專利名稱：霧面轉印膜結構的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種轉印膜結構，尤指一種霧面轉印膜結構。
背景技術：
產品外觀構裝為影響消費行為的重要因素，具備獨特構圖設計與時尚質感的產品 往往能夠得到較多青睞。模內裝飾(IMD，In-molddecoration)為一項新型塑料加工技術， 其將上方印有裝飾圖紋的轉印膜定位于射出機的模具內，于塑料制品射出成形同時，一并 進行圖紋轉印，完成殼體外觀裝飾。相較于傳統噴涂、印刷、電鍍等加工方式，模內裝飾技術 可配合制品批量生產，連續完成圖紋轉印，可簡化生產步驟、縮短制程時間，已廣泛應用于 電子裝置、家用電器等諸多領域。霧面化為常見的外觀設計方式，為達到霧面效果，必須對轉印膜結構采取特殊處 理。請參閱圖1以及圖2，一已知技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖，以及此霧面轉印膜 結構的應用狀態剖面示意圖。如圖所示，霧面轉印膜結構10包括一基底薄膜層11、一凸塊 結構層12、一離型層13、一硬化膜層14、一飾紋層15以及一黏著膜層16。基底薄膜層11 可為塑料、金屬或纖維系薄膜，用以提供表面平坦且不易變形的基材，以利后續涂布與印刷 等加工。凸塊結構層12系以網版印刷或凹版印刷方式涂布在基底薄膜層11表面上方，以 于基底薄膜層11表面形成凹凸結構。離型層13設置于基底薄膜層11及凸塊結構層12的 表面上方，用以輔助基底薄膜層11離型。硬化膜層14設置于離型層13表面上，由樹脂溶 液干燥形成，為具高硬度的保護層，由于硬化膜層14系間隔離型層13鄰接于基底薄膜層11 及凸塊結構層12，因此其下表面同樣形成凹凸結構。飾紋層15設置于硬化膜層14表面上， 系由印刷形成的油墨裝飾圖紋。黏著膜層16設置于飾紋層15表面上方。轉印時，提供一定的制程條件(例如預定溫度值)，使黏著膜層16緊密黏著于 物品80表面，從而將霧面轉印膜結構10結合于物品80。最后，借著離型層13將基底薄膜 層11與凸塊結構層12撕離，完成圖紋轉印。硬化膜層14的表面凹凸結構將可達到霧面化 的視覺效果。上述已用霧面轉印膜結構10雖可達到霧面化效果，然其必須額外經由繁瑣工 序，制版印刷完成凸塊結構層12的制作，不僅耗費工時，更造成制程成本提高。繼續請參閱圖3，另一已知技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖。圖中的霧面轉印 膜結構20系由次序堆棧的一基底薄膜層21、一離型層22、一硬化膜層23、一飾紋層24以及 一黏著膜層25共同構成。其中，基底薄膜層21中摻雜有由微粒子230所構成的抗眩光劑， 從而達到霧面化效果。然而，由于硬化膜層23的機能為提供高硬度防護膜，摻雜其中的微 粒子230將破壞結構連續性，而降低其結構強度，致使膜層劣化風險提高。本案設計人為解決上述已用技術問題，從而提出本實用新型，期精簡已用霧面轉 印膜結構的制程工序，并保持膜層結構強度。
實用新型內容本實用新型目的在于提供一種霧面轉印膜結構，其不僅使轉印膜應用時達到霧面化效果，而且可精簡霧面轉印膜結構的制程工序，從而達到縮短工時，及降低成本的功效。為達上述目的，本實用新型揭示一種霧面轉印膜結構，其包括一基底薄膜層，包 括一由微粒子構成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一離型層，設置 于該基底薄膜層的上表面；一硬化膜層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該硬 化膜層的上表面；以及一黏著膜層，設置于該飾紋層的上表面。本實用新型揭示另一種霧面轉印膜結構，其包括一基底薄膜層，包括一由微粒子 構成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一離型層，設置于該基底薄膜 層的上表面；一第一硬化膜層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該第一硬化膜 層的上表面；一第二硬化膜層，設置于該飾紋層的上表面；以及一黏著膜層，設置于該第 二硬化膜層的上表面。上述抗眩光劑的微粒子的粒徑為0. 1微米至20微米。上述抗眩光劑的微粒子為氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇陶瓷材 料中的一種。上述基底薄膜層為一高分子聚合物基材，該高分子聚合物基材的材料為聚乙烯系 樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一 種高分子聚合物原料。上述基底薄膜層為一纖維系薄膜，該纖維系薄膜為由玻璃紙或涂布紙或賽珞凡組 成的一種薄膜。與現有技術相比，本實用新型所具有的有益效果為本實用新型的霧面轉印膜結 構系于基底薄膜層添加由微粒子構成的抗眩光劑，使基底薄膜層具有凹凸粗糙表面，使得 間隔離型層鄰接于基底薄膜層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，而于轉印膜應用時達到 霧面化效果。本實用新型將可精簡霧面轉印膜結構的制程工序，從而達到縮短工時，及降低 成本等功效。同時，本實用新型維持了硬化膜層的完整性，而可保持膜層結構強度。以上的概述與接下來的詳細說明及附圖，皆是為了能進一步說明本實用新型為達 成預定目的所采取的方式、手段及功效。而有關本實用新型的其它目的及優點，將在后續的 說明及圖式中加以闡述。
