光敏組合物去除劑的制作方法

專利名稱：光敏組合物去除劑的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用于除去在光敏基底周邊、邊緣或背面的未固化光敏組合物膜或用于除去沉積在用于在玻璃基底、半導體晶片等上形成光敏組合物膜的方法中的系統部件或設備表面的未固化光敏組合物的去除劑。
更特別地，它涉及除去留在基底的周圍，邊緣或背面、含有顏料的未固化光敏組合物膜或除去在液晶或有機EL顯示器的生產過程中用來在基底上形成光敏組合物膜的方法中系統部件或設備的表面上所沉積的含有顏料的未固化光敏組合物的去除劑。
背景技術：
在液晶顯示器、有機EL顯示器、等離子體顯示器或其他平板顯示器或半導體的生產方法中，一般使用光刻法來形成光敏組合物的圖案。
對于在濾色器(用于液晶或有機EL顯示器)的生產中形成RGB圖案或樹脂黑底(black matrix)的方法，可以使用顏料分散法、染色法、印刷法、電沉積法等。顏料分散法是一個通過使用含顏料的光敏組合物的光刻來形成顏色圖案的方法。由于能獲得穩(wěn)定的帶色膜，這個方法適合用來生產濾色器。當使用這種方法在基底上形成光敏組合物膜時，存在著用含有顏料的光敏組合物涂在基底上的方法。對于涂布法，已知的有旋涂法、縫隙涂布法、拉絲錠涂布法、輥涂法、浸涂法、噴涂法，或它們的組合或其他方法。
在旋涂法中，涂完光敏組合物后，在基底周圍和邊緣的光敏組合物膜的溶脹部分或沉積在基底背面的光敏組合物一般通過用光敏組合物去除劑漂洗除去，也就是，所謂的邊緣漂洗或背面漂洗。此外，在旋涂法中，也實施在杯子中濺散除去光敏組合物的方法，也就是，通過使用光敏組合物去除劑進行杯漂洗，以除去光敏組合物。
此外，對于在濾色器的制備中涂布光敏組合物的方法，除了上述的旋涂法外，可以通過縫隙涂布法涂布光敏組合物，用拉絲錠涂布或通過輥涂機涂布。同樣在這些方法中，在涂布光敏組合物后，也需要將沉積在全部或部分的縫隙噴嘴、拉絲錠，或涂布系統的其他部分上的不需要的光敏組合物除去。
此外，除了這些，有時沉積在涂布系統的部件如輸送光敏組合物的系統管路上的光敏組合物同樣也需要除去。通常為了這個光敏組合物的去除，需要用去除劑進行清洗。
在任何除去沉積在基底或系統上光敏組合物的方法中，光敏組合物組分的殘留物將成為問題。對于用于制備濾色器的含有顏料的光敏組合物，也就是，用于形成RGB的顏色抗蝕劑或用于形成樹脂黑底的黑色抗蝕劑、顏料成分容易留在基底或系統表面上。即使這些很少，雜質會導致濾色器制備中缺陷率的增加或濾色器顏色純度的變化或對比度的下降。在最近幾年里，對于彩色顯示器所用濾色器的基底，對提高尺寸和清晰度以及降低成本提出了更多的要求。從這個情形出發(fā)，避免影響濾色器的性能和產率的光敏組合物殘留物變得越發(fā)的重要。
在過去，作為光敏組合物的去除劑，通常使用二醇醚或它的酯或其混合物(例如，見日本已審查專利公告(Kokoku)第4-49938號)，但當使用它來洗掉上面的顏色抗蝕劑，樹脂的可除去性又不夠，需要使用大量的去除劑，否則去除就不完全。
此外，為了除去含有顏料的有色組合物，也可以使用用于光敏組合物的溶劑成分或光敏組合物所含的成分如表面活性劑或分散劑的方法(例如，見日本未審查專利公告(Kokai)第2000-273370號)，但當僅使用光敏組合物中所含的溶劑成分作為清潔劑時，顏料很容易沉淀，不能獲得足夠的凈化性。此外，當在清潔劑組合物中混入表面活性劑、分散劑或光敏組合物中所含的其他成分時，在蒸發(fā)后，該成分很容易作為殘留物而留在基底或系統部件上，將需要進一步的清洗處理并且用于除去在基底的端面和背面處(在那里，實踐中不可能在蒸發(fā)后殘留有殘留物)的光敏組合物是不優(yōu)選的。

發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種在除去光敏組合物方面性能優(yōu)異的光敏組合物去除劑。
特別地，它提供一種能有效除去留在基底周圍，邊緣或背面、含有顏料的光敏組合物膜或除去在液晶或有機EL顯示器的生產過程中用來在基底上形成光敏組合物膜的方法中系統部件或設備的表面上所沉積的含有顏料的光敏組合物的去除劑。
在本申請的敘述中，“分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴”有時被稱作“第一組分”，“無質子極性溶劑”有時被稱作“第二組分”，而“除了無質子極性溶劑的其他溶劑”有時被稱作“第三組分”。
本發(fā)明人進行深入細致的研究以解決上述問題。結果，發(fā)現通過使用含有特定芳香烴的去除劑，當清洗含顏料的光敏組合物時可以阻止顏料分散性的下降并可提高可去除性，從而達到本發(fā)明。
本發(fā)明如下1.光敏組合物去除劑，用于除去未固化光敏組合物，該去除劑含有1到80質量％的至少一種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴。
2.如1中所述的光敏組合物去除劑，其中分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴是沸點在150到250℃的烷基苯。
