成像設(shè)備和處理盒的制作方法

專利名稱：成像設(shè)備和處理盒的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及成像設(shè)備和處理盒。
背景技術(shù)：
由于電子照相技術(shù)能夠高速度高品質(zhì)地印刷，所以可以將電子照相技術(shù)應(yīng)用于電子照相設(shè)備例如復(fù)印機(jī)和激光打印機(jī)中。
近年來，含有光電導(dǎo)有機(jī)材料的有機(jī)感光體已經(jīng)成為電子照相設(shè)備中使用的感光體的主流。關(guān)于感光體的組成，已經(jīng)在使用功能分離的感光體，在該功能分離的感光體中，電荷發(fā)生材料和電荷輸送材料分散在不同的層(電荷發(fā)生層和電荷傳輸層)中。
近年來，隨著辦公室事務(wù)處理在質(zhì)量和速度上的改進(jìn)，需要實(shí)現(xiàn)高速化和彩色化的文件處理，并且要求具有用于文件處理的高速化、彩色化和高品質(zhì)的彩色成像設(shè)備(復(fù)印機(jī)、打印機(jī)、傳真機(jī)等)。為了滿足這些要求，有人提出了串聯(lián)型彩色成像設(shè)備并已商業(yè)化。串聯(lián)型彩色成像設(shè)備具有黑(K)、黃(Y)、品紅(M)和青(C)等各種顏色的獨(dú)立成像單元。串聯(lián)型彩色成像設(shè)備在各個(gè)成像單元中形成不同顏色的圖像，然后將圖像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印構(gòu)件或中間轉(zhuǎn)印構(gòu)件上使圖像重疊，從而形成彩色圖像。
關(guān)于彩色成像設(shè)備已經(jīng)提出了一些技術(shù)(例如日本專利申請(qǐng)公開(JP-A)第2003-241551號(hào)公報(bào))，這些技術(shù)可以根據(jù)圖像和圖像承載介質(zhì)的種類在不同成像模式之間切換，從而實(shí)現(xiàn)了高品質(zhì)和高效率。例如當(dāng)形成黑白圖像時(shí)，僅使用黑色調(diào)色劑，可以預(yù)料，其處理速度要高于彩色圖像的形成速度。在彩色成像設(shè)備和單色成像設(shè)備這兩種情況下，當(dāng)圖像承載介質(zhì)為厚紙或OHP紙(高架投影儀用紙)時(shí)，可以預(yù)料，它們均可以通過延長(zhǎng)成像所需的時(shí)間形成高品質(zhì)的圖像。
但是，在上述技術(shù)中，如果從充電到顯影過程需要的時(shí)間發(fā)生改變，則圖像的品質(zhì)將不足。當(dāng)成像模式切換到另一種成像模式時(shí)，從充電到顯影的過程所需要的時(shí)間會(huì)發(fā)生變化，但是還沒有開發(fā)出可以完全適應(yīng)在使用條件下的所述變化的感光體。因此，在這些技術(shù)中存在的問題是，當(dāng)從充電到顯影的過程需要較長(zhǎng)時(shí)間，在此處理?xiàng)l件下進(jìn)行成像時(shí)，容易產(chǎn)生嚴(yán)重的圖像模糊和黑點(diǎn)，且容易產(chǎn)生圖像記憶。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述問題而做出了本發(fā)明。
本發(fā)明的一個(gè)方面是提供一種成像設(shè)備，該成像設(shè)備包括電子照相感光體、充電單元、曝光單元、顯影單元和轉(zhuǎn)印單元。在電子照相感光體的圓周表面在預(yù)定方向上運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，成像設(shè)備進(jìn)行充電、曝光、顯影和轉(zhuǎn)印。成像設(shè)備還包括控制單元。該控制單元控制電子照相感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度，使得從充電到顯影的過程所需的時(shí)間可以變化。電子照相感光體包括底涂層和感光層。該底涂層包括金屬氧化物顆粒和受體化合物，所述受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。
當(dāng)使用本發(fā)明的成像設(shè)備時(shí)，即使是當(dāng)從充電到顯影的過程所需時(shí)間較長(zhǎng)時(shí)，電子照相感光體也具有足夠高的電子照相特性。因此，當(dāng)使用本發(fā)明的成像設(shè)備時(shí)，可以在各種條件下進(jìn)行成像。這種效果的產(chǎn)生是因?yàn)樵诘淄繉又泻惺荏w化合物，該受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。在本發(fā)明的成像設(shè)備中，即使改變從充電到顯影的過程所需的時(shí)間，也可充分抑制所得圖像的模糊和黑點(diǎn)以及圖像記憶的發(fā)生。
據(jù)發(fā)明人推測(cè)，得到上述效果的原因如下。
首先描述傳統(tǒng)成像設(shè)備存在上述問題的原因。傳統(tǒng)電子照相受體中所使用的底涂層通過如下方法得到將金屬氧化物顏料和粘合劑樹脂分散在溶劑中，并涂布所得到的分散液。如果底涂層的厚度大于5μm，為了形成導(dǎo)電通道，這種導(dǎo)電通道可保證底涂層具有足夠的電荷傳輸能力，則需要向底涂層中摻入大量的金屬氧化物顆粒。在這種情況下，部分金屬氧化物顆粒不能被粘合劑樹脂覆蓋而暴露。暴露的金屬氧化物顆粒形成電荷注入位。電荷注入位充當(dāng)將電荷注入到上層的點(diǎn)。當(dāng)從充電到顯影的過程需要較長(zhǎng)時(shí)間時(shí)，注入到上層的電荷可移動(dòng)到感光體的表面而抵消表面電荷，從而產(chǎn)生模糊或黑點(diǎn)。如果底涂層的電阻過低，則電荷強(qiáng)烈地注入到上層，從而產(chǎn)生嚴(yán)重的模糊。另一方面，當(dāng)?shù)淄繉拥碾娮柽^高時(shí)，可以防止諸如模糊等圖像缺陷；但是，電荷將積聚在底涂層或底涂層與上層之間的界面上，從而在連續(xù)或長(zhǎng)時(shí)間使用時(shí)由于電荷的積聚而使殘留電位變高。高殘留電位會(huì)引起圖像密度缺陷，從而損壞圖像質(zhì)量。
因此底涂層必須同時(shí)具有電阻控制功能和電荷注入控制功能。這個(gè)要求對(duì)設(shè)計(jì)產(chǎn)生了嚴(yán)重的制約。
本發(fā)明人經(jīng)過深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的電子照相感光體具有以下優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明的電子照相感光體具有包含金屬氧化物顆粒和受體化合物的底涂層，所述受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。當(dāng)在本發(fā)明的成像設(shè)備中使用本發(fā)明的感光體時(shí)，可以防止電荷在底涂層積聚以及電荷在底涂層與上層之間的界面附近積聚。因此，在本發(fā)明的成像設(shè)備中，可以防止諸如在重復(fù)使用時(shí)電位下降等電位缺陷，而且可以進(jìn)行充分而均勻的充電。
因?yàn)樯鲜鰞?yōu)點(diǎn)，本發(fā)明的成像設(shè)備比傳統(tǒng)的成像設(shè)備具有更好的電學(xué)特性和圖像品質(zhì)特性。即使改變從充電到顯影的過程所需的時(shí)間，也可以充分抑制所得圖像中模糊和黑點(diǎn)及圖像記憶的出現(xiàn)。即使長(zhǎng)時(shí)間地連續(xù)使用該成像設(shè)備，其電學(xué)特性的變化也很小，而且可以充分地抑制圖像濃度缺陷的發(fā)生。
于是，本發(fā)明的成像設(shè)備可以形成高品質(zhì)的圖像并具有長(zhǎng)的使用壽命，從而完成了本發(fā)明。
本發(fā)明的一個(gè)方面是提供一種成像設(shè)備，該成像設(shè)備包括電子照相感光體、充電單元、曝光單元、顯影單元和轉(zhuǎn)印單元，其中在使所述電子照相感光體的圓周表面在預(yù)定方向上運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，所述成像設(shè)備進(jìn)行充電、曝光、顯影和轉(zhuǎn)印；
所述成像設(shè)備還包括控制單元，所述控制單元控制所述電子照相感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度，從而使從充電到顯影的過程所需的時(shí)間可變；所述電子照相感光體包括底涂層和感光層；和所述的底涂層包括金屬氧化物顆粒和受體化合物，所述受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。
本發(fā)明的另一方面是提供一種彩色成像設(shè)備，所述彩色成像設(shè)備包括多個(gè)成像單元，其中各個(gè)所述成像單元均包括所述電子照相感光體、充電單元、曝光單元、顯影單元和轉(zhuǎn)印單元；在使所述電子照相感光體的圓周表面在預(yù)定方向上運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，各個(gè)成像單元進(jìn)行充電、曝光、顯影和轉(zhuǎn)??；各個(gè)所述成像單元還包括控制單元，該控制單元控制所述電子照相感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度，從而使得從充電到顯影的過程所需的時(shí)間可變；所述電子照相感光體包括底涂層和感光層；和所述底涂層包括金屬氧化物顆粒和受體化合物，所述受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。
本發(fā)明的另一方面是提供一種處理盒，所述處理盒包括電子照相感光體和選自由充電單元、顯影單元、轉(zhuǎn)印單元和清潔單元組成的組中的至少一個(gè)單元，其中所述的處理盒可裝配在成像設(shè)備上，并可與所述成像設(shè)備分離；在使所述電子照相感光體的圓周表面在預(yù)定方向上運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，所述成像設(shè)備進(jìn)行充電、曝光、顯影和轉(zhuǎn)印；所述處理盒還包括控制單元，所述控制單元控制所述電子照相感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度，從而使得從充電到顯影的過程所需的時(shí)間可變；所述電子照相感光體包括底涂層和感光層；和所述底涂層包括金屬氧化物顆粒和受體化合物，所述受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。
在上述所有方面中，可以選擇下列構(gòu)成。
所述控制單元可以是這樣的控制單元該控制單元能夠控制電子照相感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度，并滿足由下式(1)和(2)所表示的條件，并且該控制單元可以在包括正常模式、低速模式和高速模式的多種控制模式間切轉(zhuǎn)。
式(1)T低≥(1/3)T式(2)T高≤3T(在上式中，T表示正常模式中進(jìn)行電子照相時(shí)充電和顯影之間的時(shí)間；T低表示低速模式中進(jìn)行電子照相時(shí)充電和顯影之間的時(shí)間；T高表示高速模式中進(jìn)行電子照相時(shí)充電和顯影之間的時(shí)間。)受體化合物可以是具有醌基的化合物。受體化合物可以是具有蒽醌結(jié)構(gòu)的化合物。受體化合物可以選自蒽醌、羥基蒽醌、氨基蒽醌和氨基羥基蒽醌。
在一個(gè)實(shí)施方案中，用偶聯(lián)劑對(duì)金屬氧化物顆粒進(jìn)行表面處理。偶聯(lián)劑可以是硅烷偶聯(lián)劑。該硅烷偶聯(lián)劑可以具有氨基。
金屬氧化物顆?？梢赃x自氧化鈦、氧化鋅、氧化錫和氧化鋯。
電子照相感光體可以具有包含有機(jī)或無機(jī)顆粒的最外層。最外層中的顆?？梢詾楹鷺渲w粒。
電子照相感光體的電荷發(fā)生層可以包含酞菁顏料或偶氮顏料。電荷發(fā)生層可以包含羥基鎵酞菁顏料、氯化鎵酞菁顏料、羥基鈦酞菁顏料或無金屬酞菁顏料。
充電單元可以是接觸充電單元，該接觸充電單元通過接觸電子照相感光體而對(duì)電子照相感光體充電。
轉(zhuǎn)印單元可以使用中間轉(zhuǎn)印法，在該方法中，在電子照相感光體的圓周表面上形成的調(diào)色劑圖像通過中間轉(zhuǎn)印構(gòu)件間接地轉(zhuǎn)印到圖像承載介質(zhì)上。


圖1是本發(fā)明的成像設(shè)備的一個(gè)實(shí)施方案的示意性構(gòu)成圖。
圖2是本發(fā)明的電子照相感光體的一個(gè)例子的示意性截面圖。
具體實(shí)施例方式
下面詳細(xì)地解釋本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案，有時(shí)會(huì)參照附圖。在附圖中，相同或相應(yīng)的構(gòu)件用相同的符號(hào)表示，并省略重復(fù)的描述。
圖1是本發(fā)明的成像設(shè)備的一個(gè)實(shí)施方案的示意性構(gòu)成圖。圖1所示的成像設(shè)備就是所謂的串聯(lián)型數(shù)字彩色打印機(jī)。在該成像設(shè)備中，平行地布置用于黃色(Y)、品紅色(M)、青色(C)和黑色(K)的各個(gè)成像單元。每個(gè)成像單元均包括電子照相感光體(下文有時(shí)稱為“感光體”)。固定感光體，以使該感光體能夠以預(yù)定方向旋轉(zhuǎn)。成像單元還包括沿感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)方向布置的顯影單元、充電輥、一次轉(zhuǎn)印輥、曝光單元和清潔刮刀。在成像單元中，充電之后，可以用作曝光單元的ROS(光柵輸出掃描儀)1-7所發(fā)射的激光對(duì)感光體進(jìn)行照射。例如，黑色(K)成像單元包括感光體1-1K、顯影單元1-2K、充電輥1-3K、一次轉(zhuǎn)印輥1-4K和清潔刮刀1-6K。充電后將感光體1-1K用曝光光線1-5K進(jìn)行照射。
各個(gè)感光體1-1Y、1-1M、1-1C和1-1K中均包括導(dǎo)電載體、底涂層和感光層。將底涂層和感光層安置在導(dǎo)電載體上。底涂層包含金屬氧化物顆粒和受體化合物，所述受體化合物具有能夠與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。隨后將對(duì)感光體的細(xì)節(jié)進(jìn)行描述。
