專利名稱：顯影溶液回收處理方法以及顯影溶液回收處理裝置的制作方法
技術領域：
本發明是有關于一種溶液回收處理方法，特別是指一種顯影溶液回收處理方法；另外，本發明亦是有關于一種溶液回收處理裝置，特別是指一種顯影溶液回收處理裝置。
背景技術：
在半導體及液晶基板制程中，為了先在基板上呈現例如邏輯電路的圖譜，因此需在各基板上涂布光阻劑后，再透過一光罩而曝光，使得該光阻劑轉化為欲保留于各基板上的光阻劑，及欲去除的光阻劑兩部分；接著以顯影溶液洗除掉欲去除的光阻劑，始可顯影出所欲獲得的圖譜，以繼而進行后續制程。
一般而言，光阻劑的主要成分包括例如鄰-萘醌二迭氮-4-磺酸；鄰-萘醌二迭氮-5-磺酸；鄰-萘醌二迭氮-6-磺酸等的萘醌二迭氮系感光劑(o-naphthoquinone diazide；簡稱NQD)，與例如熱塑性酚醛樹脂(Novolac resin)等的堿可溶性粘結樹脂(binder resin)，以及接口活性劑等；相對于光阻劑所使用的顯影溶液，則含有堿化合物的成份，例如四甲基氫氧化銨(Tetramethylammonium hydroxide，于下文中以其簡稱“TMAH”表述)、四乙基氫氧化銨(tetraethylammoniumhydroxide)、四丙基氫氧化銨(tetrapropylammoniumhydroxide)、四丁基氫氧化銨(tetrabutylammoniumhydroxide)、甲基三乙基氫氧化銨(methyltriethylammoniumhydroxide)、三甲基乙基氫氧化銨(trimethylethylammoniumhydroxide)、二甲基二乙基氫氧化銨(dimethyldiethylammonium hydroxide)、三甲基(2-羥乙基)氫氧化銨[trimethyl(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、三乙基(2-羥乙基)氫氧化銨[triethyl(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、二甲基二(2-羥乙基)氫氧化銨[dimethyldi(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、二乙基二(2-羥乙基)氫氧化銨[diethyldi(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、甲基三(2-羥乙基)氫氧化銨[methyltri(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、乙基三(2-羥乙基)氫氧化銨[ethyltri(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、四(2-羥乙基)氫氧化銨[tetra(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]，及氫氧化鉀(Potassium hydroxide，于下文中以其化學式「KOH」表述)等，供熟習此技藝者依需要而選擇使用。
當顯影溶液噴灑在基板上時，會由與經曝光后的欲去除的光阻劑相互作用，將其自所屬的基板上溶洗掉；接著，使用過后的顯影溶液將被收集，并經由循環管路而重復被噴灑在基板上。
但是，由于上述光阻劑是屬酸性，因此隨著顯影過程持續地進行，顯影溶液在重復顯影光阻劑時，其中所含的實際與光阻劑作用的堿化合物，會逐漸與光阻劑酸堿中和而被消耗，使得顯影溶液的有效濃度逐漸降低，無法持續地保有優良的顯影效果。若是定時更新具有有效濃度的顯影溶液，雖然可確保溶液的顯影效果及產品良率具有一定的水準，然而廢棄的顯影溶液將衍生后續處理程序及環保等復雜的問題。
