一種藝術雕刻巖畫的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種藝術雕刻巖畫，包括底層石基、雕刻層和噴繪層，所述底層石基的頂部設有凹槽，底層石基的頂部于凹槽的外側設有裝飾圈，裝飾圈的豎直部嵌裝于底層石基上，裝飾圈的水平部緊貼底層石基上表面設置，雕刻層為在底層石基的凹槽內雕刻形成的圖案，噴繪層是將色彩牢固涂覆在雕刻層上、或底層石基上、或底層石基與雕刻層上。本實用新型將底層石基材質設置為砂巖，明暗對比強烈，立體感凸出，更富于裝飾性，通過設置裝飾圈，既可以提升巖畫的裝飾效果，又可以通過裝飾圈對底層石基進行加固，降低底層石基出現裂紋的幾率，將雕刻層設于凹槽內，可以減少雕刻層上灰塵的粘附，降低清理頻率。
【專利說明】
一種藝術雕刻巖畫
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種工藝品，具體是一種藝術雕刻巖畫。
【背景技術】
[0002]中國巖畫分為南北兩個系統。南系除廣西左江流域，還有四川、云南、貴州、福建等地。南系巖畫大都以紅色涂繪，顏料是以赤鐵礦粉調合牛血等而成的。制作年代在戰國至東漢期間。北系以陰山、黑山、阿爾泰山等為主，綿延數千里，氣勢宏闊。北系巖畫大都是刻制的，刻制又包括磨制、敲鑿與線刻。很可惜的是我們只能在大自然中看見這種生動的巖畫，實現遠古時期原始藝術的回歸與升華，是擺在喜愛巖畫藝術或巖畫創作者面前的新課題。現有技術中的手工巖畫立體感不佳，明暗對比不夠強烈，紋路不夠清晰，裝飾性較差，此外，巖畫受環境影響容易出現微小裂紋，壽命較短，且巖畫上容易粘附灰塵，清理頻率較高，給人們帶來不便。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種藝術雕刻巖畫，以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0004]為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案:
[0005]—種藝術雕刻巖畫，包括底層石基、雕刻層和噴繪層，所述底層石基的頂部設有凹槽，所述底層石基的頂部于凹槽的外側設有裝飾圈，裝飾圈的豎直部嵌裝于底層石基上，裝飾圈的水平部緊貼底層石基上表面設置，所述雕刻層為在底層石基的凹槽內雕刻形成的圖案，所述噴繪層是將色彩牢固涂覆在雕刻層上、或底層石基上、或底層石基與雕刻層上。
[0006]作為本實用新型進一步的方案:所述底層石基為砂巖。
[0007]作為本實用新型進一步的方案:所述砂巖為合成砂巖、或復合砂巖、或無極砂巖。
[0008]作為本實用新型進一步的方案:所述底層石基表面呈砂粒狀。
[0009]作為本實用新型進一步的方案:所述凹槽的形狀與底層石基的形狀相同。
[0010]作為本實用新型進一步的方案:所述裝飾圈的形狀與底層石基的外圍輪廓相同。
[0011]作為本實用新型進一步的方案:所述裝飾圈的截面為“T”字形結構。
[0012]作為本實用新型進一步的方案:所述裝飾圈為鋁合金或銅合金加工制成。
[0013]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:將底層石基材質設置為砂巖，底層石基表面呈砂粒狀，有砂巖的天然質感，明暗對比強烈，立體感凸出，更富于裝飾性，且由于砂巖的表面粗糙，可形成光的散射，使其制品表面低處顯得更暗，比那些光潔石材制品的立體感更強，它的圖案紋路就特別清晰;通過設置裝飾圈，既可以提升巖畫的裝飾效果，又可以通過裝飾圈對底層石基進行加固，降低底層石基出現裂紋的幾率;將雕刻層設于凹槽內，可以減少雕刻層上灰塵的粘附，降低清理頻率。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0015]圖2為本實用新型的剖視示意圖。
[0016]圖中:1-底層石基，2-凹槽，3-裝飾圈，4-雕刻層，5-噴繪層。
【具體實施方式】
[0017]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0018]請參閱圖1?2，本實用新型實施例中，一種藝術雕刻巖畫，包括底層石基1、雕刻層4和噴繪層5，所述底層石基I為砂巖，砂巖為合成砂巖、或復合砂巖、或無極砂巖，底層石基I表面呈砂粒狀，有砂巖的天然質感，明暗對比強烈，立體感凸出，更富于裝飾性，且由于砂巖的表面粗糙，可形成光的散射，使其制品表面低處顯得更暗，比那些光潔石材制品的立體感更強，它的圖案紋路就特別清晰，裝飾性極好，所述底層石基I的形狀為規則的或不規則的，所述底層石基I的頂部設有凹槽2，凹槽2的形狀與底層石基I的形狀相同，所述底層石基I的頂部于凹槽2的外側設有裝飾圈3，裝飾圈3的形狀與底層石基I的外圍輪廓相同，所述裝飾圈3的截面為“T”字形結構，裝飾圈3的豎直部嵌裝于底層石基I上，裝飾圈3的水平部緊貼底層石基I上表面設置，所述裝飾圈3為鋁合金或銅合金加工制成，通過裝飾圈3既可以提升巖畫的裝飾效果，又可以通過裝飾圈3對底層石基I進行加固，降低底層石基I出現裂紋的幾率，所述雕刻層4為在底層石基I的凹槽2內雕刻形成的圖案，所述噴繪層5是將色彩牢固涂覆在雕刻層4上、或底層石基I上、或底層石基I與雕刻層4上。
[0019]對于本領域技術人員而言，顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節，而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實現本實用新型。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本實用新型內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。
[0020]此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領域技術人員應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術方案也可以經適當組合，形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。
【主權項】
1.一種藝術雕刻巖畫，包括底層石基、雕刻層和噴繪層，其特征在于，所述底層石基的頂部設有凹槽，所述底層石基的頂部于凹槽的外側設有裝飾圈，裝飾圈的豎直部嵌裝于底層石基上，裝飾圈的水平部緊貼底層石基上表面設置，所述雕刻層為在底層石基的凹槽內雕刻形成的圖案，所述噴繪層是將色彩牢固涂覆在雕刻層上、或底層石基上、或底層石基與雕刻層上。2.根據權利要求1所述的藝術雕刻巖畫，其特征在于，所述底層石基為砂巖。3.根據權利要求2所述的藝術雕刻巖畫，其特征在于，所述砂巖為合成砂巖、或復合砂巖、或無極砂巖。4.根據權利要求1或2所述的藝術雕刻巖畫，其特征在于，所述底層石基表面呈砂粒狀。5.根據權利要求1或2所述的藝術雕刻巖畫，其特征在于，所述凹槽的形狀與底層石基的形狀相同。6.根據權利要求1或2所述的藝術雕刻巖畫，其特征在于，所述裝飾圈的形狀與底層石基的外圍輪廓相同。7.根據權利要求6所述的藝術雕刻巖畫，其特征在于，所述裝飾圈的截面為“T”字形結構。8.根據權利要求7所述的藝術雕刻巖畫，其特征在于，所述裝飾圈為鋁合金或銅合金加工制成。
【文檔編號】B44C1/20GK205468229SQ201620303447
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年4月7日
【發明人】王海音, 王玉恒
【申請人】海南大學