專(zhuān)利名稱(chēng)：站立式微透鏡及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種以一般半導(dǎo)體制程方式制作，用于于微光學(xué)或微光電系統(tǒng)整合的站立式微透鏡的制作方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的平面微光學(xué)或微光電系統(tǒng)中，為簡(jiǎn)化系統(tǒng)的建置，通常采用橫向(即平行系統(tǒng)基板的方向)發(fā)射、傳輸、或接收的光電組件；上述現(xiàn)有的橫向組件具有如圖1所示的活性區(qū)11，其于YZ剖面呈現(xiàn)狹長(zhǎng)狀的孔徑，如此形狀的孔徑往往造成與波導(dǎo)(如光纖)間的耦合效率不佳，也因此發(fā)射或接收組件與波導(dǎo)間，常需安插光模態(tài)轉(zhuǎn)換(光束圓化)或聚焦功能的光學(xué)器件。
K.Kato及Y.Tohmori(K.Kato，and Y.Tohmori，2000，PLC HybridIntegration Technology and Its Application to Photonic Component，IEEEJournal of Selected Topics in Quantum Electronics，6(1)4-13)所述的光收發(fā)信器次模塊是利用漸變式光波導(dǎo)，以達(dá)成修正光束模態(tài)而提升耦合效率的目的；然而，此方式牽涉較精細(xì)繁復(fù)之制程，如漸變波導(dǎo)蝕刻、雷射鏡面蝕刻，以及二次磊晶等；再者，于此例中漸變式波導(dǎo)為直接附加于光發(fā)射組件(半導(dǎo)體激光)的光輸出端，造成對(duì)組件良率上的疑慮。
而在美國(guó)專(zhuān)利US 5,963,577及US 6,160,672中則揭露利用加置的光學(xué)器件(如球狀透鏡、圓柱狀透鏡等)于平面微光電系統(tǒng)的基板上，以達(dá)到提升耦合效率的目的；然而，此方式使用的光學(xué)器件尺寸皆在毫米等級(jí)，系統(tǒng)基板必須有相對(duì)應(yīng)尺寸的置放槽，如此增大了系統(tǒng)基板尺寸，以及制備上的復(fù)雜度；再者，光學(xué)器件必須施以固定機(jī)制(如粘著劑)以增強(qiáng)系統(tǒng)的機(jī)械特性。
在美國(guó)專(zhuān)利US 5,420,722中則揭露了激光模塊，該激光模塊是利用微透鏡直立負(fù)載于光輸出端，以達(dá)到修正光束模態(tài)的目的；但該發(fā)明亦需額外的固定機(jī)制，且單一組件的應(yīng)用必須在微透鏡搭載上后進(jìn)行切割。
另外在美國(guó)專(zhuān)利US 5,646,928中所揭露的光儲(chǔ)存讀取用的微光學(xué)讀寫(xiě)頭中，利用半導(dǎo)體微機(jī)電制程，分別于硅(Si)基板表面形成所需光學(xué)器件，如Fresnel透鏡、分光器(Beam splitter)、反射器(Reflector)等，再將其舉立形成光軸平行基板的微光學(xué)系統(tǒng)，同時(shí)提供必要的支撐；該發(fā)明除了建置上非常復(fù)雜，該微系統(tǒng)機(jī)械及熱穩(wěn)定性在應(yīng)用上仍有許多限制及考量。
另外，美國(guó)專(zhuān)利US 5,079,130、US 5,225,935、US 5,286,338、US 5,298,366、US 5,324,623及US 6,249,034等皆揭露以高溫烘烤光阻，使其形成微透鏡的方式或其衍生應(yīng)用，其利用光阻表面張力所制得的圓滑透鏡表面，雖然可供改善光學(xué)系統(tǒng)耦合效率之用，但所述及皆為平面微透鏡(光軸垂直基板)，因此無(wú)法直接應(yīng)用于光軸平行基板的平面微光學(xué)或微光電系統(tǒng)。