圖1為一已知技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖； 圖2為圖1的霧面轉印膜結構的應用狀態的剖面示意圖； 圖3為另一已知技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖； 圖4為本實用新型的霧面轉印膜結構的第一具體實施例的剖面示意圖； 圖5為本實用新型的霧面轉印膜結構的第二具體實施例的剖面示意圖；以及 圖6為本實用新型的霧面轉印膜結構的第三具體實施例的剖面示意圖。 標號說明
10、20、30、40、50霧面轉印膜結構
11、21、31、41、51基底薄膜層 12 凸塊結構層 13、22、32、42、52 離型層[0027]14、23、3315、24、34、44、5416、25、35、46、56230,310,410340、440、54043、5345、5554180
硬化膜層 飾紋層 黏著膜層
微粒子 油墨層
第一硬化膜層 第二硬化膜層 金屬薄膜層 物品
具體實施方式
首先，請參閱圖4，本實用新型的霧面轉印膜結構的第一具體實施例的剖面示意 圖。如圖所示，霧面轉印膜結構30包括一基底薄膜層31、一離型層32、一硬化膜層33、一飾 紋層34，以及一黏著膜層35。基底薄膜層31摻雜有由微粒子310構成的抗眩光劑，使基底 薄膜層31具有一凹凸粗糙的上表面。離型層32設置于基底薄膜層31的上表面；硬化膜層 33設置于離型層32的上表面；飾紋層34設置于硬化膜層33的上表面；黏著膜層35設置 于飾紋層34的上表面。由于硬化膜層33系間隔離型層32鄰接于基底薄膜層31，因此硬化膜層33將同樣 形成凹凸粗糙表面，而于應用時達到霧面化效果。基底薄膜層31為提供后續涂布與印刷等加工的基材，應具備高平坦度且不易變 形，可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚 氯乙烯系樹脂等高分子聚合物基材，或選用玻璃紙、涂布紙、賽珞凡等纖維系薄膜，或上述 薄膜組成的復合薄膜基材，于制程時，摻入由微粒子310構成的抗眩光劑混合制備原料， 經由熱吹膜成形為片狀結構，或制作為可連續進行涂布及印刷工序的大面積卷裝結構。基 底薄膜層31的厚度約為5微米(μ m)至300微米(μ m)。所述的抗眩光劑可選用氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石、氧化鋇等陶瓷材料， 微粒子310的粒徑約為0.1微米(μπι)至20微米(μ m)，分散于基底薄膜層31內部及表 面，將可使其表面凹凸粗糙。離型層32用以輔助基底薄膜層31離型，系以涂布設備將原料溶液涂布于基底薄 膜層31表面上方，經過加熱干燥或紫外線照射固化而形成，可選用聚硅氧烷系樹脂、三聚 氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠系樹脂、聚 胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯 共聚物系樹脂等材料，并根據材料種類，采取適當的固化方式。離型層32的厚度約為0. 5 微米(ym)至40微米(ym)。硬化膜層33為具高硬度的保護層，系以涂布設備將原料溶液 涂布于離型層32表面上方，經過固化形成，可選用聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹 脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯 系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基 甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。第一硬化膜層33的厚度約為 3微米(μ m)至60微米(μ m)。硬化膜層33鄰接離型層32的表面將同樣形成凹凸粗糙表面，可于霧面轉印膜結構30應用時，達到霧面化效果。飾紋層34包括一油墨層340，系采用網版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印刷方 式制作形成，提供油墨裝飾圖紋，其印刷原料一般可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚 丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系樹脂、纖維素 酯系樹脂、醇酸樹脂等樹脂為結合劑加上顏料混合制得。黏著膜層35可選用聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹脂、 聚酰胺系樹脂等材料，以涂布設備將原料溶液涂布于飾紋層34表面上方，經過干燥形成。 黏著膜層35的厚度約為3微米(μ m)至50微米(μ m)。本實用新型的霧面轉印膜結構30系于基底薄膜層31摻雜抗眩光劑，即可使硬化 膜層33形成凹凸粗糙的表面，而不需要再額外印刷凸塊結構，相較于已知霧面轉印膜結 構，本實用新型可達到精簡制程、縮短工時及降低成本等諸多功效。同時，本實用新型維持 了硬化膜層33結構完整性，而可保持膜層結構強度。接著，請參閱圖5，本實用新型的霧面轉印膜結構的第二具體實施例的剖面示意 圖。此實施例中，霧面轉印膜結構40包括一基底薄膜層41、一離型層42、一第一硬化膜層 43、一飾紋層44、一第二硬化膜層45，以及一黏著膜層46。基底薄膜層41摻雜有由微粒子 410構成的抗眩光劑，使基底薄膜層41具有一凹凸粗糙的上表面。