每個(gè)感光體都與驅(qū)動(dòng)單元連接，但圖中沒有表示出細(xì)節(jié)。驅(qū)動(dòng)單元具有控制感光體旋轉(zhuǎn)速度(圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度)的控制功能。在每個(gè)成像單元中，由于該控制功能，驅(qū)動(dòng)單元可以改變從充電到顯影的過程所需的時(shí)間。由于該控制功能，成像單元可以在包括正常模式、低速模式和高速模式的多種控制模式間切換，并按照所選擇的控制模式進(jìn)行成像。
例如在黑色圖像的形成中用施加有電位的充電輥1-3K對(duì)感光體1-1K進(jìn)行充電；然后將感光體1-1K以成像方式暴露于由ROS(光柵輸出掃描儀)1-7所發(fā)射的激光1-5K，從而形成潛像；然后顯影單元1-2K用調(diào)色劑使該圖像顯影；然后用一次轉(zhuǎn)印輥1-4K的電場(chǎng)將調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到中間帶1-8上；然后用二次轉(zhuǎn)印輥1-9的電場(chǎng)將該調(diào)色劑圖像進(jìn)一步轉(zhuǎn)印到來自紙盒1-11的記錄介質(zhì)上；然后在定影單元1-10中對(duì)該調(diào)色劑圖像進(jìn)行熱定影，從而排出形成有圖像的記錄介質(zhì)。
在正常模式中，彩色圖像的形成通過下列過程進(jìn)行在黃色(Y)成像單元中，用施加有電位的充電輥1-3Y對(duì)感光體1-1Y充電；然后將感光體1-1Y以成像方式暴露于由ROS(光柵輸出掃描器)1-7所發(fā)射的激光1-5Y，以形成潛像；然后顯影單元1-2Y用調(diào)色劑使該圖像顯影；然后用一次轉(zhuǎn)印輥1-4Y的電場(chǎng)將調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到中間帶1-8上；然后在品紅色(M)、青色(C)和黑色(B)的各個(gè)成像單元中順序地進(jìn)行類似的過程，從而使彩色調(diào)色劑圖像經(jīng)過多重轉(zhuǎn)印形成在中間轉(zhuǎn)印帶上；然后用二次轉(zhuǎn)印輥1-9的電場(chǎng)將該調(diào)色劑圖像進(jìn)一步轉(zhuǎn)印到由紙盒1-11提供的記錄介質(zhì)上；然后在定影單元1-10中對(duì)該調(diào)色劑圖像進(jìn)行熱定影，從而排出形成有圖像的記錄介質(zhì)。附圖標(biāo)記1～12表示走紙通道。
對(duì)正常模式的感光體的旋轉(zhuǎn)速度不作特別限定。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，如此設(shè)定旋轉(zhuǎn)速度，使得在每個(gè)成像單元中從充電到顯影的過程所需時(shí)間為50毫秒～300毫秒。
當(dāng)由紙盒供給的記錄介質(zhì)是厚紙或OHP紙時(shí)，優(yōu)選將成像模式切換到低速模式。在低速模式中，在各個(gè)單元中，感光體1-1的旋轉(zhuǎn)速度較低，從而延長(zhǎng)了從充電到顯影的過程所需的時(shí)間，而且定影時(shí)間長(zhǎng)至足以將顯影劑充分地定影到厚紙或OHP紙上。低速模式的成像程序與上述的正常模式的程序相同。對(duì)低速模式中感光體的旋轉(zhuǎn)速度(圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度)不作特別限定，但優(yōu)選滿足下式(1)。
式(1)T低≥(1/3)T(在上式中，T表示正常模式中進(jìn)行電子照相時(shí)充電和顯影之間的時(shí)間；T低表示低速模式中進(jìn)行電子照相時(shí)充電和顯影之間的時(shí)間)當(dāng)印刷單色圖像(黑白圖像)時(shí)，在黑色(K)成像單元中進(jìn)行下列過程用施加有電位的充電輥1-3K對(duì)感光體1-1K充電；然后將感光體1-1K以成像方式暴露于由ROS(光柵輸出掃描器)1-7所發(fā)射的激光1-5K，以形成潛像；然后顯影單元1-2K用調(diào)色劑對(duì)該圖像進(jìn)行顯影；然后用一次轉(zhuǎn)印輥1-4K的電場(chǎng)將調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到中間帶1-8上；然后用二次轉(zhuǎn)印輥1-9的電場(chǎng)將該調(diào)色劑圖像進(jìn)一步轉(zhuǎn)印到由紙盒1-11提供的記錄介質(zhì)上；然后在定影單元1-10中對(duì)該調(diào)色劑圖像進(jìn)行熱定影，從而排出形成有圖像的記錄介質(zhì)。在單色圖像的形成中，可以將成像模式切換到高速模式，從而增加感光體1-1K的旋轉(zhuǎn)速度，縮短從充電到顯影的過程所需的時(shí)間。在高速模式中，對(duì)感光體的旋轉(zhuǎn)速度(圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度)不作特別限定，但優(yōu)選滿足下式(2)。
式(2)T高≤3T(在上式中，T表示正常模式中進(jìn)行電子照相時(shí)充電和顯影之間的時(shí)間；T高表示高速模式中進(jìn)行電子照相時(shí)充電和顯影之間的時(shí)間。)當(dāng)串聯(lián)型彩色成像設(shè)備的各個(gè)感光體1-1Y、1-1M、1-1C和1-1K的底涂層均包含金屬氧化物顆粒和具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)的受體化合物時(shí)，可以充分提高感光體的電子照相特性，而且其使用條件可以在更廣的范圍內(nèi)選擇。因此，即使將成像模式在正常模式、高速模式和低速模式之間切換(從而使用不同長(zhǎng)度的充電至顯影的時(shí)間來進(jìn)行成像)，并且可以充分地抑制所得圖像中模糊和黑點(diǎn)的產(chǎn)生以及圖像記憶的產(chǎn)生。
下面將對(duì)本發(fā)明的成像設(shè)備的各個(gè)要素進(jìn)行解釋。
首先描述感光體的結(jié)構(gòu)。圖2是本發(fā)明的成像設(shè)備的電子照相感光體的一個(gè)例子的示意性截面圖。電子照相感光體1-1具有將底涂層2、中間層4、感光層3和外覆層5依次層壓在導(dǎo)電載體7上的結(jié)構(gòu)。圖2所示的電子照相感光體1-1為功能分離的感光體；因此感光層3由電荷發(fā)生層31和電荷傳輸層32組成。
導(dǎo)電載體7可以選自由金屬例如鋁、銅、鐵、不銹鋼、鋅和鎳制成的金屬鼓；將諸如鋁、銅、金、銀、鉑、鈀、鈦、鎳-鉻、不銹鋼和銦等金屬氣相沉積到諸如薄片、紙、塑料和玻璃等基材上所得到的載體；將諸如氧化銦和氧化錫等導(dǎo)電金屬化合物氣相沉積到諸如薄片、紙、塑料和玻璃等基材上所得到的載體；將金屬箔層壓在上述基材上所得到的載體；將各種涂布液涂布在上述基材上所得到的導(dǎo)電載體，所述的各種涂布液是將炭黑、氧化銦、氧化錫、氧化銻粉末、金屬粉末或碘化銅等分散在粘合劑樹脂中制成的。
導(dǎo)電載體7的形狀并不局限于鼓型，例如可以是片狀或平板狀。當(dāng)導(dǎo)電載體7為金屬管時(shí)，金屬管的表面可以不經(jīng)處理，或者進(jìn)行鏡面磨光、蝕刻、陽極氧化、粗磨、無心磨削、噴砂或濕珩磨等處理。
底涂層2包括金屬氧化物顆粒和具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)的受體化合物。
本發(fā)明使用的金屬氧化物顆粒必須具有102Ω·cm～1011Ω·cm的粉末電阻。這是因?yàn)榈淄繉訛榱司哂锌孤╇娦远仨毦哂泻线m的電阻。金屬氧化物顆粒優(yōu)選為具有上述范圍電阻的金屬氧化物顆粒，所述顆粒選自氧化鈦顆粒、氧化鋅顆粒、氧化錫顆粒和氧化鋯顆粒。氧化鋅顆粒是特別優(yōu)選的。當(dāng)金屬氧化物顆粒的電阻低于上述范圍時(shí)，則抗漏電性不足。當(dāng)金屬氧化物顆粒的電阻高于上述范圍時(shí)，殘留電位趨于增加。在一個(gè)實(shí)施方案中，可以使用兩種或多種金屬氧化物顆粒，其中的每種顆粒在顆粒直徑和/或金屬氧化物顆粒所經(jīng)歷的表面處理方面都不同。金屬氧化物顆粒優(yōu)選具有大于等于10m2/g的比表面。當(dāng)比表面低于10m2/g時(shí)，充電性能將不足，從而不能得到優(yōu)越的電子照相特性。
在一個(gè)實(shí)施方案中，對(duì)金屬氧化物顆粒進(jìn)行表面處理。只要表面處理劑能提供所需性能，可以使用任何已知的表面處理劑。例如，表面處理劑可以選自硅烷偶聯(lián)劑、鈦酸酯偶聯(lián)劑、鋁偶聯(lián)劑和表面活性劑。特別地，由于硅烷偶聯(lián)劑能提供滿意的電子照相特性，所以優(yōu)選硅烷偶聯(lián)劑。硅烷偶聯(lián)劑優(yōu)選具有氨基，因?yàn)檫@樣的硅烷偶聯(lián)劑能給底涂層提供優(yōu)越的粘連性能。
對(duì)具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑不作特別限定，只要所得到的電子照相感光體具有所需特性即可。其具體例子包括(但不局限于)γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷和N，N-二(β-羥乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷。
在一個(gè)實(shí)施方案中，可以使用兩種或多種硅烷偶聯(lián)劑的混合物?？梢耘c具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑混合使用的硅烷偶聯(lián)劑的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巰基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羥乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷；但是這些例子不是限制性的。
可以使用任何已知的表面處理方法。表面處理方法可以為干法或濕法。
當(dāng)表面處理方法為干法時(shí)，所述干法可包括在以高剪切力的攪拌器等攪拌金屬氧化物顆粒的同時(shí)，將硅烷偶聯(lián)劑原樣或以有機(jī)溶劑中的溶液形式逐滴加入到金屬氧化物顆粒中；用干燥的空氣或氮?dú)鈱?duì)涂布有硅烷偶聯(lián)劑的金屬氧化物進(jìn)行噴霧。這種干法能夠產(chǎn)生均勻的表面處理。加入或噴霧優(yōu)選在低于溶劑沸點(diǎn)的溫度下進(jìn)行。當(dāng)噴霧在不低于溶劑沸點(diǎn)的溫度下進(jìn)行時(shí)，溶劑將會(huì)在硅烷偶聯(lián)劑和金屬氧化物攪拌均勻混合之前蒸發(fā)，硅烷偶聯(lián)劑將局部地聚集，因此表面處理不一定均勻。在一個(gè)實(shí)施方案中，加入或噴霧之后在大于等于100℃高的溫度下焙燒金屬氧化物顆粒。只要得到的感光體具有理想的電子照相特性，則對(duì)焙燒的條件(例如溫度和焙燒時(shí)間)不作特別限定。
當(dāng)表面處理方法為濕法時(shí)，所述濕法可包括用攪拌、超聲波、砂磨、磨碎機(jī)或球磨機(jī)將金屬氧化物顆粒分散在溶劑中；將硅烷偶聯(lián)劑的溶液加入至金屬氧化物顆粒分散液中，攪拌分散混合物中的硅烷偶聯(lián)劑和金屬氧化物；除去溶劑。這種濕法能夠產(chǎn)生均勻的表面處理?？梢酝ㄟ^過濾或蒸餾除去溶劑。在一個(gè)實(shí)施方案中，除去溶劑后，在大于等于100℃高的溫度下焙燒金屬氧化物顆粒。只要得到的感光體具有理想的電子照相特性，可以對(duì)焙燒的條件(例如溫度和焙燒時(shí)間)不作特別限定。在濕法中，還可以在加入表面處理劑之前除去金屬氧化物顆粒中含有的水分。例如可以用下述方法除去水分在攪拌溶劑的同時(shí)對(duì)用于表面處理的溶劑中的金屬氧化物顆粒進(jìn)行加熱；或使用與溶劑共沸的方法。
只要能得到理想的電子照相特性，可以任意地選擇底涂層中硅烷偶聯(lián)劑相對(duì)于金屬氧化物顆粒的用量。
只要能得到理想的特性，所述受體化合物可以為任意具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)的化合物。受體化合物優(yōu)選為具有羥基的化合物。受體化合物更優(yōu)選為具有羥基和蒽醌結(jié)構(gòu)的化合物。具有羥基和蒽醌結(jié)構(gòu)的化合物可以為羥基蒽醌化合物或氨基羥基蒽醌化合物。更具體地，該化合物優(yōu)選為茜素、醌茜、蒽絳酚或紅紫素。
只要能得到理想的特性，則對(duì)本發(fā)明使用的受體化合物的量不作特別限定。以金屬氧化物顆粒的重量為基準(zhǔn)，所述受體化合物的量?jī)?yōu)選為0-01重量％～20重量％，更優(yōu)選0.05重量％～10重量％。以金屬氧化物顆粒的重量為基準(zhǔn)，當(dāng)受體化合物的量小于0.01重量％時(shí)，所得到的受體對(duì)于底涂層中電荷積聚的改善性能不足，因此耐用性可能會(huì)劣化；例如在重復(fù)使用時(shí)殘留電位可能會(huì)增加。以金屬氧化物顆粒的重量為基準(zhǔn)，當(dāng)受體化合物的量大于20重量％時(shí)，金屬氧化物顆粒容易聚集，在形成底涂層時(shí)，金屬氧化物顆粒在底涂層內(nèi)不能形成優(yōu)良的導(dǎo)電通路，因此可能發(fā)生例如黑點(diǎn)等圖像品質(zhì)缺陷，耐用性可能會(huì)劣化；例如在在重復(fù)使用時(shí)殘留電位可能會(huì)增加。
只要樹脂能形成優(yōu)良的膜并提供理想的特性，底涂層2中所包含的粘合劑樹脂可以是任何已知的樹脂。粘合劑樹脂可以為已知的聚合物樹脂，可以為具有電荷傳輸基團(tuán)的電荷傳輸樹脂或例如聚苯胺等導(dǎo)電樹脂。聚合物樹脂的例子包括例如聚乙烯醇縮丁醛等縮醛樹脂、聚乙烯醇樹脂、酪蛋白、聚酰胺樹脂、纖維素樹脂、明膠、聚氨基甲酸酯樹脂、聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐樹脂、硅酮樹脂、硅酮-醇酸樹脂、酚醛樹脂、苯酚-甲醛樹脂、三聚氰胺樹脂和聚氨酯樹脂。所述樹脂優(yōu)選為不溶于上層涂布溶劑的樹脂。所述樹脂更優(yōu)選為酚醛樹脂、苯酚-甲醛樹脂、三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂或環(huán)氧樹脂。
在形成底涂層2的涂布液中，只要得到的電子照相感光體具有理想的特性，則對(duì)金屬氧化物細(xì)顆粒與粘合劑樹脂的比例不作特別限定。
為了改善電學(xué)特性、環(huán)境穩(wěn)定性和圖像品質(zhì)，用于形成底涂層2的涂布液中還可以包括各種添加劑。
添加劑的例子包括電子傳輸物質(zhì)，例如醌化合物(例如氯醌和溴醌)、四氰基對(duì)苯醌二甲烷化合物、芴酮化合物(例如2，4，7-三硝基芴酮和2，4，5，7-四硝基-9-芴酮)、噁二唑化合物(例如2-(4-聯(lián)苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1，3，4-噁二唑和2，5-二(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑)、呫噸酮化合物、噻吩化合物和二苯酚合苯醌化合物(例如3，3′，5，5′-四叔丁基二苯酚合苯醌)；電子傳輸顏料，例如多環(huán)稠合電子傳輸顏料和偶氮電子傳輸顏料；和其它已知的物質(zhì)，例如鋯螯合物、鈦螯合物、鋁螯合物、醇鈦化合物、有機(jī)鈦化合物和硅烷偶聯(lián)劑。
