專利名稱：光拾取裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有在CD、DVD等光盤記錄再現(xiàn)裝置中相對(duì)光盤記錄面進(jìn)行信息的記錄和再現(xiàn)的激光光源、受光部分、物鏡等的光拾取裝置。
背景技術(shù)：
設(shè)于CD、DVD等光盤記錄再現(xiàn)裝置的光拾取器的一般的物鏡驅(qū)動(dòng)單元由搭載了物鏡的可動(dòng)透鏡保持架、透鏡保持架支承構(gòu)件、固定于透鏡保持架的聚焦線圈和光道跟蹤線圈、及與這些線圈對(duì)置的軛鐵和永久磁體構(gòu)成。當(dāng)對(duì)聚焦線圈施加驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，通過與來自永久磁體的磁通的作用而產(chǎn)生電磁力，朝接近或遠(yuǎn)離光盤面的方向即聚焦方向驅(qū)動(dòng)透鏡保持架。同樣，當(dāng)對(duì)光道跟蹤線圈施加驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，通過與來自永久磁體的磁通的作用而產(chǎn)生電磁力，朝光盤的半徑方向即光道跟蹤方向驅(qū)動(dòng)透鏡保持架。
在專利文獻(xiàn)1中記載了具有這樣的構(gòu)成的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的例子。在記載于專利文獻(xiàn)1的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中，在透鏡保持架的側(cè)面稍隔開間隔安裝一對(duì)方型扁平形狀的線圈，另一線圈安裝在比上述一對(duì)線圈間的中央更靠近上方的位置。此時(shí)，先在透鏡保持架側(cè)面安裝上述一對(duì)線圈，在其上分別與上述一對(duì)線圈重疊一部分地安裝上述另一線圈。另外，還公開了這樣的例子，在該例中，減小上述3個(gè)方型扁平線圈的尺寸，不產(chǎn)生這樣的重疊部分地進(jìn)行配置。
日本特開2004-326885號(hào)公報(bào)(參照第6頁、第8頁、圖1、圖3、圖6等)然而，在記載于上述專利文獻(xiàn)1的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中，上下重疊地安裝3個(gè)方型扁平線圈的一部分，在這樣的構(gòu)成中，緊密接觸地安裝于透鏡保持架側(cè)面的第1線圈以及第2線圈與第3線圈相比，離開磁體的距離遠(yuǎn)，所以，作用于這些線圈的磁通密度下降，存在降低其驅(qū)動(dòng)力的問題。
也可配置成稍減小3個(gè)方型扁平線圈的尺寸、不產(chǎn)生重疊部分，以便為了避免上述的問題而如上述那樣使3個(gè)方型扁平線圈均勻地接近磁體，但在該場(chǎng)合，各線圈的長(zhǎng)度變短，所以，不能獲得足夠的驅(qū)動(dòng)力，產(chǎn)生不能應(yīng)對(duì)記錄再現(xiàn)高速化的要求這樣的別的問題。
另外，從磁體發(fā)生的磁通密度雖然在磁體的中央部分大體均勻，但在磁體的周邊部分磁通密度變小。如將線圈的一部分配置到該磁體的周邊部分的磁通密度下降的區(qū)域，則在線圈朝聚焦方向、光道跟蹤方向等產(chǎn)生位移的場(chǎng)合，在線圈產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的大小變化，相對(duì)線圈的中心產(chǎn)生轉(zhuǎn)矩。該轉(zhuǎn)矩引起物鏡驅(qū)動(dòng)的傾斜，對(duì)光盤的記錄再現(xiàn)產(chǎn)生不良影響。
下面參照附圖對(duì)此進(jìn)行說明。圖9為示出現(xiàn)有技術(shù)的光拾取裝置中的透鏡保持架側(cè)面的線圈和與其對(duì)著的磁體的配置的圖。在圖9中，一對(duì)第1線圈23、第2線圈4、及永久磁體11按與專利文獻(xiàn)1的圖6同樣的位置關(guān)系被配置。一對(duì)線圈線部分23在其間夾持地配置第2線圈4，所以，均相對(duì)永久磁體11配置在光道跟蹤方向(y方向)的靠外的位置。在這里，示出線圈朝聚焦方向、光道跟蹤方向等未產(chǎn)生位移的中立狀態(tài)。