3.如1或2中所述的光敏組合物去除劑，其具有選自下列的組成當去除劑基本由一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴以及一種或多種無質子極性溶劑組成時，20到80質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和20到80質量％的一種或多種無質子極性溶劑的組成；當去除劑基本由一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴以及一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑組成時，10到20質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和80到90質量％一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組成；以及當去除劑含有一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴、一種或多種無質子極性溶劑以及一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑時，20到30質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴、1到20質量％的一種或多種無質子極性溶劑和55到70質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組成。
4.如1到3中任意一項所述的光敏組合物去除劑，其具有選自下列的組成當去除劑基本由一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴以及一種或多種無質子極性溶劑組成時，20到40質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和60到80質量％的一種或多種無質子極性溶劑的組成；當去除劑基本由一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴以及一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑組成時，10到20質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和80到90質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組成，其中去除劑含有30到60質量％的丙二醇單甲醚；以及當去除劑含有一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴、一種或多種無質子極性溶劑以及一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑時，20到30質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴、3到20質量％的一種或多種無質子極性溶劑和55到70質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組成，無質子極性溶劑是選自N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺的至少一種，且非無質子極性溶劑的其他溶劑是選自丙二醇單甲醚醋酸酯、環(huán)己酮、3-甲氧基丙酸甲酯和3-乙氧基丙酸乙酯的至少一種。
5.如權利要求1或2所述的光敏組合物去除劑，其含有20到40質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和60到80質量％的一種或多種無質子極性溶劑。
6.如1或2中所述的光敏組合物去除劑，其含有10到20質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和80到90質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑，其中去除劑含有30到60質量％的丙二醇單甲醚。
7.如1或2中所述的光敏組合物去除劑，其含有20到30質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴，3到20質量％的無質子極性溶劑和55到70質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑，其中無質子溶劑是選自N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺的至少一種，且非無質子極性溶劑的其他溶劑是選自丙二醇單甲醚醋酸酯、環(huán)己酮、3-甲氧基丙酸甲酯和3-乙氧基丙酸乙酯的至少一種。
8.如3到5中任意一項中所述的光敏組合物去除劑，其中無質子極性溶劑是選自鏈狀酰胺化合物、環(huán)狀酰胺化合物、含硫化合物和環(huán)酯的至少一種。
9.如3到5中任意一項中所述的光敏組合物去除劑，其中無質子極性溶劑是選自甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-乙基甲酰胺、N，N-二乙基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、四甲基脲、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-甲基咪唑啉酮、二甲基亞砜、環(huán)丁砜和γ-丁內酯的至少一種。
