專利名稱：器件和其制造方法、電光學裝置和其制造方法、電子儀器的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種器件和其制造方法、電光學裝置和其制造方法、及電子儀器。
背景技術：
在液晶顯示裝置(液晶顯示器件)中，排列液晶分子的取向膜，通過苯胺印刷法或旋涂法涂敷·形成。近年來，將材料削減效果及高品質對應作為目的，研究了液滴噴出法(液滴噴出裝置)的使用，該液滴噴出裝置通過將含有取向膜形成材料的液滴以液滴的方式從噴頭噴出而形成取向膜。
在使用了上述的液滴噴出法的薄膜形成方法中，對由噴出了的多個液滴而形成的薄膜進行干燥之時，在薄膜的端部的液體和薄膜的中央部的液體中干燥速度不同。進一步詳細地講，薄膜的端部的液體的干燥速度比中央部的液體快。因此，在干燥工序中，在干燥速度快的端部流過液體中的固體部分，其結果形成端部凸起的薄膜。
在特開2003-126760號公報中記載了以下技術通過在噴出液體之前根據涂敷區域(膜形成區域)的輪廓形狀而在基板上形成堤壩，并在被堤壩包圍了的部位配置液體，抑制在干燥時產生的涂膜端部的凸起而形成均勻的膜。
如上所述的以往技術中，需要形成堤壩的步驟，因此有隨著工序的增加而降低生產效率的可能性。另外，有根據涂膜(噴出了的液體)和堤壩之間的接觸而產生堤壩部件的溶解的可能性。
發明內容
本發明的目的在于提供一種具有均勻而高品質的膜的器件和其制造方法、電光學裝置和其制造方法、及電子儀器。
本發明的器件的制造方法，是具有被形成在基板上的第1區域中、并且被密封部包圍的膜的器件的制造方法，其特征在于，具有對所述基板上的第2區域噴出含有所述膜的材料的液體的工序；對所述基板上的液體進行干燥的工序；所述第2區域為所述密封部的內側，所述第2區域的面積為所述第1區域的面積的1.3倍以上。
本發明的器件，其特征在于，具備具有密封部的基板；形成在所述基板上的第1區域，并被所述密封部包圍的膜；在所述基板上設定第2區域，向該第2區域噴出含有所述膜的材料的液體，所述第2區域為所述密封部的內側，所述第2區域的面積為所述第1區域的面積的1.3倍以上。
配置了液體的基板上的第2區域的面積小于基板上的第1區域的面積的1.3倍的情況下，由于判斷為在第1區域中產生由干燥不均引起的膜品質的下降，因此在本發明中，通過在第2區域配置液體，而隨著干燥在第1區域的外側產生膜的凸起，避免第1區域的膜品質的下降，其中第2區域相對第1區域的面積具有1.3倍以上的面積，。另外，在本發明中，由于比密封部還要內側的區域上配置液體，因此避免液體到達到密封部時產生的不良情形。
并且，在本發明中，省略堤壩形成所需的工序而實現生產效率的提高，同時能夠避免根據由與堤壩接觸的相互作用來產生膜品質的下降。
得到器件的所定特性考慮，優選所述第1區域以所述液體的噴出方式被所述液體覆蓋。
也可以采用膜形成區域為顯示區域的構成。
本發明的電光學裝置的制造方法，具有形成在基板上的膜，其特征在于，其中使用了所述器件的制造方法。
根據本發明的電光學裝置的制造方法，能夠避免產生由干燥不均引起的顯示不均，而得到高品質的電光學裝置。
作為所述膜，電光學裝置為液晶顯示裝置的情況下可以使用在取向膜或外涂層中。
本發明的電子儀器，其特征在于，該儀器具有上述的電光學裝置。
根據本發明的電子儀器，能夠避免產生由干燥不均引起的顯示不均，而得到高品質的電子儀器。
圖1是表示了在本發明的一實施方式的薄膜形成方法中使用的薄膜形成裝置的概略構成的立體圖。
圖2是用于說明根據壓電方式的液狀材料的噴出原理的圖。
圖3是用于說明本發明的一實施方式的薄膜形成方法的說明圖。
圖4A是用于說明本發明的一實施方式的薄膜形成方法的說明圖。
圖4B是用于說明本發明的一實施方式的薄膜形成方法的說明圖。
圖5是表示無源矩陣型的液晶顯示裝置的剖面結構的一例的模式圖。
圖6A是用于說明無源矩陣型的液晶顯示裝置的制造方法的說明圖。
圖6B是用于說明無源矩陣型的液晶顯示裝置的制造方法的說明圖。
圖6C是用于說明無源矩陣型的液晶顯示裝置的制造方法的說明圖。
圖7A是用于說明無源矩陣型的液晶顯示裝置的制造方法的說明圖。