圖10示出這樣的現(xiàn)有技術(shù)的透鏡保持架從中立狀態(tài)朝光道跟蹤方向產(chǎn)生了位移時(shí)的狀態(tài)。在圖10中，第1線圈23的線圈線部分23a和23b由于所對(duì)著的永久磁體11的磁極區(qū)域從周邊部分接近中央部分，所以，在線圈線部分23a和23b發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力Fa′和Fb′增大。另一方面，第1線圈23的線圈線部分23c和23d由于所對(duì)著的永久磁體11的磁極區(qū)域更加遠(yuǎn)離中央部分，所以，在線圈線部分23c和23d發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力Fc′和Fd′減小。因此，在一對(duì)第1線圈23的左右分別發(fā)生的聚焦方向(z方向)的驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生差，發(fā)生繞x軸的轉(zhuǎn)矩。該轉(zhuǎn)矩使透鏡保持架產(chǎn)生傾斜。
為了在圖9所示現(xiàn)有技術(shù)的透鏡保持架中減少這樣的轉(zhuǎn)矩的發(fā)生，只有減小第1線圈23的尺寸、盡可能地使第1線圈23滯留于磁通密度均勻的范圍內(nèi)。然而，當(dāng)如上述那樣減小線圈的尺寸時(shí)，不能獲得足夠的驅(qū)動(dòng)力?；蛘?，為了使第1線圈23仍按其尺寸滯留于磁通密度均勻的范圍內(nèi)，需要增大永久磁體11的尺寸，但由此不得不使光拾取裝置自身大型化。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于這樣的實(shí)際情況而作出的，其目的在于提供一種光拾取裝置，該光拾取裝置在其物鏡驅(qū)動(dòng)單元中不損失在聚焦方向和光道跟蹤方向的驅(qū)動(dòng)力即可降低在安裝于透鏡保持架側(cè)面的線圈中發(fā)生的轉(zhuǎn)矩。
為了解決上述問題，本發(fā)明者經(jīng)過認(rèn)真的研究后發(fā)現(xiàn)，如在從透鏡的光軸離開的方向上偏離地配置上述第1線圈的大體平行于光道跟蹤方向的2個(gè)線圈線部分中的、接近物鏡側(cè)的線圈線部分，則當(dāng)透鏡保持架朝光道跟蹤方向遷移時(shí)，可抵消在左右第1線圈產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的增減，消除左右的驅(qū)動(dòng)力的不平衡。
即，本發(fā)明提供一種光拾取裝置，該光拾取裝置具有透鏡保持架、一對(duì)第1線圈和第2線圈、永久磁體、及向上述第1線圈和第2線圈供給驅(qū)動(dòng)電流的單元；該透鏡保持架保持用于進(jìn)行光盤的記錄再現(xiàn)的物鏡；該一對(duì)第1線圈和第2線圈分別配置于上述透鏡保持架的大體與光道跟蹤方向和聚焦方向平行的2側(cè)面，該一對(duì)第1線圈用于朝聚焦方向驅(qū)動(dòng)上述透鏡保持架，該第2線圈用于朝光道跟蹤方向驅(qū)動(dòng)上述透鏡保持架；該永久磁體配置成具有分別與上述透鏡保持架的2側(cè)面對(duì)著的相對(duì)面，上述各相對(duì)面包含由大體與光道跟蹤方向平行的邊界線和大體與聚焦方向平行的邊界線來分割的4個(gè)磁極區(qū)域；其特征在于上述第1線圈分別具有與光道跟蹤方向大體平行的2個(gè)線圈線部分，上述永久磁體配置成使其磁極區(qū)域的與光道跟蹤方向大體平行的邊界線大體對(duì)著上述第1線圈的2個(gè)線圈線部分的中心線，上述第1線圈的2個(gè)線圈線部分中的、接近上述物鏡一側(cè)的線圈線部分配置成與另一方線圈線部分相比，在光道跟蹤方向上向從上述物鏡的光軸更離開的一側(cè)偏離。