硅烷偶聯(lián)劑用于氧化鋅的表面處理。另外，硅烷偶聯(lián)劑也可以作為添加劑包含在涂布液中。作為添加劑的硅烷偶聯(lián)劑的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-環(huán)氧-環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巰基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羥乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。鋯螯合物的例子包括丁醇鋯、乙基乙酰乙酸鋯、三乙醇胺合鋯、乙酰丙酮·丁醇合鋯、乙基乙酰乙酸·丁醇合鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、膦酸鋯、辛酸鋯、環(huán)烷酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸·丁醇合鋯、硬脂酸·丁醇合鋯和異硬脂酸·丁醇合鋯。
鈦螯合物的例子包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯的二聚體、鈦酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮合鈦、多乙酰丙酮鈦、亞辛基乙醇酸鈦、乳酸銨鈦鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙基酯、三乙醇胺合鈦和多羥基鈦二硬脂酸酯。
鋁螯合物的例子包括異丙醇鋁、二異丙醇單丁氧基鋁、丁酸鋁、二乙基乙酰乙酸·二異丙醇合鋁和三(乙基乙酰乙酸)合鋁。
可以僅使用單一種類的添加劑，或使用兩種或多種添加劑的混合物，或使用兩種或多種添加劑的縮聚物。
制備用于底涂層的涂布液的溶劑可以任意地選擇已知的有機(jī)溶劑，例如醇溶劑、芳香溶劑、鹵代烴溶劑、酮溶劑、酮醇溶劑、醚溶劑和酯溶劑。溶劑的具體例子包括甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。
可以僅使用單一種類的溶劑或使用兩種或多種溶劑來分散底涂層的組分，以便形成涂布液。當(dāng)使用兩種或多種溶劑時(shí)，只要溶劑的混合物能溶解粘合劑樹脂，溶劑可以是任何溶劑。
分散金屬氧化物顆粒的方法可以是任何已知的方法，例如使用輥軋機(jī)、球磨機(jī)、振動(dòng)球磨機(jī)、磨光器、砂磨機(jī)、膠體磨或涂料混合器的方法。可以使用通常的方法涂布底涂層2，例如刮板涂布法、繞線棒涂布法、噴涂法、浸漬涂布法、涂邊涂布法、氣刀涂布法或幕涂法。
將所得到的用來形成底涂層2的涂布液涂布到導(dǎo)電載體7上，以便在導(dǎo)電載體7上形成底涂層2。
底涂層2優(yōu)選具有大于等于35的維氏(Vickers)強(qiáng)度。底涂層2優(yōu)選具有大于等于15μm的厚度，更優(yōu)選20μm～50μm。
當(dāng)?shù)淄繉?的厚度小于15μm時(shí)，不能得到足夠的抗漏電性。相反，當(dāng)?shù)淄繉?的厚度大于50μm時(shí)，長(zhǎng)時(shí)間使用時(shí)殘留電位有可能增加，從而可能產(chǎn)生圖像濃度缺陷。
為了防止波紋圖案，將底涂層2的表面粗糙度調(diào)整到1/4nλ至1/2nλ，其中n表示上層的折射率，λ表示用于曝光的激光波長(zhǎng)。為了調(diào)整表面粗糙度，可以將例如樹脂顆粒等顆粒摻入到底涂層2中。樹脂顆粒例如為硅酮樹脂顆粒或交聯(lián)的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)樹脂顆粒。
為了調(diào)整表面粗糙度，可以對(duì)底涂層2進(jìn)行拋光。拋光方法可以使用拋光輪拋光、噴砂拋光、濕珩磨或研磨處理。
為了改善電學(xué)特性、圖像品質(zhì)、圖像品質(zhì)的耐久性和感光層的附著力，可以在底涂層2和感光層3之間設(shè)置中間層4。
中間層4可以由選自聚合物樹脂和有機(jī)金屬化合物的物質(zhì)組成。聚合物樹脂的例子包括例如聚乙烯醇縮丁醛等縮醛樹脂、聚乙烯醇樹脂、酪蛋白、聚酰胺樹脂、纖維素樹脂、明膠、聚氨基甲酸酯樹脂、聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐樹脂、硅酮樹脂、硅酮-醇酸樹脂、苯酚-甲醛樹脂和三聚氰胺樹脂。有機(jī)金屬化合物的例子包括含有鋯、鈦、鋁、錳和硅原子的有機(jī)金屬化合物。
構(gòu)成中間層4的材料可以是單一化合物，或是兩種或多種化合物的混合物，或是兩種或多種化合物的縮聚物。優(yōu)選含有鋯或硅的有機(jī)金屬化合物，這是因?yàn)樗玫降母泄怏w具有較低的殘留電位，得到的感光體的電位幾乎不被環(huán)境影響，重復(fù)使用時(shí)得到的感光體的電位幾乎沒有變化。
硅化合物的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-環(huán)氧-環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巰基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羥乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。其中，作為硅烷偶聯(lián)劑的下列硅化合物是優(yōu)選的乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基硅烷)、3-甲丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷和3-氯丙基三甲氧基硅烷。
有機(jī)鋯化合物的例子包括丁醇鋯、乙基乙酰乙酸鋯、三乙醇胺合鋯、乙酰丙酮·丁醇合鋯、乙基乙酰乙酸·丁醇合鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、膦酸鋯、辛酸鋯、環(huán)烷酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸·丁醇合鋯、硬脂酸·丁醇合鋯和異硬脂酸·丁醇合鋯。
有機(jī)鈦化合物的例子包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯的二聚體、鈦酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮合鈦、多乙酰丙酮鈦、亞辛基乙醇酸鈦、乳酸銨鈦鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙基酯、三乙醇胺合鈦和多羥基鈦二硬脂酸酯。
有機(jī)鋁化合物的例子包括異丙醇鋁、二異丙醇單丁氧基鋁、丁酸鋁、二乙基乙酰乙酸·二異丙醇合鋁和三(乙基乙酰乙酸)合鋁。
中間層4可以改善上層的可涂布性。另外，中間層4也起電隔離層的作用。但是，當(dāng)中間層4的厚度過分大時(shí)，電位壘過分地高，這樣在重復(fù)使用時(shí)引起靈敏度降低和/或電位增加。因此，當(dāng)設(shè)置有中間層4時(shí)，中間層4的厚度優(yōu)選為0.1μm～5μm。
感光層3中的電荷發(fā)生層31經(jīng)電荷發(fā)生物質(zhì)的真空沉積形成，或者將電荷發(fā)生物質(zhì)和粘合劑樹脂分散在有機(jī)溶劑中形成涂布溶液，然后涂布該溶液而形成電荷發(fā)生層31。
當(dāng)通過分散和涂布來形成電荷發(fā)生層31時(shí)，電荷發(fā)生層31可以由如下方法形成將電荷發(fā)生物質(zhì)、粘合劑樹脂和添加劑分散在有機(jī)溶劑中，涂布這樣得到的分散液。
在本發(fā)明中，電荷發(fā)生物質(zhì)可以是任何已知電荷發(fā)生物質(zhì)。當(dāng)用于曝光的光為紅外光時(shí)，電荷發(fā)生物質(zhì)可以為酞菁顏料、squalirium、雙偶氮、三偶氮、苝或二硫酮基吡咯并吡咯。當(dāng)用于曝光的光為可見光時(shí)，電荷發(fā)生物質(zhì)可以是多環(huán)稠合顏料、雙偶氮、苝、三角硒(trigonalselenium)或著色劑敏化的氧化鋅顆粒。電荷發(fā)生物質(zhì)優(yōu)選為酞菁顏料或偶氮顏料，因?yàn)檫@樣的顏料能夠提供特別優(yōu)越的性能。使用酞菁顏料能夠使電子照相感光體1-1在重復(fù)使用時(shí)具有特別高的感光性和優(yōu)越的穩(wěn)定性。
酞菁顏料或偶氮顏料常常具有多種晶體形式，只要能獲得可達(dá)到目的合適的感光性，本發(fā)明可以使用任何一種晶體形式。優(yōu)選的酞菁顏料的例子包括氯化鎵酞菁、二氯化錫酞菁、氫氧化鎵酞菁、無金屬酞菁、羥基鈦酞菁和氯化銦酞菁。
可以將由已知方法制備的酞菁顏料通過干法機(jī)械粉碎來制備酞菁顏料晶體，這類已知方法可以使用自動(dòng)研缽、行星磨、振動(dòng)磨、CF(離心)磨、輥磨、砂磨、捏合機(jī)等。干法機(jī)械粉碎后，可以使用球磨、研缽、砂磨、捏合機(jī)等用溶劑濕法粉碎酞菁顏料。
在前述濕法粉碎中使用的溶劑可以為芳香溶劑(例如甲苯或氯苯)、酰胺(例如二甲基甲酰胺或N-甲基吡咯烷酮)、脂肪醇(例如甲醇、乙醇或丁醇)、脂肪族多元醇(例如乙二醇、丙三醇或聚乙二醇)、芳香醇(例如苯甲醇或苯乙醇)、酯(乙酸酯例如乙酸丁酯)、酮(例如丙酮或甲乙酮)、二甲基亞砜、醚(例如乙醚或四氫呋喃)、選自上述溶劑中的兩種或多種的混合物，或水與選自上述有機(jī)溶劑的有機(jī)溶劑的混合物。
相對(duì)于1重量份的顏料晶體，溶劑的使用量在1重量％～200重量％的范圍內(nèi)，優(yōu)選10重量％～100重量％。濕法粉碎的處理溫度在-20℃到溶劑沸點(diǎn)的范圍內(nèi)，優(yōu)選-10℃～60℃。在粉碎時(shí)，可以另外使用粉碎助劑例如普通的鹽或芒硝。所使用的粉碎助劑的用量可以為顏料重量的0.5～20倍，優(yōu)選為顏料重量的1～10倍。
可以使用酸糊化法或與上述的干法或濕法粉碎相結(jié)合的酸糊化法，由已知的酞菁顏料制備酞菁顏料晶體。酸糊化法中使用的酸優(yōu)選為濃度為70％～100％的硫酸，優(yōu)選95％～100％。將溶解溫度調(diào)整到-20℃至100℃范圍的溫度，優(yōu)選-10℃至60℃。濃硫酸重量為酞菁顏料晶體重量的1～100倍，優(yōu)選為酞菁顏料晶體重量的3～50倍。結(jié)晶使用的溶劑可以為任意量的水或任意量的水與有機(jī)溶劑的混合物。對(duì)結(jié)晶溫度不作特別限定，但是為了避免產(chǎn)生熱量，優(yōu)選用冰等冷卻。
氫氧化鎵酞菁特別優(yōu)選如下酞菁相對(duì)于CuKα特性X射線，它在布拉格角(Bragg angle)(2θ±0.2°)為7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°處具有衍射峰。在本發(fā)明的氫氧化鎵酞菁的制備中，用已知方法制備作為原料的I型氫氧化鎵酞菁。下面描述該方法的一個(gè)例子。
使用如下方法制備粗鎵酞菁I型氯化鎵酞菁法或酞菁二聚體法。I型氯化鎵酞菁方法包括在給定溶劑中使三氯化鎵和鄰苯二甲腈或1，3-二亞氨基異二氫吲哚反應(yīng)。酞菁二聚體方法包括在給定溶劑中加熱鄰苯二甲腈、烷氧基鎵和乙二醇，使它們相互反應(yīng)形成酞菁二聚體。在上述反應(yīng)中使用的溶劑可以選自高沸點(diǎn)的惰性溶劑，這些溶劑的例子包括α-氯萘、β-氯萘、α-甲基萘、甲氧基萘、二甲基氨基乙醇、二苯基乙烷、乙二醇、二烷基醚、喹啉、環(huán)丁砜、二氯苯、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜和二甲基磺酰胺。
在上述例舉的方法中，將用上述方法制備的粗鎵酞菁進(jìn)行酸糊化處理，使粗鎵酞菁微?；D(zhuǎn)換成I型氫氧化鎵酞菁顏料。所述酸糊化處理包括將粗鎵酞菁溶解在例如硫酸等酸中，或制備粗鎵酞菁與例如硫酸等酸的鹽；將該溶液或鹽倒入水或用冰冷卻的水中，以便重結(jié)晶出鎵酞菁。用于酸糊化處理的酸優(yōu)選濃度為70％～100％的硫酸，更優(yōu)選95％～100％。
在上述例舉的方法中，通過將所得到的I型氫氧化鎵酞菁顏料進(jìn)行晶體轉(zhuǎn)換而得到氫氧化鎵酞菁。通過在溶劑中濕法粉碎I型氫氧化鎵酞菁顏料來進(jìn)行晶體轉(zhuǎn)換。在本發(fā)明的氫氧化鎵酞菁的制備中，優(yōu)選使用如下粉碎機(jī)器，該粉碎機(jī)器采用直徑為0.1mm～3.0mm的球形介質(zhì)，更優(yōu)選0.2mm～2.5mm的球形介質(zhì)。當(dāng)介質(zhì)直徑大于3.0mm時(shí)，粉碎效率降低，所得到的顆粒直徑不足夠小，這樣容易形成聚集體。當(dāng)介質(zhì)直徑小于0.1mm時(shí)，難以將介質(zhì)和氫氧化鎵酞菁分開。當(dāng)介質(zhì)形狀不是球形(例如圓柱形或無定形)時(shí)，粉碎效率降低，且粉碎時(shí)容易磨損介質(zhì)，于是，作為雜質(zhì)的磨損碎屑損害了氫氧化鎵酞菁的性能。
對(duì)用作介質(zhì)的材料不作特別限定。優(yōu)選的材料是，當(dāng)顏料被該材料污染時(shí)也不產(chǎn)生圖像質(zhì)量缺陷的材料。所述材料優(yōu)選選自玻璃、氧化鋯、氧化鋁和瑪瑙。
對(duì)容器的材料也不作特別限定。優(yōu)選的材料是，當(dāng)顏料被該材料污染時(shí)也不產(chǎn)生圖像質(zhì)量缺陷的材料。容器的材料優(yōu)選選自玻璃、氧化鋯、氧化鋁、瑪瑙、聚丙烯、特氟隆或聚苯硫醚。還優(yōu)選使用其內(nèi)表面用玻璃、聚丙烯、特氟隆、聚苯硫醚等涂敷的金屬容器，該金屬容器可以由鐵或不銹鋼等制成。
介質(zhì)的使用量依賴于所使用的粉碎機(jī)器。對(duì)于每1重量份的I型氫氧化鎵酞菁，介質(zhì)的量?jī)?yōu)選至少50重量份，更優(yōu)選55重量份～100重量份。如果介質(zhì)的量恒定，隨著介質(zhì)直徑的減小，則含有顏料和介質(zhì)的液體的粘度增加，從而改變了粉碎效率。于是，當(dāng)介質(zhì)直徑減小時(shí)，在濕法粉碎中優(yōu)選通過調(diào)整介質(zhì)的量和溶劑的量來選擇介質(zhì)和溶劑的最佳混合比。
在0℃～100℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行濕法粉碎，優(yōu)選5℃～80℃，更優(yōu)選10℃～50℃。當(dāng)溫度較低時(shí)，則晶體轉(zhuǎn)換速率較低。當(dāng)溫度太高時(shí)，氫氧化鎵酞菁的溶解性增加，從而導(dǎo)致形成過量的晶體，這樣很難將晶體微?；?。
