專利名稱：液晶顯示裝置及其制作方法
本申請要求2002年2月20日申請的第P2002-8900號韓國專利申請的權(quán)益，相對于本申請涉及的所有目的，在本申請中將上述申請以引用的形式加以結(jié)合。
這種LCD裝置包括下基板，上基板，和液晶層。在下基板上形成薄膜晶體管(TFT)和像素電極。上基板與下基板相對設(shè)置。在上基板上形成遮光層、濾色片層、和公用電極。在下基板和上基板之間設(shè)置液晶層。工作時(shí)，通過像素電極和公用電極在下基板和上基板之間形成電場，并由電場“驅(qū)動(dòng)”液晶層中的分子取向。通過驅(qū)動(dòng)液晶層控制光的透射率，從而顯示圖像。
在上述LCD裝置中，為了在下基板和上基板之間形成液晶層，通常采用以毛細(xì)管現(xiàn)象和壓力差為基礎(chǔ)的真空注入法。然而，這種真空注入法的問題在于，在將液晶注入大顯示板中時(shí)，需花費(fèi)很長時(shí)間，因此降低了生產(chǎn)率。
為了解決這一問題，而開發(fā)了一種將液晶置于一個(gè)基板上的方法。下面將參照
圖1A-1D進(jìn)行說明。盡管附圖中僅示出了一個(gè)單元盒，但是可以根據(jù)基板的尺寸制出多個(gè)單元盒。
如圖1A所示，準(zhǔn)備下基板1和上基板3。在下基板1上形成多條柵極線和數(shù)據(jù)線(未示出)。柵極線與數(shù)據(jù)線交叉形成像素區(qū)。在柵極線和數(shù)據(jù)線的每個(gè)交叉點(diǎn)上形成薄膜晶體管(未示出)。在像素區(qū)內(nèi)形成與薄膜晶體管相連的像素電極(未示出)。
在上基板3上形成遮光層(未示出)以防止光從柵極線、數(shù)據(jù)線和薄膜晶體管上泄漏。在遮光層上形成紅(R)、綠(G)和藍(lán)(B)濾色片層，并在濾色片層上形成公用電極。在下基板1和上基板3中的至少一個(gè)基板上形成定向膜(未示出)以便于液晶分子的初始取向。
如圖1B所示，在下基板1上設(shè)置密封劑7，并將液晶5施加到其上，由此形成液晶層。在上基板3上散布或噴灑襯墊料(未示出)以保持上基板和下基板之間的盒間隙。
在以液晶施加法為基礎(chǔ)制作LCD裝置的方法中，在密封劑7固化之前，在相互附著的基板上形成液晶層。所以，如果用熱固型密封劑作為密封劑7，則液晶在受熱時(shí)將變熱、膨脹并流出基板。因此，將出現(xiàn)液晶5受污染的問題。所以，在以液晶施加法為基礎(chǔ)制作LCD裝置的方法中，使用在紫外(UV)光作用下至少可局部固化的密封劑作為密封劑7。
通過絲網(wǎng)印刷法或分配法來布置UV密封劑。在絲網(wǎng)印刷法中，由于絲網(wǎng)與基板接觸，所以可能會(huì)損壞在基板上形成的定向膜。而且，如果基板的尺寸面積很大，則會(huì)增加密封劑的損耗?？紤]到這些方面，優(yōu)選使用分配法。
如圖1C所示，將下基板1附著到上基板3上。
如圖1D所示，通過UV輻射裝置9發(fā)射UV光使密封劑7固化。
此后，雖然未示出，但需進(jìn)行盒切割工序和最終的檢驗(yàn)工序，進(jìn)而制出液晶盒。
在此，圖2A和2B是表示用分配法布置UV密封劑的過程的透視圖。按照在基板彼此附著之前把液晶施加到其中一個(gè)基板上的方法，由于不需要液晶注入孔，所以可用分配裝置8在下基板1上形成沒有注入孔的密封劑7。
然而，由于密封劑7具有高粘稠度，所以在分配密封劑7之前，密封劑7會(huì)聚集在分配裝置8的噴嘴端部。因此，在開始將密封劑7沉積到基板上的點(diǎn)處會(huì)過量沉積密封劑7的液滴“A”。
如圖2C所示，當(dāng)將下基板1附著到上基板3上時(shí)，過量分布的密封劑分散到有源區(qū)(基板中部)和虛擬區(qū)(基板外部)。在這種情況下，會(huì)出現(xiàn)密封劑分散到有源區(qū)并污染液晶的問題，同時(shí)，特別是在密封劑固化后，分散到虛擬區(qū)的密封劑會(huì)對盒切割工序造成困難。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于，在其所提供的LCD裝置及其制作方法中，將密封劑布置成在將兩基板彼此附著時(shí)不會(huì)污染液晶而且能容易地進(jìn)行盒切割工序的形式。