另外，本發(fā)明提供一種光拾取裝置，該光拾取裝置具有透鏡保持架、一對(duì)第1線圈和第2線圈、永久磁體、及向上述第1線圈和第2線圈供給驅(qū)動(dòng)電流的單元；該透鏡保持架保持用于進(jìn)行光盤的記錄再現(xiàn)的物鏡；該一對(duì)第1線圈和第2線圈分別配置于上述透鏡保持架的大體與光道跟蹤方向和聚焦方向平行的2側(cè)面，該一對(duì)第1線圈用于朝聚焦方向驅(qū)動(dòng)上述透鏡保持架，該第2線圈用于朝光道跟蹤方向驅(qū)動(dòng)上述透鏡保持架；該永久磁體配置成具有分別與上述透鏡保持架的2側(cè)面對(duì)著的相對(duì)面，上述各相對(duì)面包含由大體與光道跟蹤方向平行的邊界線和大體與聚焦方向平行的邊界線來分割的4個(gè)磁極區(qū)域；其特征在于上述第1線圈具有分別與光道跟蹤方向大體平行的2個(gè)線圈線部分，上述永久磁體配置成使其磁極區(qū)域的與光道跟蹤方向大體平行的邊界線大體對(duì)著上述第1線圈的2個(gè)線圈線部分的中心線，配置成上述一對(duì)第1線圈分別具有的2個(gè)線圈線部分中的、接近上述物鏡一側(cè)的線圈線部分相互的間隔比上述一對(duì)第1線圈分別具有的另一方線圈線部分相互的間隔大。
本發(fā)明的光拾取裝置的特征在于在上述一對(duì)第1線圈分別具有的2個(gè)線圈線部分中的、接近上述物鏡一側(cè)的線圈線部分相互的間隙中配置上述第2線圈的一部分。
本發(fā)明的光拾取裝置的特征在于上述第2線圈具有大體與光道跟蹤方向平行的2個(gè)線圈線部分，上述2個(gè)線圈線部分中的、接近上述物鏡一側(cè)的線圈線部分形成得比另一方線圈線部分長(zhǎng)。
本發(fā)明的光拾取裝置的特征在于上述第1線圈具有大體平行四邊形的形狀。或者，上述第1線圈也可具有上述2個(gè)線圈線部分中的、遠(yuǎn)離上述物鏡一側(cè)的線圈線部分比另一方線圈線部分長(zhǎng)的、大體梯形的形狀。
本發(fā)明的光拾取裝置的特征在于配置成上述一對(duì)第1線圈的與永久磁體對(duì)著的面和上述第2線圈的與永久磁體對(duì)著的面均包含在與光道跟蹤方向和聚焦方向大體平行的同一平面中。
如以上說明的那樣，在本發(fā)明的光拾取裝置中，可減小當(dāng)在聚焦線圈產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力時(shí)附帶地在聚焦線圈產(chǎn)生的轉(zhuǎn)矩，所以，可將物鏡的傾斜抑制得較小，可進(jìn)行穩(wěn)定的記錄再現(xiàn)。另外，不損失聚焦線圈和光道跟蹤線圈的驅(qū)動(dòng)力，所以，記錄再現(xiàn)速度也不降低。
圖1為示出具有本發(fā)明光拾取裝置的光盤記錄再現(xiàn)裝置的概略構(gòu)成的圖。
圖2為示出本發(fā)明光拾取裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的構(gòu)造的分解立體圖。
圖3為概略地示出在圖2所示光拾取裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中設(shè)于物鏡的保持架側(cè)面的線圈群和與其對(duì)著的永久磁體的位置關(guān)系的圖。
圖4為示出在圖2所示光拾取裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中由永久磁體作用于設(shè)在透鏡保持架側(cè)面的線圈群的磁通密度的分布的圖。
圖5為示出在圖2所示光拾取裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中當(dāng)物鏡和保持架處于中立狀態(tài)時(shí)產(chǎn)生于第1線圈和第2線圈的驅(qū)動(dòng)力的圖。
圖6為示出在圖2所示光拾取裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中物鏡和保持架已從中立狀態(tài)朝光道跟蹤方向遷移的狀態(tài)下產(chǎn)生于第1線圈的驅(qū)動(dòng)力的圖。
圖7為示出在圖2所示光拾取裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中設(shè)于透鏡保持架側(cè)面的線圈群的配置例的圖。