10.如6中所述的光敏組合物去除劑，其中非無質子極性溶劑的其他溶劑是選自二醇醚類、二醇醚羧酸酯類、羧酸酯類、羥基羧酸酯類、酮類、醇類、烷氧基羧酸酯類和環(huán)醚類的至少一種。
11.如1到10中任意一項中所述的光敏組合物去除劑，用于除去含有顏料的光敏組合物。
12.如1到10中任意一項中所述的光敏組合物去除劑，用于除去含有顏料的丙烯酸型光敏組合物。
本發(fā)明的去除劑的有用之處在于它展現出在除去留在基底周圍、邊緣或背面、含有顏料的未固化光敏組合物膜，或除去在液晶或有機EL顯示器的生產過程中用來在基底上形成光敏組合物膜的方法中系統部件或設備的表面上所沉積的含有顏料的未固化光敏組合物的效用。
實施本發(fā)明的最佳模式下面將對本發(fā)明的光敏組合物去除劑進行說明。
本發(fā)明的光敏組合物去除劑(在下文中稱作“去除劑”)被用來除去未固化的光敏組合物。它含有至少一種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴。內容物比例為1到80質量％。
本發(fā)明所用的分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴是被一個或多個烷基取代的芳香烴。可以提及烷基苯、烷基萘等。烷基可以是直鏈或支鏈。兩個或多個基團可連接起來形成環(huán)狀結構。芳香烴的碳原子數至少為9個，但優(yōu)選不超過12個。分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴的具體例子包括，但不限于，1，2，3-三甲基苯、1，2，4-三甲基苯、1，3，5-三甲基苯、1-乙基-2-甲基苯、1-乙基-3-甲基苯、1-乙基-4-甲基苯、正丙基苯、異丙基苯、正丁基苯、仲丁基苯、異丁基苯、1，2，3，4-四甲基苯、1，2，3，5-四甲基苯、1，2，4，5-四甲基苯、1，2-二甲基-3-乙基苯、1，2-二甲基-4-乙基苯、1，3-二甲基-2-乙基苯、1，3-二甲基-4-乙基苯、1，3-二甲基-5-乙基苯、1，4-二甲基-2-乙基苯、1-甲基-2-丙基苯、1-甲基-3-丙基苯、1-甲基-4-丙基苯、1-甲基-2-異丙基苯、1-甲基-3-異丙基苯、1-甲基-4-異丙基苯、1，2-二乙基苯、1，3-二乙基苯、1，4-二乙基苯、戊苯、甲基丁基苯、乙基丙基苯、二甲基丙基苯、甲基二乙基苯、三甲基乙基苯、五甲基苯、己基苯、甲基戊基苯、乙基丁基苯、二甲基丁基苯、二丙基苯、甲基乙基丙基苯、三甲基丙基苯、三乙基苯、二甲基二乙基苯、四甲基乙基苯、六甲基苯、1，2-二氫化茚、四氫化萘或其他烷基苯和甲基萘、二甲基萘，或其他烷基萘。
在光敏組合物去除劑中，這些芳香烴可以單獨或兩種或多種組合使用。
在這些當中，從高性能除去光敏組合物的角度，尤其是在除去含有顏料的光敏組合物性能而且另外具有適于除去光敏組合物的干燥特性的方面，優(yōu)選熔點在150到250℃的烷基苯。
在這些當中，尤其優(yōu)選C9或C10烷基苯。其具體例子包括1，2，3-三甲基苯、1，2，4-三甲基苯、1，3，5-三甲基苯、1-乙基-4-甲基苯、1-乙基-3-甲基苯、1-乙基-4-甲基苯、正丙基苯、異丙基苯、正丁基苯、仲丁基苯、異丁基苯、1，2，3，4-四甲基苯、1，2，3，5-四甲基苯、1，2，4，5-四甲基苯、1，2-二甲基-3-乙基苯、1，2-二甲基-4-乙基苯、1，3-二甲基-2-乙基苯、1，3-二甲基-4-乙基苯、1，3-二甲基-5-乙基苯、1，4-二甲基-2-乙基苯、1-甲基-2-丙基苯、1-甲基-3-丙基苯、1-甲基-4-丙基苯、1-甲基-2-異丙基苯、1-甲基-3-異丙基苯、1-甲基-4-異丙基苯、1，2-二乙基苯、1，3-二乙基苯和1，4-二乙基苯。
在本發(fā)明去除劑的實際使用中，可通過任意的方法來制備芳香烴，但使用具有高芳香成分比率的溶劑石腦油，例如基本為C9烷基苯的混合溶劑，是有效的。芳香烴的混合物，如基本為C9烷基苯的混合溶劑、基本為C10烷基苯的混合溶劑以及基本為C10烷基苯-烷基萘的混合溶劑適合用于本發(fā)明的去除劑?；緸镃9烷基苯的混合溶劑的具體例子包括Shellsol A(商標名；由Shell Chemical生產，初餾點160℃和干點182℃)，Solvesso100(商標名；由Exxon Chemical生產，初餾點164℃和干點176℃)，Swasol1000(商標名；由Maruzen Petrochemical生產，初餾點161℃和干點179℃)，Ipsol 100(商標名；由Idemitsu Petrochemical生產，初餾點162℃和干點179℃)，Hisol 100(商標名；由Nippon Petrochemical生產，初餾點155℃和干點180℃)，Solfine-TM(商標名；由Showa Denko生產，初餾點160℃和干點180℃)?；緸镃10烷基苯的混合溶劑的具體例子包括Shellsol AB(商標名；由Shell Chemical生產，初餾點187℃和干點213℃)，Solvesso 150(商標名；由Exxon Chemical生產，初餾點188℃和干點209℃)，Swasol 1500(商標名；由Maruzen Petrochemical生產，初餾點180.5℃和干點208.5℃)，Ipsol 150(商標名；由IdemitsuPetrochemical生產，初餾點186℃和干點205℃)，Hisol 150(商標名；由Nippon Petrochemical生產，初餾點182℃和干點216℃)，Solfine-WZ(商標名；由Showa Denko生產，初餾點195℃和干點250℃)?；緸镃10烷基苯-烷基萘的混合溶劑的具體例子包括Swasol 1800(商標名；由Maruzen Petrochemical生產，初餾點195.5℃和干點245℃)。