本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在下面的說明中給出，其中一部分特征和優(yōu)點(diǎn)對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說在隨后的檢驗(yàn)中可以明顯得出或是通過本發(fā)明的實(shí)踐而得到。通過在文字說明部分、權(quán)利要求書以及附圖中特別指出的結(jié)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)和獲得本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點(diǎn)。
為了得到這些和其它優(yōu)點(diǎn)并根據(jù)本發(fā)明的目的，作為概括性的和廣義的描述，本發(fā)明所述制作LCD裝置的方法包括，準(zhǔn)備下基板和上基板；在下基板和上基板的其中之一上布置輔助密封劑并且接著布置主密封劑，其中將輔助密封劑布置在虛擬區(qū)內(nèi)并使其與主密封劑相接；將液晶施加于下基板和上基板中的一個(gè)基板上；將下基板和上基板附著到一起，并且至少使主密封劑固化。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，輔助的UV密封劑并不承擔(dān)密封劑的常規(guī)功能，即，其并不防止液晶泄漏。而主UV密封劑則起限制液晶范圍的密封劑的作用。
按照本發(fā)明的另一方面，所述制作液晶顯示器(LCD)裝置的方法包括，準(zhǔn)備下基板和上基板；在下基板和上基板的其中之一上布置輔助密封劑和主密封劑，其中將輔助密封劑布置在虛擬區(qū)內(nèi)并使其從主密封劑延出；將液晶施加于下基板和上基板中的一個(gè)基板上；將下基板和上基板附著到一起，并在附著的基板上照射UV光。
按照本發(fā)明的一個(gè)方面，將輔助UV密封劑布置在基板的虛擬區(qū)內(nèi)，然后布置封閉型主UV密封劑，從而將聚集在分配裝置噴嘴端部的密封劑布置到基板上的虛擬區(qū)內(nèi)。
很顯然，上面的一般性描述和下面的詳細(xì)說明都是示例性和解釋性的，其意在對本發(fā)明的權(quán)利要求作進(jìn)一步解釋。
附圖簡要說明本申請所包含的附圖用于進(jìn)一步理解本發(fā)明，其與說明書相結(jié)合并構(gòu)成本申請的一部分，所述附圖表示本發(fā)明的實(shí)施例并與說明書一起解釋本發(fā)明的原理。
附圖中圖1A-1D是表示按照現(xiàn)有技術(shù)的液晶施加法制作LCD裝置的方法透視圖；圖2A和2B是表示用現(xiàn)有技術(shù)的分配法布置UV密封劑的過程的透視圖；圖2C是表示在將基板彼此附著后用現(xiàn)有技術(shù)的分配法布置密封劑的透視圖；圖3A-3D是表示按照本發(fā)明的第一實(shí)施例所述制作LCD裝置的方法的透視圖；圖4A-4D是表示在按照本發(fā)明第二實(shí)施例所述制作LCD裝置的過程中布置UV密封劑的過程的透視圖；圖5A和5B是表示在按照本發(fā)明第三實(shí)施例所述制作LCD的方法中布置密封劑的過程的透視圖；圖6是表示按照本發(fā)明第四實(shí)施例所述LCD裝置的透視圖；和圖7A和7B是取自圖6中的線I-I的剖面圖。
圖3A-3D是表示按照本發(fā)明第一實(shí)施例所述制作LCD方法的透視圖。
盡管附圖中僅示出了一個(gè)單元盒，但是根據(jù)基板的尺寸可以制作多個(gè)單元盒。
如圖3A所示，為整個(gè)過程準(zhǔn)備下基板10和上基板30。在下基板10上形成多條柵極線和數(shù)據(jù)線(未示出)。柵極線與數(shù)據(jù)線交叉形成像素區(qū)。在柵極線和數(shù)據(jù)線的每個(gè)交叉點(diǎn)上形成具有柵極、柵極絕緣層、半導(dǎo)體層、歐姆接觸層、源/漏極、和保護(hù)層的薄膜晶體管(未示出)。在像素區(qū)內(nèi)形成與薄膜晶體管相連接的像素電極(未示出)。