圖8為示出在圖2所示光拾取裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中設(shè)于透鏡保持架側(cè)面的線圈群的配置例的圖。
圖9為示出現(xiàn)有技術(shù)的光拾取裝置中的透鏡保持架側(cè)面的線圈和與其對(duì)著的磁體的配置的圖。
圖10為示出圖9所示現(xiàn)有技術(shù)的透鏡保持架從中立狀態(tài)朝光道跟蹤方向產(chǎn)生了位移時(shí)的狀態(tài)的圖。
具體實(shí)施例方式
下面參照附圖詳細(xì)說明用于實(shí)施本發(fā)明的光拾取裝置的最佳形式。圖1～圖8為例示本發(fā)明實(shí)施形式的圖，在這些圖中，采用相同符號(hào)的部分表示同一物，基本構(gòu)成和動(dòng)作相同。
首先，在圖1中示出具有本發(fā)明光拾取裝置的光盤記錄再現(xiàn)裝置的概略構(gòu)成。在圖1中，光盤記錄再現(xiàn)裝置100具有使光盤101回轉(zhuǎn)的主軸電動(dòng)機(jī)120、對(duì)光盤101進(jìn)行信息的記錄再現(xiàn)的光拾取裝置110、及對(duì)其進(jìn)行控制的控制器130。光拾取裝置110具有物鏡1、物鏡驅(qū)動(dòng)單元50、激光發(fā)光元件111、及光檢測(cè)器112等光學(xué)部件。
連接于控制器130的盤回轉(zhuǎn)控制電路131從控制器130接收指令，對(duì)搭載了光盤101的主軸電動(dòng)機(jī)120進(jìn)行回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。連接于控制器130的進(jìn)給控制電路132從控制器130接收指令，使光拾取裝置110朝光盤101的半徑方向移動(dòng)。在搭載于光拾取裝置110的激光發(fā)光元件111連接發(fā)光元件驅(qū)動(dòng)電路133。如從控制器130接收指令、從發(fā)光元件驅(qū)動(dòng)電路133將驅(qū)動(dòng)信號(hào)輸入到激光發(fā)光元件111，則激光發(fā)光元件111朝光盤101發(fā)出激光，由物鏡1將該激光會(huì)聚到光盤101上。會(huì)聚的激光由光盤101反射，通過物鏡1，入射到光檢測(cè)器112。由光檢測(cè)器112獲得的檢測(cè)信號(hào)134被輸入到伺服信號(hào)檢測(cè)電路135和再現(xiàn)信號(hào)檢測(cè)電路137。伺服信號(hào)檢測(cè)電路135根據(jù)輸入的檢測(cè)信號(hào)134生成伺服信號(hào)，輸出到控制器130。控制器130將該伺服信號(hào)輸出到傳動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)電路136，傳動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)電路136相應(yīng)于此將驅(qū)動(dòng)信號(hào)輸出到光拾取裝置110的物鏡驅(qū)動(dòng)單元50，對(duì)物鏡1進(jìn)行定位控制。
另一方面，從光檢測(cè)器112接收到檢測(cè)信號(hào)134的再現(xiàn)信號(hào)檢測(cè)電路137根據(jù)該檢測(cè)信號(hào)134生成再現(xiàn)信號(hào)，輸出到控制器130?？刂破?30將該再現(xiàn)信號(hào)輸出到圖中未示出的再現(xiàn)部分，對(duì)記錄于光盤101的信息進(jìn)行再現(xiàn)。
以上說明的各部分與現(xiàn)有技術(shù)的光盤記錄再現(xiàn)裝置所具有的部分同樣地構(gòu)成，產(chǎn)生同樣的作用效果。本發(fā)明的光拾取裝置的特征在于具有與現(xiàn)有技術(shù)不同的物鏡驅(qū)動(dòng)單元50，下面詳細(xì)說明該物鏡驅(qū)動(dòng)單元50的構(gòu)成和動(dòng)作。