本發(fā)明的去除劑含有1到80質量％，優(yōu)選3到70質量％，更優(yōu)選5到60質量％，甚至更優(yōu)選10到40質量％的上述芳香烴。如果含量不低于1質量％，就會表現出除去光敏組合物的性能，尤其是分散和除去含顏料的光敏組合物中的顏料的性能。另一方面，如果含量不高于80質量％，溶解光敏組合物中所含的樹脂成分的性能就不會下降，結果除去光敏組合物的性能沒有下降，因此優(yōu)選。
本發(fā)明的去除劑可含有1到80質量％的無質子極性溶劑。無質子極性溶劑是一種具有低質子供體功能的溶劑。無質子極性溶劑的具體例子包括甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-乙基甲酰胺、N，N-二乙基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、四甲基脲和其他鏈狀酰胺化合物；N-甲基-2-吡咯烷酮、N-甲基咪唑啉酮和其他環(huán)狀酰胺化合物；二甲基亞砜、環(huán)丁砜和其它含硫的化合物；以及γ-丁內酯和其他環(huán)酯。
在這些當中，從提高溶解掉光敏組合物的角度，優(yōu)選N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基亞砜和γ-丁內酯。本發(fā)明的光敏組合物中所含的無質子極性溶劑可以單獨或兩種或多種組合使用。
當含有無質子極性溶劑時，無質子極性溶劑的含量優(yōu)選為1到80質量％，更優(yōu)選為3到80質量％。當無質子極性溶劑的含量不超過80質量％時，清洗后干燥特性沒有變差。此外，對于含顏料的光敏組合物，顏料不會沉淀，因此優(yōu)選。
本發(fā)明的去除劑也可含有一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑。也就是說，本發(fā)明的去除劑也可以是以下的任意組合一種或多種芳香烴和一種或多種無質子極性溶劑的組合，一種或多種芳香烴和一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組合以及一種或多種芳香烴、一種或多種無質子極性溶劑和一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組合。
優(yōu)選本發(fā)明的去除劑具有選自下列的組成當去除劑基本由第一組分和第二組分組成時，20到80質量％一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴(在下文中稱作第一組分)和20到80質量％一種或多種無質子極性溶劑(在下文中稱作第二組分)的組成；當去除劑基本由第一組分和第三組分組成時，10到20質量％的第一組分和80到90質量％一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑(在下文中稱作第三組分)的組成；和當去除劑含有第一組分、第二組分和第三組分時，20到30質量％的第一組分、1到20質量％的第二組分和55到70質量％的第三組分的組成。
更優(yōu)選本發(fā)明的去除劑具有選自下列的組成當去除劑基本由第一組分和第二組分組成時，20到40質量％的第一組分和60到80質量％的第二組分的組成；當去除劑基本由第一組分和第三組分組成時，10到20質量％的第一組分和80到90質量％的第三組分的組成，其中去除劑含有30到60質量％的丙二醇單甲醚(它是一種非無質子極性溶劑的其他溶劑之一)；和當去除劑含有第一組分、第二組分和第三組分時，20到30質量％的第一組分、3到20質量％的第二組分和55到70質量％的第三組分的組成，第二組分為選自N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺的至少一種，而第三組分為選自丙二醇單甲醚醋酸酯、環(huán)己酮、3-甲氧基丙酸甲酯和3-乙氧基丙酸乙酯的至少一種。
當本發(fā)明的去除劑基本由第一組分和第二組分組成時，其組成為20到80質量％的第一組分和20到80質量％的第二組分。優(yōu)選其組成為20到40質量％的第一組分和60到80質量％的第二組分。更優(yōu)選其組成為20到40質量％的第一組分和60到80質量％的第二組分并且第一組分是選自Solvesso 100(商標名)和Solfine-TM(商標名)的至少一種且第二組分是選自γ-丁內酯和N，N-二甲基乙酰胺的至少一種。
當本發(fā)明的去除劑基本由第一組分和第三組分組成時，其組成為10到20質量％的第一組分和80到90質量％的第三組分。優(yōu)選其組成為10到20質量％的第一組分和80到90質量％的第三組分，并且含有30到60質量％的丙二醇單甲醚(它是第三組分之一)。更優(yōu)選其組成為10到20質量％的第一組分和80到90質量％的第三組分，其含有30到60質量％的丙二醇單甲醚，并且第一組分是選自1，2，4-三甲基苯、異丙基苯、Solvesso100(商標名)和Solfine-TM(商標名)的至少一種，并且第三組分含有丙二醇單甲醚和選自丙二醇單甲醚醋酸酯、環(huán)己酮、乙酸丁酯和3-甲氧基丙酸甲酯的至少一種。