基于該顯影溶液中的堿化合物濃度需維持于一適當濃度方能發揮良好的顯影效果，同時顧及環保及成本等多方面的考量，因此，相關業界則發展出顯影溶液的回收技術或相關處理設備，由此延長顯影溶液的使用壽命。其主要的解決方法合策略，是在判別該顯影溶液的堿化合物的濃度低于一設定值時，即將具有一較高濃度的堿化合物的補充液，適量地灌入該顯影溶液中，以使該顯影溶液中的堿化合物維持在一適當的濃度。
而前述判別該顯影溶液的堿化合物濃度是否低于該設定值，則是由將該顯影溶液流入各式傳感器中，繼而加以檢知其堿化合物濃度而得，以便由其結果決定是否應灌入該補充液；例如臺灣專利第373237號、日本公開特許特開平7-235487案使用吸光光度計，及日本公開特許特開平2003-l31398號案使用濃度計等。
由于該等傳感器都是需要顯影溶液流經其中方能感測，因此隨著使用時間日久，該顯影溶液中的光阻劑或其它雜質會逐漸附著在該等傳感器的管路上，甚至形成阻塞，造成該等傳感器誤判該顯影溶液的堿化合物濃度，連帶地使得該顯影溶液無法被正確地維持于適當的堿化合物濃度，影響后續顯影溶液的顯影效果，以及產品良率甚巨。
但是，該等傳感器的感應能力，是在長時間下逐步惡化，因此工作人員，特別是經驗不足者，不盡然能在第一時間察覺到所使用的傳感器已無法正常運作，進而可能作出不恰當的制程危機處理方策，影響廠商成本甚巨；再者，為維護該等傳感器的正常運作，廠商勢必需定時派人清洗或是汰換更新，如此亦增加了人事、工時，及設備等各方面的成本。
因此，如何可使一重復使用的顯影溶液的堿化合物濃度被正確地調整，以讓其具有最佳的顯影效果，提升后續產品良率，并且可同步地顧及其所需成本，即成為目前相關業界所亟欲發展之處。
發明內容
因此，本發明的目的，即在提供一種可有效地回復該顯影溶液的顯影效果的顯影溶液回收處理方法，以及一種可以精確地調控該顯影溶液中堿化合物濃度的顯影溶液回收處理裝置。
該顯影溶液回收處理裝置及回收處理方法，主要是依據該顯影溶液所顯影過的基板的數量，來調整補充入該顯影溶液的堿化合物量，使得該顯影溶液中的堿化合物得以精準地維持于一應有的適當濃度，而免除了以往由傳感器偵測的方式所產生的缺點。
本發明首先提供的一種顯影溶液回收處理裝置，是裝設在一用以運行涂布有光阻劑以待顯影的各基板的顯影裝置上；該顯影裝置包含有一用以運行各基板的運行單元、一設置于該運行單元下方并容裝含有一堿化合物的顯影溶液的集液槽，及連通該集液槽并使該顯影溶液循環地至各基板上以洗除各基板上的光阻劑的回流單元；其特征在于，該顯影溶液回收處理裝置則包含有一計數單元，用以計數經顯影的基板數量而獲得一計數值；一補充單元，是連接于該集液糟，并提供含堿化合物的補充液至集液槽；以及一控制單元，是連控該計數單元及補充單元，并依據該計數值來操控該補充單元的含堿化合物的補充液供應至集液槽的量。
其中，該補充單元包括有一具有含堿化合物的補充液、一容置該補充液的補充槽、一連通于該補充槽與集液槽的補充管路，及一設置在該補充管路上以控制該補充液的輸出量的流量閥；其中，該補充液是被輸送至該集液槽內，且該補充液中堿化合物的濃度是大于該集液槽內顯影溶液中堿化合物的濃度。
其中，該控制單元是包括有擇自于以下所構成的群組馬達控制器、PID控制器(Proportional-Integral-Derivativecontroller)、PI控制器(Proportional-Integral controller)，以及DCS控制器(Digital Contribution System controller)。