圖2為示出本發(fā)明光拾取裝置110的物鏡驅(qū)動(dòng)單元50的構(gòu)造的分解立體圖。在圖2中，將物鏡1的驅(qū)動(dòng)方向表示為x、y、z方向，z方向?yàn)檠匚镧R1的光軸驅(qū)動(dòng)物鏡1以使其接近或遠(yuǎn)離光盤記錄面的聚焦方向，y方向?yàn)槌獗P的半徑方向驅(qū)動(dòng)物鏡1的光道跟蹤方向。x方向?yàn)榕cy方向和z方向雙方直交的方向。在圖2中，物鏡1由保持架2保持。保持架2在與光道跟蹤方向平行的兩側(cè)面具有朝聚焦方向產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的一對(duì)第1線圈3和朝光道跟蹤方向產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的第2線圈4。另外，保持架2由一端固定于固定部分7的桿狀的支承構(gòu)件6支承。第1線圈3和第2線圈4分別通過焊錫等電連接到任一方的支承構(gòu)件6的一端，通過支承構(gòu)件6接受電力供給。與該物鏡1以及保持架2的平行于光道跟蹤方向的兩側(cè)面對(duì)著地配置4個(gè)永久磁體11和軛鐵9。
圖3為概略地示出在保持架2的與光道跟蹤方向平行的一側(cè)面上的一對(duì)第1線圈3以及第2線圈4與及永久磁體11的配置的圖。在圖3中，一對(duì)第1線圈3分別具有與光道跟蹤方向平行的2個(gè)線圈線部分3a、3b以及3c、3d，2個(gè)線圈線部分3a和3b、以及3c和3d的位置構(gòu)成朝光道跟蹤方向偏移的大致平行四邊形的形狀。另外，把一對(duì)第1線圈3相對(duì)物鏡1的光軸配置成相互間構(gòu)成線對(duì)稱。在這里，一對(duì)第1線圈3的與光道跟蹤方向平行的2個(gè)線圈線部分中的、接近物鏡1的一方的線圈線部分3a與3c間的光道跟蹤方向的間隔比相對(duì)物鏡1較遠(yuǎn)的一方的線圈線部分3b與3d間的光道跟蹤方向的間隔寬。在該間隔較寬的一對(duì)第1線圈3的線圈線部分3a與3c間配置第2線圈4的一部分。
另一方面，大致呈長(zhǎng)方體形狀的永久磁體11被磁化為2極，在與保持架2的各側(cè)面對(duì)著的位置各配置2個(gè)。如圖3所示那樣，與保持架2的一側(cè)面對(duì)著的永久磁體的表面具有4個(gè)磁極區(qū)域。一對(duì)第1線圈3和第2線圈4分別配置成使與光道跟蹤方向以及聚焦方向平行的磁極區(qū)域的邊界線跨過其大體中央。在圖2中，為了容易理解地示出在保持架2的兩側(cè)方分別配置2個(gè)永久磁體11的情形，示出在2個(gè)永久磁體11間空有間隙的配置，但在與保持架2對(duì)著的面分成4個(gè)磁極區(qū)域即可，所以，2個(gè)永久磁體11也可接觸。另外，也可使用分割成4個(gè)磁極區(qū)域的1個(gè)永久磁體，或配置4個(gè)單極的永久磁體。
但是，在將1個(gè)永久磁體磁化成4個(gè)磁極的場(chǎng)合，有時(shí)在磁極邊界線交叉成十字的交點(diǎn)附近未充分磁化，有時(shí)作用于線圈的磁通密度下降，另外，在配置4個(gè)單極的永久磁體的場(chǎng)合，當(dāng)如圖2和圖3所示那樣使各磁極的大小不同時(shí)，需要準(zhǔn)備尺寸不同的永久磁體，部件數(shù)量增加。然而，在如上述那樣在保持架2的各側(cè)面各使用2個(gè)被磁化為2極的永久磁體11的場(chǎng)合，可明確地具有磁極邊界，如相鄰的2個(gè)永久磁體11使用使相同部件N-S極反轉(zhuǎn)的磁體，則部件數(shù)量也不會(huì)增加，所以，這樣較為理想。
圖4為示出由永久磁體11作用于一對(duì)第1線圈3以及第2線圈4的磁通密度的分布的圖。對(duì)在這些線圈發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力作出貢獻(xiàn)的磁通密度為與聚焦方向以及光道跟蹤方向垂直的x方向成分。在圖4(a)中，示出與一對(duì)第1線圈3的線圈線部分3a、3c和第2線圈4對(duì)著的永久磁體11表面的磁通密度的x方向成分Bx的分布。在圖4(b)中，示出與一對(duì)第1線圈3的線圈線部分3b和3d對(duì)著的永久磁體11表面的磁通密度的x方向成分Bx的分布。如圖所示那樣，磁通密度均勻的范圍為與呈長(zhǎng)方形的各磁極區(qū)域中央部分對(duì)著的部分，在各磁極區(qū)域的周邊部分磁通密度變小。