當本發(fā)明的去除劑含有第一組分、第二組分和第三組分時，其組成為20到30質量％的第一組分、1到20質量％的第二組分和55到70質量％的第三組分。優(yōu)選其組成為20到30質量％的第一組分，3到20質量％的第二組分和55到70質量％的第三組分。更優(yōu)選其組成為20到30質量％的第一組分，3到20質量％的第二組分和55到70質量％的第三組分，第二組分為選自N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺的至少一種，而第三組分為選自丙二醇單甲醚醋酸酯、環(huán)己酮、3-甲氧基丙酸甲酯和3-乙氧基丙酸乙酯的至少一種。甚至更優(yōu)選其組成為20到30質量％的第一組分，3到20質量％的第二組分和55到70質量％的第三組分，且第一組分為選自1，2，4-三甲基苯、異丙基苯、Solvesso 100(商標名)和Solfine-TM(商標名)的至少一種，第二組分為選自N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺的至少一種，并且第三組分為選自丙二醇單甲醚醋酸酯、環(huán)己酮、3-甲氧基丙酸甲酯和3-乙氧基丙酸乙酯的至少一種。
非無質子極性溶劑的其他溶劑的例子包括二醇醚、二醇醚羧酸酯、羧酸酯、羥基羧酸酯、酮、醇、烷氧基羧酸酯和環(huán)醚。
非無質子極性溶劑的其他溶劑的具體例子包括乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丙醚、乙二醇異丙醚、乙二醇單正丁醚、二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、二甘醇單丙醚、二甘醇單正丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇乙基甲基醚、二甘醇二乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單正丁醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇二甲醚、三丙二醇單甲醚和其他二醇醚類；乙二醇單甲醚醋酸酯、乙二醇單乙醚醋酸酯、乙二醇單丁醚醋酸酯、二甘醇單甲醚醋酸酯、二甘醇單乙醚醋酸酯、二甘醇單丁醚醋酸酯、丙二醇單甲醚醋酸酯和其他二醇醚羧酸酯類；醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸正丁酯、醋酸仲丁酯、醋酸異丁酯、醋酸戊酯、醋酸己酯、醋酸環(huán)己酯、丙酸丁酯、丙酸戊酯、丁酸丙酯、丁酸丁酯、苯甲酸甲酯、苯甲酸乙酯、草酸二甲酯、草酸二乙酯、琥珀酸二甲酯、馬來酸二甲酯、馬來酸二乙酯、碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯和其他羧酸酯類；乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、α-羥基異丁酸甲酯和其他羥基羧酸酯類；丙酮、甲基乙基酮、二異丁基酮、甲基異丁基酮、甲基正丁基酮、二異丙基酮、甲基正戊基酮、甲基異戊基酮、3-甲基-2-己酮、4-甲基-2-己酮、甲基正己基酮、甲基異己基酮、4-甲基-2-庚酮、5-甲基-2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、2，6-二甲基-4-庚酮、環(huán)戊酮、環(huán)己酮和其他酮類；丁醇、正戊醇、異戊醇、苯甲醇、環(huán)己醇、糠醇和其他醇類；2-甲氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸乙酯、2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、2-羥基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、β-甲氧基異丁酸甲酯和其他烷氧基羧酸酯類；四氫呋喃、1，3-二氧戊環(huán)、1，4-二氧戊環(huán)和其他環(huán)醚類。
在這些非無質子極性溶劑的其他溶劑中，二醇醚類、二醇醚羧酸酯類、羧酸酯類、烷氧基羧酸酯類、酮類和醇類提高了洗掉光敏組合物的能力并賦予洗去去除劑所需的適宜的干燥特性，并優(yōu)選它們。其優(yōu)選的具體例子包括丙二醇單甲醚、二丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚醋酸酯、醋酸丁酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸甲酯、環(huán)己酮和正丁醇。其更優(yōu)選的具體例子包括丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚醋酸酯、醋酸丁酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯和環(huán)己酮。非無質子極性溶劑的其他溶劑也可單獨或兩種或多種組合使用。
以下，將對本發(fā)明的去除劑所適用的光敏組合物進行說明。