在濕法粉碎處理中使用的溶劑優(yōu)選選自酰胺，例如N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺和N-甲基吡咯烷酮；酯，例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯和乙酸異戊酯；酮，例如丙酮、甲乙酮和甲基異丁基酮；和二甲基亞砜。對(duì)于每1重量份氫氧化鎵酞菁顏料，溶劑的使用量?jī)?yōu)選為1重量份～200重量份，更優(yōu)選1重量份～100重量份。
用于濕法粉碎處理的機(jī)器可以是使用分散介質(zhì)作為介質(zhì)的機(jī)器。其例子包括振動(dòng)磨、自動(dòng)研缽、砂磨、珠磨機(jī)、共球磨機(jī)(coball mill)、磨碎機(jī)、行星球磨和球磨機(jī)。
濕法粉碎處理的規(guī)模、攪拌速度、介質(zhì)材料等顯著影響晶體轉(zhuǎn)換的處理速度。通過測(cè)定濕法粉碎的液體的吸收波長(zhǎng)來監(jiān)測(cè)晶體轉(zhuǎn)換。使晶體轉(zhuǎn)換持續(xù)進(jìn)行，直到得到本發(fā)明的氫氧化鎵酞菁。通過液體的吸收光譜來證實(shí)晶體轉(zhuǎn)換得到了本發(fā)明的氫氧化鎵酞菁，使晶體轉(zhuǎn)換持續(xù)進(jìn)行，直到600nm～900nm波長(zhǎng)范圍的吸收峰的波長(zhǎng)落在810nm～839nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)。濕法粉碎一般進(jìn)行5小時(shí)至500小時(shí)，優(yōu)選7小時(shí)至300小時(shí)。當(dāng)濕法粉碎處理時(shí)間短于5小時(shí)時(shí)，晶體轉(zhuǎn)換可能無法完成，這樣常常會(huì)損害電子照相特性，并且不能產(chǎn)生足夠的感光性。當(dāng)濕法粉碎處理時(shí)間長(zhǎng)于500小時(shí)時(shí)，粉碎應(yīng)力有時(shí)會(huì)導(dǎo)致感光性的降低，并且可能會(huì)出現(xiàn)生產(chǎn)率的降低和介質(zhì)的磨損碎屑的混入。當(dāng)濕法粉碎處理時(shí)間在上述范圍內(nèi)時(shí)，濕法粉碎處理能夠生產(chǎn)均勻微?；臍溲趸壧碱w粒。
電荷發(fā)生層31中的粘合劑樹脂可選擇各種絕緣樹脂。粘合劑樹脂可以為有機(jī)光電導(dǎo)聚合物，例如聚(N-乙烯基)咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘和聚硅烷。優(yōu)選的絕緣粘合劑樹脂的例子包括聚乙烯醇縮醛樹脂、多芳基樹脂(例如雙酚A和苯二甲酸的縮聚物)、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、苯氧基樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺樹脂、丙烯酸樹脂、聚丙烯酰胺樹脂、聚乙烯吡啶樹脂、纖維素樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、酪蛋白、聚乙烯醇樹脂和聚乙烯基吡咯烷酮樹脂，但是這些例子并不是限定性的?？梢詥为?dú)使用一種粘合劑樹脂，也可以使用兩種或多種粘合劑樹脂。更優(yōu)選聚乙烯醇縮醛樹脂。
在用于形成電荷發(fā)生層的涂布液中，電荷發(fā)生物質(zhì)與粘合劑樹脂的混合比(重量比)優(yōu)選在10∶1至1∶10的范圍內(nèi)。用于制備涂布液的溶劑可以任意地從已知的有機(jī)溶劑中選擇。其例子包括醇溶劑、芳香溶劑、鹵代烴溶劑、酮溶劑、酮醇溶劑、醚溶劑和酯溶劑。溶劑的具體例子包括甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。
可以僅單獨(dú)使用一種溶劑或使用兩種或多種溶劑來分散電荷發(fā)生層的組分，以便制成涂布液。當(dāng)使用兩種或多種溶劑時(shí)，只要溶劑的混合物能溶解粘合劑樹脂，則溶劑可以是任何溶劑。
電荷發(fā)生層組分的分散方法可以采用輥軋機(jī)、球磨機(jī)、振動(dòng)球磨機(jī)、磨碎機(jī)、砂磨機(jī)、膠體磨或涂料混合器。電荷發(fā)生層可以用常規(guī)方法涂布，例如刮板涂布法、線線棒涂布法、噴涂法、浸漬涂布法、涂邊涂布法、氣刀涂布法或幕涂法。
在分散體中，優(yōu)選將顆粒大小調(diào)整到小于等于0.5μm，優(yōu)選小于等于0.3μm，更優(yōu)選小于等于0.15μm，因?yàn)檫@樣的顆粒大小能有效地得到高感光性和高穩(wěn)定性。
為了改善電學(xué)特性的穩(wěn)定性和防止圖像品質(zhì)缺陷，也可以對(duì)電荷發(fā)生物質(zhì)進(jìn)行表面處理。表面處理可以改善電荷發(fā)生物質(zhì)的可分散性和用來形成電荷發(fā)生層的涂布液的可涂布性，從而保證具有均勻分散狀態(tài)的光滑的電荷發(fā)生層31的順利形成。結(jié)果防止了例如模糊和重影等圖像品質(zhì)缺陷，并且改善了圖像的可儲(chǔ)存性。由于還顯著地改善了用于形成電荷發(fā)生層的涂布液的可儲(chǔ)存性，所以表面處理有效地延長(zhǎng)了其貯存期，從而降低了感光體的成本。
表面處理劑可以為具有水解基團(tuán)的有機(jī)金屬化合物或硅烷偶聯(lián)劑。
具有水解基團(tuán)的有機(jī)金屬化合物或硅烷偶聯(lián)劑可以是下式(A)表示的化合物式(A)Rp-MYq在式(A)中R表示有機(jī)基團(tuán)；M表示除堿金屬外的金屬原子，或表示硅原子；Y表示可水解的基團(tuán)，p和q各自獨(dú)立地表示1～4的整數(shù)；p和q之和等于M的化合價(jià)。
式(A)中R表示的有機(jī)基團(tuán)的例子包括烷基，例如甲基、乙基、丙基、丁基和辛基；烯基，例如乙烯基和烯丙基；環(huán)烷基，例如環(huán)己基；芳基，例如苯基和萘基；烷芳基，例如甲苯基；芳烷基，例如芐基和苯乙基；芳烯基，例如苯乙烯基；和雜環(huán)基，例如呋喃基、噻吩基、吡咯烷基、吡啶基和咪唑基。這些有機(jī)基團(tuán)可以各自具有一個(gè)取代基或可以具有同類或不同類的兩個(gè)或多個(gè)取代基。
式(A)中Y表示的可水解基團(tuán)的例子包括醚基，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、環(huán)己氧基、苯氧基和苯甲氧基；酯基，例如乙酰氧基、丙酰氧基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、苯甲酰氧基、甲基磺酰氧基、苯磺酰氧基和苯甲氧基羰基；和鹵原子，例如氯原子。
在式(A)中，M可以是除堿金屬原子外的任何原子。M表示的原子優(yōu)選為鈦原子、鋁原子、鋯原子或硅原子。換句話說，在本發(fā)明中，表面處理劑優(yōu)選選自有機(jī)鈦化合物、有機(jī)鋁化合物、有機(jī)鋯化合物和硅烷偶聯(lián)劑，它們各自均具有上述的有機(jī)基團(tuán)和可水解的官能團(tuán)。
硅烷偶聯(lián)劑的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-環(huán)氧-環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巰基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羥乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷或γ-氯丙基三甲氧基硅烷。
硅烷偶聯(lián)劑優(yōu)選選自乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基硅烷)、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-環(huán)氧-環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷和3-氯丙基三甲氧基硅烷。
表面處理劑可以為有機(jī)鋯化合物。其例子包括丁醇鋯、乙基乙酰乙酸鋯、三乙醇胺合鋯、乙酰丙酮·丁醇合鋯、乙基乙酰乙酸·丁醇合鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、膦酸鋯、辛酸鋯、環(huán)烷酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸·丁醇合鋯、硬脂酸·丁醇合鋯和異硬脂酸·丁醇合鋯。
表面處理劑可以為有機(jī)鈦化合物。其例子包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯的二聚體、鈦酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮合鈦、多乙酰丙酮鈦、亞辛基乙醇酸鈦、乳酸銨鈦鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙基酯、三乙醇胺合鈦和多羥基鈦二硬脂酸酯。表面處理劑可以為有機(jī)鋁化合物。其例子包括異丙醇鋁、二異丙醇單丁氧基鋁、丁酸鋁、二乙基乙酰乙酸·二異丙醇合鋁和三(乙基乙酰乙酸)合鋁。
表面處理劑可以為上述有機(jī)金屬化合物和硅烷偶聯(lián)劑任一種的水解產(chǎn)物。所述水解產(chǎn)物可以由式(A)表示的有機(jī)金屬化合物水解形成；具體地，可以將Y(可水解基團(tuán))或R(有機(jī)基團(tuán))上的可水解基團(tuán)水解來制備水解產(chǎn)物，所述Y和R鍵合到M(硅原子或除堿金屬原子外的金屬原子)上。當(dāng)有機(jī)金屬化合物或硅烷偶聯(lián)劑具有兩個(gè)或多個(gè)可水解基團(tuán)時(shí)，水解產(chǎn)物不必是所有可水解基團(tuán)完成水解所得到的水解產(chǎn)物，而可以是部分可水解基團(tuán)水解得到的水解產(chǎn)物?？梢詥为?dú)使用有機(jī)金屬化合物和硅烷偶聯(lián)劑中的一種，或使用選自有機(jī)金屬化合物和硅烷偶聯(lián)劑的兩種或多種表面處理劑的混合物。
關(guān)于用具有可水解基團(tuán)的有機(jī)金屬化合物和/或硅烷偶聯(lián)劑(此后簡(jiǎn)稱為“有機(jī)金屬化合物”)涂布酞菁顏料的方法，它們可以選自下列示例性的方法一種方法是，它包括在調(diào)整酞菁顏料晶體的過程中用有機(jī)金屬化合物涂布酞菁顏料的步驟；一種方法是，它包括在把酞菁顏料分散在粘合劑樹脂中之前用有機(jī)金屬化合物涂布酞菁顏料的步驟；一種方法是，它包括在把酞菁顏料分散在粘合劑樹脂中時(shí)添加有機(jī)金屬化合物的步驟；以及一種方法是，它包括在把酞菁顏料分散在粘合劑樹脂中之后加入有機(jī)金屬化合物，然后在混合物中對(duì)所述物質(zhì)進(jìn)行分散處理的步驟。
當(dāng)在調(diào)整酞菁顏料晶體的過程中用有機(jī)金屬化合物涂布酞菁顏料時(shí)，可以使用下列示例性的例子一種方法是，它包括將有機(jī)金屬化合物與未經(jīng)晶形調(diào)整的酞菁顏料混合，然后加熱該混合物的步驟；一種方法是，它包括將有機(jī)金屬化合物與未經(jīng)晶形調(diào)整的酞菁顏料混合，然后干法機(jī)械粉碎該混合物的步驟；以及一種方法是，它包括加入未經(jīng)晶形調(diào)整的酞菁顏料，然后濕法粉碎該混合物的步驟。
如果在把酞菁顏料分散在粘合劑樹脂中之前用有機(jī)金屬化合物涂布酞菁顏料，可以使用下列示例性的方法一種方法是，它包括將酞菁顏料、有機(jī)金屬化合物與水或水和有機(jī)溶劑的混合溶劑混合，然后加熱該混合物的步驟；一種方法是，它包括將有機(jī)金屬化合物噴霧到酞菁顏料上的步驟；以及一種方法是，它包括混合有機(jī)金屬化合物和酞菁顏料，然后碾磨該混合物的步驟。
如果在分散酞菁顏料時(shí)加入有機(jī)金屬化合物，則可以使用下列示例性的方法一種方法是，它包括在攪拌分散溶劑的同時(shí)依次將有機(jī)金屬化合物、酞菁顏料和粘合劑樹脂加入到分散溶劑中的步驟；以及一種方法是，它包括一次將電荷發(fā)生層的這些組分加入到分散溶劑中，然后將其混合的步驟。
為了改善電學(xué)特性和圖像品質(zhì)，用于制備電荷發(fā)生層的涂布液還可以包括各種添加劑。所述添加劑可以是例如稠合多環(huán)電子傳輸顏料或偶氮電子傳輸顏料等電子傳輸物質(zhì)，或者是例如鋯螯合物、鈦螯合物、鋁螯合物、烷氧基鈦化合物、有機(jī)鈦化合物或硅烷偶聯(lián)劑等其它已知物質(zhì)。所述電子傳輸物質(zhì)的例子包括醌化合物，例如氯醌、溴醌和蒽醌；四氰基對(duì)苯醌二甲烷化合物；芴酮化合物，例如2，4，7-三硝基芴酮和2，4，5，7-四硝基-9-芴酮；噁二唑化合物，例如2-(4-聯(lián)苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1，3，4-噁二唑和2，5-二(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑；呫噸酮化合物、噻吩化合物和二苯酚合苯醌化合物，例如3，3′，5，5′-四叔丁基二苯酚合苯醌。
硅烷偶聯(lián)劑的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-環(huán)氧-環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巰基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羥乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。
鋯螯合物的例子包括丁醇鋯、乙基乙酰乙酸鋯、三乙醇胺合鋯、乙酰丙酮·丁醇合鋯、乙基乙酰乙酸·丁醇合鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、膦酸鋯、辛酸鋯、環(huán)烷酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸·丁醇合鋯、硬脂酸·丁醇合鋯和異硬脂酸·丁醇合鋯。
鈦螯合物的例子包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯的二聚體、鈦酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮合鈦、多乙酰丙酮鈦、亞辛基乙醇酸鈦、乳酸銨鈦鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙基酯、三乙醇胺合鈦和多羥基鈦二硬脂酸酯。
鋁螯合物的例子包括異丙醇鋁、二異丙醇單丁氧基鋁、丁酸鋁、二乙基乙酰乙酸·二異丙醇合鋁和三(乙基乙酰乙酸)合鋁。