然而高溫烘烤光阻的技術(shù)除了可用于制作平面型微透鏡外，其亦可應(yīng)用于微球透鏡，H.Yang等人(H.Yang，C.K.Chao，C.P.Lin，S.C.Shen，Micro-ballLens Array Modeling and Fabrication Using Thermal Reflow in Two Polymers，Journal of Micromechanics and Microengineering，2004，14277-282)揭露以高溫烘烤雙層光阻結(jié)構(gòu)使其上層光阻形成微球透鏡，可用于微光學(xué)系統(tǒng)以提升光源與光纖耦合效率，但所采用的上層光阻為熱塑性高分子材質(zhì)，不適合用于高溫環(huán)境中，且所制造的微球透鏡大小將受限于光阻涂布之厚度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種熱穩(wěn)定性高的站立式微透鏡。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種站立式微透鏡的制作方法，以簡(jiǎn)化微光學(xué)系統(tǒng)的建置。
本發(fā)明的又一目的在于提供一種站立式微透鏡的制作方法，可搭配光發(fā)射組件及光接收組件，使光發(fā)射組件及光接收組件可獲得耦合效率上的提升。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案是一種站立式微透鏡，為附著于高分子柱狀結(jié)構(gòu)頂端上的橫截面呈弦圓狀的高分子材質(zhì)雙凸微透鏡。
一種站立式微透鏡的制作方法，包括下列步驟
步驟一、提供微光學(xué)或微光電系統(tǒng)的基材，至少包含基板與基板上的高分子膜層；步驟二、采用微影制程，于該高分子膜層上定義柱狀結(jié)構(gòu)區(qū)域，于顯影后形成高分子柱狀結(jié)構(gòu)；步驟三、提供載臺(tái)供制備均勻的液態(tài)高分子膜；步驟四、將該高分子柱狀結(jié)構(gòu)倒置，垂直浸入步驟三所制備的均勻液態(tài)高分子膜中，靜置一段時(shí)間后分離，使液態(tài)高分子膜懸附于該柱狀結(jié)構(gòu)上，并因表面張力內(nèi)聚呈透鏡狀；步驟五、通過(guò)熱處理去除懸附于柱狀結(jié)構(gòu)上液態(tài)高分子透鏡內(nèi)的溶劑，形成具熱穩(wěn)定性的雙凸微透鏡。
利用柱狀結(jié)構(gòu)浸入高分子膜的方法，即利用微影制程形成高分子材質(zhì)的柱狀結(jié)構(gòu)，將柱狀結(jié)構(gòu)頂端浸入均勻混合之液態(tài)高分子溶液中(如光阻、聚醯亞胺Polyimide等)，液態(tài)高分子吸附于柱狀結(jié)構(gòu)物頂端，該附著于柱狀結(jié)構(gòu)頂端上的液態(tài)高分子，因表面張力內(nèi)聚，其橫截面呈一弦圓狀，經(jīng)適當(dāng)熱處理去除溶劑及固化后，即可作為微光學(xué)系統(tǒng)中的微透鏡組件。通過(guò)高分子材質(zhì)的選用，該站立式微透鏡可由單一材質(zhì)或由相異材質(zhì)所構(gòu)成。
為了搭配光發(fā)射組件及光接收組件，站立式微透鏡還可以通過(guò)以下步驟制作步驟一提供微光學(xué)或微光電系統(tǒng)的基材；步驟二于基材上施加蝕刻屏蔽，定義組件平臺(tái)區(qū)域后，即進(jìn)行蝕刻制程以形成組件平臺(tái)；步驟三于該具有組件平臺(tái)的基材上，以旋轉(zhuǎn)涂布方式覆上感旋光性高分子材料；步驟四通過(guò)微影制程于該感旋光性高分子材料層上定義柱狀結(jié)構(gòu)區(qū)域，顯影后形成高分子柱狀結(jié)構(gòu)；步驟五提供載臺(tái)供制備均勻的液態(tài)感旋光性高分子膜用；
步驟六將步驟四所述的高分子柱狀結(jié)構(gòu)倒置，垂直浸入該均勻的液態(tài)感旋光性高分子膜，靜置一段時(shí)間后分離，使高分子膜懸附于該柱狀結(jié)構(gòu)與該組件平臺(tái)兩側(cè)及上方，其中懸附于該柱狀結(jié)構(gòu)上的液態(tài)高分子膜，因表面張力內(nèi)聚呈透鏡狀；步驟七通過(guò)熱處理去除該懸附于柱狀結(jié)構(gòu)與該組件平臺(tái)兩側(cè)及上方的液態(tài)高分子膜的溶劑；步驟八通過(guò)微影制程移除該組件平臺(tái)上懸附的感旋光性高分子材料，留下該柱狀結(jié)構(gòu)上懸附的透鏡狀感旋光性高分子材料，此時(shí)基材上即具有組件平臺(tái)及具熱穩(wěn)定性之站立式高分子雙凸微透鏡。
