一種雙色真空鍍膜工藝的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種雙色真空鍍膜工藝，包括以下步驟：在基材上用真空鍍膜工藝鍍制第一PVD膜；在第一PVD膜上涂覆漆膜；在漆膜上雕刻圖案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度；在雕刻出來的圖案上用真空鍍膜工藝鍍制第二PVD膜；去除漆膜。本發明雙色真空鍍膜工藝通過雕刻圖案，可以得到邊緣清晰度高的平面圖案或凹陷的立體圖案；圖案顏色豐富，可采用現有任意的PVD顏色，不局限于Ti、Zr靶材的顏色。
【專利說明】—種雙色真空鍍膜工藝
[【技術領域】]
[0001]本發明涉及真空鍍膜工藝，尤其涉及一種雙色真空鍍膜工藝。
[【背景技術】]
[0002]傳統的雙色真空鍍膜工藝在基材上真空鍍兩層膜，兩層膜的顏色需要有明顯差異；用曝光油墨涂覆外層真空鍍膜面，曝光圖案區域外的位置，使圖案區域外的油墨固化；洗除未固化的油墨，脫退圖案位置最上面一層的真空鍍膜膜層；再脫退已固化的油墨，即得到雙色真空鍍膜的產品。
[0003]傳統的雙色真空鍍膜工藝存在以下缺點:
[0004]1.因為需要采用退鍍工藝脫掉最上一層PVD膜，脫膜的時間不能超過60秒，否則圖案邊緣的膜層會出現鋸齒，因此，最上面一層膜只能采用Ti或Zr膜系結構的膜層，限止了雙色真空鍍膜的顏色，比如底色為黑色，面色為純金色的雙色真空鍍膜就不能通過該工藝獲得。真空鍍膜常采用的Cr、T1、Zr、S1、Au靶材，而Cr、S1、Au材質的真空鍍膜膜層脫退采用強氧化劑(如硝酸、高錳酸鉀、雙氧水、王水等)，其脫退時間均超過15Min，脫退時圖案易出現鋸齒。而Ti與Zr膜耐HF溶液的能力很弱，只需要60S即可完成脫退，因時間短，其圖案邊緣不會形成鋸齒。
[0005]2.最上一層PVD膜的脫退時間與圖案的清晰度有很大的關系，脫退時間的管制難以把控，給保證產品質量帶來了困難。
[0006]3.不能得到凹陷的立體圖案。
[
【發明內容】
]
[0007]本發明要解決的技術問題是提供一種圖案邊緣清晰度高、圖案顏色豐富、且能夠獲得凹陷立體圖案的雙色真空鍍膜工藝。
[0008]為了解決上述技術問題，本發明采用的技術方案是，一種雙色真空鍍膜工藝，包括以下步驟:
[0009]101)在基材上用真空鍍膜工藝鍍制第一 PVD膜；
[0010]102)在第一 PVD膜上涂覆漆膜；
[0011]103)在漆膜上雕刻圖案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度；
[0012]104)在雕刻出來的圖案上用真空鍍膜工藝鍍制第二 PVD膜；
[0013]105)去除漆膜。
[0014]以上所述的雙色真空鍍膜工藝，所述的基材為金屬基材或陶瓷基材。
[0015]以上所述的雙色真空鍍膜工藝，步驟102中涂覆漆膜采用電泳、噴涂、浸涂、滾涂或刷涂工藝；漆膜固化后耐溫180°C，能被堿性脫漆溶液脫除。
[0016]以上所述的雙色真空鍍膜工藝，漆膜材料采用丙烯酸樹脂或醇酸樹脂。
[0017]以上所述的雙色真空鍍膜工藝，在步驟103中，用鐳雕機在漆膜上鐳雕所述的圖案，鐳雕后的圖案是平面圖案或凹陷的立體的圖案。
[0018]以上所述的雙色真空鍍膜工藝，在步驟105中，漆膜用堿性脫漆水脫除。
[0019]本發明雙色真空鍍膜工藝通過雕刻圖案，可以得到邊緣清晰度高的平面圖案或凹陷的立體圖案；圖案顏色豐富，可采用現有任意的PVD顏色，不局限于T1、Zr靶材的顏色。
[【專利附圖】
【附圖說明】]
[0020]下面結合附圖和【具體實施方式】對本發明作進一步詳細的說明。
[0021]圖1是本發明雙色真空鍍膜工藝實施例在基材上鍍制第一 PVD膜的示意圖。
[0022]圖2是本發明雙色真空鍍膜工藝實施例在第一 PVD膜上涂覆漆膜的示意圖。
[0023]圖3是本發明雙色真空鍍膜工藝實施例漆膜上鐳雕圖案的示意圖。
[0024]圖4是本發明雙色真空鍍膜工藝實施例在圖案上鍍制第二 PVD膜的示意圖。
[0025]圖5是本發明雙色真空鍍膜工藝實施例用堿性脫漆水脫除漆膜后產品的示意圖。
[【具體實施方式】]