本發(fā)明的去除劑所適用的光敏組合物一般是用于制備各種電子部件如液晶顯示器或有機EL顯示器以及半導體的光敏組合物。特別地，本發(fā)明的去除劑適用于除去液晶顯示器、有機EL顯示器等所用的含有顏料的光敏組合物。這些光敏組合物通常都含有一種可被堿顯像的成膜物質和光敏物質。含有顏料的光敏組合物可進一步含有顏料和分散劑。光敏組合物中所含的成膜物質的例子包括丙烯酸型樹脂、基于線型酚醛清漆的樹脂、基于聚酰亞胺的樹脂、基于聚乙烯基苯酚的樹脂等，但本發(fā)明可特別適合用來除去含丙烯酸型樹脂作為成膜物質的光敏組合物。
可將本發(fā)明的去除劑用來除去被涂到或沉積到要被清洗的物體上的狀態(tài)下的光敏組合物。特別地，它可能適合用來除去光敏作用前的光敏組合物。光敏組合物可以處在包含于溶劑中的狀態(tài)或可以處于溶劑蒸發(fā)后的狀態(tài)中。
對于除去光敏組合物的方法，可以提及通過從噴嘴等將本去除劑以射流、小液滴或霧狀的形態(tài)噴到要清洗的物體(在它上面涂有或沉積有光敏組合物)上去除的方法，將要清洗的物體浸入本發(fā)明去除劑中的方法等。為了有效的去除，也可能結合超聲波照射或用刷子進行物理清洗等。
本發(fā)明的另一個實現方案是將用上面提及的去除劑除去未固化的光敏組合物所得到的在其上有光敏組合物膜的基質(這些基質被用在液晶顯示器、有機EL顯示器、半導體等的生產過程中)。
實施例下面，這些實施例被用來解釋本發(fā)明，但本發(fā)明當然不以任何的方式受限于這些實施例。
注意，通過目測觀察浸入到去除劑3分鐘后有色光敏組合物的溶解狀況，分三級來評估可凈化性。
G(好)完全除去F(普通)部分溶解P(差)幾乎沒有溶解<制備實施例1>丙烯酸型共聚物的制備往裝備有滴液漏斗、溫度計、冷凝器和攪拌器的四頸燒瓶中裝入12.0質量份的甲基丙烯酸(MA)，14.0質量份的甲基丙烯酸甲酯(MMA)，43.0質量份的甲基丙烯酸正丁酯(BMA)，6.0質量份的丙烯酸2-羥基乙酯(HEMA)和225.0質量份的乙基纖維素醋酸酯(EGA)。用氮氣置換四頸燒瓶中的空氣1小時。此外，用油浴將內容物加熱到90℃，然后在1小時內逐滴加入12.0質量份MA，14.0質量份MMA，43.0質量份BMA，6.0質量份HEMA，225.0質量份EGA和3.2質量份2，2’-偶氮雙異丁腈(AIBN)的混合物。允許進行聚合3小時，然后另外添加1.0質量份AIBN和15.0質量份EGA的混合物并將內容物升溫到100℃，允許聚合1.5小時，然后讓它冷卻。按這種方式所獲得的丙烯酸型共聚物的固體含量為22.1質量％，酸值為92mgKOH/g，通過GC測到的轉換成聚苯乙烯的質量平均分子量為22000。
<制備實施例2>有色光敏組合物A的制備黑色光敏組合物將30.0質量份的在制備實施例1中所得到的丙烯酸型共聚物(固體6.6質量份)，5.0質量份的EGA，3.3質量份的Flowlen DOPA-33(商標名；由Kyoeisha Chemical所生產的分散劑，固含量為30質量％)和6.6質量份的Special Black 4(碳黑，由Degussa生產)混合，然后放置過夜。將混合物進一步攪拌1小時，然后經過三輥磨(由Kodaira Seisakusho制造，型號RIII-1RM-2)四次。將EGA添加到所獲得的黑墨中來調節(jié)濃度，以獲得固含量為18.0質量％的黑色組合物。
往100質量份的以這種方式所獲得的黑色組合物中加入4.4質量份的六丙烯酸二季戊四醇酯，2.2質量份的2-(4-甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪和25質量份的EGA并充分攪拌，以獲得有色光敏組合物A。
<制備實施例3>有色光敏組合物B的制備綠色有色光敏組合物將30.0質量份的在制備實施例1中所得到的丙烯酸型共聚物(固體6.6質量份)，5.0質量份的EGA，3.3質量份的Flowlen DOPA-33(商標名；由Kyoeisha Chemical所生產的分散劑，固含量為30質量％)和6.6質量份的Pigment Green 36混合，然后放置過夜。將混合物進一步攪拌1小時，然后經過三輥磨(由Kodaira Seisakusho制造，型號RIII-1RM-2)四次。將EGA添加到所獲得的綠墨中來調節(jié)濃度，以獲得固含量為18.0質量％的綠色組合物。
往100質量份的以這種方式所獲得的綠色組合物中加入4.4質量份的六丙烯酸二季戊四醇酯，0.7質量份的4，4’-雙(N，N-二乙基氨基)二苯甲酮，2.3質量份的2，2’-雙(鄰位-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-二咪唑，3.8質量份的三羥甲基丙烷三硫丙酸酯和42質量份的EGA并充分攪拌，以獲得有色光敏組合物B。
<制備實施例4>有色光敏組合物C的制備紅色有色光敏組合物將30.0質量份的在制備實施例1中所得到的丙烯酸型共聚物(固體6.6質量份)，5.0質量份的EGA，3.3質量份的Flowlen DOPA-33(商標名；由Kyoeisha Chemical所生產的分散劑，固含量為30質量％)和6.6質量份的Pigment Red 177混合，然后放置過夜。將混合物進一步攪拌1小時，然后經過三輥磨(由Kodaira Seisakusho制造，型號RIII-1RM-2)四次。將EGA添加到所獲得的紅墨中來調節(jié)濃度，以獲得固含量為18.0質量％的紅色組合物。
往100質量份的以這種方式所獲得的紅色組合物中加入4.4質量份的六丙烯酸二季戊四醇酯，3.0質量份的Irgacure 369(由Ciba SpecialtyChemicals生產)，3.8質量份的三羥甲基丙烷三硫丙酸酯和42質量份的EGA并充分攪拌，以獲得有色光敏組合物C。