所述的基板可選用硅、氧化鋁、玻璃、砷化鎵，或磷化銦等材料制成。
所述的高分子材料可為聚甲基丙烯甲酯(PMMA)、聚二甲基硅氧烷(PDMS)、AZ PLP-100光阻(Clariant公司出品)、NR9-8000光阻(Futurrex公司出品)、SU-8光阻(Micro Resist Technology公司出品)，或能耐高溫的聚亞醯胺(Polyimide)等。
本發(fā)明通過(guò)控制該柱狀結(jié)構(gòu)浸入高分子溶液的深度，進(jìn)而控制此微透鏡結(jié)構(gòu)的透鏡大小(鏡高)，并可藉高分子溶液的粘滯系數(shù)或溶劑混合量的不同，以控制高分子微透鏡的曲率半徑大小。
本發(fā)明所提供的利用柱狀結(jié)構(gòu)浸入高分子膜方法所制作的站立式微透鏡，與前述引證案及其它現(xiàn)有技術(shù)相互比較時(shí)，更具有下列的優(yōu)點(diǎn)1、本發(fā)明的站立式微透鏡的制作方法，制程簡(jiǎn)單，可簡(jiǎn)化微光學(xué)系統(tǒng)的建置，還可以通過(guò)控制柱狀結(jié)構(gòu)浸入液態(tài)高分子膜的深度，進(jìn)而控制該微透鏡結(jié)構(gòu)的透鏡大小(鏡高)，并可通過(guò)控制高分子溶液的粘滯系數(shù)或溶劑含量的不同，來(lái)控制高分子微透鏡的曲率半徑大小。
2、本發(fā)明所提供的站立式微透鏡的熱穩(wěn)定性高。
3、本發(fā)明的站立式微透鏡可搭配光發(fā)射組件及光接收組件，使光發(fā)射組件及光接收組件可獲得耦合效率上的提升。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)的橫向發(fā)射、傳輸、或接收的組件示意圖；圖2A至圖2E為實(shí)施例1中微透鏡各制程階段結(jié)構(gòu)的剖面示意圖；圖3A至圖3C為實(shí)施例2中微透鏡各制程階段結(jié)構(gòu)的剖面示意圖；圖4為實(shí)施例1和2中形成的站立式微透鏡的立體示意圖；圖5A至圖5G為實(shí)施例3中微光電平臺(tái)各個(gè)制程階段結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。
11、橫向組件的活性區(qū)，20、硅基板，21、SU-8厚膜光阻，21a、SU-8光阻柱狀結(jié)構(gòu)，22、曝光屏蔽，23、SU-8厚膜負(fù)光阻，23a、SU-8光阻，24、硅基板，31、具有凹槽的基板，32、SU-8光阻液，32a、SU-8光阻，33、凹槽側(cè)壁，41、柱狀結(jié)構(gòu)，42、雙凸透鏡，51、硅基板，51a、組件平臺(tái)，52、蝕刻屏蔽，53、SU-8光阻，53a、SU-8柱狀結(jié)構(gòu)，54、硅基板，55、SU-8光阻膜，55a、SU-8光阻，55b、SU-8光阻透鏡。
具體實(shí)施例方式
以下利用三個(gè)實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明站立式微透鏡的制作方法，實(shí)施例中柱狀結(jié)構(gòu)物皆采用SU-8系列光阻(Micro Resist Technology公司出品)經(jīng)由微影制程于硅基板上形成，而附著于柱狀結(jié)構(gòu)物上作為透鏡的高分子材料亦為SU-8光阻。
實(shí)施例一請(qǐng)參閱圖2，本實(shí)施例通過(guò)將SU-8材質(zhì)柱狀結(jié)構(gòu)浸入一旋轉(zhuǎn)涂布于硅晶圓上的粘稠液態(tài)SU-8膜中，來(lái)制作站立式微透鏡，該微透鏡系為雙凸透鏡。
如圖2A所示，首先于硅基板20上利用旋轉(zhuǎn)涂布均勻施加一層SU-8厚膜光阻21，經(jīng)過(guò)115℃、30分鐘烘烤去除溶劑后，光阻厚度約為150至200微米；再利用曝光屏蔽22，并藉由微影制程定義并形成SU-8光阻柱狀結(jié)構(gòu)21a，此柱狀結(jié)構(gòu)寬度約為30至50微米，高度約為150至200微米(如圖2B所示)。