在像素電極上形成供液晶分子初始取向的定向膜(未示出)。定向膜可以用經(jīng)摩擦的聚酰胺或聚酰亞胺基化合物、聚乙烯醇(PVA)、和聚酰胺酸制成。此外，也可以通過光學(xué)取向法用諸如聚乙烯肉桂酸鹽(PVCN)、聚硅氧烷肉桂酸鹽(PSCN)或肉桂酸鹽纖維素(CelCN)基化合物等光敏材料制作定向膜。
在上基板30上形成遮光層(未示出)以遮擋從柵極線、數(shù)據(jù)線和薄膜晶體管區(qū)漏出的光。在遮光層上形成R、G和B濾色片層(未示出)。在濾色片層上形成公用電極(未示出)。此外，可以在濾色片層和公用電極之間形成涂層(未示出)。在公用電極上形成定向膜。
在下基板10的外側(cè)形成銀(Ag)點(diǎn)以便在將下基板10和上基板30彼此附著后，向上基板30上的公用電極施加電壓。此外，也可以將銀點(diǎn)設(shè)置在上基板30上。
對面內(nèi)開關(guān)(IPS)模式的LCD而言，公用電極與像素電極一樣形成在下基板上，而且在公用電極和像素電極之間水平地感生電場。在基板上并不設(shè)置銀點(diǎn)。
如圖3B所示，在下基板10上設(shè)置液晶50以形成液晶層。
在上基板30的一個(gè)角區(qū)的虛擬區(qū)內(nèi)布置輔助的UV可固化密封劑70a，接著，用分配法布置沒有注入孔的主UV可固化密封劑70b。
輔助UV密封劑70a能防止可能因聚集在分配裝置噴嘴端部上的密封劑而引起的任何問題。因此，將輔助UV密封劑70a布置在基板虛擬區(qū)內(nèi)的哪個(gè)位置并不重要，只要形成的所有密封劑液滴都離開液晶顯示裝置的有源區(qū)并離開將液晶板從母基板組件上切下的區(qū)域即可。應(yīng)先布置輔助UV密封劑70a，然后布置主UV密封劑70b。可以將輔助UV密封劑70a布置成如圖中所示的直線狀。此外，也可以將輔助UV密封劑70a布置成曲線或其它形狀，只要是布置在虛擬區(qū)內(nèi)即可。
可以使用兩端與混合有引發(fā)劑的丙烯酸基偶聯(lián)的單體或低聚物作為UV密封劑70a和70b。此外，還可以使用一端與丙烯酸基偶聯(lián)而另一端與混合有引發(fā)劑的環(huán)氧基偶聯(lián)的單體或低聚物作為密封劑70a和70b。
而且，如果在主UV密封劑70b固化前使液晶與主UV密封劑70b接觸的話，液晶50會(huì)受到污染。因此，優(yōu)選將液晶50布置在下基板10的中部。在這種情況下，液晶50會(huì)在主UV密封劑70b固化后逐漸均勻地分散。這樣，就可使液晶50均勻地分布到基板上。
可以將液晶50設(shè)置在上基板30上而將UV密封劑70a和70b設(shè)置在下基板10上。但也可以將液晶50和UV密封劑70a、70b設(shè)置在一個(gè)基板上。在這種情況下，在制作過程中，在帶有液晶及密封劑的基板和不帶液晶及密封劑的基板的加工次數(shù)之間將出現(xiàn)不平衡。為此，會(huì)增加制作加工的總時(shí)間。而且，當(dāng)在一個(gè)基板上形成液晶和密封劑時(shí)，在將兩塊基板彼此附著之前，即使密封劑受到污染也不能清洗基板。
因此，在將UV密封劑70a、70b設(shè)置到上基板30上之后，在附著工序之前，需增設(shè)清洗上基板30的清洗工序。
同時(shí)，在兩個(gè)基板10和30中的任一個(gè)上布置襯墊料以保持盒間隙。優(yōu)選的是，在上基板30上設(shè)置襯墊料。
可以用球形或柱形襯墊料作為襯墊料使用?？梢杂眠@樣的方式設(shè)置球形襯墊料，即，把它們與合適濃度的溶液混合，然后從噴嘴高壓分散到基板上。將柱形襯墊料設(shè)置到與柵極線或數(shù)據(jù)線對應(yīng)的那部分基板上。對大尺寸基板而言，由于球形襯墊料可能會(huì)使盒間隙不均勻，所以，對于大尺寸基板優(yōu)選使用柱形襯墊料?？梢杂霉饷粲袡C(jī)樹脂制作柱形襯墊料。
如圖3C所示，通過下述步驟將下基板10和上基板30附著到一起。首先，將滴加了液晶的一塊基板放到下側(cè)。將另一塊基板旋轉(zhuǎn)180°后放到上側(cè)，并使其具有多層的部分面對下側(cè)的基板。然后，在上側(cè)基板上施壓，使兩塊基板彼此附著。此外，可以將基板之間的空間保持在真空狀態(tài)，從而可通過解除真空狀態(tài)使兩塊基板彼此附著在一起。