圖5為示出當(dāng)物鏡1以及保持架2處于中立狀態(tài)時(shí)在第1線圈3以及第2線圈4發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力的圖。在這里，物鏡1以及保持架2處于中立狀態(tài)，是指如上述那樣第1線圈3和第2線圈4分別處于使與光道跟蹤方向以及聚焦方向平行的磁極區(qū)域的邊界線跨過其大體中央的位置的狀態(tài)(圖3所示狀態(tài))。當(dāng)物鏡1以及保持架2處于中立狀態(tài)時(shí)，第1線圈3的線圈線部分3a以及3c在與其對(duì)著的磁極區(qū)域相對(duì)物鏡1的光軸處于光道跟蹤方向的偏外側(cè)的位置，第1線圈3的線圈線部分3b和3d在與其對(duì)著的磁極區(qū)域相對(duì)物鏡1的光軸處于光道跟蹤方向的偏內(nèi)側(cè)的位置。
在圖5中，當(dāng)向各線圈供給驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，第1線圈3在與聚焦方向垂直的線圈線部分3a、3b、3c、3d分別發(fā)生朝聚焦方向的驅(qū)動(dòng)力Fa、Fb、Fc、Fd，第2線圈4在與光道跟蹤方向垂直的2個(gè)線圈線部分分別發(fā)生朝光道跟蹤方向的驅(qū)動(dòng)力Ta、Tb。在該中立狀態(tài)下，由于驅(qū)動(dòng)力Fa、Fb、Fc、Fd的大小對(duì)稱性，不會(huì)在物鏡1以及保持架2發(fā)生繞x軸的轉(zhuǎn)矩。
另一方面，圖6為示出在物鏡1以及保持架2已從中立狀態(tài)朝光道跟蹤方向遷移的狀態(tài)下發(fā)生于第1線圈3的驅(qū)動(dòng)力的圖。與上述同樣，當(dāng)向第1線圈3供給驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，在與聚焦方向垂直的線圈線部分3a、3b、3c、3d分別發(fā)生朝聚焦方向的驅(qū)動(dòng)力Fa、Fb、Fc、Fd。在這里，第1線圈3的線圈線部分3a、3d已從對(duì)著的磁極區(qū)域的周邊部分朝中央部分遷移，所以，在這些線圈線部分發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力Fa和Fd比中立狀態(tài)的值大。相反，第1線圈3的線圈線部分3b、3c由于已從對(duì)著的磁極區(qū)域的中央部分朝周邊部分遷移，所以，在這些線圈線部分發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力Fb和Fc比處于中立狀態(tài)的值小。
因此，在本發(fā)明光拾取裝置110的物鏡驅(qū)動(dòng)單元50中，即使在物鏡1和保持架2已從中立狀態(tài)朝光道跟蹤方向遷移的場(chǎng)合，在一對(duì)第1線圈3整體發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力的變化也被抑制得較小。另外，此時(shí)，第1線圈3中的驅(qū)動(dòng)力Fa的增加量與驅(qū)動(dòng)力Fb的減少量相互抵消，F(xiàn)c的減少量與Fd的增加量相互抵消，所以，左右各第1線圈3中的驅(qū)動(dòng)力的變化被抑制得較小，可抑制以在左右的第1線圈3發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力的不平衡為原因的繞x軸的轉(zhuǎn)矩的發(fā)生。
