測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置的制造方法

專利名稱:測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及高功率激光聚焦光斑強度分布測量分析領域，尤其指一種測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置。激光束依次經過聚焦系統、第一反射鏡、第二反射鏡和光束分析儀；激光束經過聚焦系統形成聚焦光斑，經過第一反射鏡、第二反射鏡形成軸外點；由第一反射鏡和第二反射鏡組成一倍遠心反射式成像系統；第一反射鏡的第一球面和第二反射鏡的第二球面共球心，且第一球面的曲率半徑是第二球面的曲率半徑的兩倍；所述聚焦光斑位于反射鏡組的球心面的軸外，成像于軸外點，即對稱分布在光軸兩側；光束分析儀對軸外點的成像光斑進行分析，直接測量聚焦光斑分布。
【專利說明】
測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及高功率激光聚焦光斑強度分布測量分析領域，，尤其指一種測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置。
【背景技術】
[0002]激光束經聚焦系統在焦平面形成聚焦光斑，對高功率激光而言，聚焦光斑功率密度是非常高，目前雖有光束分析測量儀器對焦光斑強度分布進行測量，都是間接測量的方式，還未發現直接測量聚焦光斑分布的測量儀器。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置，用以克服現有技術的不足。
[0004]本實用新型通過以下技術方案實現，激光束依次經過聚焦系統、第一反射鏡、第二反射鏡和光束分析儀；
[0005]激光束經過聚焦系統形成聚焦光斑，經過第一反射鏡、第二反射鏡形成軸外點；
[0006]由第一反射鏡和第二反射鏡組成一倍遠心反射式成像系統;第一反射鏡的第一球面和第二反射鏡的第二球面共球心，且第一球面的曲率半徑是第二球面的曲率半徑的兩倍；
[0007]激光束通過反射式成像系統的多次部分反射，使入射的激光束多次衰減，并達到可以探測的強度水平;所述聚焦光斑位于反射鏡組的球心面的軸外，成像于軸外點，即對稱分布在光軸兩側;光束分析儀對軸外點的成像光斑進行分析，獲得強度分布。
[0008]實施例二，還包括設置在反射鏡組與光束分析儀之間的第三反射鏡和光學放大系統；
[0009]所述聚焦光斑位于反射鏡組的球心面的軸外，經反射式成像系統和第三反射鏡，成像于軸外點，即對稱分布在光軸兩側;再經過光學放大系統對軸外點的成像光斑進行放大，光束分析儀獲得更精細的強度分布。
[0010]所述第一反射鏡的第一球面的反射率為Rl，第二反射鏡的第二球面的反射率為R2 ；則衰減率可達Rl X R2 X Rl。
[0011]所述第一反射鏡的第一球面無鍍膜，反射率約為4%。
[0012]所述第二反射鏡的第二球面鍍高分膜，反射率約為99%。
[0013]本實用新型的優點是能直接測量聚焦光斑分布。
【附圖說明】

[0014]圖1為本實用新型結構不意圖。
[0015]圖2為本實用新型結構之二示意圖。
【具體實施方式】
[0016]具體實施例參見附圖進行說明，實施例一如圖1所示，激光束10依次經過聚焦系統20、第一反射鏡40、第二反射鏡50和光束分析儀70;
[0017]激光束10經過聚焦系統20形成聚焦光斑30，經過第一反射鏡40、第二反射鏡50形成軸外點60;
[0018]由第一反射鏡40和第二反射鏡50組成一倍遠心反射式成像系統100;第一反射鏡40的第一球面41和第二反射鏡50的第二球面51共球心，且第一球面41的曲率半徑是第二球面51的曲率半徑的兩倍;所述第一反射鏡40的第一球面41的反射率為Rl，第二反射鏡50的第二球面51的反射率為R2;則衰減率可達Rl X R2 X Rl。
[0019]激光束10通過反射式成像系統的多次部分反射，使入射的激光束10多次衰減，并達到可以探測的強度水平;所述聚焦光斑30位于反射鏡組的球心面的軸外，成像于軸外點60，即對稱分布在光軸兩側;光束分析儀70對軸外點60的成像光斑進行分析，獲得強度分布。
