光板4位于LCD元件的最靠近觀察者的側。各偏光板均使用兩個覆蓋片。出于說明的目的，偏光板4顯示具有一包括一促進粘著至PVA的層12、低雙折射率聚合物膜14、防潮層15、抗靜電層19及抗反射層18的最上層覆蓋片(為最靠近觀察者的覆蓋片)。包含于偏光板4中的最下層覆蓋片包括一促進粘著至PVA的層12、低雙折射率聚合物膜14、防潮層15、抗靜電層19及視角補償層22。在LCD元件的相對側，偏光板2顯示具有一最上層覆蓋片，出于說明的目的，其包括一促進粘著至PVA的層12、低雙折射率聚合物膜14、防潮層15、抗靜電層19及視角補償層22。偏光板2也具有一包括一促進粘著至PVA的層12、低雙折射率聚合物膜14、防潮層15及抗靜電層19的最下層覆蓋片。實施例A.合成有機改性的納米粒子在此實施例中，將包含硅烷偶合劑及第一溶劑的溶液在具有較低沸點的第一溶劑逐漸蒸餾出來的一定溫度下緩慢添加至第二溶劑中的納米粒子分散液中，從而在第二溶劑中產生有機改性的納米粒子分散液。特別地，乙酸丙酯中經甲基丙烯酰氧基丙基二曱基乙氧基硅烷官能化的伸長的Sl02納米粒子制備如下。將包含分散于甲醇中的100克20重量％的伸長的Si02納米粒子(10-50nm的平均直徑)的分散液(購自NissanChemicals,稱為MA-ST-UP)加入一配有一加料漏斗、蒸餾冷凝器及一磁力攪拌棒的500ml三頸圓底燒瓶中。當分散液開始回流時，將含有4.5克曱基丙烯酰氧基丙基二曱基乙氧基硅烷(Aldrich)及100ml乙酸丙酯的溶液逐滴添加至納米Si02甲醇分散液中。當大約65。C下幾乎無曱醇能蒸餾出時，收集乙酸丙酯中的22重量％的曱基丙烯酰氧基丙基二曱基乙氧基硅烷官能化的Si02納米粒子的新分散液。B.測量反射率反射率百分數(％)使用由一經供應具有配有一60mm積分球形附件的PerkinElmerLAMBDA800紫外/可見分光光度計的標準軟件來測量。該儀器使用一SPECTRALON標準進行基線校正。樣品掃描使用一2nm寬的狹縫在200至900nm以1nm的分辨率進行。C.抗反射膜的制備及性質實施例1-4將溶劑中的可紫外固化單體置放于一小螺旋槳攪拌裝置上。向該混合物中添加光引發劑。在攪拌一段時間后，將分散于另一溶劑中的有機改性的納米粒子逐滴添加至該混合物中。所得混合物具有足夠低的粘度以致其可經微量泵輸送穿過一移動的X-漏斗并涂敷至一塑料膜基材上。干燥該經涂布的基材并將其暴露于一紫外燈下以完成固化。該經涂布的膜的厚度可受諸如溶劑、覆蓋率、濃度等等不同實驗參數控制，且可由透射電子顯微鏡(TEM)來測量。具體地，對實施例1而言，將包含乙酸正丙酯中的11.37克6.94%的SARTOMERCN968(可紫外固化低聚物)固溶體的組合物置放于一以1200rpm旋轉的小螺旋槳攪拌裝置上。向該混合物中添加乙酸正丙酯中的0.316克5%的CIBAIRGACURE184光引發劑的溶液。在攪拌5分鐘后，將乙酸正丙酯中的3.31克10.2%的改性的伸長的二氧化硅的分散液逐滴添加至該混合物中。所得7.6%的固體混合物具有足夠低的粘度以致其可經微量泵輸送穿過一移動的X-漏斗且可以1.5毫升/英尺2(16.15毫升/米2)涂敷至一靜置三乙酸纖維素基材上。在用1.6毫焦耳的水銀球(H-bulb)紫外暴露使該經涂布的基材完全固化之前，將該經涂布的基材于一29.4°C的層流罩中干燥5分鐘。在實施例2-4中，除使用不同的涂層覆蓋率(在實施例2及3中)或不同的伸長的Si02與單體的比率(實施例4)夕卜，涂布方法與實施例1相似。比4交侈'J5、8及8比較例5由無任何涂層(無聚合物粘合劑也無納米粒子)的TAC膜組成。