其中還包含有一設置在該顯影裝置的運行單元下，供該顯影溶液通過以消除其泡沫的消泡單元。
其中，該消泡單元是為一消泡板與一設置于該消泡板的吸附材，該消泡板為一形成有復數供該顯影溶液通過的通孔，且為耐酸堿的材質所制成。
其中還包含有一連接該集液槽的過濾單元，其是設置在該顯影裝置的回流單元上，以供該顯影溶液流經而濾除所含的光阻劑與雜質后再流回至該集液槽內，而使該顯影溶液中的光阻劑濃度在0.001重量％以下。
其中，該過濾單元是包括有擇自于以下所構成的群組微濾膜、超濾膜、納米濾膜、逆滲透膜、離子交換樹脂管柱、電氣透析設備、電解設備，以及此等的組合。
本發明一種顯影溶液回收處理方法，是在一欲顯影涂布有光阻劑的各基板的顯影裝置內部與外部實施，其含有一容裝含有堿化合物的顯影溶液的集液槽；其特征在于，該顯影溶液回收處理方法包含的步驟為計數步驟是以一計數單元來計數已顯影過的基板，而獲得一計數值；以及補充步驟是以一控制單元對應該計數值，而調控一含有堿化合物補充液的補充單元，使其將該含堿化合物補充液適度地提供至該集液槽內，并維持該集液槽內顯影溶液中堿化合物的濃度控制在一適當數值。
其中還包含一消泡步驟，其是以一消泡單元來消除該顯影溶液的泡沫。
其中還包含一過濾步驟，其是以一過濾單元來過濾該顯影溶液，以使其所含的光阻劑濃度控制在一定濃度以下。
因此，利用本發明所提出的顯影溶液回收處理方法或顯影溶液回收處理裝置，將可在無傳感器的設置下，精確地將顯影溶液中堿化合物的濃度維持于一適當的數值，同時亦有降低各項成本及提升產品量率等功效。
為進一步說明本發明的具體技術內容，以下結合實施例及附圖詳細說明如后，其中圖1是一示意圖，說明本發明顯影溶液回收處理裝置的一較佳實施例中所設置的各構件的相對位置關系；及圖2是一示意圖，說明該較佳實施例中消泡單元的各構件的相對位置關系，其中設置于兩滾軸之間的各滾軸是暫被移除。
具體實施方式基于前述已知技術的不足，申請人發展出一種顯影溶液回收處理方法，其是在一欲顯影涂布有光阻劑的各基板的顯影裝置內實施，該顯影裝置則含有一容裝含有堿化合物的顯影溶液的集液槽；而該顯影溶液回收處理方法包含的步驟為一計數步驟，以及一補充步驟。
該計數步驟是以一計數單元來計數已顯影過的基板，而獲得一計數值。該補充步驟是以一控制單元對應該計數值，而調控一含有堿化合物補充液的補充單元，使其將該含堿化合物補充液適度地提供至該集液槽內，并維持該集液槽內顯影溶液中堿化合物的濃度控制在一適當數值。
較佳地，該方法還包含有一消泡步驟，其是以一消泡單元來消除該顯影溶液的泡沫；而藉由此消泡步驟，將有助于各基板更順暢地被運行。
較佳地，該方法還包含有一過濾步驟，其是以一過濾單元來過濾該顯影溶液，以使其所含的光阻劑濃度控制在一定濃度以下，而可延緩該顯影溶液的劣化現象，增加使用壽命。該過濾步驟亦可與該消泡步驟一同被包含于本發明顯影溶液回收處理方法之內。
值得一提的是，該方法的消泡步驟與過濾步驟，是各別相對于該計數步驟與補充步驟而同步地獨立實施，且因此無執行順序上的限制。
由于該顯影溶液回收處理方法，是可由該顯影溶液回收處理裝置而對應實施，故有關于后續較佳地實施該方法所需的計數單元、補充單元、控制單元，以及消泡單元、過濾單元等暨其等的相關構件的較佳或更佳態樣，則由以下該顯影溶液回收處理裝置而說明。
本發明首先提出的顯影溶液回收處理裝置，是依據該顯影溶液回收處理方法的創作精神而設計，其是裝設在一用以運行涂布有光阻劑以待顯影的各基板的顯影裝置上。