[0026]本發明雙色真空鍍膜工藝包括以下5個步驟:
[0027]第1步:在金屬基材1上用真空鍍膜工藝鍍制底膜2(第一 PVD膜)，膜厚0.1 μ m-3 μ m,制作出雙色圖案的底色，該底色是真空鍍膜工藝可完成的顏色，包含銀色、灰色、槍色、黑色、香檳色、咖啡色、金色、玫瑰金色、藍色、藍黑色等。鍍制完成的基材需在所要求的鍍制區域完全鍍上底色，不可有掉膜。金屬基材1包括不銹鋼材料、合金材料和陶瓷材料等，基材1的表面可以噴砂、拉絲、拋光等以獲得表面效果。
[0028]第2步:在已鍍制底膜的基材上做遮蔽處理。遮蔽處理的目的是在基材上涂覆上一層遮蔽漆膜3，該步驟包含電泳、噴涂、浸涂、滾涂、刷涂等。該處理需使基材的所有面均涂覆上一層漆膜，漆膜的厚度大于等于3 μ m。此層漆膜需滿足以下特點:1.完全固化后耐180°C的高溫。2.完全固化后的在高溫真空條件下放氣少(真空鍍膜時可抽到5.0*10_3Pa本底真空度)。3.完全固化后在堿性脫漆溶液中易脫除(80°C 10% NaOH溶液中，30Min內可脫除干凈)，例如，可以采用丙烯酸樹脂或醇酸樹脂。
[0029]第3步:在涂有遮蔽漆膜3的基材上用鐳雕機鐳雕所需要的圖案4，如商標、圖示等圖案，鐳雕出的圖案顏色不限，可以是白色，也可以是彩色，(注:在不銹鋼基材上鐳雕時，不同的能量大小會鐳雕出不同的顏色，能量越大，顏色越深)但需完全去除圖案位置的漆膜3，而不損壞非圖案區域的漆膜。鐳雕圖案的鐳雕深度為0.01-0.4_，鐳雕后的圖案可以是平面的圖案，也可以是凹陷的立體的圖案。
[0030]第4步:在鐳雕后的基材上用真空鍍膜工藝鍍制圖案所需顏色的PVD膜5(第二PVD膜)，此顏色是真空鍍膜工藝可完成的顏色，包含銀色、灰色、槍色、黑色、香檳色、咖啡色、金色、玫瑰金色、藍色、藍黑色等，但不限于上述幾種顏色。鍍制完成的基材需在所要求的圖案區域內完全鍍上圖案所需的顏色，不能有掉膜。鍍制的區域是圖案范圍，未雕刻的漆膜可鍍制，也可不鍍制。
[0031]第5步:把在鍍制第二層膜層后的基材上用堿性脫漆水脫除其表面上的遮蔽漆膜3，得到雙色真空鍍膜產品，雙色真空鍍膜產品底色為第一次真空鍍膜鍍制，圖案為第二次真空鍍膜鍍制。本步驟需完全脫除基材底色上的漆膜，同時，不能用會腐蝕兩次鍍制膜層的脫漆水來脫除漆膜(脫漆水不能含強氧化劑，如硝酸、雙氧水等)。
[0032]本發明實施例的真空鍍膜，含中頻磁控濺射、弧源離子鍍、干鍋蒸發鍍等真空鍍膜工藝。
[0033]本發明以上實施例雙色真空鍍膜工藝采用鐳雕工藝雕刻圖案，鐳雕可以通過鐳雕焦距、功率的調整，控制雕刻的深度，得到邊緣清晰度高的平面圖案或凹陷的立體圖案；圖案顏色可采用現有任意PVD顏色，不局限于T1、Zr靶材的顏色。
【權利要求】
1.一種雙色真空鍍膜工藝，其特征在于，包括以下步驟: 101)在基材上用真空鍍膜工藝鍍制第一PVD膜； 102)在第一PVD膜上涂覆漆膜； 103)在漆膜上雕刻圖案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度； 104)在雕刻出來的圖案上用真空鍍膜工藝鍍制第二PVD膜； 105)去除漆膜。
2.根據權利要求1所述的雙色真空鍍膜工藝，其特征在于，所述的基材為金屬基材或陶瓷基材。
3.根據權利要求1所述的雙色真空鍍膜工藝，其特征在于，步驟102中涂覆漆膜采用電泳、噴涂、浸涂、滾涂或刷涂工藝；漆膜固化后耐溫180°C，能被堿性脫漆溶液脫除。
4.根據權利要求3所述的雙色真空鍍膜工藝，其特征在于，漆膜材料采用丙烯酸樹脂或醇酸樹脂。
5.根據權利要求1所述的雙色真空鍍膜工藝，其特征在于，在步驟103中，用鐳雕機在漆膜上鐳雕所述的圖案，鐳雕后的圖案是平面圖案或凹陷的立體的圖案。
6.根據權利要求1所述的雙色真空鍍膜工藝，其特征在于，在步驟105中，漆膜用堿性脫漆水脫除。
【文檔編號】B44C1/22GK104404448SQ201410591612
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2014年10月28日 優先權日:2014年10月28日
【發明者】石春放, 段寧波, 段小燕 申請人:深圳市鑫景源科技有限公司