然后，如圖3D所示，通過UV輻射裝置90在相互附著的基板上照射UV光。
在照射UV光的過程中，被構(gòu)成UV密封劑的引發(fā)劑激活的單體或低聚物發(fā)生聚合和固化，從而將下基板10粘接到上基板30上。
如果用一端與丙烯酸基偶聯(lián)而另一端與混合有引發(fā)劑的環(huán)氧基偶聯(lián)的單體或低聚物作為UV密封劑，則通過施加UV光不會(huì)使環(huán)氧基完全聚合。所以在UV照射后，必須將密封劑在約120℃下另外加熱一小時(shí)，從而使密封劑完全固化。
此后，盡管沒有示出，但是將粘合的基板切割成單元盒并進(jìn)行最后的檢驗(yàn)工序。
在切割工序中，用筆或切割輪在基板的表面上形成切割線而完成劃線工序，筆或切割輪的材料硬度大于玻璃的硬度，例如可以是金剛石，然后通過機(jī)械撞擊(斷裂工序)沿切割線切割基板。此外，可以用金剛石或基他硬質(zhì)材料的筆或切割輪同時(shí)完成劃線和斷裂工序。
切割工序的切割線設(shè)置在可以是密封劑液滴A的輔助密封劑起點(diǎn)和與最初形成的輔助UV密封劑70a相交的主UV密封劑之間。最后，除去過量分布的輔助UV密封劑70a的實(shí)體部分。
圖4A-4D是表示在按照本發(fā)明第二實(shí)施例所述制作LCD裝置的方法中，照射UV光的工序的透視圖。第二實(shí)施例除了UV照射工序外，其他部分均與第一實(shí)施例相同。在第二實(shí)施例中，在照射UV光之前，用掩模蓋住不設(shè)置密封劑的區(qū)域。由于第二實(shí)施例的其他部件與第一實(shí)施例相同，所以將用相同的參考標(biāo)記表示相同的部件并且省略對這些部件的詳細(xì)說明。
如果將UV光照射到彼此附著的基板的整個(gè)表面上，UV光可能會(huì)使基板上的諸如薄膜晶體管等裝置的特性變壞并且可能會(huì)改變?yōu)槭挂壕С跏级ㄏ蚨O(shè)置的定向膜的預(yù)傾角。
因此，在本發(fā)明的第二實(shí)施例中，需在用掩模覆蓋不設(shè)置密封劑的區(qū)域時(shí)照射UV光。
參照圖4A，用掩模80覆蓋不設(shè)置輔助UV密封劑70a和主UV密封劑70b的區(qū)域。將掩模80置于相互附著的基板上側(cè)，并照射UV光。
而且，也可以將掩模80設(shè)在附著的基板下側(cè)。此外，盡管如圖中所示，在附著的基板上表面30上照射UV光，但是，也可以通過旋轉(zhuǎn)附著的基板而在下基板10上照射UV光。
如果來自UV輻射裝置90的UV光被反射并照射到相對側(cè)上，則可能如上所述使基板上諸如薄膜晶體管等裝置以及定向膜的特性變壞。因此，優(yōu)選將掩模設(shè)置在附著的基板的下側(cè)和上側(cè)。
也就是說，如圖4B所示，把覆蓋不設(shè)置密封劑70a和70b的區(qū)域的掩模80和82設(shè)置在互相附著的基板的上側(cè)和下側(cè)。然后在基板上照射UV光。
同時(shí)，由于輔助UV密封劑70a并不起密封劑的作用，所以并不需要固化。而且，由于在后面的盒切割工序中，輔助UV密封劑70a的區(qū)域與盒切割線重疊，所以，對于盒切割工序來說，更希望輔助UV密封劑70不固化。
參照圖4C和4D，當(dāng)用掩模只蓋住不設(shè)置主UV密封劑70b的區(qū)域，即用掩模同時(shí)蓋住輔助密封劑70a時(shí)，通過照射UV光不會(huì)使輔助UV密封劑70a固化。
在這種情況下，在圖4C中，在掩模80處于附著的基板下側(cè)或上側(cè)的情況下照射UV光。在圖4D中，在掩模80分別處于附著的基板下側(cè)和上側(cè)時(shí)照射UV光。
圖5A和5B是表示在按照本發(fā)明第三實(shí)施例所述制作LCD裝置的方法中，設(shè)置UV密封劑的工序的透視圖。
第三實(shí)施例除了UV照射工序外，其他部分均與第二實(shí)施例相同。在第三實(shí)施例中，以一定的傾斜角照射UV光。由于第三實(shí)施例的其它部件與第二實(shí)施例相同，所以將用相同的參考標(biāo)記表示相同的部件并且省略對它們的詳細(xì)說明。