可以單獨(dú)使用選自上述化合物的一種化合物，或使用選自上述化合物的兩種或多種化合物的混合物，或使用選自上述化合物的兩種或多種化合物的縮聚物。
電荷發(fā)生層31可以用普通的涂布方法制備，例如刮板涂布法、繞線棒涂布法、噴涂法、浸漬涂布法、涂邊涂布法、氣刀涂布法或幕涂法。
涂布液可以含有少量作為均化劑的硅油，所述均化劑可以改善所得涂布膜的光滑性。電荷產(chǎn)生層3 1的厚度優(yōu)選為0.05μm～5μm，更優(yōu)選0.1μm～2.0μm。
電荷傳輸層32可以用已知方法制備。電荷傳輸層32包含電荷傳輸物質(zhì)和粘合劑樹脂，或包含聚合物電荷傳輸物質(zhì)。
包含在電荷傳輸層32中的電荷傳輸物質(zhì)可以是任何已知的電荷傳輸物質(zhì)。電荷傳輸物質(zhì)可以為空穴傳輸物質(zhì)、電子傳輸物質(zhì)或聚合物，所述聚合物在其主鏈或側(cè)鏈上具有由下列空穴傳輸物質(zhì)和電子傳輸物質(zhì)衍生的基團(tuán)。所述空穴傳輸物質(zhì)的例子包括噁二唑衍生物，例如2，5-二(對(duì)二乙氨基苯基)-1，3，4-噁二唑；吡唑啉衍生物，例如1，3，5-三苯基吡唑啉和1-[吡啶基-(2)]-3-(對(duì)二乙氨基苯乙烯基)-5-(對(duì)二乙氨基苯乙烯基)吡唑啉；芳香叔胺化合物，例如三苯基胺、三(對(duì)甲基)苯胺、N，N′-二(3，4-二甲基苯基)聯(lián)苯-4-胺、聯(lián)芐基苯胺和9，9-二甲基-N，N′-二(對(duì)甲苯基)芴酮-2-胺；芳香叔二胺化合物，例如N，N′-二苯基-N，N′-二(3-甲基苯基)-[1，1-聯(lián)苯基]-4，4′-二胺；1，2，4-三嗪衍生物，例如3-(4′-二甲氨基苯基)-5，6-二(4′-甲氧基苯基)-1，2，4-三嗪；腙衍生物，例如4-二乙基氨基苯甲醛基-1，1-二苯基腙、4-二苯基氨基苯甲醛基-1，1-二苯基腙和[對(duì)(二乙基氨基)苯基](1-萘基)苯基腙；喹唑啉衍生物，例如2-苯基-4-苯乙烯基喹唑啉；苯并呋喃衍生物，例如6-羥基-2，3-二(對(duì)甲氧基苯基)苯并呋喃；α-芪衍生物，例如對(duì)(2，2-二苯基乙烯基)-N，N′-二苯基苯胺；烯胺衍生物；咔唑衍生物，例如N-乙基咔唑；和聚-N-乙烯基咔唑和它的衍生物。電子傳輸物質(zhì)的例子包括醌化合物，例如氯醌、溴醌和蒽醌；四氰基對(duì)苯醌二甲烷化合物；芴酮化合物，例如2，4，7-三硝基芴酮和2，4，5，7-四硝基-9-芴酮；噁二唑化合物，例如2-(4-聯(lián)苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1，3，4-噁二唑和2，5-二(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑；呫噸酮化合物、噻吩化合物和例如3，3′，5，5′-四叔丁基二苯酚合苯醌等二苯酚合苯醌化合物。可以僅單獨(dú)使用一種電荷傳輸物質(zhì)，或使用兩種或多種電荷傳輸物質(zhì)。
從遷移率的角度考慮，電荷傳輸物質(zhì)優(yōu)選選自下列結(jié)構(gòu)式(B-1)、(B-2)或(B-3)表示的化合物。

在式(B-1)中，RB1表示甲基；n′表示0～2的整數(shù)；ArB1和ArB2各自獨(dú)立地表示可以具有取代基的芳基，所述取代基選自鹵原子、具有1～5個(gè)碳原子的烷基、具有1～5個(gè)碳原子的烷氧基或具有含1～3個(gè)碳原子的烷基取代基的氨基。
在式(B-2)中，ArB2和ArB2′可以彼此相同或不同，它們各自獨(dú)立地表示氫原子、鹵原子、具有1～5個(gè)碳原子的烷基或具有1～5個(gè)碳原子的烷氧基；RB3、RB3′、RB4和RB4′中的任何兩個(gè)可以彼此相同或不同，它們各自獨(dú)立地表示氫原子、鹵原子、具有1～5個(gè)碳原子的烷基、具有1～5個(gè)碳原子的烷氧基或具有含1～2個(gè)碳原子的烷基取代基的氨基、取代或未取代的芳基或-C(RB5)＝C(RB6)(RB7)，其中RB5、RB6和RB7各自獨(dú)立地表示氫原子、取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基；m′和n″各自獨(dú)立地表示0～2的整數(shù)。
在式(B-3)中，RB8表示氫原子、具有1～5個(gè)碳原子的烷基、具有1～5個(gè)碳原子的烷氧基、取代或未取代的芳基、或-CH＝CH-CH＝C(ArB3)2，其中ArB3表示取代或未取代的芳基；RB9和RB10可以彼此相同或不同，它們各自獨(dú)立地表示氫原子、鹵原子、具有1～5個(gè)碳原子的烷基、具有1～5個(gè)碳原子的烷氧基或具有含1～2個(gè)碳原子的烷基取代基的氨基或取代或未取代的芳基。
電荷傳輸層32的粘合劑樹脂可以為任何已知的粘合劑樹脂。粘合劑樹脂優(yōu)選為能形成電絕緣膜的樹脂。
粘合劑樹脂的例子包括絕緣樹脂，例如聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、甲基丙烯酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、聚乙酸乙烯酯樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐共聚物、硅酮樹脂、硅酮醇酸樹脂、苯酚-甲醛樹脂、苯乙烯-醇酸樹脂、聚-N-咔唑、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇縮甲醛、聚砜、酪蛋白、明膠、聚乙烯醇、乙基纖維素、酚樹脂、聚酰胺、聚丙烯酰胺、羧甲基纖維素、偏二氯乙烯聚合物蠟和聚氨酯；聚合物電荷傳輸物質(zhì)，例如聚乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘、聚硅烷；和JP-A第8-176293號(hào)公報(bào)和第8-208820號(hào)公報(bào)中公開的聚酯聚合物電荷傳輸物質(zhì)，所述公開內(nèi)容在這里以參見的方式引入。粘合劑樹脂不局限于上述例子，也可以使用其它樹脂。可以僅單獨(dú)使用一種粘合劑樹脂，也可以使用兩種或多種粘合劑樹脂?？紤]到與電荷傳輸物質(zhì)的互溶性、在溶劑中的溶解性和強(qiáng)度，優(yōu)選粘合劑樹脂為聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂或丙烯酸樹脂。粘合劑樹脂和電荷傳輸物質(zhì)的重量混合比不特別地限定，但是應(yīng)該選擇混合比使得不致于損害電學(xué)特性或降低膜強(qiáng)度。
在一個(gè)實(shí)施方案中，電荷傳輸層32可以僅由聚合物電荷傳輸物質(zhì)組成。電荷傳輸物質(zhì)可以是任何已知的具有電荷傳輸性能的物質(zhì)，例如聚-N-乙烯基咔唑或聚硅烷。JP-A第8-176293號(hào)公報(bào)和第8-208820號(hào)公報(bào)(其公開內(nèi)容在這里以參見的方式引入)中公開的聚酯聚合物電荷傳輸物質(zhì)是特別優(yōu)選的，因?yàn)樵摼埘ゾ酆衔镫姾蓚鬏斘镔|(zhì)具有高的電荷傳輸性能。電荷傳輸層32可以僅含有聚合物電荷傳輸物質(zhì)，或含有聚合物電荷傳輸物質(zhì)與選自上述粘合劑樹脂的粘合劑樹脂的混合物。
當(dāng)電荷傳輸層32是電子照相感光體1-1的最外層時(shí)(換句話說，當(dāng)電荷傳輸層32是離導(dǎo)電載體7最遠(yuǎn)的層時(shí))，電荷傳輸層32優(yōu)選包括潤(rùn)滑顆粒(例如二氧化硅顆粒、氧化鋁顆粒、例如聚四氟乙烯(PTFE)顆粒等氟化樹脂顆粒和硅酮樹脂顆粒)，這些潤(rùn)滑顆?？商峁?rùn)滑性能，從而抑制最外層的磨損，避免最外層產(chǎn)生瑕疵，并能夠容易地從感光體表面除去顯影劑。電荷傳輸層可以單獨(dú)包括一種潤(rùn)滑顆?；虬▋煞N或多種潤(rùn)滑顆粒。潤(rùn)滑顆粒優(yōu)選為含氟樹脂顆粒。
含氟樹脂顆粒的材料優(yōu)選由下列樹脂中的一種、兩種或多種組成四氟乙烯樹脂、三氟氯乙烯樹脂、六氟丙烯樹脂、氟乙烯樹脂、偏二氟乙烯樹脂、二氟二氯乙烯樹脂和它們的共聚物。四氟乙烯樹脂和偏二氟乙烯樹脂是特別優(yōu)選的。
含氟樹脂優(yōu)選具有0.05μm～1μm的一次粒徑，更優(yōu)選0.1μm～0.5μm。當(dāng)一次粒徑小于0.05μm時(shí)，分散時(shí)和分散后容易發(fā)生聚集。當(dāng)一次粒徑大于1μm時(shí)，容易產(chǎn)生圖像品質(zhì)缺陷。
當(dāng)電荷傳輸層包括含氟樹脂時(shí)，以電荷傳輸層的總量為基準(zhǔn)，電荷傳輸層中的含氟樹脂含量?jī)?yōu)選為0.1重量％～40重量％，特別優(yōu)選1重量％～30重量％。當(dāng)含量低于1重量％時(shí)，含有分散的含氟樹脂所產(chǎn)生的優(yōu)點(diǎn)不明顯。當(dāng)含量大于40重量％時(shí)，則光透射率降低，重復(fù)使用時(shí)殘留電位增加。
電荷傳輸層32可以由如下方法制備將電荷傳輸物質(zhì)、粘合劑樹脂和其它物質(zhì)溶解在合適的溶劑中，制成用來形成電荷傳輸層的涂布液，然后涂布和干燥涂布液，從而形成電荷傳輸層。
用于制備電荷傳輸層32的溶劑可以選自芳香烴溶劑，例如甲苯和氯苯；脂肪醇溶劑，例如甲醇、乙醇和正丁醇；酮類溶劑，例如丙酮、環(huán)己酮和2-丁酮；鹵代脂肪烴溶劑，例如二氯甲烷、氯仿和氯乙烯；環(huán)醚溶劑和線性醚溶劑，例如四氫呋喃、二噁烷、乙二醇和乙醚；和它們的混合溶劑。電荷傳輸物質(zhì)與粘合劑樹脂的重量混合比優(yōu)選在10/1～1/5的范圍內(nèi)。
為了改善涂布膜的光滑性，在用于形成電荷傳輸層的涂布液中，可以加入少量的均化劑例如硅油。
可以使用例如輥磨、球磨、振動(dòng)球磨、粉碎機(jī)、砂磨、高壓均化器、超聲波分散器、膠體磨、碰撞式無介質(zhì)分散器或滲透式無介質(zhì)分散器，以便將含氟樹脂分散在電荷傳輸層32中。
在一個(gè)實(shí)施方案中，將含氟樹脂顆粒分散在溶解有粘合劑樹脂、電荷傳輸物質(zhì)等的溶液中，以便制成用于形成電荷傳輸層32的涂布液。
在用于形成電荷傳輸層32的涂布液的制備中，涂布液的溫度優(yōu)選維持在0℃～50℃的范圍內(nèi)。
在制備涂布液時(shí)，可以使用下列任何方法將涂布液的溫度維持在0℃～50℃的范圍內(nèi)用水冷卻涂布液的方法；用風(fēng)冷卻涂布液的方法；用冷卻劑冷卻涂布液的方法；在加工過程中調(diào)節(jié)室溫的方法；用溫水加溫涂布液的方法；用熱空氣加溫涂布液的方法；用加熱器加溫涂布液的方法；用幾乎不產(chǎn)生熱的材料制備涂布液生產(chǎn)設(shè)備的方法；用容易散熱的材料制備涂布液生產(chǎn)設(shè)備的方法；用儲(chǔ)存熱的材料制備涂布液生產(chǎn)設(shè)備的方法。加入少量的輔助分散劑能有效地改進(jìn)分散液的分散穩(wěn)定性和在形成涂膜時(shí)防止聚集。輔助分散劑可以為含氟表面活性劑、含氟聚合物、硅酮聚合物或硅油。
在一個(gè)實(shí)施方案中，通過攪拌將含氟樹脂和輔助分散劑與少量的分散溶劑混合，然后將含氟樹脂和輔助分散劑分散在分散溶劑中，然后將所得到的分散液與將電荷傳輸物質(zhì)和粘合劑樹脂混合并溶解在另一種分散溶劑中得到的液體混合，然后攪拌得到的混合物，并用上述方法分散組分。
可以用例如下述方法制備電荷傳輸層32浸漬涂布法、噴射擠出涂布法、噴涂法、輥涂法、繞線棒涂布法、照相凹板式涂布法、涂邊涂布法、幕涂法、刮板涂布法或氣刀涂布法。
電荷傳輸層32優(yōu)選具有5μm～50μm的膜厚度，更優(yōu)選10μm～45μm。
為了防止電子照相設(shè)備中產(chǎn)生的臭氧或氧化氣體使本發(fā)明的電子照相感光體1-1老化，或?yàn)榱朔乐构饣驘崾贡景l(fā)明的電子照相感光體1-1老化，可以向感光層3中加入例如抗氧劑和光穩(wěn)定劑等添加劑。
抗氧化劑的例子包括受阻酚、受阻胺、對(duì)苯二胺、芳基烷烴、對(duì)苯二酚、螺苯并二氫吡喃、螺二氫茚酮、前述化合物的衍生物、有機(jī)硫化合物和有機(jī)膦化合物。
抗氧劑可以為酚類抗氧劑。酚類抗氧劑的例子包括2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、苯乙烯化苯酚、正十八烷基-3-(3′，5′-二叔丁基-4′-羥基苯基)丙酸酯、2，2′-亞甲基-雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、(2-叔丁基-6-(3′-叔丁基-5′-甲基-2′-羥基苯基)-4-甲基苯基)丙烯酸酯、4，4′-亞丁基-雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4，4′-硫代-雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，3，5-三(4-叔丁基-3-羥基-2，6-二甲基苯甲基)異氰尿酸酯、四[亞甲基-3-(3′，5′-二叔丁基-4′-羥基苯基)丙酸酯]-甲烷和3，9-雙[2-[3-(3-叔丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酰氧基]1，1-二甲基乙基]-2，4，8，10-四氧雜螺[5，5]十一烷。
作為抗氧劑的受阻胺化合物的例子包括雙(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、雙(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、1-[2-[3-(3，5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酰氧基]乙基]-4-[3-(3，5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酰氧基]-2，2，6，6-四甲基哌啶、8-苯甲基-7，7，9，9-四甲基-3-辛基-1，3，8-三氮雜螺[4，5]十一烷-2，4-二酮、4-苯甲酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶、琥珀酸二甲酯-1-(2-羥基乙基)-4-羥基-2，2，6，6-四甲基哌啶縮聚物、聚[{6-(1，1，3，3-四甲基丁基)亞氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二戊基}{(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亞氨基}六亞甲基{(2，3，6，6-四甲基-4-哌啶基)亞氨基}]、2-(3，5-二叔丁基-4-羥基苯甲基)-2-正丁基丙二酸酯雙(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)和N，N′-二(3-氨基丙基)乙二胺-2，4-二[N-丁基-N-(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)氨基]-6-氯-1，3，5-三嗪縮合物。