比較例6由一無二氧化硅納米粒子的紫外-固化的聚合物膜組成。聚合物膜的組合物包含14.55克的于乙酸丙酯中的7.75%的SARTOMERCN968單體溶液，將該組合物置放于一以1200rpm旋轉的小螺旋槳攪拌裝置上。然后，逐滴添加0.45克的于乙酸丙酯溶劑中的5%的CIBAIRGACURE184引發劑的溶液。攪拌持續5分鐘。將所得的7.66%的固溶體經微量泵輸送穿過一移動的X-漏斗且以1.5毫升/英尺2(16.15毫升/米2)涂敷至一靜置三乙酸纖維素基材上。在用1.6毫焦耳的水銀球(H-bulb)紫外暴露使該經涂布的基材完全固化之前，將該經涂布的基材于一85。F(29.4。C)的層流罩中干燥5分鐘。所得的干燥覆蓋率為102毫克/英尺2(1098毫克/米2)。比較例8由一無二氧化硅納米粒子的經紫外-固化的聚合物膜組成，除使用不同的覆蓋率外，其如同實施例7中的情形。比專支例7該比較例7說明通過使用有機改性的球形二氧化硅(S-Si〇2)而非伸長的二氧化硅(E-Si02)來制備經紫外固化的抗反射膜。將包含12.784克的于乙酸丙酯溶劑中的6.2%的SARTOMERCN968單體的固溶體的組合物置放于一以1200rpm旋轉的小螺旋槳攪拌裝置上。然后，逐滴添加0.32克的于乙酸丙酯中的5%的CIBAIRGACURE184引發劑。攪拌持續5分鐘。將包含1.9克的于乙酸丙酯溶劑中的17.8%的經改性的球形二氧化硅的分散液的組合物逐滴添加至該混合物中。所得7.6%的固體混合物具有足夠低的粘度以致其可經微量泵輸送穿過一移動的X-漏斗且可以1.5毫升/英尺2(16.15毫升/米2)涂敷至一靜置三乙酸纖維素基材上。在用1.6毫焦耳的水銀球(H-bulb)紫外暴露使該經涂布的基材完全固化之前，將該經涂布的基材于一85°F(29.4°C)的層流罩中干燥5分鐘。所得的干燥覆蓋率為101.4毫克/英尺2(1091.5毫克/米2)。如上所述，反射率％為使用經供應具有一PerkinElmerLAMBDA800紫外/可見分光光度計的標準軟件來測量。在測量之前，使該個別樣品的未經涂布面變黑以使第二表面反射最小化。總反射的結果顯示下表l中。表2顯示覆蓋率對總反射率的影響。表1*涂層體系納米粒子Si02，毫克/英尺2(毫克/米2)SARTOMERC腦8，毫克/英尺2(毫克/米2)總反射率％400nm550nm800nm實施例1E-Si02150(1614.5)350(3767.4)6.97.07.1比較例5無008.07.87.4比豐交例6無0500(5382)8.47.97.5比較例7S-Si02150(1614.5)350(3767.4)7.97.77.3*背面未涂黑。表2*<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>*背面涂黑。圖3為一根據以上比較例5的無任何涂層的棵TAC膜的AFM(原子力顯微鏡)影像；圖4為一根據以上比較例6的棵TAC膜上無任何納米粒子的5微米(基于固體覆蓋率計算)丙烯酸聚合物膜的AFM影像；圖5為一根據比較例7的棵TAC上5微米的具有球形納米粒子的丙烯酸聚合物膜的AFM影像；及圖6為一根據本發明的如上述實施例1中描述的棵TAC上5微米的具有伸長納米粒子的丙烯酸聚合物膜的AFM影像。基于以上顯示的結果，顯然棵TAC與經單體涂布的TAC均顯示一極平滑的表面。具有球形二氧化硅及伸長的二氧化硅的表面涂層均產生粗糙表面，但具有球形二氧化硅的表面結構的尺寸比具有伸長的二氧化硅的表面結構的尺寸大得多。