如果在設(shè)有UV密封劑的區(qū)域上設(shè)置遮光層和諸如柵極線和數(shù)據(jù)線這樣的金屬線，則UV線將照射不到該區(qū)域，因此不會(huì)使密封劑固化。這樣，會(huì)降低下基板和上基板之間的附著力。
因此，在本發(fā)明的第三實(shí)施例中，UV光以一定的傾角照射在設(shè)有UV密封劑的基板上，所以，即使是在UV光照射表面和密封劑之間形成遮光層或金屬線層，UV密封劑也同樣能固化。
為了以一定傾角照射UV光，如圖5A中所示，水平設(shè)置附著的基板并將UV輻射裝置90設(shè)置成具有一定的傾角θ。此外，如圖5B所示，也可以將附著的基板設(shè)置成具有一定傾角而將UV輻射裝置90設(shè)置成水平狀態(tài)。
而且，當(dāng)用圖4A-4D所示掩模蓋住不設(shè)置密封劑的區(qū)域時(shí)，可以以一定傾角照射UV光。
圖6是表示按照本發(fā)明第四實(shí)施例所述LCD裝置的透視圖，圖7A和7B是取自圖6中線I-I和II-II的剖面圖。
如圖6和圖7所示，按照本發(fā)明所述的LCD裝置包括下基板10和上基板30，設(shè)在下基板10和上基板30之間的UV密封劑，所述密封劑包括設(shè)在虛擬區(qū)內(nèi)的輔助UV密封劑70a和與輔助UV密封劑70a相接的周邊主UV密封劑70b，在下基板10和上基板30之間設(shè)有液晶層50。
同時(shí)，盡管圖中未示出，但是在下基板10上設(shè)置薄膜晶體管、像素電極、和定向膜。在上基板30上設(shè)置黑底層(未示出)、濾色片層(未示出)、公用電極(未示出)和定向膜(未示出)。而且，在下基板10和上基板30之間設(shè)置襯墊料以保持基板之間的盒間隙。
如上所述，按照本發(fā)明所述的LCD裝置及其制作方法具有以下優(yōu)點(diǎn)。
由于是在基板的虛擬區(qū)內(nèi)布置聚集在分配裝置噴嘴端部的密封劑，所以不會(huì)因附著基板的工序而污染液晶層并且容易完成盒切割工序。
此外，當(dāng)在附著的基板下側(cè)和/或上側(cè)設(shè)置掩模時(shí)，如果在基板上照射UV光，則UV光僅照射到設(shè)有UV密封劑的區(qū)域。在這種情況下，不會(huì)損壞形成在基板上的定向膜，也不會(huì)使諸如薄膜晶體管等裝置的特性變壞。
最后，如果以一定的傾角照射UV光，即使是在密封劑上形成遮光層或金屬線，也能使密封劑固化，因此可避免下基板和上基板之間的附著力下降。
對于熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，很顯然，可以對本發(fā)明做出各種改進(jìn)和變型。因此，本發(fā)明意在覆蓋那些落入所附權(quán)利要求及其等同物范圍內(nèi)的改進(jìn)和變型。
權(quán)利要求
1.制作液晶顯示器(LCD)裝置的方法包括準(zhǔn)備下基板和上基板；在下基板和上基板的其中之一上布置輔助密封劑并且接著布置主密封劑，其中將輔助密封劑布置在虛擬區(qū)內(nèi)并使其與主密封劑相接；將液晶施加于下基板和上基板中的一個(gè)基板上；將下基板和上基板附著到一起，并且至少使主密封劑固化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過照射UV光使主密封劑和輔助密封劑至少部分固化而且固化主密封劑包括照射UV光。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中輔助密封劑和主密封劑彼此鄰接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中用兩端與丙烯酸基偶聯(lián)的低聚物構(gòu)成密封劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中用兩端與丙烯酸基偶聯(lián)的單體構(gòu)成密封劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中用一端與丙烯酸基偶聯(lián)而另一端與環(huán)氧基偶聯(lián)的低聚物構(gòu)成密封劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中用一端與丙烯酸基偶聯(lián)而另一端與環(huán)氧基偶聯(lián)的單體構(gòu)成密封劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，進(jìn)一步包括在照射UV光之后加熱密封劑。