如這樣將第1線圈3的線圈線部分3a、3c相對(duì)物鏡1的光軸配置到光道跟蹤方向的偏外側(cè)的位置，將第1線圈3的線圈線部分3b、3d相對(duì)物鏡1的光軸配置到光道跟蹤方向的偏內(nèi)側(cè)的位置，則即使與聚焦方向垂直的線圈線部分3a、3b、3c、3d變長(zhǎng)，當(dāng)物鏡1和保持架2已從中立狀態(tài)朝光道跟蹤方向遷移時(shí)，也不存在第1線圈3整體的驅(qū)動(dòng)力變化、繞x軸的轉(zhuǎn)矩發(fā)生等問題，可達(dá)到增大第1線圈3的朝聚焦方向的驅(qū)動(dòng)力的效果。
另外，通過將一對(duì)第1線圈3形成為大致平行四邊形，從而具有可防止在接近物鏡1的一方的線圈線部分3a、3c發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力與從物鏡1遠(yuǎn)離的一方的線圈線部分3b、3d發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力間產(chǎn)生差的效果。另外，通過如圖3等所示那樣相對(duì)物鏡1的光軸將第1線圈3的接近物鏡1的一方的線圈線部分3a、3c配置到光道跟蹤方向外側(cè)，從而可在線圈線部分3a、3c間擴(kuò)大空間，可在該空間不與第1線圈3重疊地配置第2線圈4的一部分。這樣，可使永久磁體11與第1線圈3、第2線圈4各個(gè)的距離均勻，所以，可把作用于第1線圈3和第2線圈4的磁通密度均勻地提高。另外，可使第2線圈4的與光道跟蹤方向垂直的2個(gè)線圈線部分變長(zhǎng)，所以，可增大在第2線圈4發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力Ta和Tb。
除上述以外，也可如圖7所示那樣將一對(duì)第1線圈13形成為梯形。在該場(chǎng)合，當(dāng)物鏡1和保持架2已從中立狀態(tài)朝光道跟蹤方向遷移時(shí)，抑制在一對(duì)第1線圈13的轉(zhuǎn)矩發(fā)生的效果比線圈形狀大致為平行四邊形的場(chǎng)合低，但由于與聚焦方向垂直的圖中下側(cè)的線圈線部分變長(zhǎng)，所以，具有可增大在一對(duì)第1線圈13發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力的效果。
另外，也可如圖8所示那樣，設(shè)第2線圈14為梯形形狀，配置到一對(duì)第1線圈3的傾斜的線圈線部分間。通過將第2線圈14形成為梯形形狀，從而可使發(fā)生光道跟蹤方向的驅(qū)動(dòng)力的線圈線部分接近永久磁體11的中央部分。這樣，作用于線圈的磁通密度增大，具有可增大在第2線圈14發(fā)生的驅(qū)動(dòng)力的效果。
以上以具體的實(shí)施形式說明了本發(fā)明的光拾取裝置，但本發(fā)明不限于此。如為本領(lǐng)域技術(shù)人員，則在不脫離本發(fā)明要旨的范圍內(nèi)，可對(duì)上述各實(shí)施形式或其它實(shí)施形式的發(fā)明構(gòu)成和功能進(jìn)行變更和改良。
本發(fā)明的光拾取裝置可在CD、DVD等光盤記錄再現(xiàn)裝置中用作相對(duì)光盤記錄面進(jìn)行信息的記錄和再現(xiàn)的光拾取裝置。
權(quán)利要求
1.一種光拾取裝置，具有透鏡保持架、一對(duì)第1線圈和第2線圈、永久磁體、及向上述第1線圈和第2線圈供給驅(qū)動(dòng)電流的單元；該透鏡保持架保持用于進(jìn)行光盤的記錄再現(xiàn)的物鏡；該一對(duì)第1線圈和第2線圈分別配置于上述透鏡保持架的大體與光道跟蹤方向和聚焦方向平行的2側(cè)面，該一對(duì)第1線圈用于朝聚焦方向驅(qū)動(dòng)上述透鏡保持架，該第2線圈用于朝光道跟蹤方向驅(qū)動(dòng)上述透鏡保持架；該永久磁體配置成具有分別與上述透鏡保持架的2側(cè)面對(duì)著的相對(duì)面，上述各相對(duì)面包含由大體與光道跟蹤方向平行的邊界線和大體與聚焦方向平行的邊界線來分割的4個(gè)磁極區(qū)域；其特征在于上述第1線圈分別具有與光道跟蹤方向大體平行的2個(gè)線圈線部分，上述永久磁體配置成使其磁極區(qū)域的與光道跟蹤方向大體平行的邊界線大體對(duì)著上述第1線圈的2個(gè)線圈線部分的中心線，上述第1線圈的2個(gè)線圈線部分中的、接近上述物鏡一側(cè)的線圈線部分配置成與另一方線圈線部分相比，在光道跟蹤方向上向從上述物鏡的光軸更離開的一側(cè)偏離。