該顯影裝置包含有一用以運行各基板的運行單元、一設置于該運行單元下方并容裝含有一堿化合物的顯影溶液的集液槽，及連通該集液槽并使該顯影溶液循環地至各基板上以洗除各基板上的光阻劑的回流單元。
本發明顯影溶液回收處理裝置則是包含有一計數單元、一補充單元，以及一控制單元。該計數單元是用以計數經顯影的基板數量，而獲得一計數值。該補充單元是連接于該集液糟，并提供含堿化合物的補充液至集液槽。該控制單元是連控該計數單元及補充單元，依據該計數值來操控該補充單元的含堿化合物的補充液供應至該集液槽內的量。
較佳地，該補充單元包括有一具有含堿化合物的補充液、一容置該補充液的補充槽、一連通于該補充槽與集液槽的補充管路，及一設置在該補充管路上以控制該補充液的輸出量的流量閥；其中，該補充液是被輸送至該集液槽內，且該補充液中堿化合物的濃度是大于該集液槽內顯影溶液中堿化合物的濃度。且于此，更佳地，該補充單元的該補充液中堿化合物的濃度為10～80重量％。于本發明的一較佳實施例中，該補充單元的補充液的堿化合物濃度是約25重量％；此外，該集液槽內顯影溶液中堿化合物的濃度為2.5重量％以下。
較佳地，該控制單元是包括有擇自于以下所構成的群組馬達控制器、PID控制器、PI控制器，以及DCS(DigitalContribution System)控制器；于本發明的一具體例中，該控制單元是包括有馬達控制器，并還包括有一用以監控該集液槽中顯影溶液的液位高度的液位偵測器。
較佳地，本裝置還包含有一消泡單元，其是設置在該顯影裝置的運行單元下，供該顯影溶液通過以消除其泡沫。更佳地，該消泡單元是為一消泡板與一設置于該消泡板的吸附材，該消泡板為一形成有復數供該顯影溶液通過的通孔，且為耐酸堿的材質所制成。于本發明的一具體例中，該耐酸堿的材質是為PVC，且該吸附材是為不織布；選擇性地，其可為單層或多層的態樣。
較佳地，本裝置還包含有一過濾單元，其是連接該集液槽，并設置在該顯影裝置的回流單元上，以供該顯影溶液流經而濾除所含的光阻劑與雜質后再流回該集液槽內，而使該顯影溶液中的光阻劑濃度在0.001重量％以下；更佳地，該過濾單元是包括有擇自于以下所構成的群組微濾膜(microfiltration membranes；簡稱MF)、超濾膜(ultrafiltration membrane；簡稱UF)、納米濾膜(monolayernanofiltration membrane；簡稱NF)、逆滲透膜(reverseosmosis簡稱RO)、離子交換樹脂管柱(ion exchangetreatment簡稱IE)、電氣透析設備(electrodialysis簡稱ED)、電解設備(electrolysis)，以及此等的組合。
以上所述的被包括于該過濾單元的部件，是得以依操作者的需求而調整其排列順序。另外，選擇性地，該微濾膜、超濾膜、納米濾膜，以及逆滲透膜等，是可為單層或多層的態樣，其形狀亦未特別限定，而可為平膜狀、中空線狀等；而離子交換樹脂管柱、電氣透析設備、電解設備等，是可為一次式或二次式的態樣。
該顯影溶液中所使用的堿化合物，是配合所欲作用的光阻劑成分，而選擇使用；就本發明所舉例說明之，該堿化合物是為TMAH；為具有優良的顯影效果，較佳地，該顯影溶液的堿化合物的適當濃度約為2.5重量％以下；更佳地，是為2.3～2.4重量％之間；最佳地，是約為2.38重量％。而就其它的堿化合物，則有各自的適當濃度，但都可藉由本發明方法及裝置而加以調控。
以下將以一較佳實施例進一步說明本發明，惟該實施例僅為例示說明的用，而非用以限制本發明。