[0020]實施例二，參見附圖2，還包括設置在反射式成像系統100與光束分析儀70之間的第三反射鏡80和光學放大系統90;
[0021 ]所述聚焦光斑30位于反射鏡組的球心面的軸外，經反射式成像系統和第三反射鏡80，成像于軸外點60，即對稱分布在光軸兩側;再經過光學放大系統90對軸外點60的成像光斑進行放大，光束分析儀70獲得更精細的強度分布。
[0022]所述第一反射鏡40的第一球面41無鍍膜，反射率約為4%，即第一球面41為不鍍膜光學面。
[0023]所述第二反射鏡50的第二球面51鍍高分膜，反射率約為99%。這種結構有利于減小光束分析儀所在位置無雜散強激光。即第二反射鏡50的第二球面51的反射率接近100%。入射激光光束的功率為P，激光光束經本實用新型所述裝置后進入光束分析儀的功率為
0.16%*P。衰減率為 0.16%。
[0024]具體實施時，第一反射鏡40的第一球面41的曲率半徑為-1OOmm，第二反射鏡50的第二球面51的曲率半徑為-51.239mm，兩球面在光軸上的間距為48.759mm。聚焦光斑30離反射鏡系統光軸的距離為22mm。
【主權項】
1.測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置，其特征是， 激光束(10)依次經過聚焦系統(20)、第一反射鏡(40)、第二反射鏡(50)和光束分析儀(70)； 所述激光束(10)經過聚焦系統(20)形成聚焦光斑(30)，經過第一反射鏡(40)、第二反射鏡(50)形成軸外點(60); 由第一反射鏡(40)和第二反射鏡(50)組成一倍遠心反射式成像系統(100);第一反射鏡(40)的第一球面(41)和第二反射鏡(50)的第二球面(51)共球心，且第一球面(41)的曲率半徑是第二球面(51)的曲率半徑的兩倍； 所述聚焦光斑(30)位于反射鏡組的球心面的軸外，成像于軸外點(60)，即對稱分布在光軸兩側;光束分析儀(70)對軸外點(60)的成像光斑進行分析，獲得強度分布。2.根據權利要求1所述的測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置，其特征是，還包括設置在反射式成像系統(100)與光束分析儀(70)之間的第三反射鏡(80)和光學放大系統(90); 所述聚焦光斑(30)位于反射鏡組的球心面的軸外，經反射式成像系統和第三反射鏡(80)，成像于軸外點(60)，即對稱分布在光軸兩側;再經過光學放大系統(90)對軸外點(60)的成像光斑進行放大，光束分析儀(70)獲得更精細的強度分布。3.根據權利要求1或2所述的測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置，其特征是， 所述第一反射鏡(40)的第一球面(41)的反射率為Rl，第二反射鏡(50)的第二球面(51)的反射率為R2 ；則衰減率可達Rl X R2 X Rl。4.根據權利要求1或2所述的測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置，其特征是， 所述第一反射鏡(40)的第一球面(41)無鍍膜，反射率約為4%。5.根據權利要求1或2所述的測量高功率激光聚焦光斑強度分布的衰減裝置，其特征是，所述第二反射鏡(50)的第二球面(51)鍍高分膜，反射率約為99%。
【文檔編號】G01M11/02GK205691848SQ201620344783
【公開日】2016年11月16日
【申請日】2016年4月24日 公開號201620344783.X, CN 201620344783, CN 205691848 U, CN 205691848U, CN-U-205691848, CN201620344783, CN201620344783.X, CN205691848 U, CN205691848U
【發明人】鄢雨, 吳秀榕, 梁小生
【申請人】湖南戴斯光電有限公司