圖7B是用于說明無源矩陣型的液晶顯示裝置的制造方法的說明圖。
圖7C是用于說明無源矩陣型的液晶顯示裝置的制造方法的說明圖。
圖8A是表示將TFT使用在開關元件上的有源矩陣型的液晶顯示裝置的一例的圖。
圖8B是表示將TFT使用在開關元件上的有源矩陣型的液晶顯示裝置的一例的圖。
圖9是表示由大型基板作成液晶顯示裝置用的基板的所謂的多倒角之例的模式圖。
圖10是有源矩陣型的液晶顯示裝置的剖面構成圖。
圖11A是表示具備液晶顯示裝置的電子儀器之例的圖。
圖11B是表示具備液晶顯示裝置的電子儀器之例的圖。
圖11C是具備液晶顯示裝置的電子儀器之例的圖。
具體實施例方式
下面，參照附圖1～11說明本發明的器件和其制造方法及電光學裝置和其制造方法及電子儀器的實施方式。此外，在下面的附圖中，為了使各部件及各層作成可識別的大小，而適宜變更了各部件及各層的比例尺。
圖1是表示了在本實施方式的器件制造方法中使用的薄膜形成裝置10的概略構成的立體圖。
在圖1中，薄膜形成裝置10具有底座112；基板載物臺22，其被設在底座112上并支撐基板20；第1移動裝置114，其經由在底座112和基板載物臺22之間并可移動地支撐基板載物臺22；液體噴頭21，其可對支撐在基板載物臺22上的基板20噴出液體；第2移動裝置116，其可移動地支撐液體噴頭21；控制裝置23，其控制液體噴頭21的液滴的噴出動作。進一步，薄膜形成裝置10具有被設在底座112上的作為重量測定裝置的電子天平(未圖示)；壓蓋；和清洗單元24。含有第1移動裝置114及第2移動裝置116的薄膜形成裝置10的動作，由控制裝置23所控制。
第1移動裝置114被設置在底座112之上并沿著Y方向定位。第2移動裝置116在底座112的后部12A中，使用支柱16A、16A并相對底座112直立安裝。第2移動裝置116的X方向是與第1移動裝置114的Y方向正交的方向。Y方向是沿著底座112的前部12B和后部12A方向的方向。X方向是沿著底座112的左右方向的方向，并且分別水平。Z方向是與X方向及Y方向垂直的方向。
第1移動裝置114例如為線性電機系統，該第1移動裝置備有導軌140、140和沿著該導軌140可移動地設置的滑塊142。第1移動裝置114的滑塊142對于Y方向定位。
滑塊142備有Z軸旋轉(θZ)用的電機144。電機144例如為直線傳動電機，電機144的轉子被固定在基板載物臺22上。通過給電機144通電，轉子和基板載物臺22沿著θZ方向旋轉，基板載物臺22被分度(旋轉分度)。即，第1移動裝置114可以將基板載物臺22沿著Y方向及θZ方向移動。
基板載物臺22保持基板20并在所定的位置上定位基板20。另外，基板載物臺22具有未圖示的吸附保持裝置。通過使吸附保持裝置動作，基板20通過基板載物臺22的孔46A被吸附保持在基板載物臺22之上。
第2移動裝置116例如為線性電機系統，該第2移動裝置備有立柱16B，其被固定在支柱16A、16A上；導軌62A，其被支撐在立柱16B上；滑塊160，其可沿著導軌62A向X方向移動地被支撐著。滑塊160對于X方向定位。液體噴頭21安裝在滑塊160上。
液體噴頭21具有作為搖動定位裝置的電機62、64、67、68。只要使電機62動作，則液體噴頭21沿著Z軸上下移動而定位。Z軸的方向為分別對X軸和Y軸垂直的方向(上下方向)。如果使電機64動作，則液體噴頭21沿著Y軸旋轉的β方向搖動而定位。如果使電機67動作，則液體噴頭21沿著X軸旋轉的γ方向搖動而定位。如果使電機68動作，則液體噴頭21沿著Z軸旋轉的α方向搖動而定位。即，第2移動裝置116可沿著X方向(第1方向)及Z方向移動地支撐液體噴頭21，同時可沿著θX方向、θY方向、和θZ方向移動地支撐液體噴頭21。
如此，圖1的液體噴頭21，根據滑塊160可以沿著Z軸方向直線移動而定位，并且可以沿著α、β、γ搖動而定位。液體噴頭21的液滴噴出面11P，對基板載物臺22上的基板20正確地控制位置或姿勢。在液體噴頭21的液滴噴出面11P上設有多個噴嘴，該噴嘴以液滴的形式噴出液體材料。