SU-8光阻柱狀結(jié)構(gòu)21a完成后，即可制作懸附于該柱狀結(jié)構(gòu)21a上的高分子材質(zhì)透鏡；以SU-8光阻作為透鏡材質(zhì)，藉由制備液態(tài)SU-8膜，供該完成的柱狀結(jié)構(gòu)21a浸入以吸附SU-8光阻；SU-8光阻經(jīng)過(guò)熱處理后即可移除多余溶劑，而經(jīng)照光后進(jìn)一步增加材料的耐熱性與穩(wěn)定性；此外，使用與該柱狀結(jié)構(gòu)物21a相同之材質(zhì)，亦可減少光源經(jīng)過(guò)不同材料接口的反射損失。
如圖2C所示，利用旋轉(zhuǎn)涂布法于硅基板24上均勻涂上一層粘稠液態(tài)的SU-8厚膜負(fù)光阻23；如圖2D所示，此時(shí)將該柱狀結(jié)構(gòu)21a倒置，并由上往下垂直浸入該SU-8厚膜負(fù)光阻23中，靜置約1分鐘后，如圖2E所示，將該柱狀結(jié)構(gòu)21a與SU-8厚膜負(fù)光阻23分離后，SU-8光阻23a即附著于該柱狀結(jié)構(gòu)頂部，此附著于該柱狀結(jié)構(gòu)21a頂端上的SU-8光阻23a，因表面張力內(nèi)聚，其橫截面呈弦圓狀，經(jīng)115℃、30分鐘烘烤去除光阻內(nèi)之溶劑后，即形成SU-8光阻材質(zhì)的雙凸透鏡，最后置于UV光源下曝光，使光阻分子間互相交聯(lián)，以提高材料耐溫性及穩(wěn)定性。
實(shí)施例二請(qǐng)參閱圖3，本實(shí)施例通過(guò)將SU-8光阻材質(zhì)柱狀結(jié)構(gòu)浸入盛于凹槽中的粘稠液態(tài)SU-8膜中，來(lái)制作站立式微透鏡，此微透鏡亦為雙凸透鏡，此實(shí)施例中的凹槽側(cè)壁可提供柱狀結(jié)構(gòu)基板的支撐，進(jìn)而使柱狀結(jié)構(gòu)維持固定之浸入深度并保持基板的水平。
由于考量到實(shí)施例一應(yīng)用于多透鏡制程時(shí)，透鏡制作的均勻性及可控制性需倚賴(lài)柱狀結(jié)構(gòu)向下浸入時(shí)的水平及深度控制；因此，如圖3A所示，粘稠液態(tài)之SU-8光阻液32先盛于具有凹槽的基板31上，給與適度旋轉(zhuǎn)并待SU-8光阻液32均勻布滿(mǎn)凹槽后，再如圖3B所示，將制作好的SU-8柱狀結(jié)構(gòu)21a倒置并垂直浸入凹槽中的SU-8光阻液32中，柱狀結(jié)構(gòu)硅基板20因支撐于凹槽側(cè)壁33上，得以保持其水平。通過(guò)實(shí)際測(cè)得的凹槽深度H、柱狀結(jié)構(gòu)高度h、以及光阻液面高度t等，即可依下式估計(jì)出透鏡大小(鏡高)dd＝h-(H-t)約靜置1分鐘后，將柱狀結(jié)構(gòu)21a與SU-8光阻液32分離，SU-8光阻32a即附著于該柱狀結(jié)構(gòu)21a頂部，該附著于柱狀結(jié)構(gòu)21a頂端上的SU-8光32a，因表面張力內(nèi)聚，其橫截面呈弦圓狀，經(jīng)115℃、30分鐘烘烤去除光阻內(nèi)的溶劑后，即形成SU-8材質(zhì)雙凸透鏡，如圖3C所示；最后置于UV光源下曝光，使光阻分子間互相交聯(lián)，以提高材料耐溫性及穩(wěn)定性。
前述兩實(shí)施例中形成的站立式微透鏡，其鏡高皆可通過(guò)柱狀結(jié)構(gòu)浸入SU-8光阻液的深度加以控制，而其曲率半徑可通過(guò)調(diào)整光阻液的粘滯系數(shù)、溶劑混合量與烘烤條件達(dá)到微光學(xué)/微光電系統(tǒng)的需求值；另外，經(jīng)UV光源曝光后的SU-8系列厚膜負(fù)光阻(Micro Resist Technology公司出品)為熱固性材料，其熱裂解溫度于5％的重量損耗下約為350℃，在此溫度以下，曝光后的SU-8不易因溫度效應(yīng)而變形、損耗，因此適合做為上述實(shí)施例中站立式微透鏡的材料。