有機(jī)含硫抗氧劑的例子包括二(十二烷基)-3，3′-硫代二丙酸酯、二(十四烷基)-3，3′-硫代二丙酸酯、二(十八烷基)-3，3′-硫代二丙酸酯、季戊四醇-四(β-十二烷基硫代丙酸酯)、二(十三烷基)-3，3′-硫代二丙酸酯和2-巰基苯并咪唑。
有機(jī)含磷抗氧劑的例子包括三壬基苯基亞磷酸酯、三苯基亞磷酸酯和三(2，4-二叔丁基苯基)亞磷酸酯。
有機(jī)含硫抗氧劑或有機(jī)含磷抗氧劑被稱為二級(jí)抗氧劑。當(dāng)酚類或胺型抗氧劑和這樣的二級(jí)抗氧劑一起使用時(shí)，可以產(chǎn)生協(xié)同作用。
光穩(wěn)定劑可以為二苯酮、苯并三唑、二硫代氨基甲酸酯或四甲基哌啶的衍生物。
基于二苯酮的光穩(wěn)定劑的例子包括2-羥基-4-甲氧基二苯酮、2-羥基-4-辛氧基二苯酮和2，2′-二羥基-4-甲氧基二苯酮。
基于苯并三唑的光穩(wěn)定劑的例子包括2-(2′-羥基-5′-甲基苯基)苯并三唑、2-[2′-羥基-3′-(3″，4″，5″，6″-四氫鄰苯二甲酰亞胺甲基)-5′-甲基苯基]-苯并三唑、2-(2′-羥基-3′-叔丁基-5′-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2′-羥基-3′-叔丁基-5′-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2′-羥基-3′，5′-叔丁基苯基)苯并三唑、2-(2′-羥基-5′-叔辛基苯基)苯并三唑和2-(2′-羥基-3′，5′-二叔戊基苯基)苯并三唑。
其它抗氧化劑的例子包括2，4-二叔丁基苯基-3′，5′-二叔丁基-4′-羥基苯甲酸酯和二丁基-二硫代氨基甲酸鎳。
為了改善靈敏性、減少殘留電位和減少重復(fù)使用的疲勞，感光層還可以包含電子受體物質(zhì)。
電子受體物質(zhì)的例子包括琥珀酸酐、馬來酸酐、二溴馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、四溴鄰苯二甲酸酐、四氰乙烯、四氰基對(duì)苯醌二甲烷、鄰二硝基苯、間二硝基苯、氯醌、二硝基蒽醌、三硝基芴酮、苦味酸、鄰硝基苯甲酸、對(duì)硝基苯甲酸和鄰苯二甲酸。芴酮化合物、醌化合物和具有吸引電子取代基的苯衍生物是優(yōu)選的接受電子的化合物，所述的吸引電子取代基例如為Cl、CN和NO2。
在具有多層結(jié)構(gòu)的電子照相感光體1-1中提供外覆層5，以防止充電時(shí)電荷傳輸層的化學(xué)變化，并且用來改善感光層的機(jī)械強(qiáng)度，從而進(jìn)一步改善防止表面層出現(xiàn)磨損和瑕疵的性能。
外覆層5可以是含有可固化樹脂和電荷傳輸化合物的固化樹脂膜，或者是包含合適的粘合劑樹脂的膜，所述合適的粘合劑樹脂中含有導(dǎo)電材料。外覆層優(yōu)選包含電荷傳輸化合物。
可固化樹脂可以為任何已知的樹脂。從強(qiáng)度、電學(xué)特性和圖像品質(zhì)的持久性的角度考慮，優(yōu)選可固化樹脂具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)。具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的可固化樹脂可以為酚類樹脂、聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂或硅氧烷樹脂。
外覆層5優(yōu)選為包括下列式(I-1)或(I-2)表示的化合物的固化膜式(I-1)F-[D-Si(R2)(3-a)Qa]b在式(I-1)中，F(xiàn)表示由光功能化合物衍生的有機(jī)基團(tuán)；D表示柔性的亞單元；R2表示氫原子、烷基或取代或未取代的芳基；Q表示可水解的基團(tuán)；a表示1～3的整數(shù)；b表示1～4的整數(shù)；式(I-2)F-((X)nR1-ZH)m在式(I-2)中，F(xiàn)表示由空穴傳輸化合物衍生的有機(jī)基團(tuán)；R1表示亞烷基；Z表示氧原子、硫原子、NH、CO2或COOH；m表示1～4的整數(shù)；X表示氧原子或硫原子；n表示0或1。
在式(I-1)和(I-2)中，F(xiàn)表示具有光電特性的單元，更具體地來說，F(xiàn)表示具有光載流子傳輸特性的單元，這種單元具有通常已知的電荷傳輸結(jié)構(gòu)。更具體地，F(xiàn)表示的單元為空穴傳輸化合物的骨架或電子傳輸化合物的骨架?？昭▊鬏敾衔锏睦影ㄈ及奉惢衔铩⒙?lián)苯胺類化合物、芳基烷基類化合物、具有芳基取代基的乙烯類化合物、芪類化合物、蒽類化合物和腙類化合物。電子傳輸化合物的例子包括醌類化合物、芴酮類化合物、呫噸酮類化合物、二苯酮類化合物、氰基乙烯基類化合物和乙烯類化合物。
在式(I-1)中，-Si(R2)(3-a)Qa表示具有可水解基團(tuán)的取代的硅基。在式(I-1)表示的化合物分子式中，取代的硅原子彼此交聯(lián)形成三維的Si-O-Si鍵。因此取代的硅基具有在外覆層5中形成所謂的無機(jī)玻璃網(wǎng)絡(luò)的功能。
在式(I-1)中，D表示柔性的亞單元。該柔性的亞單元使具有光電特性的F表示的單元與包含在三維無機(jī)玻璃網(wǎng)絡(luò)中的取代的硅基相連。該柔性的亞單元是這樣一種有機(jī)基團(tuán)，由這種基團(tuán)為剛而脆的無機(jī)玻璃網(wǎng)絡(luò)提供適當(dāng)?shù)娜嵝?，并可改善外覆層的?qiáng)度。
該柔性的亞單元D為例如以下所示的二價(jià)烴基團(tuán)-CnH2n-、-CnH(2n-2)-或-CnH(2n-4)-(其中n表示1～15的整數(shù))、-COO-、-S-、-O-、-CH2-C6H4-、-N＝CH-、-(C6H4)-(C6H4)-或上述基團(tuán)經(jīng)任意組合而成的特征基團(tuán)。作為柔性的亞單元D的例子的上述基團(tuán)每個(gè)均可以具有取代基或不具有取代基。
在式(I-1)中，b優(yōu)選為大于等于2。當(dāng)b為大于等于2時(shí)，式(I-1)表示的光功能有機(jī)硅化合物包含兩個(gè)或多個(gè)硅原子；因此更容易形成無機(jī)玻璃網(wǎng)絡(luò)，并且其機(jī)械強(qiáng)度得到改善。
式(I-1)或(I-2)表示的化合物優(yōu)選為下列式(I-3)表示的化合物。式(I-3)表示的化合物為具有空穴傳輸能力的化合物(空穴傳輸物質(zhì))。從改善外覆層5的光電特性和機(jī)械特性的角度考慮，優(yōu)選在外覆層中包含式(I-3)表示的化合物。
式(I-3)在式(I-3)中，Ar1至Ar4各自獨(dú)立地表示取代或未取代的芳基；Ar5表示取代或未取代的芳基或亞芳基；Ar1至Ar5中的2～4個(gè)基團(tuán)各自具有由-D-Si(R2)(3-a)Qa或-((X)nR1-ZH)m表示的取代基；D表示柔性的亞單元；R2表示氫原子、烷基或取代或未取代的芳基；Q表示可水解的基團(tuán)；a表示1～3的整數(shù)；R1表示亞烷基；Z表示氧原子、硫原子、NH、CO2或COOH；m表示1～4的整數(shù)；X表示氧原子或硫原子；n表示0或1。
在式(I-3)中，Ar1至Ar5優(yōu)先選自下列式(I-4)至(I-10)表示的基團(tuán)。
在式(I-4)至(I-10)中，R5表示氫原子、具有1～4個(gè)碳原子的烷基、被選自具有1～4個(gè)碳原子的烷基和具有1～4個(gè)碳原子的烷氧基中的一個(gè)或多個(gè)基團(tuán)取代的苯基、未取代的苯基或具有7～10個(gè)碳原子的芳烷基；R6表示氫原子、具有1～4個(gè)碳原子的烷基、具有1～4個(gè)碳原子的烷氧基或鹵原子；X表示上述由-D-Si(R2)(3-a)Qa或-((X)nR1-ZH)m表示的基團(tuán)；m和s各自獨(dú)立地表示0或1；t表示1、2或3。
在該整個(gè)說明書中，如果存在由相同符號(hào)表示的兩個(gè)或多個(gè)基團(tuán)，則這些基團(tuán)中任何兩個(gè)可以彼此相同或不相同。在該整個(gè)說明書中，如果存在由相同符號(hào)表示的兩個(gè)或多個(gè)數(shù)字，則這些數(shù)字中任何兩個(gè)可以彼此相同或不相同。
在式(I-10)中，Ar優(yōu)選表示由下列式(I-11)或(I-12)表示的基團(tuán)。
在式(I-11)和(I-12)中，R6表示氫原子、具有1～4個(gè)碳原子的烷基、具有1～4個(gè)碳原子的烷氧基或鹵原子；t表示1、2或3。
在式(I-10)中，Z′優(yōu)選表示由下列式(I-13)或(I-14)表示的基團(tuán)。
如上所述，在式(I-4)至(I-10)中，X表示-D-Si(R2)(3-a)Qa或-((X)nR1-ZH)m。D表示由-CgH2g-、-CmH2m-2-或-CnH2n-4-、-N＝CH-、-O-、-COO-、-S-、-(CH)β-表示的二價(jià)烴基、由式(I-11)或(I-12)表示的基團(tuán)或由式(I-13)或(I-14)表示的基團(tuán)，其中g(shù)表示1～15的整數(shù)；m表示2～15的整數(shù)；n表示3～15的整數(shù)；β表示1～10的整數(shù)。
在式(I-14)中，y和z各自獨(dú)立地表示1～5的整數(shù)；t表示1～3的整數(shù)；R6表示氫原子、具有1～4個(gè)碳原子的烷基、具有1～4個(gè)碳原子的烷氧基或鹵原子。
在式(I-3)中，Ar5表示取代或未取代的芳基或亞芳基。當(dāng)k表示0時(shí)，Ar5優(yōu)選為由下列式(I-15)至(I-19)中任一個(gè)表示的基團(tuán)。當(dāng)k表示1時(shí)，Ar5優(yōu)選為由下列式(I-20)至(I-24)中任一個(gè)表示的基團(tuán)。
在式(I-15)至(I-24)中，R5表示氫原子、具有1～4個(gè)碳原子的烷基、被選自具有1～4個(gè)碳原子的烷基和具有1～4個(gè)碳原子的烷氧基中的一個(gè)或多個(gè)基團(tuán)取代的苯基、未取代的苯基或具有7～10個(gè)碳原子的芳烷基；R6表示氫原子、具有1～4個(gè)碳原子的烷基、具有1～4個(gè)碳原子的烷氧基或鹵原子；s表示0或1；t表示1、2或3。
在式(I-19)和(I-24)中，Z優(yōu)選為由表示下列式(I-25)至(I-32)中任一個(gè)表示的基團(tuán)。
在式(I-25)至(I-32)中，R7表示氫原子、具有1～4個(gè)碳原子的烷基、具有1～4個(gè)碳原子的烷氧基或鹵原子；W表示二價(jià)基團(tuán)；q和r各自獨(dú)立地表示1～10的整數(shù)；t′表示1或2。
式(I-31)或(I-32)中的W優(yōu)選為選自由下列式(I-33)至(I-41)表示的基團(tuán)。在式(I-40)中，s′表示0、1、2或3。
-CH2-(I-33)-C(CH3)2- (I-34)-O-(I-35)-S-(I-36)-C(CF3)2- (I-37)-Si(CH3)2- (I-38)
在本發(fā)明中可以使用JP-A第2001-83728號(hào)公報(bào)(其公開內(nèi)容在此以參見的方式引入)的表1～55中所示化合物1～274，它們是由式(I-3)表示的化合物的例子。
可以僅單獨(dú)使用式(I-1)表示的一種電荷傳輸化合物，或使用式(I-1)表示的兩種或多種電荷傳輸化合物。
為了進(jìn)一步改善固化膜的機(jī)械強(qiáng)度，可以與下列式(II)表示的化合物一起使用式(I-1)表示的電荷傳輸化合物。
式(II) B-(Si(R2)(3-a)Qa)2在式(II)中，B表示二價(jià)有機(jī)基團(tuán)；R2表示氫原子、烷基或取代或未取代的芳基；Q表示可水解的基團(tuán)；a表示1～3的整數(shù)。
式(II)表示的化合物優(yōu)選為下列式(II-1)至(II-5)中任一個(gè)表示的化合物，但這不應(yīng)該理解為是對(duì)本發(fā)明的限定。
在式(II-1)至(II-5)中，T1和T2各自獨(dú)立地表示可以具有支鏈的二價(jià)或三價(jià)烴基團(tuán)；A表示上述的-D-Si(R2)(3-a)Qa；h、i和j各自獨(dú)立地表示1～3的整數(shù)；在分子中A表示的基團(tuán)的總數(shù)目為大于等于2。
下面列出式(II)表示的化合物的優(yōu)選例子。在這些例子中，Me、Et和Pr分別表示甲基、乙基和丙基。


可以將式(I-1)或(I-2)表示的化合物與另一種可交聯(lián)化合物一起使用。所述可交聯(lián)化合物可以為硅烷偶聯(lián)劑或市售硅酮硬涂布劑。
硅烷偶聯(lián)劑可以為乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷或二甲基二甲氧基硅烷。
所述的市售硬涂布劑可以為KP-85、CR-39、X-12-2208、X-40-9740、X-41-1007、KNS-5300、X-40-2239(上述由Shin-etsu Chemical Co.生產(chǎn))、AY42-440、AY42-441和AY49-208(上述由Dow Corning Toray Silicone Co.生產(chǎn))。
為了得到表面潤(rùn)滑性能，外覆層5還可以包括含氟化合物。增加表面潤(rùn)滑性能可減少與清潔構(gòu)件的摩擦系數(shù)，并可改善抗磨損性。增加表面潤(rùn)滑性能也具有防止放電生成物、顯影劑和紙粉附著在電子照相感光體表面的作用，從而延長(zhǎng)了其使用壽命。
作為含氟化合物，外覆層5可以含有含氟聚合物，例如原樣的聚四氟乙烯或該聚合物的微粒。
當(dāng)外覆層5為式(I)表示的化合物制成的固化膜時(shí)，優(yōu)選加入能與烷氧基硅烷反應(yīng)的含氟化合物，從而使得含氟化合物包含在固化膜的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)中。
這類含氟化合物的具體例子包括(十三氟-1，1，2，2-四氫辛基)三乙氧基硅烷、(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、3-(七氟異丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟烷基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟癸基三乙氧基硅烷和1H，1H，2H，2H-全氟辛基三乙氧基硅烷。
外覆層5中含氟化合物的含量?jī)?yōu)選為小于等于20重量％。如果含量大于20重量％，則可能在交聯(lián)固化膜的成膜性能方面產(chǎn)生缺陷。
前述外覆層5具有足夠的抗氧化性。但是，為了得到更強(qiáng)的抗氧化性，可以進(jìn)一步加入抗氧化劑。
抗氧化劑優(yōu)選為受阻酚類抗氧化劑或受阻胺類抗氧化劑。也可以使用其它抗氧化劑。例如，抗氧化劑可以為已知的抗氧化劑，如基于有機(jī)硫的抗氧化劑、亞磷酸酯抗氧化劑、二硫代氨基甲酸鹽抗氧化劑、硫脲抗氧化劑或苯并咪唑抗氧化劑。在外覆層5中抗氧化劑的含量?jī)?yōu)選為小于等于15重量％，更優(yōu)選小于等于10重量％。