<制備實施例5>有色光敏組合物D的制備藍色有色光敏組合物將30.0質量份的在制備實施例1中所得到的丙烯酸型共聚物(固體6.6質量份)，5.0質量份的EGA，3.3質量份的Flowlen DOPA-33(商標名；由Kyoeisha Chemical所生產的分散劑，固含量為30質量％)，6質量份的Pigment Blue 15:6和0.6質量份的Pigment Violet 23混合，然后放置過夜。將混合物進一步攪拌1小時，然后經過三輥磨(由Kodaira Seisakusho制造，型號RIII-1RM-2)四次。將EGA添加到所獲得的藍墨中來調節(jié)濃度，以獲得固含量為18.0質量％的藍色組合物。
往100質量份的以這種方式所獲得的藍色組合物中加入4.4質量份的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，3.0質量份的2-(4-氨基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪，3.8質量份的三羥甲基丙烷三硫丙酸酯和42質量份的EGA并充分攪拌，以獲得有色光敏組合物D。
實施例1將在制備實施例2到制備實施例5所制得的有色光敏組合物A到有色光敏組合物D各自一滴，滴到玻璃板(28mm×76mm)上，然后在室溫下干燥24小時。
將其浸入到含混合在一起的80g的Solvesso 100(商標名；由ExxonChemical生產，初餾點為164℃和干點為176℃)和20g的N，N-二甲基甲酰胺的去除劑中3分鐘，讓其靜置，并使涂在其表面上的有色光敏組合物被洗掉。結果如表1所示。
實施例2到24和對比例1到5用在表1中所示的組合物去除劑，按與實施例1相同的方式，除去有色光敏組合物。結果如表1所示。


縮寫MS1，3，5-三甲基苯 GBL γ-丁內酯TMB 1，2，4-三甲基苯 PMA 丙二醇單甲醚醋酸酯CUM 異丙基苯 PM丙二醇單甲醚S-100 Solvesso100(商標名；由Exxon Chemical生產) CYA 環(huán)己酮S-TM Solfine-TM(商標名；由Showa Denko生產) BA醋酸丁酯DMF N，N-二甲基甲酰胺 MMP 3-甲氧基丙酸甲酯DMAC N，N-二甲基乙酰胺 EEP 3-乙氧基丙酸乙酯DMSO 二甲基亞砜工業(yè)應用本發(fā)明的去除劑可用來除去沉積在基質周圍、邊緣或背面處不需要的未固化光敏組合物，或用來除去在涂布光敏組合物以生產液晶顯示器、有機EL顯示器或半導體的方法中沉積在部分或全部的涂布系統處不需要的未固化光敏組合物。
尤其是，優(yōu)選將它用在用于液晶顯示器或有機EL顯示器所用的濾色器的生產方法中的含有顏料的光敏組合物的涂布方法中。
同樣也優(yōu)選將本發(fā)明的去除劑用作所謂的邊緣清洗或背面清洗的清洗劑，用來除去通過旋涂法將光敏組合物涂布在基質上時基質周圍、邊緣或背面處未固化的光敏組合物，或用作所謂的杯清洗劑，用來洗掉旋涂時濺在杯子中的光敏組合物。
除了旋涂法，縫隙涂布法、拉絲錠涂布法、輥涂法等是已知的將光敏組合物涂布到基質上的方法。本發(fā)明的去除劑適合用來除去沉積在縫隙噴嘴、拉絲錠、印刷版或涂布系統的設備或部件的其他表面上的未固化光敏組合物。
權利要求
1.光敏組合物去除劑，用于除去未固化光敏組合物，該去除劑含有1到80質量％的至少一種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴。
2.如權利要求1中所述的光敏組合物去除劑，其中分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴是沸點在150到250℃的烷基苯。
3.如權利要求1或2中所述的光敏組合物去除劑，其具有選自下列的組成當去除劑基本由一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴以及一種或多種無質子極性溶劑組成時，20到80質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和20到80質量％的一種或多種無質子極性溶劑的組成；當去除劑基本由一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴以及一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑組成時，10到20質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和80到90質量％一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組成；以及當去除劑含有一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴、一種或多種無質子極性溶劑以及一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑時，20到30質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴、1到20質量％的一種或多種無質子極性溶劑和55到70質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組成。