圖4所示即為上述實(shí)施例中所形成的站立式微透鏡的立體示意圖，其包含柱狀結(jié)構(gòu)41及附著于其上雙凸透鏡42，此站立式微透鏡對(duì)圖1所示之橫向組件于Z軸方向具有收斂或聚焦的效果。
實(shí)施例三請(qǐng)參閱圖5，本實(shí)施例中制作光電組件平臺(tái)搭載前置雙凸透鏡，平臺(tái)等高于透鏡中心以提供被動(dòng)對(duì)準(zhǔn)的機(jī)制，此實(shí)施例可視為本發(fā)明應(yīng)用于微光學(xué)/微光電系統(tǒng)的雛形。
如圖5A所示，以蝕刻屏蔽52于硅基板51上定義組件平臺(tái)，并利用電感耦合電漿反應(yīng)性離子蝕刻制程(Inductively Coupled Plasma-Reactive IonEtching，ICP-RIE)蝕刻硅基板51，形成如圖5B的平臺(tái)51a，此組件平臺(tái)可供放置如圖1所示的光電組件；蝕刻氣體采用SF6/C4F8的組成，蝕刻速率可達(dá)約1.3μm/min，平臺(tái)蝕刻深度約為100微米。
本實(shí)施例中采用Micro Resist Technology公司出品的SU-8光阻53，以2000rpm旋轉(zhuǎn)涂布方式施加于試片表面，并于115℃下進(jìn)行30分鐘烘烤后，此時(shí)光阻分布如圖5C所示，其厚度至平臺(tái)底部可達(dá)150微米左右；接著以微影制程定義并形成柱狀結(jié)構(gòu)53a，其寬度約為50微米，如圖5D所示。
如圖5E所示，形成該SU-8柱狀結(jié)構(gòu)53a后，利用旋轉(zhuǎn)涂布法于另一硅基板54上均勻涂上一層粘稠液態(tài)的SU-8光阻膜55，此時(shí)將該組件平臺(tái)51a及柱狀結(jié)構(gòu)53a倒置，并由上往下垂直浸入該SU-8光阻膜55中；靜置約1分鐘后，將該組件平臺(tái)51a及該柱狀結(jié)構(gòu)53a與該SU-8光阻膜55分離后，SU-8光阻55a，55b即附著于該柱狀結(jié)構(gòu)53a及組件平臺(tái)51a頂部，如圖5F所示，附著于柱狀結(jié)構(gòu)頂端上的SU-8光阻55b，因表面張力內(nèi)聚，其橫截面呈弦圓狀，經(jīng)115℃、30分鐘烘烤去除光阻內(nèi)的溶劑后，即形成SU-8光阻材質(zhì)的雙凸透鏡。
附著于組件平臺(tái)51a上方的SU-8光阻55a影響光發(fā)射組件的放置，且可能造成光軸對(duì)準(zhǔn)的誤差，因此必須加以去除；本實(shí)施例利用微影制程，使附著于組件平臺(tái)51a上方未受曝光的光阻55a藉由顯影液將其去除，而柱狀結(jié)構(gòu)53a上的光阻透鏡55b則因曝光后光阻內(nèi)分子間互相交聯(lián)而得以保留，如圖5G所示。將光發(fā)射組件置于本實(shí)施例的平臺(tái)51a上，即可達(dá)到模態(tài)修正或光束圓化的目的；而將光接收組件置于本實(shí)施例的組件平臺(tái)51a上，則可達(dá)到收斂或聚焦入射光束的目的；兩者皆可獲得耦合效率上的提升。
權(quán)利要求
1.一種站立式微透鏡，其特征在于它為附著于高分子柱狀結(jié)構(gòu)頂端上的橫截面呈弦圓狀的高分子材質(zhì)雙凸微透鏡。
2.一種站立式微透鏡的制作方法，包括下列的步驟步驟一提供微光學(xué)或微光電系統(tǒng)的基材，至少包含基板與基板上的高分子膜層；步驟二采用微影制程，于該高分子膜層上定義柱狀結(jié)構(gòu)區(qū)域，于顯影后形成高分子柱狀結(jié)構(gòu)；步驟三提供載臺(tái)供制備均勻的液態(tài)高分子膜；步驟四將該高分子柱狀結(jié)構(gòu)倒置，垂直浸入步驟三所制備的均勻液態(tài)高分子膜中，靜置一段時(shí)間后分離，使液態(tài)高分子膜懸附于該柱狀結(jié)構(gòu)上，并因表面張力內(nèi)聚呈透鏡狀；步驟五通過(guò)熱處理去除懸附于柱狀結(jié)構(gòu)上液態(tài)高分子透鏡內(nèi)的溶劑，形成具熱穩(wěn)定性的雙凸微透鏡。