2.一種光拾取裝置，具有透鏡保持架、一對(duì)第1線圈和第2線圈、永久磁體、及向上述第1線圈和第2線圈供給驅(qū)動(dòng)電流的單元；該透鏡保持架保持用于進(jìn)行光盤的記錄再現(xiàn)的物鏡；該一對(duì)第1線圈和第2線圈分別配置于上述透鏡保持架的大體與光道跟蹤方向和聚焦方向平行的2側(cè)面，該一對(duì)第1線圈用于朝聚焦方向驅(qū)動(dòng)上述透鏡保持架，該第2線圈用于朝光道跟蹤方向驅(qū)動(dòng)上述透鏡保持架；該永久磁體配置成具有分別與上述透鏡保持架的2側(cè)面對(duì)著的相對(duì)面，上述各相對(duì)面包含由大體與光道跟蹤方向平行的邊界線和大體與聚焦方向平行的邊界線來分割的4個(gè)磁極區(qū)域；其特征在于上述第1線圈分別具有與光道跟蹤方向大體平行的2個(gè)線圈線部分，上述永久磁體配置成使其磁極區(qū)域的與光道跟蹤方向大體平行的邊界線大體對(duì)著上述第1線圈的2個(gè)線圈線部分的中心線，配制成上述一對(duì)第1線圈分別具有的2個(gè)線圈線部分中的、接近上述物鏡一側(cè)的線圈線部分相互的間隔比上述一對(duì)第1線圈分別具有的另一方線圈線部分相互的間隔大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光拾取裝置，其特征在于在上述一對(duì)第1線圈分別具有的2個(gè)線圈線部分中的、接近上述物鏡一側(cè)的線圈線部分相互的間隙中配置有上述第2線圈的一部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任何一項(xiàng)所述的光拾取裝置，其特征在于上述第2線圈具有大體與光道跟蹤方向平行的2個(gè)線圈線部分，上述2個(gè)線圈線部分中的、接近上述物鏡一側(cè)的線圈線部分形成得比另一方線圈線部分長(zhǎng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任何一項(xiàng)所述的光拾取裝置，其特征在于上述第1線圈具有大體平行四邊形的形狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任何一項(xiàng)所述的光拾取裝置，其特征在于上述第1線圈具有上述2個(gè)線圈線部分中的、遠(yuǎn)離上述物鏡一側(cè)的線圈線部分比另一方線圈線部分長(zhǎng)的、大體梯形的形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任何一項(xiàng)所述的光拾取裝置，其特征在于配置成上述一對(duì)第1線圈的與永久磁體對(duì)著的面和上述第2線圈的與永久磁體對(duì)著的面均包含在與光道跟蹤方向和聚焦方向大體平行的同一平面中。
全文摘要
通過在從透鏡的光軸離開的方向上偏離地配置第1線圈的大體平行于光道跟蹤方向的2個(gè)線圈線部分中的、接近物鏡側(cè)的線圈線部分，從而當(dāng)透鏡保持架朝光道跟蹤方向遷移時(shí)，抵消在左右的第1線圈產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的增減，消除左右驅(qū)動(dòng)力的不平衡。這樣，在光拾取裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中，不損失在聚焦方向和光道跟蹤方向的驅(qū)動(dòng)力即可降低在安裝于透鏡保持架側(cè)面的線圈中發(fā)生的轉(zhuǎn)矩。
文檔編號(hào)G02B7/04GK1975888SQ20061014133
公開日2007年6月6日 申請(qǐng)日期2006年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月30日
發(fā)明者木村勝?gòu)? 齋藤英直, 羽藤順 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立媒介電子