實施例本發明顯影溶液回收處理方法，是在一如圖1所示的顯影裝置1內，由一裝設在其上的顯影溶液回收處理裝置來實施，其所包含的步驟為計數步驟、補充步驟、消泡步驟，以及過濾步驟。而該顯影溶液回收處理裝置則包含，一用以進行該計數步驟并獲得一計數值的計數單元2、用以進行該補充步驟的一控制單元3與補充單元4、一用以進行該消泡步驟的消泡單元5，以及一用以進行該過濾步驟的過濾單元6。其中，該控制單元3是對應該計數值而調控該補充單元4；該消泡步驟是消除顯影過程中所產生的泡沫；該過濾步驟則是濾除顯影溶液中的光阻劑。
該顯影裝置1包含有一進行顯影處理程序的顯影處理室11、一用以運行各基板12的運行單元13、一設置于該運行單元13下方并容裝含有TMAH的顯影溶液14的集液槽15，及一連通該集液槽15并循環輸送該顯影溶液14的回流單元16。
其中，該運行單元13，是包括有多數個相互并排且以相同方向滾轉的滾軸131，各基板12放置于該等滾軸131之上，而進出該顯影處理室11；該顯影溶液14的TMAH濃度約為2.38％，并且欲維持于此濃度；該集液槽15的底端是開設有一可啟閉的排液口151，以容收或排除其內的顯影溶液14，便于更新；于此，相關排放系統的設置方式則為相關業者所熟知且非本案重點，于此不予贅述并暫不表示。該回流單元16則是包括有一顯影管路組161與一過濾管路組162。該顯影管路組161與過濾管路組162的一端皆是開設于該集液槽15的底緣，其中，該顯影管路組161的另一端則是設置于該等基板12的上方處，并形成一噴灑頭163；該過濾管路組162的另一端則是連通于該集液槽15。
各基板12在進入該顯影處理室11之前，其表面是涂布有已完成曝光處理，而被區分為欲去除的光阻劑121及欲保留的光阻劑122。當一基板12自該顯影處理室11外，被運行至噴灑出顯影溶液14的噴灑頭163下方時，該欲去除的光阻劑121則被該顯影溶液14而洗除，并達到顯影的目的；之后，該顯影溶液14將溶有該欲去除的光阻劑121并隨著重力而回落至該集液槽15中。
該計數單元2是用以計數經顯影的基板12的數量而獲得一計數值，于此，該計數單元2是為一光計數計。該控制單元3是包括有一馬達控制器31，及一用以獲知該集液槽15中顯影溶液14的液位高度，并連控于該馬達控制器31的液位偵測器32。
該補充單元4包括有一具有一約為25重量％的濃度的TMAH的補充液41、一容置該補充液41的補充槽42、一連通于該補充槽42與集液槽15的補充管路43，及一設置在該補充管路43上以控制該補充液41的輸出量的流量閥44；其中，該補充液41是經由該補充管路43而被輸送至該集液槽15內。
該馬達控制器31是連控于該計數單元2及流量閥44，以依據該計數值而操控該流量閥44的啟閉程度；由此，該補充液41將隨著該計數值及該液位偵測器32的液位測定，而適量地被供應至該集液槽15內。
參見圖1、圖2，該消泡單元5是包括有復數沿著該運行單元13而并排地裝設在其下方的消泡板51，及設置于該等消泡板51下方的吸附材52。各消泡板51為一形成有復數供該顯影溶液14通過的通孔511，且為耐酸堿的材質所制成的板體；該吸附材52則為不織布。
由于在顯影過程中，當該顯影溶液14反復溶洗光阻劑，將會伴隨收集其所含有的接口活性劑，并且因反復噴灑受力而產生越來越多的泡沫，而泡沫會陸續殘留在該運行單元13上，逐漸地讓被輸送的各基板12與該等滾軸131接觸面的摩擦力不足，使得基板12無法順利地被運行。而由該消泡單元5的設置，將可于該顯影溶液14通過時，吸附其中的接口活性劑并消除泡沫，以舒緩其所產生的負面影響。