實施例9、IO及11該實施例說明包含有機改性的伸長Si02納米粒子及LUMIFLON氟化聚合物的納米結構的抗反射膜的制備。對實施例9而言，將包含11.62克的于乙酸正丙酯中的6.8%的LUMIFLON聚合物的固溶體的組合物置放于以1200rpm旋轉的小螺旋槳攪拌裝置上。然后，將3.38克的于乙酸正丙酯中的10%的經改性的伸長的二氧化硅的分散液逐滴添加至該混合物中。將所得的7.5%固體混合物經微量泵輸送穿過一移動的X-漏斗且以1.5毫升/英尺2(16.15毫升/米2)涂敷至一靜置三乙酸纖維素基材上。將該經涂布的基材于85°F(29.4°C)的層流罩中干燥5分鐘。對實施例10而言，對抗反射層除使用不同的固體覆蓋率外以與實施例9相似的方式產生。對比較例11而言，一經涂布的層除使用球形二氧化硅納米粒子外以與實施例9相似的方式產生。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>部件列表2偏光板4偏光板5覆蓋片復合物10液晶元件12促進粘著層14低雙折射率保護膜15防潮層16功能層18抗反射層19抗靜電層20載體基材22視角補償層25覆蓋片權利要求1.一種多層光學膜，所述多層光學膜用于一顯示器或其組件，該多層光學膜包括一或多層位于一基材上的功能層，其中最上層功能層為一包含形狀伸長的有機改性的二氧化硅粒子的抗反射層。2.如權利要求1的多層光學膜，其中該抗反射層具有一包含納米級脊及槽的納米結構表面。3.如權利要求1的多層光學膜，其中該抗反射層進一步在該納米結構表面下方包含填隙空氣空隙。4.如權利要求1的多層光學膜，其中該抗反射層是通過涂布形狀伸長的二氧化硅粒子的膠體溶液來制備，該二氧化硅粒子按固體重量計以1-99%的量存在于該抗反射層中。5.如權利要求1的多層光學膜，其中該二氧化硅粒子以5-95重量%的量存在于該層中。6.如權利要求1的多層光學膜，其中該納米粒子用烷氧基硅烷官能化合物有機改性。7.如權利要求1的多層光學膜，其進一步包含作為粘合劑材料的聚合物，該層^皮涂布后，該聚合物可一皮涂布、一皮預形成或原位形成。8.如權利要求7的多層光學膜，其中若該聚合物未經交聯，則具有500至106的重均分子量。9.如權利要求7的多層光學膜，其中該聚合物選自由纖維素聚合物、丙烯酸聚合物及氟化聚合物組成的組。10.如權利要求7的多層光學膜，其中該聚合物是紫外交聯聚合物，其是經涂布的單體或低聚物的聚合產物。11.如權利要求1的多層光學膜，其中該多層光學膜中的該抗反射層將具有500至700nm的波長的光的反射降低至0.5%以下。12.如權利要求1的多層光學膜，其中該抗反射層具有基于反射所計算的1.1-1.4的有效折射率。13.如權利要求1的多層光學膜，其中該抗反射層具有50納米至IO微米的厚度。14.如權利要求1的多層光學膜，其中該抗反射層具有2-15的RMS表面粗糙度。15.如權利要求1的多層光學膜，其中該伸長的粒子具有大于5的縱橫比。16.如權利要求1的多層光學膜，其中該基材包括聚合材料或玻璃。17.如權利要求16的多層光學膜，其中該聚合材料選自由聚碳酸酯、聚酯、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯吡咯烷酮、聚氯乙烯、聚酰亞胺、聚萘二曱酸乙二酯、聚四氟乙烯、尼龍、聚降水片烯、玻璃、硅、聚對苯二甲酸乙二醇酯及三乙酸纖維素組成的組。18.如權利要求16的多層光學膜，其中該聚合材料是三乙酸纖維素或聚對苯二曱酸乙二醇酯。19.如權利要求1的多層光學膜，其中該多層光學膜是一顯示器或其組件。20.如權利要求19的多層光學膜，其中該多層光學膜為一用于偏光器的保護覆蓋片，并且其中所述基材包括一低雙折射率保護聚合物膜。