液體噴頭21是通過所謂的液滴噴出法從噴嘴噴出液體材料的。作為液滴噴出法，可適用如下公知的各種技術使用作為壓電體元件的壓電元件而噴出液滴(墨滴)的壓電方式；由加熱液體材料而產生的泡(氣泡)噴出液滴的方式等。壓電方式由于不會對液體材料加熱，因此具有不對材料的組成等造成影響的優點。而且，在本例中使用壓電方式。
圖2是用于說明根據壓電方式的液體材料的噴出原理的圖。在圖2中，與收容液體材料的液室31相鄰地設置有壓電元件32。在液室31中經由含有材料罐的液體材料供給系統34供給液體材料，在材料罐中收容液體材料。壓電元件32與驅動電路33連接。經由驅動電路33給壓電元件32施加電壓。通過壓電元件32的變形，而使液室31變形并從噴嘴30噴出液體材料。通過使施加電壓的值變化而控制壓電元件32的變形量。通過使施加電壓的頻率變化而控制壓電元件32的變形速度。即，在液體噴頭21中，通過向壓電元件32的施加電壓的控制，控制來自于噴嘴30的液體材料的噴出狀態。
返回到圖1，電子天平(未圖示)為了測定從液體噴頭21的噴嘴噴出的液滴的一滴的重量并管理，例如從液體噴頭21的噴嘴接受5000滴份。電子天平通過將5000滴的液滴的重量以5000的數字來分割而正確地測定一滴的液滴的重量。基于該液滴的測定量來最佳地控制從液體噴頭21噴出的液滴的量。
清洗單元24在器件制造工序中或待機時定期或隨時進行液體噴頭21的噴嘴等的清洗。壓蓋單元25為了不使液體噴頭21的液滴噴出面11P干燥，在不制造器件的待機時對蓋液體噴出面11P蓋上罩。
通過液體噴頭21由第2移動裝置116向X方向移動，將液體噴頭21在電子天平、清洗單元24或壓蓋單元25的上部選擇性地定位。即使是在器件制造作業的途中也將液體噴頭21移動到電子天平側，則能夠測定液滴的重量。如果將液體噴頭21移動到清洗單元24上，則能夠進行液體噴頭21的清洗。如果將液體噴頭21移動到壓蓋單元25之上，則在液體噴頭21的液滴噴出面11P上安裝罩而能夠防止干燥。
電子天平、清洗單元24、及壓蓋單元25在底座112上的液體噴頭21的移動路徑正下方的后部位置(-X側)與基板載物臺22隔開而被配置。由于在底座112的前部(+X側)進行相對基板載物臺22的基板20的供材作業及排材作業，因此沒有與電子天平、清洗單元24及壓蓋單元25的干擾。
如圖1所示，在基板載物臺22中的支撐基板20以外的部分中，用于使液體噴頭21將液滴廢棄或試噴的預噴出區域152，與清洗單元24分離而設置。預噴出區域152在基板載物臺22的后部中沿著X方向設置。預噴出區域152被固定在基板載物臺22上，并且具有開口在上方的剖面凹狀的接收部件、和自由交換地設置在接收部件的底部而吸收噴出了的液滴的吸收材料。
作為基板20能夠使用玻璃基板、硅基板、石英基板、陶瓷基板、金屬基板、塑料基板、塑料薄膜基板等各種基板。在這些各種素材基板的表面上也可以形成為作為基底層的半導體膜、金屬膜、電介質膜、有機膜等。作為塑料基板的材料，例如使用聚烯、聚酯、聚丙稀酸酯、聚碳酸酯、聚醚砜、和聚醚酮等。
接著，參照附圖3～圖4B說明本實施方式的器件制造方法。在本實施方式的器件制造方法中利用上述的薄膜形成裝置10在基板20上形成薄膜。
如圖3所示，在矩形的基板20上設定有X方向的長度Ax、Y方向的長度Ay的矩形的薄膜形成區域(第1區域)A。薄膜形成區域A是要求所希望的功能的薄膜的功能范圍。在基板20的周邊設定有作為配置密封材料的區域的、矩形環狀的密封部S。薄膜形成區域A是從密封部S離開了距離D的密封部S的內側。即，薄膜形成區域A的各邊分別從密封部S的內側的邊離開了距離D。
首先，根據需要對基板20的表面的液體材料進行親液性的處理。作為親液化處理，可列舉例如，大氣壓等離子體法、UV處理法、有機薄膜法(癸烷膜、聚乙烯膜)等。在等離子體法中，通過在對象物體的表面上照射等離子體狀態的氧而使其表面親液化或活性化。由此，提高基板20的表面的濕潤性(基板20的表面的接觸角在處理前為70°，但是例如可以變為20°以下)，謀求薄膜的膜厚的均勻性的提高。