參見圖1，該過濾單元6是可將所濾集的雜質排除，其是設置在該過濾管路組162上，供該顯影溶液14流經而濾除所含的光阻劑121后再流回該集液槽15內，而讓該顯影溶液14中的光阻劑121濃度在0.001重量％以下。該過濾單元6是包括有供該顯影溶液14依序通過的超濾膜61、可將TMAH電解成四甲基銨離子(TAA+)及氫氧離子(OH-)的電氣透析設備或電解設備62，以及可吸附光阻劑成分的離子交換樹脂管柱63；由各式用以過濾及純化的組件，將可確實地將該顯影溶液14中的光阻劑121濃度控制在0.001重量％以下，有效延緩該顯影溶液14的劣化程度。
廠商可依據其各自的制程經驗而設定該馬達控制器31，于此例舉僅供說明而非限制的兩種方式，來決定啟閉該流量閥44的時機與開啟程度1、事先測定顯影若干片同規格的基板12上欲去除的光阻劑121所會消耗的TMAH量，并計算平均顯影一片基板12所需供應至該集液槽15中的補充液41量a；2、設定該馬達控制器31，使其得以連控于該流量閥44，而得以由一片一次地提供補充液41量a，或是多片一次(例如顯影300片后提供補充液41量300a)的批次式方法，對該集液槽15添加補充液41量。
再者，在進行上述的TMAH補充時，該消泡單元5與過濾單元6亦同步地進行消泡步驟與過濾步驟，使得該控制單元3與補充單元4可單純地依據已顯影的基板片數，提供預定量的補充液于該集液槽15中，而讓該顯影溶液14的TMAH維持于2.38重量％的濃度。
因此，該顯影裝置1中的集液槽15內的顯影溶液14，將依順著該回流單元16而被輸送，另并同步地經過本發明顯影溶液回收處理裝置的過濾單元6以濾除掉其中的光阻劑121與其它雜質殘渣后，繼而被輸送至待顯影的各基板12的上方處后，流出該噴灑頭163以沖灑于該等基板12，溶洗其上的欲去除的光阻劑121，遺留形成有特定圖譜的光阻劑122。之后，該顯影溶液14將會通過該消泡單元5以消除泡沫，繼而被回收至該集液槽15內。
而透過該計數單元2所測得的計數值，以及馬達控制器31的聯機控制，使該流量閥44依該計數值而被適時且適度地啟閉，以輸送適量的補充液41至該集液槽15中，而因為該過濾單元6已將光阻劑121及其它雜質去除，是以該控制單元3及補充單元4得以單純地就該計數單元2所獲得的計數值，而調控欲提供至該補充槽15的補充量，使得該顯影溶液14中TMAH得以維持在該適當濃度。
由以上說明，可知本發明是由計數經顯影的基板12數量，來決定該補充單元4中流量閥44的作動時機及啟閉程度，由此將適量的補充液41提供至該集液槽15內，以使其中的顯影溶液14中的TMAH維持在2.38重量％。另配合消泡單元5與過濾單元6的設置，將可使該等基板12被運行地更順暢，且同步地濾除該顯影溶液14中的雜質，于是除了可精準地掌控該顯影溶液中TMAH的濃度以外，并具有可延緩該顯影溶液14的劣化速率、增長使用時限、增進作業流暢度、降低廠商的相關成本負荷，提升產品后續良率等優點。
惟以上所述的，僅為本發明的較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施的范圍，即凡是依本發明申請專利范圍及發明說明內容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋的范圍內。
權利要求
1.一種顯影溶液回收處理裝置，是裝設在一用以運行涂布有光阻劑以待顯影的各基板的顯影裝置上；該顯影裝置包含有一用以運行各基板的運行單元、一設置于該運行單元下方并容裝含有一堿化合物的顯影溶液的集液槽，及連通該集液槽并使該顯影溶液循環地至各基板上以洗除各基板上的光阻劑的回流單元；其特征在于，該顯影溶液回收處理裝置則包含有一計數單元，用以計數經顯影的基板數量而獲得一計數值；一補充單元，是連接于該集液糟，并提供一含堿化合物的補充液至該集液槽；以及一控制單元，是連控該計數單元及該補充單元，并依據該計數值來操控該補充單元的該含堿化合物的補充液供應至該集液槽的量。