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，進(jìn)一步包括在照射UV光之后加熱密封劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，進(jìn)一步包括在照射UV光之后加熱密封劑。
11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中在用UV光照射期間，用掩模覆蓋不設(shè)置密封劑的區(qū)域。
12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中在用UV光照射期間，用掩模覆蓋不設(shè)置主UV密封劑的區(qū)域。
13.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中相對于附著的基板以一定的傾斜角照射UV光。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括在上基板上設(shè)置柱形襯墊料。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在上基板上形成主密封劑和輔助密封劑并且在下基板上施加液晶。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括切割附著的基板。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中穿過輔助密封劑部分切割附著的基板。
18.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，進(jìn)一步包括在照射UV光之前，在不設(shè)置主密封劑的區(qū)域上設(shè)置掩模，從而使輔助密封劑不暴露于UV光下；和切割附著的基板。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中施加液晶包括將液晶滴加到上基板和下基板中的一個(gè)基板上。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中將液晶按預(yù)定圖形施加在上基板和下基板中的一個(gè)基板上。
21.一種制作液晶顯示器(LCD)裝置的方法包括準(zhǔn)備下基板和上基板；在下基板和上基板的其中之一上布置輔助UV密封劑和主UV密封劑，其中將輔助UV密封劑布置在虛擬區(qū)內(nèi)并使其從主UV密封劑延出；將液晶施加于下基板和上基板中的一個(gè)基板上；將下基板和上基板附著到一起，和在附著的基板上照射UV光。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中使UV光相對于附著的基板以一定傾角照射。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種LCD裝置及其制造方法，其中在基板的虛擬區(qū)內(nèi)布置聚集在分配裝置噴嘴端部的密封劑，所以當(dāng)將基板彼此附著在一起時(shí)不會(huì)污染液晶層而且容易完成盒切割工序。本發(fā)明所述制作LCD裝置的方法包括，準(zhǔn)備下基板和上基板；在下基板和上基板之一的虛擬區(qū)內(nèi)布置輔助UV密封劑和主UV密封劑，將液晶施加于下基板和上基板中的一個(gè)基板上；將下基板和上基板附著到一起，和在附著的基板上照射UV光。
文檔編號G02F1/13GK1439914SQ0212947
公開日2003年9月3日 申請日期2002年8月22日 優(yōu)先權(quán)日2002年2月20日
發(fā)明者樸武烈, 丁圣守, 卞溶相 申請人:Lg.菲利浦Lcd株式會(huì)社