4.如權利要求1到3中任意一項所述的光敏組合物去除劑，其具有選自下列的組成當去除劑基本由一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴以及一種或多種無質子極性溶劑組成時，20到40質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和60到80質量％的一種或多種無質子極性溶劑的組成；當去除劑基本由一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴以及一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑組成時，10到20質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和80到90質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組成，其中去除劑含有30到60質量％的丙二醇單甲醚；以及當去除劑含有一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴、一種或多種無質子極性溶劑以及一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑時，20到30質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴、3到20質量％的一種或多種無質子極性溶劑和55到70質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑的組成，無質子極性溶劑是選自N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺的至少一種，且非無質子極性溶劑的其他溶劑是選自丙二醇單甲醚醋酸酯、環(huán)己酮、3-甲氧基丙酸甲酯和3-乙氧基丙酸乙酯的至少一種。
5.如權利要求1或2所述的光敏組合物去除劑，其含有20到40質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和60到80質量％的一種或多種無質子極性溶劑。
6.如權利要求1或2中所述的光敏組合物去除劑，其含有10到20質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴和80到90質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑，其中去除劑含有30到60質量％的丙二醇單甲醚。
7.如權利要求1或2中所述的光敏組合物去除劑，其含有20到30質量％的一種或多種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴，3到20質量％的無質子極性溶劑和55到70質量％的一種或多種非無質子極性溶劑的其他溶劑，其中無質子溶劑是選自N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺的至少一種，且非無質子極性溶劑的其他溶劑是選自丙二醇單甲醚醋酸酯、環(huán)己酮、3-甲氧基丙酸甲酯和3-乙氧基丙酸乙酯的至少一種。
8.如權利要求3到5中任意一項中所述的光敏組合物去除劑，其中無質子極性溶劑是選自鏈狀酰胺化合物、環(huán)狀酰胺化合物、含硫化合物和環(huán)酯的至少一種。
9.如權利要求3到5中任意一項中所述的光敏組合物去除劑，其中無質子極性溶劑是選自甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-乙基甲酰胺、N，N-二乙基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、四甲基脲、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-甲基咪唑啉酮、二甲基亞砜、環(huán)丁砜和γ-丁內酯的至少一種。
10.如權利要求6中所述的光敏組合物去除劑，其中非無質子極性溶劑的其他溶劑是選自二醇醚類、二醇醚羧酸酯類、羧酸酯類、羥基羧酸酯類、酮類、醇類、烷氧基羧酸酯類和環(huán)醚類的至少一種。
11.如權利要求1到10中任意一項中所述的光敏組合物去除劑，用于除去含有顏料的光敏組合物。
12.如權利要求1到10中任意一項中所述的光敏組合物去除劑，用于除去含有顏料的丙烯酸型光敏組合物。
全文摘要
一種光敏組合物去除劑，用于除去未固化光敏組合物，該去除劑含有1到80質量％的至少一種分子中有9個或更多個碳原子的芳香烴。所述光敏組合物去除劑還含有無質子極性溶劑以及非無質子極性溶劑的其他溶劑。所述光敏組合物去除劑對于除去沉積在基質周圍、邊緣或背面處不需要的未固化光敏組合物或除去沉積在用于在玻璃基底、半導體晶片等上形成光敏組合物膜的方法中的系統部件或設備表面的未固化光敏組合物有效。所述光敏組合物去除劑優(yōu)選用于在生產液晶顯示器、有機EL顯示器的方法中在在基底上形成光敏組合物層的方法中使用的含有顏料的光敏組合物。
文檔編號G03F7/32GK1894629SQ20048003724
公開日2007年1月10日 申請日期2004年12月14日 優(yōu)先權日2003年12月16日
發(fā)明者金田昌人, 三河泰廣, 清水孝二 申請人:昭和電工株式會社