接著，如圖4A所示，利用薄膜形成裝置10(圖1)在基板20上的、含有薄膜形成區域A的涂敷區域(第2區域)B噴出液體材料L2。如圖3所示，涂敷區域B處在上述密封部的內側，并具有覆蓋薄膜形成區域A的矩形形狀。涂敷區域B的X方向的長度比薄膜形成區域A長2Lx。涂敷區域B的Y方向的長度比薄膜形成區域A長2Ly。涂敷區域E的面積是薄膜形成區域A的面積的1.3倍以上。另外，涂敷區域B是從密封部S離開了的密封部S的內側。即，沿著涂敷區域B的X方向的各邊從密封部S的內側的邊離開了距離(D-Lx)。沿著涂敷區域B的Y方向的各邊從密封部S的內側的邊離開了距離(D-Ly)。在涂敷區域E的內側具有薄膜形成區域A。
根據上述的液體噴出方式，如圖4A所示，基板20上的薄膜形成區域A及薄膜形成區域A的邊界(外緣)被液體材料L2覆蓋，在比薄膜形成區域A還要寬的涂敷區域B上配置液體材料L2。其結果，在基板20上的涂敷區域B形成液體材料L2的外涂層。
接著，將配置在基板20的含有薄膜形成區域A的涂敷區域B上的液體材料膜L2以預先規定的干燥條件下進行干燥。由此，如圖4B所示，在薄膜形成區域A上形成薄膜(膜)H。在此，液體材料L2的外涂層在干燥過程中，由于其端部比中央部干燥得快，因此包含在液體材料L2中的固體部分向外涂層的端部流過。其結果，在薄膜H的端部形成凸起部H1。薄膜H的端部中的凸起部H1被配置在薄膜形成區域A的外側。
(實施例)對將上述的薄膜形成方法適用于在液晶顯示裝置中采用的取向膜中之例進行說明。
如表1所示，制作了薄膜形成區域A(顯示區域)的X方向的長度Ax15mm、Y方向的長度Ay15mm、面積225mm2，涂敷區域B的面積225mm2的試料1。同樣地，制作了涂敷區域B的面積256mm2的試料2、涂敷區域B的面積289mm2的試料3、和涂敷區域B的面積339mm2的試料4。關于各試料1～4而對顯示品質進行了比較。
在此，在取向膜中要求液晶的取向限制力、電壓保持特性、和余像特性。使用在液體噴出法中的取向膜形成材料在對溶液施加比較強的外力時的阻力少而流動性良好這一點是很重要的。作為含有取向膜形成材料的液體，使用了固體部分以聚酰胺酸為基體并含有90wt％以上(在此，固體含量1.6wt％)的溶劑(溶媒)的溶液，其溶劑中，將γ-丁內酯(沸點204℃，在20℃時的粘度2mPa·s，在20℃時的表面張力42mN/m)作為主溶劑。
表1薄膜形成區域A的面積225mm2
如表1所示，以相對薄膜形成區域A(顯示區域)的面積低于1.3倍的面積來涂敷(噴出)了液體的試料1、2中，在顯示區域中產生薄膜的干燥不均，對顯示品質產生了不均(斑點)。在面積比為1.3倍以上的條件的試料3、4中，在顯示區域中形成均勻的干燥膜，無法確認顯示品質的下降(顯示不均)。此外，在試料4中，雖然防止顯示品質的下降，但是由于液體材料到達到密封部S，因此在這種條件下的液滴涂敷的實施很困難。
接著，如表2及表3所示，在面積比為1.3倍以上的條件下，制作了使薄膜形成區域A(顯示區域)的面積變化了的試料。即，制作了薄膜形成區域A的X方向的長度Ax8mm、Y方向的長度Ay15mm、面積120mm2，涂敷區域B的面積160mm2的試料5。同樣地，制作了涂敷區域A(顯示區域)的X方向的長度Ay5mm、Y方向的長度Ay6mm、面積30mm2，涂敷區域B的面積42mm2的試料6。
表2薄膜形成區域A的面積120mm2
表3薄膜形成區域A的面積30mm2
如表2及表3所示，在面積比為1.3倍以上的條件下，與試料3其薄膜形成區域A的面積不同的試料5、6中也無法確認顯示品質的下降(顯示不均)。
接著，如表4所示，制作了相對于試料6使液體材料的固體含量變化了的試料7。在試料6中，在噴出的液體中含有的固體含量為1.8wt％，在試料7中固體含量為1.6wt％。
表4薄膜形成區域A的面積30mm2
如表4所示，在面積比為1.3倍以上的條件下，與試料6其薄膜形成區域A的面積不同的試料5、6中也無法確認顯示品質的下降(顯示不均)。
如上所示，本實施方式中，通過在基板20上的涂敷區域B上配置液體，而能夠形成均勻并高品質的膜，其中，所述涂敷區域B相對作為薄膜的功能范圍的薄膜形成區域A的面積具有1.3倍以上的面積。即，即使在薄膜的端部形成凸起部，其凸起部位于薄膜形成區域A的外側，因此在薄膜形成區域A中得到均勻的膜厚和所希望的功能。