21.如權利要求20的多層光學膜，其中該保護覆蓋片進一步包括一促進粘著至含聚(乙烯醇)膜的層。22.如權利要求19的多層光學膜，其中的顯示器或其組件是一覆蓋片復合物，該覆蓋片復合物包括一低雙折射率保護聚合物膜和至少一個除了該抗反射層之外的其他功能層。23.如權利要求1的多層光學膜，其中該基材是一低雙折射率保護聚合物膜和一或多層功能層，該一或多層功能層包括一促進粘著層，用于將一含聚(乙烯醇)的膜粘合至該低雙折射率保護聚合物膜，該多層光學膜還包括一載體基材，其中該促進粘著層位于該基材和該低雙折射率保護聚合物膜之間。24.如權利要求1的多層光學膜，其中該一或多層功能層進一步包括一防眩光層和/或一硬涂層。25.如權利要求19的多層光學膜，其中的顯示器包括一偏光板，其中一保護覆蓋片包括該多層光學膜。26.如權利要求1的多層光學膜，其中該抗反射層是一單層的抗反射膜。27.—種形成抗反射層的方法，該方法包括向一基材上涂布一涂料組合物，該組合物包含(a)形狀伸長的有機改性的二氧化硅納米粒子的膠體溶液，(b)任選的粘合劑材料，所述粘合劑材料含有聚合物，或其低聚的或單體的前體，(c)任選的有機溶劑，其中該二氧化硅納米粒子按固體重量計以1至99重量％的量存在于該涂料組合物中；及(d)干燥該涂層以除去有機溶劑，從而形成抗反射層，且形成二氧化硅-聚合物納米復合膜。28.如權利要求27的方法，其中該抗反射層是二氧化硅-聚合物納米復合膜。29.如權利要求27的方法，其中該抗反射層具有一包含納米級脊及槽的納米結構表面。30.如權利要求29的方法，其中該抗反射層進一步在該納米結構表面下方包含填隙空氣空隙。31.如權利要求27的方法，其中該涂料組合物進一步包含聚合引發32.如權利要求27的方法，其中該涂料組合物進一步包含用于聚合物或低聚物的交聯劑。33.如權利要求27的方法，其中在涂敷該涂料組合物后，為獲得納米孔隙，并不自該涂層中除去固體材料。34.—種形成一偏光板的方法，其包括(a)提供一正面覆蓋片復合物，其包括(i)一任選的載體基材；及(ii)一為如權利要求l的多層光學膜的形式的保護覆蓋片；(b)提供一含聚(乙烯醇)的二向色膜；及(c)使該保護覆蓋片與該含聚(乙烯醇)的二向色膜相接觸。35.如權利要求34的方法，其中一促進粘著至含聚(乙烯醇)膜的層存在于該保護覆蓋片中，且當使該保護覆蓋片與該含聚(乙烯醇)的二向色膜相接觸時，該促進粘著至含聚(乙烯醇)膜的層與該含聚(乙烯醇)的二向色膜相接觸。36.如權利要求34的方法，其中存在一背面覆蓋片復合物，其與該正面覆蓋片復合物同時或相繼與該含聚(乙烯醇)的二向色膜相接觸。37.—種形成一偏光板的方法，其包含提供兩片如權利要求1的覆蓋片，提供一含聚(乙烯醇)的二向色膜，及同時或相繼使該覆蓋片與該含聚(乙烯S享)的二向色膜相接觸，以致在各該兩片覆蓋片中的該促進粘著至含聚(乙烯醇)的膜的層與該含聚(乙烯醇)的二向色膜相接觸，其中該促進粘著層的至少之一包含水溶性聚合物及疏水性聚合物粒子。全文摘要本發明涉及一種用于顯示器或其組件的多層光學膜，其包含一具有最上層的基材，該最上層為具有納米結構表面的抗反射層，該層包含形狀伸長的二氧化硅粒子。本發明的另一方面涉及一種形成該單一抗反射層的方法，及其在包括顯示器及其組件的各種應用中的用途。文檔編號G02B1/11GK101268386SQ200680034573公開日2008年9月17日申請日期2006年9月18日優先權日2005年9月20日發明者C·C·路易絲,C·W·蘭德,G·A·雷克斯,王均山申請人:伊斯曼柯達公司