受阻酚類抗氧化劑的例子包括2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2，5-二叔丁基氫醌、N，N′-六亞甲基雙(3，5-二叔丁基-4-羥基氫化肉桂酰胺)、3，5-二叔丁基-4-羥基芐基磷酸二乙酯、2，4-二[(辛基硫代)甲基]鄰甲基苯酚、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2，2′-亞甲基二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2′-亞甲基二(4-乙基-6-叔丁基苯基)、4，4′-亞丁基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，5-二叔戊基氫醌、2-叔丁基-6-(3-丁基-2-羥基-5-甲基苯甲基)-4-甲基苯基丙烯酸酯和4，4′-亞丁基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)。
外覆層5還可以包含其它已知的用于形成常規(guī)膜的添加劑，例如均化劑、紫外光吸收劑、光穩(wěn)定劑和表面活性劑。
通過在感光層上涂布前述材料和添加劑的混合物，然后加熱制成外覆層5。由此進(jìn)行三維交聯(lián)固化反應(yīng)而形成牢固的固化膜。只要下面的感光層不受影響，則對(duì)加熱溫度不作特別限定。加熱溫度優(yōu)選在室溫至200℃的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在100℃～160℃的范圍內(nèi)。
在外覆層5的形成中，可以使用合適的催化劑或不用催化劑進(jìn)行交聯(lián)固化反應(yīng)。所述催化劑可以為酸催化劑，例如鹽酸、硫酸、磷酸、甲酸、乙酸或三氟乙酸；堿，例如氨或三乙胺；有機(jī)錫化合物，例如二乙酸二丁基錫、二辛酸二丁基錫或辛酸亞錫；有機(jī)鈦化合物，例如鈦酸四正丁酯或鈦酸四異丙酯；有機(jī)羧酸的鐵鹽；有機(jī)羧酸的錳鹽；有機(jī)羧酸的鈷鹽；有機(jī)羧酸的鋅鹽；有機(jī)羧酸的鋯鹽；或鋁螯合物。
為了更容易涂布，可以向制備外覆層5的涂布液中添加溶劑。溶劑可以是水或普通有機(jī)溶劑，例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纖素、乙基溶纖素、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、二甲醚或二丁醚?？梢詥为?dú)使用一種溶劑，或使用兩種或多種溶劑的混合物。
在形成外覆層5時(shí)，涂布方法可以使用普通涂布方法，例如刮刀涂布法、邁耶棒涂布法、噴涂法、浸漬涂布法、涂邊涂布法、氣刀涂布法或幕涂法。
外覆層5優(yōu)選具有0.5μm～20μm的厚度，更優(yōu)選2μm～10μm的厚度。
從獲得高分辨率的角度考慮，在電子照相感光體1-1中，位于電荷發(fā)生層31以上的功能層具有小于等于50μm的厚度，優(yōu)選小于等于40μm。當(dāng)功能層薄時(shí)，本發(fā)明的分散顆粒的底涂層與高強(qiáng)度的外覆層5的結(jié)合是特別有效的。
電子照相感光體1-1的結(jié)構(gòu)不限定為上述結(jié)構(gòu)。電子照相感光體1-1可以沒有中間層4和/或外覆層5。在一個(gè)實(shí)施方案中，電子照相感光體1-1由導(dǎo)電載體7和位于載體7上的底涂層2和感光層3組成。在另一個(gè)實(shí)施方案中，電子照相感光體1-1由導(dǎo)電載體7和依次布置在載體7上的底涂層2、中間層4和感光層3組成。在又一個(gè)實(shí)施方案中，電子照相感光體1-1由導(dǎo)電載體7和依次布置在載體7上的底涂層2、感光層3和外覆層5組成。
可以變換電荷發(fā)生層31和電荷傳輸層32的位置。所述感光層3可以具有單層結(jié)構(gòu)。在這種情況中，可以在感光層上配置外覆層，或者同時(shí)配置底涂層和外覆層。而且如上述解釋的那樣，可以在底涂層上配置中間層。當(dāng)感光層具有單層結(jié)構(gòu)時(shí)，可以通過涂布含有電荷發(fā)生物質(zhì)和/或電荷傳輸物質(zhì)的粘合劑樹脂而形成膜來制備感光層。電荷發(fā)生物質(zhì)和電荷傳輸物質(zhì)可以選自多層感光層的描述中提到的物質(zhì)。
下面描述充電單元。本發(fā)明的成像設(shè)備的充電單元可以為已知的充電單元。例如，充電單元可以為非接觸式充電單元或接觸式充電單元，非接觸式充電單元為例如電暈管或scorotron，接觸式充電單元為例如充電輥、充電刷或充電膜。在圖1所示的示例性設(shè)備中，充電單元1-3為接觸式充電單元。
接觸式充電單元將電壓施加到與感光體表面接觸的導(dǎo)電構(gòu)件上，從而給感光體表面充電。導(dǎo)電構(gòu)件的形狀可以為刷子形、刮刀形、針電極形或輥形，優(yōu)選輥形。通常輥形導(dǎo)電構(gòu)件從外到內(nèi)依次由電阻層、負(fù)載電阻層的彈性層和芯材組成。根據(jù)需要可以將外覆層配置在電阻層的外表面。
即使輥形導(dǎo)電構(gòu)件沒有驅(qū)動(dòng)單元，輥形導(dǎo)電構(gòu)件通過接觸感光體而以與感光體相同的圓周速度旋轉(zhuǎn)，并且起到充電單元的作用。但是，可以給輥形導(dǎo)電構(gòu)件配置一個(gè)驅(qū)動(dòng)單元，以便于使輥形導(dǎo)電構(gòu)件以不同于感光體的圓周速度的速度旋轉(zhuǎn)。輥形導(dǎo)電構(gòu)件的芯材可以由導(dǎo)電物質(zhì)制成，該導(dǎo)電物質(zhì)一般為鐵、銅、黃銅、不銹鋼、鋁、鎳等，但是也可以是含有分散的導(dǎo)電顆粒的模制樹脂。彈性層可以由導(dǎo)電或半導(dǎo)電物質(zhì)制成。彈性層通常由含有分散的導(dǎo)電或半導(dǎo)電顆粒的橡膠制成。所述橡膠的例子包括EPDM、聚丁二烯、天然橡膠、聚異丁烯、SBR、CR、NBR、硅橡膠、聚氨酯橡膠、表氯醇橡膠、SBR、熱塑彈性體、降冰片烯橡膠、氟硅氧烷橡膠和環(huán)氧乙烷橡膠。導(dǎo)電顆?；虬雽?dǎo)電顆?？梢杂蛇x自下列物質(zhì)中的一種或一種以上的物質(zhì)制成炭黑；金屬，例如鋅、鋁、銅、鐵、鎳、鉻和鈦；和金屬氧化物例如ZnO-Al2O3、SnO2-Sb2O3、In2O3-SnO2、ZnO-TiO2、MgO-Al2O3、FeO-TiO2、TiO2、SnO2、Sb2O3、In2O3、ZnO和MgO。電阻層或外覆層的材料可以為由如下方法得到的材料將導(dǎo)電或半導(dǎo)電顆粒分散在粘合劑樹脂中，并調(diào)節(jié)所得分散體的電阻。電阻層或外覆層的電阻率為103Ωcm～1014Ωcm，優(yōu)選105Ωcm～1012Ωcm，更優(yōu)選107Ωcm～1012Ωcm。電阻層和外覆層的總厚度可以為0.01μm～1000μm，優(yōu)選0.1μm～500μm，更優(yōu)選0.5μm～100μm。粘合劑樹脂的例子包括丙烯酸樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、甲氧基甲基化尼龍、乙氧基甲基化尼龍、聚氨酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚乙烯樹脂、聚乙烯基樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚噻吩樹脂、例如PFA、FEP和PET等聚烯烴樹脂以及苯乙烯丁二烯樹脂。導(dǎo)電或半導(dǎo)電顆?？梢杂上铝形镔|(zhì)制成，所述物質(zhì)選自炭黑、金屬和金屬氧化物，在上文中已經(jīng)作為彈性層中的導(dǎo)電或半導(dǎo)電顆粒物質(zhì)對(duì)它們進(jìn)行了描述。電阻層或外覆層可以選擇地包含抗氧化劑，例如受阻酚或受阻胺；填料，例如粘土或高嶺土；或潤(rùn)滑劑，例如硅油。這些層可以用以下方法制成刮刀涂布法、邁耶棒涂布法、噴涂法、浸漬涂布法、涂邊涂布法、氣刀涂布法或幕涂法。
給導(dǎo)電構(gòu)件施加電壓，從而給感光體充電。施加的電壓優(yōu)選為直流電壓或直流電壓和交流電壓的疊加電壓。根據(jù)感光體需要的充電電壓來確定直流電壓，直流電壓優(yōu)選為±50V至±2000V，更優(yōu)選±100V至±1500V。當(dāng)使用直流電壓和交流電壓的疊加電壓時(shí)，高峰和低峰之間的電壓差優(yōu)選為400V至1800V，更優(yōu)選為800V至1600V，再優(yōu)選1200V至1600V。交流的頻率優(yōu)選為50Hz～20,000Hz，更優(yōu)選100Hz～5,000Hz。
曝光單元1-5為這樣的光學(xué)系統(tǒng)，它使電子照相感光體1-1以成像方式曝光于光源發(fā)射的光，所述光源為例如半導(dǎo)體激光器、LED(發(fā)光二極管)或液晶光閘。當(dāng)曝光單元可以將感光體曝光于不相干光時(shí)，可以防止導(dǎo)電載體反射的光和感光層反射的光產(chǎn)生干涉條紋。
顯影單元1-2可以為使用單組分或雙組分的正或負(fù)顯影劑的已知的顯影單元。所使用的調(diào)色劑的形狀不特別地限定，從改善圖像重量和對(duì)環(huán)境友好的角度考慮，優(yōu)選為球形。球形調(diào)色劑是指平均形狀系數(shù)SF1為100～150的調(diào)色劑，更優(yōu)選100～140，它們能夠?qū)崿F(xiàn)高的轉(zhuǎn)印效率。當(dāng)平均形狀系數(shù)SF1大于140時(shí)，轉(zhuǎn)印效率降低，并可觀察到印刷樣品的圖像品質(zhì)下降。
球形調(diào)色劑包含粘合劑樹脂和著色劑。所述球形調(diào)色劑優(yōu)選具有2μm～12μm的顆粒大小，更優(yōu)選3μm～9μm。
粘合劑樹脂可以為例如苯乙烯、單烯烴、乙烯基酯、α-亞甲基脂肪單羧基酯、乙烯基醚或乙烯基酮的均聚物；或上述單體間的共聚物。粘合劑樹脂的例子包括聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯酸烷酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸烷酯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚氨基甲酸酯、環(huán)氧樹脂、硅酮樹脂、聚酰胺、改性松香和石蠟。
著色劑的例子包括例如磁鐵礦粉末和鐵氧體粉末等磁性粉末、炭黑、苯胺藍(lán)、chalcoyl blue、鉻黃、群青藍(lán)、DUPONT OIL RED、喹啉黃、氯化亞甲基藍(lán)、酞菁藍(lán)、草酸孔雀綠、燈黑、玫瑰紅、C.I.顏料紅48:1、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅57:1、C.I.顏料黃97、C.I.顏料黃17、C.I.顏料藍(lán)15:1和C.I.顏料藍(lán)15:3。
可以將已知的添加劑作為內(nèi)用添加劑和/或外用添加劑加入到所述球形調(diào)色劑中，所述已知的添加劑為例如電荷控制劑、脫模劑和其它無機(jī)顆粒。
脫模劑通常為低分子聚乙烯、低分子聚丙烯、費(fèi)托石蠟、褐煤蠟、Carbana蠟、米糠蠟或小燭樹蠟。
電荷控制劑可以為已知的電荷控制劑，它們可以為偶氮金屬絡(luò)合物、水楊酸的金屬絡(luò)合物或具有極性基團(tuán)的樹脂型電荷控制劑。
考慮到粉末的流動(dòng)性和電荷控制性，可以添加到球形調(diào)色劑中的無機(jī)金屬顆粒優(yōu)選為平均一級(jí)粒徑為40nm的微小無機(jī)顆粒。為了減少粘著性，所述無機(jī)金屬小顆?？梢耘c另一種顆粒較大的無機(jī)顆粒或與有機(jī)顆粒一起使用。無機(jī)顆粒可以選自已知的無機(jī)顆粒。為了改善可分散性和粉末流動(dòng)性，優(yōu)選對(duì)較小顆粒的無機(jī)顆粒進(jìn)行表面處理。
球形調(diào)色劑的制備方法不特別地限定，可以使用已知方法進(jìn)行制備。例如使用下列方法中的任一種捏合粉碎法；包括用捏合粉碎法得到顆粒，再用機(jī)械沖擊、力或熱能調(diào)整顆粒的形狀的方法；乳液聚合方法；和溶解懸浮方法。在一個(gè)實(shí)施方案中，可以使用上述任何方法得到的球形調(diào)色劑為核，使聚集顆粒粘附到該核上，然后加熱熔融，從而產(chǎn)生具有核-殼結(jié)構(gòu)的調(diào)色劑。在一個(gè)實(shí)施方案中，當(dāng)添加外用添加劑時(shí)，用亨舍爾混合機(jī)或V型攪拌機(jī)混合球形調(diào)色劑和外用添加劑來制成調(diào)色劑。當(dāng)用濕法生產(chǎn)球形調(diào)色劑時(shí)，可以用濕法加入外用添加劑。
中間轉(zhuǎn)印構(gòu)件1-8可以包含傳統(tǒng)的導(dǎo)電熱塑性樹脂?？梢詫?dǎo)電劑摻入到下列樹脂中得到導(dǎo)電熱塑性樹脂聚酰亞胺樹脂；聚碳酸酯(PC)樹脂；聚偏二氟乙烯(PVDF)；聚亞烷基對(duì)苯二甲酸酯(PAT)；或共混材料，例如乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)-PC、ETFE-PAT或PC-PAT。優(yōu)選其中分散導(dǎo)電劑的聚酰亞胺樹脂，因?yàn)樗哂懈叩臋C(jī)械強(qiáng)度。
所述導(dǎo)電劑可以為炭黑、金屬氧化物或例如聚苯胺等導(dǎo)電聚合物。
當(dāng)中間轉(zhuǎn)印構(gòu)件1-8為帶式時(shí)，根據(jù)材料的硬度來確定帶的厚度，優(yōu)選為50μm～50μm，更優(yōu)選60μm～150μm。
其中分散有導(dǎo)電劑的聚酰亞胺樹脂帶可以由日本專利JP-A第63-311263號(hào)公報(bào)中描述的方法生產(chǎn)，在此以參見的方式引入其公開內(nèi)容。具體來說，在該方法中將導(dǎo)電劑炭黑分散在作為聚酰亞胺前體的聚酰胺酸溶液中，使得分散液中炭黑的含量為5重量％～20重量％；將該分散液流延澆鑄在金屬鼓上并干燥；然后從該鼓上剝離所得到的膜，高溫下展開制成聚酰亞胺膜；然后將聚酰亞胺膜切成合適大小，從而制成環(huán)形帶。一般地，用下列方法制成所述的膜將含有導(dǎo)電劑的聚酰胺酸溶液(用于形成膜)倒入圓筒形金屬模具中；將聚酰胺溶液加熱到100℃～200℃，在該溫度下以500rpm～2000rpm的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)金屬模具，以便通過離心鑄型法形成膜；然后從金屬模具取出所得到的處于部分固化狀態(tài)的膜，將其放在金屬核上；在大于等于300℃的溫度下使該膜進(jìn)行聚酰亞胺形成反應(yīng)(聚酰胺酸的閉環(huán)反應(yīng))，從而完成固化。在另一實(shí)施方案中，將含有導(dǎo)電劑的聚酰胺酸溶液滴在金屬薄片上，并使聚酰胺酸溶液的厚度恒定；將聚酰胺酸溶液加熱到100℃～200℃以除去大部分溶劑；然后將該膜逐步加熱到大于等于300℃的溫度以形成聚酰亞胺膜。