另外，本實施方式中，由于將液體配置在比密封部S還要靠近的內側，因此避免液體到達在密封部S的情況下產生的不便(基板20的接合不好等)。并且，本實施方式中，避免隨著以往那樣的堤壩形成步驟的追加而降低生產效率的情況，同時避免隨著液體的接觸而根據堤壩部件的溶解使薄膜的品質降低的情況。
另外，本實施方式中，通過使用液滴噴出法而能夠在基板20上的所希望的位置上配置所希望的量的液體。即，在基板20上，在比密封部S還要靠近的內側且具有規定的形狀的矩形區域可靠地配置液體。并且，由于以液滴噴出方式形成薄膜，因此與苯胺印刷法或旋涂法進行比較而大幅度地削減材料使用量或排液量，能夠期待節能效果的同時也與基板20的大型化容易地對應。
接著，參照圖5～圖7C說明使用本實施方式的器件制造方法的作為電光學裝置的液晶顯示裝置(器件)的制造方法。
圖5是表示無源矩陣型的液晶顯示裝置的剖面結構的模式圖。液晶顯示裝置200為透射型裝置，并構成為在一對玻璃基板201、202之間夾持著由STN(Super Twisted Nematic)液晶等構成的液晶層203的結構。并且，備有用于給液晶層提供驅動信號的驅動器IC213、和成為光源的反光器214。
在玻璃基板201上與其顯示區域對應而配設了濾色片204。濾色片204是以規定地排列由紅(R)、綠(G)、和藍(B)的各種顏色構成的著色層204R、204G、和204B而構成的部件。此外，在著色層204R(204G、204B)之間形成有由黑底(black matrix)或貯格圍堰(bank)構成的隔壁205。另外，在濾色片204及隔壁205之上配設有外涂層(overcoat)206，該外涂層用于消除根據濾色片204或隔壁205形成的臺階部而使其平坦化。
在外涂層206之上以帶狀形成有多個電極207，并且其之上形成有取向膜208。
在另一方的玻璃基板202的內面，多個電極209以與上述的濾色片204側的電極正交的方式形成為帶狀，在這些電極209上形成有取向膜210。此外，上述濾色片204的各著色層204R、204G、和204B分別被配置在與玻璃基板202的電極209和上述玻璃基板201的電極207之間的交叉位置對應的位置上。另外，電極207、209由ITO(Indium Tin Oxide)等的透明導電材料來形成。玻璃基板202和濾色片204的外面側分別設有偏轉板(未圖示)。在玻璃基板201、202彼此之間配設有未圖示的隔離物，其用于一定地保持這些基板201、202彼此之間的間隔(單元間隔)；和密封材料212，其用于從外部的空氣遮斷液晶203。作為密封材料212，例如使用熱固化型或光固化型的樹脂，并且配置在上述的密封部S上。
另外，在基板201上以包圍顯示區域A1的方式形成有遮光膜215。
該遮光膜215例如可以由鉻等來形成。并且，在遮光膜215上與密封材料212隔開而配置有外涂層206的端部中的凸起部分206a及取向膜208、210的端部中的凸起部分208a、210a。
在該液晶顯示裝置200中根據上述的薄膜形成方法(器件制造方法)而形成上述的外涂層206、取向膜208及210。因此，在該液晶顯示裝置200中，由于在顯示區域使取向膜208、210及外涂層206的膜厚均勻化，因此能夠進一步提高液晶顯示裝置200中的顯示性能。
另外，在該液晶顯示裝置200中，由于在遮光膜215上配設有外涂層206的端部中的凸起部分206a、及取向膜208、210端部中的凸起部分208a、210a，因此無需從新設置這些凸起部分206a、208a、210a的配置區域，而可以在顯示區域A1中使顯示區域A1中的取向膜208、210及外涂層206的膜厚均勻化。
圖6A～7C是表示上述液晶顯示裝置200的制造方法的模式圖。
首先，如圖6A所示，在形成了濾色片204及遮光膜215的基板201上利用液滴噴出法形成外涂層206。此時，利用上述的本實施方式的薄膜形成方法以將外涂層206的端部的凸起部分206a配置在顯示區域A1的外部、以及配置在密封部S的內側的方式形成外涂層206。通過形成外涂層206，使顯示區域A1中的外涂層206的膜厚均勻化而提高顯示區域A1中的平坦性。