2.依據權利要求1項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中，該補充單元包括具有該含堿化合物的補充液、一容置該補充液的補充槽、一連通于該補充槽與該集液槽的一補充管路，及一設置在該補充管路上以控制該補充液的輸出量的一流量閥；其中，該補充液是被輸送至該集液槽內，且該補充液中堿化合物的濃度是大于該集液槽內顯影溶液中堿化合物的濃度。
3.依據權利要求1項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中，該控制單元是包括有擇自于以下所構成的群組馬達控制器、PID控制器、PI控制器，以及DCS控制器。
4.依據權利要求1項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中還包含有一設置在該顯影裝置的運行單元下方，供該顯影溶液通過以消除其泡沫的消泡單元。
5.依據權利要求4項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中，該消泡單元是為一消泡板與一設置于該消泡板的一吸附材，該消泡板為一形成有復數供該顯影溶液通過的通孔，且為耐酸堿的材質所制成。
6.依據權利要求1項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中還包含有一連接該集液槽的一過濾單元，其是設置在該顯影裝置的該回流單元上，以供該顯影溶液流經而濾除所含的光阻劑與雜質后再流回至該集液槽內，而使該顯影溶液中的光阻劑濃度在0.001重量％以下。
7.依據權利要求6項所述的顯影溶液回收處理裝置，其特征在于，其中，該過濾單元是包括有擇自于以下所構成的群組微濾膜、超濾膜、納米濾膜、逆滲透膜、離子交換樹脂管柱、電氣透析設備、電解設備，以及此等的組合。
8.一種顯影溶液回收處理方法，是在一欲顯影涂布有光阻劑的各基板的顯影裝置內部與外部實施，其含有一容裝含有堿化合物的顯影溶液的集液槽；其特征在于，該顯影溶液回收處理方法包含的步驟為一計數步驟是以一計數單元來計數已顯影過的基板，而獲得一計數值；以及一補充步驟是以一控制單元對應該計數值，而調控一含有堿化合物補充液的補充單元，使其將該含堿化合物補充液適度地提供至該集液槽內，并維持該集液槽內顯影溶液中堿化合物的濃度控制在2.5重量％以下。
9.依據權利要求8項所述的顯影溶液回收處理方法，其特征在于，其中還包含一消泡步驟，其是以一消泡單元來消除該顯影溶液的泡沫。
10.依據權利要求8項所述的顯影溶液回收處理方法，其特征在于，其中還包含一過濾步驟，其是以一過濾單元來過濾該顯影溶液，以使其所含的光阻劑濃度控制在0.0O1重量％以下。
全文摘要
一種顯影溶液回收處理方法，以將顯影溶液中堿化合物控制在一適當濃度，該顯影溶液是重復溶洗復數基板上的欲去除的光阻劑，包含以一計數單元來計數已顯影的基板而獲得一計數值的計數步驟，及以一控制單元來就計數值，適度調控一含有堿化合物補充液的補充單元的補充步驟；本發明亦請求一顯影溶液回收處理裝置，包含有一計數單元、一補充單元，及一控制單元；由此裝置的運作而可有精確掌控該顯影溶液濃度值、降低成本、延緩顯影溶液劣化等功效。
文檔編號G03F7/26GK1991594SQ20051013520
公開日2007年7月4日 申請日期2005年12月27日 優先權日2005年12月27日
發明者蔡宏明 申請人:奇美實業股份有限公司