中間轉(zhuǎn)印構(gòu)件1-8可以有表面層。
清潔單元1-6除去轉(zhuǎn)印后殘留在電子照相感光體1-1上的調(diào)色劑。由于清潔單元1-6的作用，清潔后的電子照相感光體1-1可用于上述重復(fù)的成像循環(huán)。在圖1所示的示例性的成像設(shè)備中，清潔單元1-6具有清潔刮刀。但是，清潔方法也可以選自其它的清潔方法，例如刷清潔法和輥清潔法。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，在清潔單元中使用清潔刮刀。清潔刮刀材料可以為聚氨酯橡膠、氯丁橡膠或硅橡膠。
本發(fā)明的電子照相設(shè)備還可包括電荷除去單元，例如擦除光輻射單元。電荷除去單元可以防止感光體1-1的電壓在成像循環(huán)之后仍然存在，從而改善了圖像品質(zhì)。
圖1所示的示例性成像設(shè)備為串聯(lián)型彩色成像設(shè)備。但是本發(fā)明的成像設(shè)備不局限于串聯(lián)型。例如本發(fā)明的成像設(shè)備可以為具有單一成像單元的成像設(shè)備，例如單色成像設(shè)備或具有旋轉(zhuǎn)式顯影單元(旋轉(zhuǎn)顯影單元)的彩色成像設(shè)備。旋轉(zhuǎn)式顯影單元是指旋轉(zhuǎn)移動(dòng)多個(gè)顯影元件，以便使所需的顯影元件面向感光體，從而在感光體上連續(xù)地形成各種顏色的調(diào)色劑圖像。
本發(fā)明還提供了一種處理盒，該處理盒包括感光體以及充電單元、顯影單元、轉(zhuǎn)印單元和清潔單元中的至少一個(gè)單元。處理盒可以裝配在成像設(shè)備上，但是也可與成像設(shè)備分離。另外，在這個(gè)處理盒中，由于能夠用例如驅(qū)動(dòng)單元來控制感光體的圓周速度，所以可以改變從充電到顯影的過程所需要的時(shí)間。本發(fā)明的處理盒包括控制感光體圓周速度的控制單元(例如驅(qū)動(dòng)單元)。但是在本發(fā)明的成像設(shè)備中，控制單元可以獨(dú)立于處理盒。
實(shí)施例下面使用實(shí)施例解釋本發(fā)明。但是實(shí)施例不應(yīng)該理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
實(shí)施例1在攪拌下將100重量份氧化鋅(平均粒徑70nm，比表面積15m2/g，由Tayka Corporation生產(chǎn))與500重量份四氫呋喃混合。向其中加入1.25重量份硅烷偶聯(lián)劑(Shin-etsu Chemical Co.，Ltd.生產(chǎn)的KBM603)，將該混合物攪拌2小時(shí)。然后減壓蒸餾除去四氫呋喃，得到涂布有硅烷偶聯(lián)劑的氧化鋅顆粒，在120℃下焙燒該顆粒3小時(shí)，制得經(jīng)表面處理的氧化鋅顏料。
在85重量份甲乙酮中溶解15重量份丁醛樹脂(Sekisui Chemical Co.，Ltd.生產(chǎn)的BM-1)得到溶液，將38重量份的所得溶液與60重量份上面得到的氧化鋅顏料、25重量份甲乙酮、0.6重量份茜素和13.5重量份作為固化劑的封端異氰酸酯(Sumika Bayer Urethane Co.，Ltd.生產(chǎn)的SUMIDUR3175)混合，。通過砂磨機(jī)用粒徑為1mm的玻璃珠將該混合物分散處理2小時(shí)，制成分散液。得到的分散液再和0.005重量份作為催化劑的二月桂酸二辛基錫和4.0重量份硅樹脂顆粒(GE Toshiba Silicones生產(chǎn)的TOSPEARL145)，由此得到用于形成底涂層的涂布液。用浸漬涂布法將該涂布液涂布在鋁載體上，在170℃下干燥、固化40分鐘，制成厚度為25μm的底涂層。
然后在底涂層上形成感光層。感光層的形成按如下方法進(jìn)行將15重量份作為電荷發(fā)生物質(zhì)的氫氧化鎵酞菁和10重量份作為粘合劑樹脂的氯乙烯-乙酸乙烯共聚物樹脂(Nippon Unicar Co.，Ltd.生產(chǎn)的VMCH)混合得到混合物，通過砂磨機(jī)用粒徑為1mm的玻璃珠將該混合物在200重量份乙酸正丁酯中分散4小時(shí)，其中，相對(duì)于CuKα特征X射線，氫氧化鎵酞菁至少在布拉格角(Bragg angle)(2θ±0.2°)為7.3°、16.0°、24.9°和28.0°處具有衍射峰；將所得到的分散液與175重量份乙酸正丁酯以及180重量份甲乙酮混合，攪拌該混合物制成用于制備電荷發(fā)生層的涂布液；然后通過浸漬涂布法將該涂布液涂布在底涂層上，然后在室溫下干燥制成厚度為0.2μm的電荷發(fā)生層。
然后，將1重量份四氟乙烯樹脂顆粒、0.02重量份含氟接枝聚合物、5重量份四氫呋喃和2重量份甲苯充分混合，制成四氟乙烯樹脂顆粒懸浮液。然后將4重量份作為電荷傳輸物質(zhì)的N，N′-二苯基-N，N′-二(3-甲基苯基)-[1，1′]-聯(lián)苯基-4，4′-二胺和6重量份雙酚Z型聚碳酸酯樹脂(粘均分子量為40,000)溶解在23重量份四氫呋喃和10重量份甲苯的混合物中，再加入上面得到的四氟乙烯樹脂顆粒懸浮液，攪拌該混合物，然后使用高壓均化器(Nanomizer Co.，Ltd.生產(chǎn)的LA-33S)進(jìn)行分散處理，該均化器配有帶微流道的滲透室，可將壓力最高提高到400kgf/cm2(3.92×10-1Pa)，將該分散處理重復(fù)6次。經(jīng)過分散處理，得到四氟乙烯樹脂顆粒分散液。將該四氟乙烯樹脂顆粒分散液與0.2重量份2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚混合，從而制成用于形成電荷傳輸層的涂布液。將該涂布液涂布到電荷發(fā)生層上，在115℃下干燥40分鐘，形成厚度為32μm的電荷傳輸層。
將這樣得到的感光體放置在改裝的全色打印機(jī)DOCUCENTRECOLOR 400(由富士施樂公司生產(chǎn))上，該打印機(jī)配有接觸式充電單元和中間轉(zhuǎn)印單元，分別在低速模式(從充電到顯影的時(shí)間為300毫秒)、正常模式(從充電到顯影的時(shí)間為200毫秒)和高速模式(從充電到顯影的時(shí)間為100毫秒)等各種情況下，使用-700V的充電電壓進(jìn)行打印試驗(yàn)。結(jié)果列在表1中。
實(shí)施例2～4按照實(shí)施例1的相同方式生產(chǎn)電子照相感光體，不同的是表面處理用的金屬氧化物和受體化合物改變?yōu)楸?所示的物質(zhì)。按照實(shí)施例1的相同方式評(píng)價(jià)得到的感光體的特性。結(jié)果列在表1中。
對(duì)比例1按照實(shí)施例1的相同方式生產(chǎn)電子照相感光體，不同的是省去了受體化合物。按照實(shí)施例1的相同方式評(píng)價(jià)得到的感光體的特性。結(jié)果列在表1中。
表1

本發(fā)明提供了成像設(shè)備和處理盒，即使在從充電到顯影的過程分別需要不同時(shí)間的不同處理?xiàng)l件之間進(jìn)行切換時(shí)，它們也都能抑制印刷中圖像模糊、黑點(diǎn)和圖像記憶的產(chǎn)生。
權(quán)利要求
1.一種成像設(shè)備，該成像設(shè)備包括電子照相感光體、充電單元、曝光單元、顯影單元和轉(zhuǎn)印單元，其中在使電子照相感光體的圓周表面在預(yù)定方向上運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，所述成像設(shè)備進(jìn)行充電、曝光、顯影和轉(zhuǎn)??；所述成像設(shè)備還包括控制單元，所述控制單元控制所述電子照相感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度，從而使從充電到顯影的過程所需的時(shí)間可變；所述電子照相感光體包括底涂層和感光層；和所述底涂層包括金屬氧化物顆粒和受體化合物，所述的受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。
2.如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中所述控制單元可以在包括正常模式、低速模式和高速模式的多種控制模式間切轉(zhuǎn)，這些模式滿足下列式(1)和(2)表示的條件式(1)T低≥(1/3)T式(2)T高≤3T其中，在式(1)和(2)中，T表示正常模式中從充電到顯影的過程所需的時(shí)間；T低表示低速模式中從充電到顯影的過程所需的時(shí)間；T高表示高速模式中從充電到顯影的過程所需的時(shí)間。
3.如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中所述受體化合物為具有醌基的化合物。
4.如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中所述受體化合物為具有蒽醌結(jié)構(gòu)的化合物。
5.如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中所述受體化合物選自由蒽醌、羥基蒽醌、氨基蒽醌和氨基羥基蒽醌組成的組。
6.如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中所述金屬氧化物顆粒用偶聯(lián)劑進(jìn)行表面處理。
7.如權(quán)利要求6所述的成像設(shè)備，其中所述偶聯(lián)劑為硅烷偶聯(lián)劑。
8.如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中所述金屬氧化物顆粒包括選自氧化鈦、氧化鋅、氧化錫和氧化鋯的物質(zhì)。
9.如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中所述充電單元為接觸式充電單元，該接觸式充電單元通過接觸電子照相感光體而使電子照相感光體充電。
10.一種彩色成像設(shè)備，所述彩色成像設(shè)備包括多個(gè)成像單元，各個(gè)成像單元均包括電子照相感光體、充電單元、曝光單元、顯影單元和轉(zhuǎn)印單元，其中在各個(gè)成像單元中，在使所述電子照相感光體的圓周表面在預(yù)定方向上運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，所述成像設(shè)備進(jìn)行充電、曝光、顯影和轉(zhuǎn)印；各個(gè)成像單元還包括控制單元，該控制單元控制所述電子照相感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度，從而使得從充電到顯影的過程所需的時(shí)間可變；所述電子照相感光體包括底涂層和感光層；和所述的底涂層包括金屬氧化物顆粒和受體化合物，所述受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。
11.如權(quán)利要求10所述的彩色成像設(shè)備，其中所述控制單元可以在包括正常模式、低速模式和高速模式的多種控制模式間切轉(zhuǎn)，這些模式滿足下列式(1)和(2)表示的條件式(1)T低≥(1/3)T式(2)T高≤3T其中在式(1)和(2)中，T表示正常模式中從充電到顯影的過程所需的時(shí)間；T低表示低速模式中從充電到顯影的過程所需的時(shí)間；T高表示高速模式中從充電到顯影的過程所需的時(shí)間。
12.如權(quán)利要求10所述的彩色成像設(shè)備，其中所述受體化合物為具有醌基的化合物。
13.如權(quán)利要求10所述的彩色成像設(shè)備，其中所述受體化合物為具有蒽醌結(jié)構(gòu)的化合物。
14.如權(quán)利要求10所述的彩色成像設(shè)備，其中所述受體化合物選自由蒽醌、羥基蒽醌、氨基蒽醌和氨基羥基蒽醌組成的組。
15.如權(quán)利要求10所述的彩色成像設(shè)備，其中所述金屬氧化物顆粒用偶聯(lián)劑進(jìn)行表面處理。
16.如權(quán)利要求15所述的彩色成像設(shè)備，其中所述偶聯(lián)劑為硅烷偶聯(lián)劑。
17.如權(quán)利要求10所述的彩色成像設(shè)備，其中所述金屬氧化物顆粒包括選自氧化鈦、氧化鋅、氧化錫和氧化鋯的物質(zhì)。
18.如權(quán)利要求10所述的彩色成像設(shè)備，其中所述充電單元為接觸式充電單元，該接觸式充電單元通過接觸電子照相感光體而使電子照相感光體充電。
19.如權(quán)利要求10所述的彩色成像設(shè)備，其中所述轉(zhuǎn)印單元使用中間轉(zhuǎn)印法，在該中間轉(zhuǎn)印法中，在所述電子照相感光體的圓周表面上形成的調(diào)色劑圖像通過中間轉(zhuǎn)印構(gòu)件間接地轉(zhuǎn)印到圖像承載介質(zhì)上。
20.一種處理盒，所述處理盒包括電子照相感光體和選自由充電單元、顯影單元、轉(zhuǎn)印單元和清潔單元組成的組中的至少一個(gè)單元，其中所述的處理盒能夠裝配在成像設(shè)備上，并且能夠與所述成像設(shè)備分離；在使所述電子照相感光體的圓周表面在預(yù)定方向上運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，所述成像設(shè)備進(jìn)行充電、曝光、顯影和轉(zhuǎn)??；所述處理盒還包括控制單元，所述控制單元控制所述電子照相感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度，從而使得從充電到顯影的過程所需的時(shí)間可變；所述電子照相感光體包括底涂層和感光層；和所述底涂層包括金屬氧化物顆粒和受體化合物，所述受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種成像設(shè)備，該成像設(shè)備包括電子照相感光體、充電單元、曝光單元、顯影單元和轉(zhuǎn)印單元，其中，在使電子照相感光體的圓周表面在預(yù)定方向上運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，成像設(shè)備進(jìn)行充電、曝光、顯影和轉(zhuǎn)??；所述成像設(shè)備還包括控制單元，所述控制單元控制所述電子照相感光體的圓周表面的運(yùn)動(dòng)速度，從而使從充電到顯影的過程所需的時(shí)間可變；所述電子照相感光體包括底涂層和感光層；以及所述底涂層包括金屬氧化物顆粒和受體化合物，所述受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應(yīng)的基團(tuán)。
文檔編號(hào)G03G21/16GK1722007SQ20051005592
公開日2006年1月18日 申請(qǐng)日期2005年3月18日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月16日
發(fā)明者額田秀美, 中村博史, 星崎武敏, 齊愉, 胡南星, 何銀墉 申請(qǐng)人:富士施樂株式會(huì)社