3.一種站立式微透鏡的制作方法，包括下列的步驟步驟一提供微光學(xué)或微光電系統(tǒng)的基材；步驟二于基材上施加蝕刻屏蔽，定義組件平臺(tái)區(qū)域后，即進(jìn)行蝕刻制程以形成組件平臺(tái)；步驟三于該具有組件平臺(tái)之基材上，以旋轉(zhuǎn)涂布方式覆上感旋光性高分子材料；步驟四通過(guò)微影制程在該感旋光性高分子材料層上定義柱狀結(jié)構(gòu)區(qū)域，顯影后形成高分子柱狀結(jié)構(gòu)；步驟五提供載臺(tái)供制備均勻的液態(tài)感旋光性高分子膜用；步驟六將步驟四所述的高分子柱狀結(jié)構(gòu)倒置，垂直浸入該均勻的液態(tài)感旋光性高分子膜，靜置一段時(shí)間后分離，使高分子膜懸附于該柱狀結(jié)構(gòu)與該組件平臺(tái)兩側(cè)及上方，其中懸附于該柱狀結(jié)構(gòu)上的液態(tài)高分子膜，因表面張力內(nèi)聚呈透鏡狀；步驟七通過(guò)熱處理去除該懸附于柱狀結(jié)構(gòu)與該組件平臺(tái)兩側(cè)及上方的液態(tài)高分子膜的溶劑；步驟八通過(guò)微影制程移除該組件平臺(tái)上懸附的感旋光性高分子材料，留下該柱狀結(jié)構(gòu)上懸附的透鏡狀感旋光性高分子材料，此時(shí)基材上即具有組件平臺(tái)及具熱穩(wěn)定性之站立式高分子雙凸微透鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的站立式微透鏡的制作方法，其特征在于所述的基板可為硅、氧化鋁、玻璃、砷化鎵，或磷化銦等所制成的基板。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的站立式微透鏡的制作方法，其特征在于所述的載臺(tái)為一平坦表面，可供盛放液態(tài)高分子膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的站立式微透鏡的制作方法，其特征在于所述的載臺(tái)具有凹槽，可供盛放液態(tài)高分子膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的站立式微透鏡的制作方法，其特征在于其中液態(tài)高分子膜的熱裂解溫度高于200℃。
8.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的站立式微透鏡的制作方法，其特征在于其中該雙凸微透鏡通過(guò)高分子材料的選用，可為單一材質(zhì)微透鏡或復(fù)合材質(zhì)微透鏡。
9.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的站立式微透鏡的制作方法，其特征在于其中該雙凸微透鏡的曲率半徑可通過(guò)調(diào)整液態(tài)高分子膜的粘稠度加以控制。
10.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的站立式微透鏡的制作方法，其特征在于其中該雙凸微透鏡的鏡高可通過(guò)浸入液態(tài)高分子膜的深度加以控制。
全文摘要
一種可整合于微光學(xué)或微光電系統(tǒng)的站立式微透鏡及其制作方法，是利用微影制程形成的高分子材質(zhì)柱狀結(jié)構(gòu)，將柱狀結(jié)構(gòu)頂端浸入均勻混合的液態(tài)高分子溶液中(如光阻、聚亞酰胺Polyimide等)，該液態(tài)高分子吸附于柱狀結(jié)構(gòu)物頂端，該附著于柱狀結(jié)構(gòu)頂端上的液態(tài)高分子，因表面張力內(nèi)聚，其橫截面呈弦圓狀，通過(guò)熱處理去除溶劑及固化后，即可作為微光學(xué)系統(tǒng)中的微透鏡組件；通過(guò)高分子材質(zhì)的選用，此站立式微透鏡可由單一材質(zhì)或由復(fù)合材質(zhì)所構(gòu)成。
文檔編號(hào)G02B3/06GK1713001SQ20051008568
公開(kāi)日2005年12月28日 申請(qǐng)日期2005年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月26日
發(fā)明者楊智超, 何充隆, 何文章, 廖枝旺, 吳孟奇 申請(qǐng)人:中華電信股份有限公司