接著，在顯示區域A1中的外涂層206上形成電極207之后，如圖6B所示，在顯示區域A上使用液滴噴出法形成取向膜208。
此時，利用上述的本實施方式的薄膜形成方法以將外涂層208的端部的凸起部分208a配置在顯示區域A1的外部、以及配置在密封部S的內側的方式形成外涂層208。通過形成外涂層208，使顯示區域A1中的取向膜208的膜厚均勻化而提高顯示區域A1中的目視性。
接著，如圖6C所示，在與形成電極209的基板202上的顯示區域A1對應的區域上利用液滴噴出法形成取向膜210。此時，利用上述的本實施方式的薄膜形成方法以將取向膜210的端部的凸起部分210a配置在顯示區域A1的外部的方式，形成取向膜210。通過如此形成取向膜210，使顯示區域A1中的取向膜210的膜厚均勻化而提高顯示區域A1中的目視性。
然后，在基板上201上配置了密封材料212之后，在基板201、202之間夾持液晶層203。具體地講，如圖7A所示，例如使用液滴噴出法在玻璃基板201上定量配置所定量的液晶。此外，應在基板201上配置的液晶的所定量與密封之后形成在玻璃基板彼此之間的空間的容量大致相同。另外，在圖7A中省略濾色片、取向膜、和外涂層等的圖示。
接著，如圖7B及7C所示，在配置了所定量的液晶203的玻璃基板201上經由密封材料212在減壓下粘貼另一方的玻璃基板202。
具體地講，首先，如圖7B所示，主要對配置有密封材料212的玻璃基板201、202的邊部施加壓力，而粘接密封材料212和玻璃基板201、202。然后，經過所定的時間之后，密封材料干燥了某種程度之后對玻璃基板201、202的外面整體施加壓力，而將液晶203遍布在夾持在倆基板201、202上的空間整體。
在這種情況下，在液晶203與密封材料212接觸時，由于密封材料早已干燥了某種程度，因此隨著與液晶203的接觸的密封材料212的性能降低或液晶203的劣化少。
粘貼玻璃基板201、202彼此之間之后，通過給密封材料212賦予熱或光而使密封材料212固化，從而如圖7C所示，在玻璃基板201、202之間密封液晶。
并且，通過經過上述的工序而制造圖5所示的液晶顯示裝置200。
此外，在圖5中，表示了無源矩陣型的液晶顯示裝置，但是也可以采用將TFD(Thin Film Diode薄膜二極管)或TFT(Thin Film Transistor薄膜晶體管)作為開關元件來使用的、有源矩陣型的液晶顯示裝置。
由于圖8A及8B表示在開關元件上使用了TFT的有源矩陣型的液晶顯示裝置的一例，因此圖8A是表示該例的液晶顯示裝置的整體構成的立體圖，圖8B是圖8A中的一像素的放大圖。
圖8A及8B所示的液晶顯示裝置(器件、電光學裝置)580，對向配置有形成了TFT元件的側的元件基板574和對向基板575，在這些基板之間配置有框緣型的密封材料573，在基板間的密封材料573中包圍的區域上封入有液晶層(未圖示)。
在此，圖9是表示使用大型基板(例如，150mm×1800mm)來作成液晶顯示裝置用的上述元件基板或對向基板的所謂的多倒角之例的模式圖。
圖9的例中，從1個大型基板作成多個(本例中6個)基板(例如，元件基板574)，在各個元件基板574上如圖8A及8B那樣形成TFT元件。此外，關于圖8A及8B所示的對向基板575也同樣地、可以從1張大型基板形成多個基板。
返回到圖8A及8B，在元件基板574的液晶側表面上將多個源線576及多個柵線577以相互交叉的方式設置成格子狀。在各源線576和各柵線577的交叉點的附近形成有TFT元件578，而經由各TFT元件578連接像素電極579，多個像素電極579被配置成俯視矩陣狀。另一方面，在對向基板575的液晶側的表面上，與顯示區域對應而形成有由ITO等構成的透明導電材料制的公共電極585。
TFT元件578如圖8B所示具有柵電極581，其從柵線577延伸；絕緣膜(未圖示)，其覆蓋柵電極581；半導體層582，其形成在絕緣膜上；源電極583，其被連接在半導體層582中的源區域并從源線576延伸；漏電極584，其被連接在半導體層582中的漏區域上。并且，TFT元件578的漏電極584被連接在像素電極579上。