離型層42設置于基底薄 膜層41的上表面。第一硬化膜層43設置于離型層42的上表面。飾紋層44包括一油墨層 440，設置于第一硬化膜層43的上表面。第二硬化膜層45設置于飾紋層44的上表面。黏 著膜層設置46于第二硬化膜層45的上表面。霧面轉印膜結構40中，第一硬化膜層43將同樣形成凹凸粗糙表面，而于應用時達 到霧面化效果。同時，飾紋層44與黏著膜層46之間增設的第二硬化膜層45將可阻擋黏著 膜層46的膠水向下滲漏，防止飾紋層44的油墨圖紋受到破壞，且可進一步加強膜層結構強度。上述第一、二具體實施例的霧面轉印膜結構中，飾紋層僅由單一油墨層構成，然實 務上，飾紋層可為復合結構。請參閱圖6，本實用新型的霧面轉印膜結構的第三具體實施例 的剖面示意圖。此實施例中，霧面轉印膜結構50包括一基底薄膜層51、一離型層52、一第 一硬化膜層53、一飾紋層54、一第二硬化膜層55以及一黏著膜層56，基底薄膜層51摻雜有 由微粒子510構成的抗眩光劑。其中飾紋層54包括一油墨層540以及一金屬薄膜層541， 油墨層540設置于第一硬化膜層53的上表面，金屬薄膜層541則設置于油墨層540的上表 面，第二硬化膜層55設置于金屬薄膜層541與黏著膜層56之間。綜上所述，本實用新型的霧面轉印膜結構系于基底薄膜層添加由微粒子構成的抗 眩光劑，使基底薄膜層具有凹凸粗糙表面，使得間隔離型層鄰接于基底薄膜層的硬化膜層 同樣形成凹凸粗糙表面，而于轉印膜應用時達到霧面化效果。本實用新型將可精簡霧面轉 印膜結構的制程工序，從而達到縮短工時，及降低成本等功效。同時，本實用新型維持了硬 化膜層的完整性，而可保持膜層結構強度。
權利要求一種霧面轉印膜結構，其特征在于包括一基底薄膜層，包括一由微粒子構成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一離型層，設置于該基底薄膜層的上表面；一硬化膜層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該硬化膜層的上表面；以及一黏著膜層，設置于該飾紋層的上表面。
2.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于，該抗眩光劑的微粒子的粒徑 為0. 1微米至20微米。
3.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于，該抗眩光劑的微粒子為氧化 硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。
4.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于，該基底薄膜層為一高分子聚 合物基材，該高分子聚合物基材的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚 酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一種高分子聚合物原料。
5.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于，該基底薄膜層為一纖維系薄 膜，該纖維系薄膜為由玻璃紙或涂布紙或賽珞凡組成的一種薄膜。
6.一種霧面轉印膜結構，其特征在于包括一基底薄膜層，包括一由微粒子構成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的 上表面；一離型層，設置于該基底薄膜層的上表面； 一第一硬化膜層，設置于該離型層的上表面； 一飾紋層，設置于該第一硬化膜層的上表面； 一第二硬化膜層，設置于該飾紋層的上表面；以及 一黏著膜層，設置于該第二硬化膜層的上表面。
7.根據權利要求6所述的霧面轉印膜結構，其特征在于，該抗眩光劑的微粒子的粒徑 為0. 1微米至20微米。
8.根據權利要求6所述的霧面轉印膜結構，其特征在于，該抗眩光劑的微粒子為氧化 硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。
9.根據權利要求6所述的霧面轉印膜結構，其特征在于，該基底薄膜層為一高分子聚 合物基材，該高分子聚合物基材的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚 酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一種高分子聚合物原料。
10.根據權利要求6所述的霧面轉印膜結構，其特征在于，該基底薄膜層為一纖維系薄 膜，該纖維系薄膜為由玻璃紙或涂布紙或賽珞凡組成的一種薄膜。專利摘要一種霧面轉印膜結構，包括一基底薄膜層、一離型層、一硬化膜層、一飾紋層，以及一黏著膜層。該基底薄膜層包括由微粒子構成的抗眩光劑，使基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面，離型層設置于基底薄膜層的上表面，硬化膜層設置于離型層的上表面，飾紋層設置于硬化膜層的上表面，黏著膜層設置于飾紋層的上表面。其中，間隔離型層鄰接于基底薄膜層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，而于該轉印膜應用時可達到霧面化效果。
文檔編號B44C1/17GK201721230SQ20102020764
公開日2011年1月26日 申請日期2010年5月28日 優先權日2010年5月28日
發明者蔡明倫, 謝宇恒, 黃宋因 申請人:勝昱科技股份有限公司