圖10是有源矩陣型的液晶顯示裝置的剖面構成圖。
液晶顯示裝置580主要由以下部件構成相互對向地配置的元件基板574和對向基板575；夾持在這些基板之間的液晶層702；附設在對向基板575上的相位差板715a、和偏光板716a；具備了附設在元件基板574上的相位差板715b、和偏光板716b的液晶面板。通過在該液晶面板上安裝液晶驅動用驅動器芯片、和用于傳遞電信號的配線類、支撐體等的附帶因素，構成作為最終制品的液晶顯示裝置。
對向基板575主要由光透射性基板742、和形成在該基板742上的濾色片751構成。濾色片751具備隔壁706；作為濾光元件的著色層703R、703G、703B；覆蓋隔壁706及著色層703R、703B、703G的保護膜704而構成。
隔壁706以分別包圍作為著色層形成區域的濾光元件形成區域707的方式形成為格子狀，形成在基板742的一面的742a上，其中所述濾光元件形成區域707是形成各著色層703R、703B、703G的著色層形成區域。
另外，隔板706例如由黑色感光性樹脂膜構成，作為該黑色感光性樹脂膜，例如采用如通常的抗蝕劑中所使用的、至少含有正型或負型的感光性樹脂、和碳黑等的黑色的無機顏料或黑色的有機顏料的材料。由于該隔壁706含有黑色的無機顏料或有機顏料，形成在除去著色層703R、703G、703B的形成位置的部分，因此能夠遮斷著色層703R、703G、703B彼此之間的光的透射，從而該隔壁706還具有作為遮光膜的功能。
著色層703R、703G、703B，在經過隔壁706的內壁和基板742而設置的濾光元件形成區域707上，通過液滴噴出法噴出紅(R)、綠(G)和藍(B)的各濾光元件材料，然后使之干燥。
另外，由ITO(Indium Tin Oxide)等的透明導電材料構成的液晶驅動用的電極層705經過保護膜704的大致整個面而被形成。并且覆蓋該液晶驅動用的電極層705而設置取向膜719a，另外，元件基板574側的像素電極579上也設置有取向膜719b。
元件基板574，在光透射性的基板714之上形成未圖示的絕緣層，再該絕緣層之上形成TFT元件578和像素電極579而構成。另外，在形成在基板714之上的絕緣層上如圖8A及8B所示，多個掃描線和多個信號線形成為矩陣狀，在由這些掃描線和信號線所包圍的每一個區域設置上述的像素電極579，在各像素電極579與掃描線及信號線電連接的位置上裝入TFT元件578，根據對掃描線和信號線施加信號切換TFT元件578而進行向像素電極579的通電控制。另外，該實施方式中，將形成在對向基板575側的電極層705作成覆蓋像素區域整體的整個面電極。此外，能夠使用各種TFT的配線電路或像素電極形狀。
元件基板574和對向基板575根據密封材料573經由所定的間隙而粘貼，該密封材料沿著對向基板575的外周邊形成的。此外，符號756是用于在基板面內一定地保持倆基板間的間隔(單元間隔)的隔離物。在元件基板574和對向基板575之間通過俯視大致框緣狀的密封材料573分區形成矩形的液晶封入區域，而在該液晶封入區域內封入液晶。
即使在具有這種構成的液晶顯示裝置580中，也通過根據本實施方式的薄膜形成方法形成取向膜719a、719b，從而能夠提高液晶顯示裝置580的顯示特性。
圖11A～11C表示具備上述的液晶顯示裝置的電子儀器的例。
本例的電子儀器備有作為顯示機構的本發明的液晶顯示裝置。
圖11A是表示了移動電話機的一例的立體圖。在圖11A中，符號1000表示移動電話機主體(電子儀器)，符號1001表示使用了上述液晶顯示裝置的顯示部。
圖11B是手表型電子儀器的一例的立體圖。在圖11B中，符號1100表示手表主體(電子儀器)，符號1101表示使用了上述液晶顯示裝置的顯示部。
圖11C是表示了文字處理機、個人計算機等的便攜型信息處理裝置的立體圖。在圖11C中，符號1200表示信息處理裝置(電子儀器)，符號1202表示鍵盤等的輸入部，符號1204表示信息處理裝置主體，符號1206表示使用了上述的液晶顯示裝置的顯示部。
圖11A～11C所示的各種電子儀器，由于備有通過使用本實施方式的薄膜形成方法來制造的作為顯示機構的液晶顯示裝置，因此得到具備了顯示特性高的顯示機構的電子儀器。
以上，雖然參照
了有關本發明的優選的實施方式，但是本發明并不局限于此。上述例中表示的各構成部件的各種形狀或組合等為一例，在不脫離本發明的要旨的范圍內基于設計要求等是可以進行變更的。
例如，在上述的實施方式中，作成薄膜形成區域A處于顯示區域中的構成，但是并不局限于此，也可以作成使用于非顯示區域中的構成。
另外，如圖9所示，在從大型基板作成多個基板的情況下，也可以將大型基板作為1個基板并使用本發明的薄膜形成方法形成薄膜，也可以對從大型基板作成的各個基板使用本發明的薄膜形成方法形成薄膜。
另外，在上述實施方式中，使用本發明的薄膜形成方法形成了取向膜及外涂層。但是，本發明并不局限于此，例如，使用本發明的薄膜形成方法能夠形成抗蝕劑等的各種薄膜。
另外，如上所示，也可以將薄膜的端部的凸起部分作為隔離物來使用，或也可以作為稍微調整薄膜的厚度時的貯格圍堰來使用。具體地講，將凸起部分作為貯格圍堰來使用的情況下，通過在向由該凸起部分包圍的薄膜中央部噴出配置液體材料，并使液體材料干燥，而能夠進一步贏得薄膜的膜厚。
權利要求
1.一種器件的制造方法，是具有被形成在基板上的第1區域中、并由密封部包圍的膜的器件的制造方法，其中具有對所述基板上的第2區域噴出含有所述膜的材料的液體的工序；和對所述基板上的液體進行干燥的工序；所述第2區域為所述密封部的內側，所述第2區域的面積為所述第1區域的面積的1.3倍以上。
2.根據權利要求1中所述的器件的制造方法，其中，所述第1區域與所述膜的功能范圍對應。
3.根據權利要求1或2中所述的器件的制造方法，其中，所述第1區域以所述液體的噴出方式由所述液體覆蓋。
4.根據權利要求1～3的任意一項中所述的器件的制造方法，其中，所述第1區域為顯示區域。
5.一種電光學裝置的制造方法，其中所述電光學裝置具有形成在基板上的膜，所述方法中使用了權利要求1～4中任意一項所述的器件制造方法。
6.根據權利要求5中所述的電光學裝置的制造方法，其中，所述電光學裝置為液晶顯示裝置；所述膜為取向膜。
7.根據權利要求5中所述的電光學裝置的制造方法，其中，所述電光學裝置為液晶顯示裝置；所述膜為外涂層。
8.一種器件，其中使用權利要求1～4中任意一項所述的器件的制造方法來制造。
9.一種器件，其中，具備具有密封部的基板；和形成在所述基板上的第1區域并由所述密封部包圍的膜；在所述基板上設定第2區域，其噴出含有所述膜的材料的液體；所述第2區域為所述密封部的內側，所述第2區域的面積為所述第1區域的面積的1.3倍以上。
10.根據權利要求9中所述的器件，其中，所述第1區域與所述膜的功能范圍對應。
11.根據權利要求9或10中所述的器件，其中，由所述膜覆蓋著所述第1區域。
12.根據權利要求9～12中任意一項所述的器件，其中，所述第1區域為顯示區域。
13.根據權利要求9～12中任意一項所述的器件，其中，所述膜具有配置在所述第1區域的外側的凸起部。
14.一種電光學裝置，具有器件，所述器件具有被形成在第1區域中、并由密封部包圍的膜，是權利要求9～13的任意一項中所述的器件。
15.根據權利要求14中所述的電光學裝置，其中，所述膜為液晶顯示裝置中的取向膜。
16.根據權利要求14中所述的電光學裝置，其中，所述膜為液晶顯示裝置中的外涂層。
17.一種電子儀器，其中具備權利要求14～16中任意一項所述的電光學裝置。
全文摘要
一種器件的制造方法，具有形成在基板上的第(1)區域并被包圍在密封部的膜，其中具有對所述基板上的第(2)區域噴出含有所述膜的材料的液體的工序；對所述基板上的液體進行干燥的工序；所述第(2)區域為所述密封部的內側，所述第(2)區域的面積為所述第(1)區域的面積的1.3倍以上。
文檔編號G02F1/1337GK1811545SQ200610006220
公開日2006年8月2日 申請日期2006年1月24日 優先權日2005年1月26日
發明者蛭間敬 申請人:精工愛普生株式會社